JP2005019986A - Substrate horizontal/vertical transport equipment - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、基板の水平及び上下移送装置に関し、より詳しくは、基板の整列、基板が垂れる現象の防止、基板の反転が可能になるようにすることによって、基板の移送効率を向上させることができる、基板の水平及び上下移送装置に関する。 The present invention relates to a horizontal and vertical transfer device for a substrate, and more particularly, can improve the transfer efficiency of a substrate by enabling alignment of the substrate, prevention of a substrate dripping phenomenon, and inversion of the substrate. The present invention relates to a horizontal and vertical transfer device for a substrate.
一般に、平板ディスプレイ(FPD)、半導体ウエハー、LCD、フォトマスク用ガラスなどに用いられる基板は一連の処理ラインを通過しながらエッチング、ストリップ、リンスなどの過程を経た後で洗浄を行う。
このような基板の処理ラインにおいては、ライン間に基板を移送するための移送装置が必須で適用され、前記基板移送装置に関する様々な技術が開発されている。
In general, a substrate used for a flat panel display (FPD), a semiconductor wafer, an LCD, a glass for a photomask, etc. is cleaned after passing through a series of processing lines and undergoing processes such as etching, stripping and rinsing.
In such a substrate processing line, a transfer device for transferring a substrate between the lines is indispensable and various techniques relating to the substrate transfer device have been developed.
図1には、このような技術の一例として、「ガラス湿式洗浄装置」という名称で出願された特許文献1が開示されている。
この装置は、図示されているように、ガラス100を反転させるための反転部102と、反転部102からガラス100の供給を受けて洗浄部に供給するためのローダー104と、ガラス100表面上の異物を順に洗浄するための第1乃至第4洗浄部106、108、112、116と、ガラス100を所定の角度に回転させて洗浄部に供給するための上流及び下流コンベヤー110、114と、洗浄されたガラス100を乾燥するための乾燥部118と、ガラス100をアンローディングするためのアンローダー120とから構成される。従って、このような構造を有するガラス洗浄装置は、ガラスを矢印方向に沿って移送させることによって、一連の工程を経て洗浄する。
As shown in the figure, the apparatus includes a
しかし、このようなガラス洗浄装置は、基板を幅方向に整列させるために適切に反転させる必要がある。 However, such a glass cleaning apparatus needs to be properly inverted in order to align the substrate in the width direction.
さらに、最近はLCDなどに用いられる基板が次第に大型化される傾向にあり、従来の650×550mmから、例えば830×650mm以上のように大型化された基板が要求されている。従って、このような大型基板をラインに供給する場合に、基板の長さのために干渉などが発生することがあるので、基板を反転させて長さ方向に移送する必要がある。 Furthermore, recently, substrates used for LCDs or the like have been gradually increased in size, and there is a demand for substrates that are increased in size from the conventional 650 × 550 mm to, for example, 830 × 650 mm or more. Therefore, when such a large substrate is supplied to the line, interference or the like may occur due to the length of the substrate. Therefore, it is necessary to invert the substrate and transport it in the length direction.
しかし、前記のような発明においては、基板の移送方向を整列させるために、多様な位置に反転部を配置しなければならないという問題点がある。また、基板が大型化されることによって、基板を移送する場合に、基板の自重などによって中間部分が垂れる現象が発生するため、基板の品質に影響を与えて不良率が増加する問題点がある。 However, in the invention as described above, there is a problem that the reversing portions must be arranged at various positions in order to align the substrate transfer direction. In addition, when the substrate is increased in size, when the substrate is transferred, a phenomenon occurs in which the intermediate portion hangs due to the weight of the substrate, etc., which affects the quality of the substrate and increases the defect rate. .
そして、基板移送装置に基板を支持させてさせて移送する場合に、外部の衝撃などによって基板が一側に偏るので、このような基板をラインに供給する場合、基板を正確な位置に再び整列させなければならないという面倒さがある。 When the substrate is transferred by supporting the substrate on the substrate transfer device, the substrate is biased to one side due to an external impact or the like. When supplying such a substrate to the line, the substrate is aligned again at an accurate position. There is the hassle of having to let it.
従って、本発明は前記の問題点を解決するためになされたものであって、本発明の目的は、基板の底面を上方向に加圧することによって、基板が自重により垂れる現象を防止することができる、基板の水平及び上下移送装置を提供することにある。 Accordingly, the present invention has been made to solve the above-described problems, and an object of the present invention is to prevent the phenomenon that the substrate hangs down due to its own weight by pressing the bottom surface of the substrate upward. An object of the present invention is to provide a horizontal and vertical transfer device for a substrate.
本発明の他の目的は、基板処理ラインを積層形に一体化することによって、一つの反転部により基板を反転させて処理ラインに供給するため、反転部を追加的に配置する必要がない、基板の水平及び上下移送装置を提供することにある。 Another object of the present invention is to integrate the substrate processing line into a stacked form, so that the substrate is inverted by one reversing unit and supplied to the processing line, so there is no need to additionally arrange the reversing unit. It is to provide a horizontal and vertical transfer device for a substrate.
本発明の他の目的は、基板移送手段に基板整列部を備え、基板移送時に定位置に整列させることにより、別途の整列部が要求されない、基板の水平及び上下移送装置を提供することにある。 Another object of the present invention is to provide a horizontal and vertical transfer apparatus for a substrate, in which a substrate alignment unit is provided in the substrate transfer means and aligned at a fixed position during substrate transfer so that a separate alignment unit is not required. .
本発明の他の目的は、基板移送手段と基板処理ラインとを上下積層形に構成する場合、上下部に基板を容易に移送させることができる、基板の水平及び上下移送装置を提供することにある。 Another object of the present invention is to provide a horizontal and vertical transfer device for a substrate that can easily transfer a substrate to the upper and lower parts when the substrate transfer means and the substrate processing line are configured in a vertically stacked form. is there.
前記目的を実現するために、本発明は、フレームと;前記フレームの内部に装着され、基板を定位置に整列させて基板が垂れる現象を防止し、基板を反転させることができる、少なくとも一つ以上の水平移送手段と;前記フレームに昇降可能に配置され、前記水平移送手段から(へ)基板を引受けて(引継いで)基板処理ラインへ供給する(から引受ける)垂直移送手段と;そして前記垂直移送手段と基板処理ラインとの間に配置され、前記垂直移送手段から(へ)基板を引受けて(引継いで)移送させる移送ユニットとを含む、基板の水平及び上下移送装置を提供する。 In order to achieve the above object, the present invention provides a frame; and is mounted inside the frame, and the substrate is aligned at a predetermined position to prevent the substrate from dripping and to reverse the substrate. The above-mentioned horizontal transfer means; and a vertical transfer means which is disposed so as to be movable up and down on the frame, accepts (takes over) a substrate from the horizontal transfer means and supplies (takes) the substrate to a substrate processing line; There is provided a horizontal and vertical transfer apparatus for a substrate, including a transfer unit disposed between a transfer means and a substrate processing line and receiving and transferring a substrate from the vertical transfer means.
本発明の基板の水平及び上下移送装置は、次のような長所がある。
第一に、水平移送手段に浮上部を備えることによって、基板が垂れる現象を防止して、製品の不良率を減少させることができる。
第二に、回転部材を備えることによって、基板を移送中に予め反転させてラインに供給するので、別途の反転部をライン中に配置する必要がないので、作業が簡便で投資額を節減することができる。
第三に、水平移送手段に整列部を備えて基板の移送時に正確な位置に整列させることによって、別途に整列部が要求されないので、作業が簡便で取付費を節減することができる。
第四に、上部及び下部ハンドから構成される上下移送手段を備えることによって、基板を上下に容易に移送することができる。
The substrate horizontal and vertical transfer apparatus of the present invention has the following advantages.
First, by providing the horizontal transfer means with a floating part, it is possible to prevent the substrate from dripping and to reduce the product defect rate.
Second, by providing a rotating member, the substrate is inverted in advance during transfer and supplied to the line, so there is no need to place a separate inversion part in the line, so the operation is simple and the investment is reduced. be able to.
Third, since the horizontal transfer means is provided with an alignment portion and aligned at an accurate position when the substrate is transferred, an additional alignment portion is not required, so that the operation is simple and the installation cost can be reduced.
Fourthly, the substrate can be easily transferred up and down by providing the vertical transfer means composed of the upper and lower hands.
以下、添付した図面を参照して、本発明の好ましい実施例による基板の水平及び上下移送装置について詳細に説明する。
図2は本発明の好ましい実施例による基板の水平及び上下移送装置が適用された基板処理ラインを示す斜視図であり、図3は図2に示された基板処理ラインの側面図である。
Hereinafter, a horizontal and vertical transfer apparatus for a substrate according to a preferred embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
FIG. 2 is a perspective view illustrating a substrate processing line to which a horizontal and vertical transfer apparatus for substrates according to a preferred embodiment of the present invention is applied. FIG. 3 is a side view of the substrate processing line shown in FIG.
図示したように、本発明が提案する基板の水平及び上下移送装置は、通常の基板処理ラインに適用されるが、好ましくは図2に示すような積層形基板処理ラインの入側及び出側に適用される。 As shown in the drawing, the substrate horizontal and vertical transfer apparatus proposed by the present invention is applied to a normal substrate processing line, but preferably on the entrance side and the exit side of the stacked substrate processing line as shown in FIG. Applied.
つまり、前記積層形基板処理ラインは、多層構造を有するフレーム1の内部に基板(I)を処理するための基板処理ユニット13を小型化して備えたラインであって、その入側及び出側に基板の水平移送手段3及び上下移送手段5,7を配置することによって、基板(I)を供給したり排出したりする。
That is, the laminated substrate processing line is a line in which the
このような基板の水平移送手段3及び上下移送手段5,7は、フレーム1と、前記フレーム1の内部に装着され、基板(I)を定位置に整列させて基板(I)が垂れる現象を防止し、基板(I)を反転させることができる、少なくとも一つ以上の水平移送手段3と、前記フレーム1に昇降可能に配置され、前記水平移送手段3から(へ)基板(I)を引受ける(引継ぐ)垂直移送手段5,7と、そして前記垂直移送手段5,7と基板処理ユニット13との間に配置され、前記垂直移送手段5,7から(へ)基板(I)を引受けて(引継いで)移送させる移送ユニット9,11とを含む。
The horizontal transfer means 3 and the vertical transfer means 5 and 7 of the substrate are mounted in the frame 1 and the inside of the frame 1 to cause the substrate (I) to hang down by aligning the substrate (I) at a fixed position. At least one or more horizontal transfer means 3 capable of preventing and reversing the substrate (I) and the frame 1 are arranged so as to be movable up and down, and accept the substrate (I) from the horizontal transfer means 3 (Takeover) vertical transfer means 5, 7 and between the vertical transfer means 5, 7 and the
前記基板の水平及び上下移送装置において、前記水平移送手段3は、前記フレーム1に装着された一対のレール17上に設けられて滑走可能な下部ベース20と、前記下部ベース20の上部に装着され、基板(I)が積置される上部ベース21と、基板(I)を定位置に整列させる整列部23と、基板(I)を一定の高さに浮上させることによって垂れる現象を防止する複数の浮上部25とから構成される。
In the horizontal and vertical transfer device for the substrate, the horizontal transfer means 3 is mounted on a pair of
より詳細に説明すれば、図4及び図5に示したように、前記下部ベース20の両端部にはスライディング板18,19が備えられ、前記スライディング板18,19は、フレーム1上に配置された一対のレール17に滑走可能に設けられる。
従って、モータ組立体(図示せず)の駆動時に、前記スライディング板18,19がレール17に沿って移動することによって、水平移送手段3が前後方向に移動する。
More specifically, as shown in FIGS. 4 and 5,
Accordingly, when the motor assembly (not shown) is driven, the
前記上部ベース21には互いに対角に配置される二つの整列部23及び複数個の支持ピン29とが装着される。そして、この整列部23及び複数個の支持ピン29の上部に基板(I)が安定的に設けられる。
The
図6にはこのような整列部23が詳細に示されている。つまり、前記整列部23、はケース30形状を有し、その内部にモータ組立体32が装着される。そして、このモータ組立体32にはモータ組立体32の駆動時に水平移送手段3の中心方向に往復運動する連結バー34が備えられる。
FIG. 6 shows the
また、前記連結バー34の両端部には一対の整列ピン36が突出形成され、一対の整列ピン36は、前記ケース30の上面に形成された長孔40を貫通して上方向に突出する。そして、この一対の整列ピン36間に基板(I)の角部38が位置する。
In addition, a pair of
従って、一対の整列ピン36は、モータ組立体32の駆動によって予め設定された位置に移動し、この時、基板(I)の各角部38を適切な範囲以内で加圧することによって基板(I)が正確な位置に整列されるようにする。このような整列部23は、本発明では二つとして説明したが、これに限定されず、それ以上であってもよい。
Accordingly, the pair of
再び、図4を参照すると、前記浮上部25は前記上部ベース21上に複数個が備えられ、基板(I)の底面に空気を噴出して基板(I)を上方向に加圧することにより、複数の支持ピン29上に積置された基板(I)が垂れる現象を防止する。
Referring to FIG. 4 again, a plurality of the
このような浮上部25は、図4及び図7に示したように、上部ベース21の上部に備えられた板42と、前記板42の上面に備えられた補助板44と、前記補助板44上に装着され、基板(I)を支持し、一定の圧力の空気を噴出することによって、基板(I)を一定の高さに浮上させる多孔板46とを含む。前記多孔板46は、通常広く知られた多孔質材質、つまり数多くの微細孔が形成された板である。そして、このような多孔板46は、空気供給部(図示せず)と連結される。従って、前記空気供給部(図示せず)によって供給された空気は、多孔板46の微細孔を通って上面に噴出されることにより、一定の空気層を形成する。無論、空気の他にも適切な圧力層が形成できる物質であれば関係ない。
As shown in FIGS. 4 and 7, the floating
この時、基板(I)は複数の支持ピン29に支持されている状態であり、その中間は自重によって下方向に垂れる傾向がある。従って、前記複数の浮上部25から噴出された空気が基板(I)の底面を上方向に押し上げて、このような基板(I)が垂れる現象を防止する。結局、基板(I)は、前記浮上部25によって優れた扁平度を維持することができるので、製品の不良率を減らすことができる。
At this time, the substrate (I) is in a state of being supported by a plurality of
以上では、空気噴射方式による浮上部について説明したが、本発明はこれに限定されず、基板を上方向に加圧する方式、つまりラバー、スポンジ、流体方式なども適用することができる。 In the above, the floating portion by the air injection method has been described. However, the present invention is not limited to this, and a method of pressing the substrate upward, that is, a rubber, a sponge, a fluid method, and the like can also be applied.
そして、図5に示したように、前記上部ベース21及び下部ベース20間には回転部材27が装着される。この回転部材27は、モータ組立体28を含み、好ましくは直結モータ(DD Motor;Direct Motor)である。この回転部材27は、その下部が下部ベース20上に装着された支持部26の上面に設けられ、上部は前記上部ベース21の底面と連結される。従って、前記回転部材27が駆動する場合、前記上部ベース21が一定の角度に回転する。
As shown in FIG. 5, a rotating
結果的に、使用者は、前記回転部材27の回転によって上部ベース21を回転させることができるので、支持された基板(I)の方向を幅方向あるいは長さ方向に反転させて移送することができる。もちろん、基板(I)を反転させる必要がない場合には、前記回転部材27を駆動しない状態で基板(I)を移送する。
As a result, since the user can rotate the
以上では、水平移送手段を一つとして説明したが、これに限定されず、水平移送手段が二つあるいはそれ以上であっても差支えない。 In the above, one horizontal transfer means has been described, but the present invention is not limited to this, and there may be two or more horizontal transfer means.
一方、このような水平移送手段3(図2)によって移送された基板(I)は、前記垂直移送手段5,7(図2)に供給されて上下に移送される。 On the other hand, the substrate (I) transferred by the horizontal transfer means 3 (FIG. 2) is supplied to the vertical transfer means 5 and 7 (FIG. 2) and transferred up and down.
つまり、図3及び図8に示したように、前記垂直移送手段5,7は、第1アップダウンバッファーユニット5と第2アップダウンバッファーユニット7とから構成され、前記第1アップダウンバッファーユニット5は、前記フレーム1の一側に昇降又は下降可能に装着されて、前記水平移送手段3から基板(I)を引受け、前記第2アップダウンバッファーユニット7は、前記第1アップダウンバッファーユニット5の反対側に装着されて、処理された基板(I)を前記水平移送手段3に引継ぐ。
That is, as shown in FIGS. 3 and 8, the vertical transfer means 5, 7 includes a first up / down
このような第1及び第2アップダウンバッファーユニット5,7は、同一構造を有するので、以下では一つのアップダウンバッファーユニット5について説明する。
Since the first and second up / down
前記第1アップダウンバッファーユニット5は、前記水平移送手段3から基板(I)を引受けて上下に運動する一対の上部ハンド15と、前記一対の上部ハンド15から基板(I)を引受けてローダー9(図2)に引継ぐ下部ハンド6とからなる。前記一対の上部ハンド15は、互いに平衡に形成される第1及び第2ハンド51,53から構成され、前記第1及び第2ハンド51,53は、各々水平部55、57と垂直部62、64とからなって“フ”字形状を有する。また、前記水平部55、57の上面には複数の上部支持ピン58が上方向に突出形成される。従って、基板(I)が前記水平部55、57の複数の上部支持ピン58に積置されて支持される。そして、前記第1及び第2ハンド51,53の垂直部62、64は、その下端部65,70が連結バー66に滑走可能に装着されて、上下及び左右に移動する。
The first up / down
より詳細に説明すれば、パネル2の両端部にはガイド72が各々突出形成され、このガイド72には連結バー66の両端部に形成された移送スロット74が滑走可能に結合される。また、前記連結バー66の中間にはガイドブラケット76が突出し、このガイドブラケット76には垂直連結軸80が貫通する。そして、前記垂直連結軸80は支持ブラケット78によって回転可能に固定され、好ましくはボールスクリューである。また、垂直連結軸80の下端部には第1モータ組立体88が連結される。
More specifically, guides 72 are formed to protrude at both ends of the panel 2, and transfer
従って、前記第1モータ組立体88の駆動時に、前記垂直連結軸80が定方向あるいは逆方向に回転し、この時、前記連結バー66のガイドブラケット76と垂直連結軸80がネジ結合された状態であるので、前記連結バー66は上下に往復運動する。
Accordingly, when the
また、前記連結バー66の一側面両端部には水平レール68,69が各々付着され、この一対の水平レール68,69には前記第1及び第2ハンド51,53の下端部70、65が各々滑走可能に結合される。
Further,
そして、前記一対の水平レール68,69間には第2モータ組立体90が備えられ、第2モータ組立体90の両側部には水平連結軸92が各々延びている。このような水平連結軸92は、前記垂直部62、64の下端部65,70に各々ネジ結合された状態である。
A
従って、前記第2モータ組立体90の駆動時に、前記水平連結軸92が定方向あるいは逆方向に回転し、前記第1及び第2ハンド51,53は左右方向に沿って内側あるいは外側に移動する。結果的に、前記一対の上部ハンド15は、第1及び第2モータ組立体88、90の駆動によって上下あるいは左右に移動することにより、必要に応じて互いに遠くなったり近くなったりする。
Accordingly, when the
一方、前記下部ハンド6は、基板(I)が載置される水平フレーム73と、前記水平フレーム73を支持し、前記水平フレーム73を上下に往復運動させる支持板84とからなる。
On the other hand, the
より詳細に説明すれば、前記水平フレーム73は「フ」字形状を有し、その上面に複数の下部支持ピン75が突出形成される。そして、複数の下部支持ピン75は、後述するローダー9(図2)の搬送ローラ10間に配置される。従って、前記下部ハンド6が上昇する場合、前記複数の下部支持ピン75は、搬送ローラ10間を通過して基板パスライン(P/S)の上部に上昇し、前記上部ハンド15から移送された基板(I)を引受ける。
More specifically, the
また、前記支持板84は、その上端は前記水平フレーム73の底面と連結され、下端は第3モータ組立体82と連結される回転軸86に連結される。この時、前記回転軸86は、好ましくは前記支持板84にネジ結合されるボールスクリューを含む。そして、前記支持板84は、パネル2上に突出した一対のガイドバー89によって支持される。従って、前記第3モータ組立体82の駆動時に、前記回転軸86が定方向あるいは逆方向に回転することにより、前記支持板84を上下に往復運動させる。
The
このような構造を有する上部及び下部ハンド15,6は、前記上部ハンド15の第1及び第2ハンド51,53上に基板(I)が下降すれば、一定の高さで待機している前記下部ハンド6の水平フレーム73と交差し、この時、第1及び第2ハンド51,53の間隔が前記下部ハンド6の幅より広く形成されるので、前記下部ハンド6が第1及び第2ハンド51,53間に位置する。従って、前記第1及び第2ハンド51,53が前記下部ハンド6を通過して下部ハンド6より低い位置に下降すれば、基板(I)が下部ハンド6の水平フレーム73上に載置される。そして、前記第1及び第2ハンド51,53が左右に移動して下部ハンド6との干渉を防止することによって、下部ハンド6が円滑に下降する。
The upper and
前記下部ハンド6が下降して基板パスライン(P/S)以下に降りると、基板(I)が移送ユニット9,11(図2)上に載せられて基板処理ユニット13へ移送される。
When the
このような移送ユニット9,11は、図2に示したように、基板処理ユニット13の入側に配置されるローダー9と、出側に配置されるアンローダー11とからなる。前記ローダー及びアンローダー9,11は、同一な構造、つまり、駆動モータ(図示せず)によって回転可能な複数個の搬送ローラ10から構成される。そして、前記搬送ローラ10には基板(I)が垂れる現象を防止するためのアイドルローラ10aが各々装着される。従って、駆動モータ(図示せず)の作動時に、前記複数個の搬送ローラ10が回転して前記第1アップダウンバッファーユニット5から供給された基板(I)を基板処理ユニット13へ移送したり、基板処理ユニット13から移送された基板(I)を第2アップダウンバッファーユニット7に供給する。
As shown in FIG. 2, the
以下、添付した図面を参照して、本発明の好ましい実施例による基板の水平及び上下移送装置の作動過程をより詳細に説明する。 Hereinafter, the operation of the horizontal and vertical transfer apparatus according to the preferred embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
まず、図2乃至図7を参照して基板の水平移送手段の作動過程を説明すると、前記水平移送手段3が一定の位置、好ましくは基板引受位置に到達して、基板を引受ける。基板(I)が水平移送手段3に載置される場合、基板(I)の底面は上部ベース21に突出した複数の支持ピン29に接触する。そして、前記整列部23に備えられたモータ組立体32が駆動し、前記整列ピン36が予め設定された位置に対角方向に沿って移動する。
First, an operation process of the horizontal transfer means for the substrate will be described with reference to FIGS. 2 to 7. The horizontal transfer means 3 reaches a certain position, preferably a substrate undertaking position, and takes over the substrate. When the substrate (I) is placed on the horizontal transfer means 3, the bottom surface of the substrate (I) comes into contact with a plurality of support pins 29 protruding from the
前記整列ピン36が予め設定された位置に移動する場合、二つの整列ピン36が基板(I)の角部38を加圧し、これにより基板(I)が正確な位置に整列する。この時、前記浮上部25には空気供給部(図示せず)から一定の圧力の空気が供給されて、多孔板46の上部に空気が噴出されている状態である。従って、噴出された空気が一定の圧力の空気層を形成し、このような空気層が基板(I)の底面を上方向に押し上げることにより、基板(I)が自重などにより垂れる現象を防止することができる。
When the
また、基板(I)を反転させようとする場合には、前記上部及び下部ベース21,20間に装着された回転部材27を駆動させることによって、支持している基板(I)の方向を反転させることができる。つまり、830×650mmあるいはそれ以上の大きさを有する大型基板の場合、長さ方向に移送して処理工程に投入する時に、干渉などが発生することがある。このような場合、前記回転部材27を駆動させることによって、基板(I)を幅方向に反転させて処理工程に円滑に投入することができる。もちろん、基板(I)を反転させる必要がない場合には、回転部材27を駆動させない状態で基板(I)を移送する。
When the substrate (I) is to be reversed, the direction of the supporting substrate (I) is reversed by driving the rotating
一方、前記のような水平移送手段3は、基板(I)を積置した後、フレーム1に沿って一定距離だけ移動して垂直移送手段5,7の隣接位置に到達して、基板を引継ぐ。つまり、第1アップダウンバッファーユニット5の第1モータ組立体88が駆動して前記連結バー66が上昇し、この連結バー66と結合された第1及び第2ハンド51,53が上昇する。そして、一定の高さまで上昇して、水平移送手段3が接近するまで待機する。
On the other hand, the horizontal transfer means 3 as described above, after placing the substrate (I), moves a certain distance along the frame 1 to reach the position adjacent to the vertical transfer means 5 and 7 and takes over the substrate. . That is, the
前記水平移送手段3が接近すれば、前記第1及び第2ハンド51,53は、多少上昇して基板(I)の両枠部を支持して上方に押し上げ、基板(I)を水平移送手段3から上昇させて引受ける。
When the horizontal transfer means 3 approaches, the first and
前記上部ハンド15が基板を引受ければ、第1モータ組立体88が逆方向に駆動して前記上部ハンド15が一定の位置まで下降する。この時、下部ハンド6に突出形成された複数の下部支持ピン75は、ローダー9の搬送ローラ10間を通過して基板パスライン(P/S)以上の高さで待機している状態である。
When the
前記上部ハンド15の第1及び第2ハンド51,53が下部ハンド6を通過して下降すると、前記第1及び第2ハンド51,53間を前記下部ハンド6が通過する。従って、前記第1及び第2ハンド51,53に支持された基板(I)が前記下部ハンド6の水平フレーム73に載置されることにより引継がれる。
When the first and
そして、第2モータ組立体90が駆動して前記第1及び第2ハンド51,53が左右方向に沿って外側に移動する。従って、下部ハンド6の下降時に、干渉の発生を防止することができる。
Then, the
前記下部ハンド6に基板(I)が引受けられると、前記第3モータ組立体82が駆動して前記下部ハンド6の支持板84が下降する。この時、前記水平フレーム73の上方向に突出した複数の下部支持ピン75は、ローダー9の搬送ローラ10間を通過して下降する。従って、下部ハンド6が下降して複数の下部支持ピン75が基板パスライン(P/S)以下に降りると、基板(I)は下部ハンド6から離脱してローダー9の搬送ローラ10上部に積置される。
When the substrate (I) is received by the
基板(I)が搬送ローラ10の上部に載置されると、駆動モータ(図示せず)が作動して搬送ローラ10が回転し、基板(I)は基板処理ユニット13に供給される。この時、基板(I)の長さが長いために移送中に基板が垂れる現象が発生することがあるので、搬送ローラ10のアイドルローラ10aが基板(I)を支持することによって、これを防止する。特に、830×650mmあるいはそれ以上の大きさを有する大型基板の場合には垂れる現象が顕著であるので、このようなアイドルローラ10aの適用が要求される。
When the substrate (I) is placed on the
このような過程を通じて、基板(I)は垂直移送手段5,7からローダー9を通じて基板処理ユニット13へ移送される。
Through this process, the substrate (I) is transferred from the vertical transfer means 5 and 7 to the
一方、第2アップダウンバッファーユニット7の作動過程は、前記第1アップダウンバッファーユニット5と逆順である(第1及び第2アップダウンバッファーユニットは同一な構造を有するので、以下では第1アップダウンバッファーユニットと同一な符号によって説明する)。つまり、基板(I)がアンローダー11によって移送されて一定の位置に到達すれば、第3モータ組立体82が駆動することによって前記下部ハンド6が上昇する。この時、下部ハンド6の複数の下部支持ピン75が搬送ローラ10間を通過して基板パスライン(P/S)の上部に上昇する。この時、前記上部ハンド15の第1及び第2ハンド51,53は、一定の高さで待機している状態である。
Meanwhile, the operation of the second up / down buffer unit 7 is in reverse order to the first up / down buffer unit 5 (the first and second up / down buffer units have the same structure. (It will be described using the same reference numerals as the buffer unit). That is, when the substrate (I) is transferred by the unloader 11 and reaches a certain position, the
前記下部ハンド6が上昇して基板(I)が一定の位置に到達すると、第2モータ組立体90が駆動して前記上部ハンド15の第1及び第2ハンド51,53が左右方向に沿って内側に各々移動する。そして、前記第1及び第2ハンド51,53が下部ハンド6に支持された基板(I)の両枠部底面に接触したら、第1モータ組立体88が駆動して第1及び第2ハンド51,53を上昇させる。従って、前記下部ハンド6に支持された基板(I)が上部ハンド15に引継がれる。
When the
上部ハンド15が基板(I)を引受けた後、第1及び第2ハンド51,53が上昇して一定の高さに到達し、前記水平移送手段3に基板(I)を引継ぐ。
After the
前記のように、基板は水平移送手段3及び上下移送手段5,7によって移送されることによって、基板処理工程に供給される。 As described above, the substrate is transferred to the substrate processing step by being transferred by the horizontal transfer means 3 and the vertical transfer means 5 and 7.
以上、本発明の好ましい実施例について説明したが、本発明はこれに限定されず、特許請求の範囲、発明の詳細な説明、及び添付した図面の範囲内で多様に変形して実施ことができ、これも本発明の範囲に属するのは当然である。 The preferred embodiments of the present invention have been described above. However, the present invention is not limited thereto, and various modifications can be made within the scope of the claims, the detailed description of the invention, and the attached drawings. Of course, this also belongs to the scope of the present invention.
3 水平移送手段
5,7 上下移送手段
6 下部ハンド
9,11 移送ユニット
10 搬送ローラ
10a アイドルローラ
13 基板処理ユニット
15 上部ハンド
17 レール
18,19 スライディング板
20 下部ベース
21 上部ベース
23 整列部
25 浮上部
26 支持部
27 回転部材
28 モータ組立体
29,58 支持ピン
30 ケース
34,66 連結バー
36 整列ピン
38 角部
42 板
44 補助板
46 多孔板
51 第1ハンド
53 第2ハンド
55,57 水平部
62,64 垂直部
65,70 第1及び第2ハンドの下端部
68,69 水平レール
72 ガイド
73 水平フレーム
75 下部支持ピン
76 ガイドブラケット
78 支持ブラケット
80 垂直連結軸
82 第3モータ組立体
84 支持板
86 回転軸
88 第1モータ組立体
89 ガイドバー
90 第2モータ組立体
92 水平連結軸
3 Horizontal transfer means 5, 7 Vertical transfer means 6
Claims (11)
前記フレームの内部に装着され、基板を定位置に整列させて基板が垂れる現象を防止し、基板を反転させることができる、少なくとも一つ以上の水平移送手段と;
前記フレームに昇降可能に配置され、前記水平移送手段から基板を引受けて基板処理ラインへ供給するか又は前記水平移送手段へ基板を引継いで基板処理ラインから引受ける垂直移送手段と;
前記垂直移送手段と基板処理ラインとの間に配置され、前記垂直移送手段から基板を引受けて、又は前記垂直移送手段へ基板を引継いで、移送させる移送ユニットとを含むことを特徴とする、基板の水平及び上下移送装置。 Frame;
At least one horizontal transfer means mounted inside the frame and capable of aligning the substrate at a fixed position to prevent the substrate from dropping and reversing the substrate;
A vertical transfer means disposed on the frame so as to be movable up and down, receiving a substrate from the horizontal transfer means and supplying the substrate to a substrate processing line, or taking over the substrate to the horizontal transfer means and receiving from the substrate processing line;
And a transfer unit disposed between the vertical transfer unit and the substrate processing line, for receiving the substrate from the vertical transfer unit or taking over the substrate to the vertical transfer unit and transferring the substrate. Horizontal and vertical transfer device.
垂直あるいは水平運動が可能であり、前記水平移送手段から基板を引受け又は前記水平移送手段へ基板を引継ぐ上部ハンドと、前記上部ハンドから基板を引受けて前記移送ユニットに基板を供給し又は前記移送ユニットから供給された基板を上部ハンドに引継ぐ下部ハンドとから構成されるアップダウンユニット
を含むことを特徴とする、請求項1に記載の基板の水平及び上下移送装置。 The vertical transfer means includes
An upper hand that can move vertically or horizontally, accepts a substrate from the horizontal transfer means or takes over a substrate to the horizontal transfer means, and accepts a substrate from the upper hand to supply a substrate to the transfer unit or the transfer unit The horizontal and vertical transfer apparatus for a substrate according to claim 1, further comprising an up / down unit including a lower hand that takes over the substrate supplied from the upper hand.
The apparatus of claim 7, wherein the up / down unit includes first and second up / down buffer units disposed at front and rear sides of the frame, respectively.
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