JP2005033027A - 低誘電率層間絶縁膜のドライエッチング方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 窒素を主ガスとし、この窒素にフロロカーボンを添加した混合ガスによってエッチングを行う。
【選択図】 図2
Description
比誘電率2.0〜3.0のSiOCH或いはSiOC系材料から構成される低誘電率層間絶縁膜のドライエッチング方法において、窒素を主ガスとし、この窒素にフロロカーボンを添加した混合ガスによってエッチングすることを特徴とする。
11 真空チャンバ
12 プラズマ発生部
13 基板電極部
S 基板
Claims (5)
- SiOCH或いはSiOC系材料から構成される低誘電率層間絶縁膜のドライエッチング方法において、
窒素を主ガスとし、この窒素にフロロカーボンを添加した混合ガスによってエッチングすることを特徴とする低誘電率層間絶縁膜のドライエッチング方法。 - 前記層間絶縁膜は、多孔質材料を含むことを特徴とする請求項1記載の低誘電率層間絶縁膜のドライエッチング方法。
- 前記窒素とフロロカーボンとの混合比として、混合ガスの総流量に対して窒素の比率を30〜90%としたことを特徴とする請求項1または請求項2記載の低誘電率層間絶縁膜のドライエッチング方法。
- 前記混合ガスの総流量に対して5〜10%の流量のCxH2x+2(x=1〜5である)を添加したことを特徴とする請求項3記載の低誘電率層間絶縁膜のドライエッチング方法。
- 前記エッチングを、1Pa以下の圧力であってプラズマ雰囲気で行うことを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか1項に記載の低誘電率層間絶縁膜のドライエッチング方法。
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