JP2005025098A5 - - Google Patents
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- 表面および表面パターンを有する位相シフトマスク（基板）と、前記表面パターンにより定められるパターンにおいて光の位相を変化させるように波長λおよび強度Ｉ０の光と相互作用するための表面と、を有する装置において、前記表面と相互作用した後の光強度は、少なくとも一部が前記表面パターンにより引き起こされた位相変化により定められ、
前記位相変化は、連続的な変化であり、かつ、
前記光が、前記表面が像平面上に像を形成するように、開口数（Ｎ．Ａ．）を有するリソグラフィーシステムのレンズを通過すると、像平面に像を形成する光強度は、複数の点の像を有し、各々の点の像は、強度Ｉｍｉｎの最小強度を有し、前記最小強度を取り囲む環状領域の全体を通じて、Ｉｍｉｎとの強度差が、ホールパターンの形成に必要な強度差となるような大きな強度を有する環状領域によって取り囲まれており、最小強度の全幅はλ／２・Ｎ．Ａ．未満である装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003270205A JP4950411B2 (ja) | 2003-07-01 | 2003-07-01 | 光学リソグラフィー用ボルテックス位相シフトマスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003270205A JP4950411B2 (ja) | 2003-07-01 | 2003-07-01 | 光学リソグラフィー用ボルテックス位相シフトマスク |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2009292358A Division JP2010102354A (ja) | 2009-12-24 | 2009-12-24 | 光学リソグラフィー用ボルテックス位相シフトマスク |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2005025098A JP2005025098A (ja) | 2005-01-27 |
| JP2005025098A5 true JP2005025098A5 (ja) | 2010-10-07 |
| JP4950411B2 JP4950411B2 (ja) | 2012-06-13 |
Family
ID=34190230
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2003270205A Expired - Lifetime JP4950411B2 (ja) | 2003-07-01 | 2003-07-01 | 光学リソグラフィー用ボルテックス位相シフトマスク |
Country Status (1)
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|---|---|
| JP (1) | JP4950411B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
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Family Cites Families (4)
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| JP4402195B2 (ja) * | 1999-04-22 | 2010-01-20 | キヤノン株式会社 | フォトマスク、パターン形成方法及びデバイス製造方法 |
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| JP3443377B2 (ja) * | 1999-12-02 | 2003-09-02 | 聯華電子股▲分▼有限公司 | ３つの異なる位相シフト領域を有する位相シフトマスクおよびその製造方法 |
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2003
- 2003-07-01 JP JP2003270205A patent/JP4950411B2/ja not_active Expired - Lifetime
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