JP2009186863A5 - - Google Patents

Claims (15)

1. 露光光の限界解像度以上の寸法を有し、互いに略直交する第１の方向及び第２の方向に一定ピッチで繰り返し配置された正方形パターンと、
   前記第１の方向及び前記第２の方向に隣接する各２つの前記正方形パターンの間に配置された長方形パターンからなる第１の周辺領域と、
   前記第１の方向及び前記第２の方向とは異なる第３の方向に隣接する各２つの前記正方形パターンの間に配置された正方形パターンからなる第２の周辺領域と、を有することを特徴とする露光用マスク。
2. 前記正方形パターンは透明領域であり、前記第１の周辺領域は入射光に逆位相を与えるハーフトーン位相シフト領域からなる半透明領域であり、前記第２の周辺領域は遮光領域であることを特徴とする請求項１に記載の露光用マスク。
3. 前記透明領域は合成石英からなる透明基板で構成され、前記半透明領域は前記透明基板上に形成されたハーフトーン膜で構成され、前記遮光領域は前記ハーフトーン膜上に形成された遮光膜で構成されることを特徴とする請求項２に記載の露光用マスク。
4. 前記半透明領域の透過率が、２〜２０％である、請求項２又は３に記載の露光用マスク。
5. 前記第３の方向は、前記第１の方向及び前記第２の方向のそれぞれから４５度の角度方向にある、請求項１乃至４のいずれか一に記載の露光用マスク。
6. 前記正方形パターンは入射光に逆位相を与えるハーフトーン位相シフト領域からなる第１の半透明領域であり、前記第１の周辺領域は遮光領域であり、前記第２の周辺領域は前記第１の方向及び前記第２の方向とは異なる第３の方向に隣接する各２つの前記正方形パターンの間に配置された正方形パターンからなることを特徴とする請求項１に記載の露光用マスク。
7. 前記第１の半透明領域の透過率が、２〜２０％である、請求項６に記載の露光用マスク。
8. 前記第２の周辺領域は入射光に逆位相を与えるハーフトーン位相シフト領域からなる第２の半透明領域であり、その透過率が３０％以上であることを特徴とする請求項６に記載の露光用マスク。
9. 前記第２の周辺領域は透明領域であることを特徴とする請求項６に記載の露光用マスク。
10. 前記第１及び第２の半透明領域はそれぞれ透明基板上に形成されたハーフトーン膜で構成され、前記遮光領域は前記ハーフトーン膜上に形成された遮光膜で構成されることを特徴とする請求項６乃至８に記載の露光用マスク。
11. 前記第３の方向は、前記第１の方向及び前記第２の方向のそれぞれから４５度の角度方向にある、請求項６乃至１０のいずれか一に記載の露光用マスク。
12. 前記矩形状パターンが繰り返し配置されるピッチが、露光光の波長以下である、請求項１乃至１１の何れか一に記載の露光用マスク。
13. 請求項１乃至１２に記載の露光用マスクを用いて露光を行い、ウエハ上にパターンを形成するパターン形成方法であって、
    前記露光用マスクに対して、斜入射照明法により直線偏光を照明することを特徴とするパターン形成方法。
14. 前記直線偏光が、輪帯照明を構成する２次光源から得られ、かつ、偏光方向が前記２次光源の半径方向に垂直である、請求項１３に記載のパターン形成方法。
15. 前記直線偏光が、相互に対向する２つの２次光源が２組配置されたクロスポール照明から得られ、かつ、各２次光源が、対応して配置される２次光源に対向する方向と垂直方向に偏光している、請求項１３に記載のパターン形成方法。