JP2005011393A - 光情報媒体の製造方法 - Google Patents
光情報媒体の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005011393A JP2005011393A JP2003171741A JP2003171741A JP2005011393A JP 2005011393 A JP2005011393 A JP 2005011393A JP 2003171741 A JP2003171741 A JP 2003171741A JP 2003171741 A JP2003171741 A JP 2003171741A JP 2005011393 A JP2005011393 A JP 2005011393A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- temperature
- optical information
- layer
- information medium
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
【課題】基板の機械特性を向上させることができる光情報媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】基板に対してアニール処理を施すアニール工程を有する光情報媒体の製造方法であって、前記アニール工程において、昇温前の初期温度からアニール温度に至るまでの温度をステップ状に上昇させることを特徴とする光情報媒体の製造方法である。
【選択図】 なし
【解決手段】基板に対してアニール処理を施すアニール工程を有する光情報媒体の製造方法であって、前記アニール工程において、昇温前の初期温度からアニール温度に至るまでの温度をステップ状に上昇させることを特徴とする光情報媒体の製造方法である。
【選択図】 なし
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光情報媒体の製造方法であって、特に、貼り合わせ型の光情報媒体の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
文字情報、画像情報、音声情報等を大量に記録・再生する高密度の光情報媒体（ＤＶＤ）、また一回もしくは複数回の情報記録が可能な光情報媒体（ＤＶＤ−ＲもしくはＤＶＤ−ＲＷ）に対する高密度化の要請は増大しつつある。かかる光情報媒体では、最短ピットおよびトラックピッチをＣＤの半分以下にしたりする等の他、光情報媒体を２層に貼り合わせることにより情報記録の高密度化が図られている。
このような貼り合わせタイプの光情報媒体は、基板上に記録層もしくはピット、反射層、保護層等を有する積層体（情報基板）同士を、保護層の面同士で接着させた構造としたり、上記１の積層体と記録層等を設けない保護基板（ダミー基板）とを貼り合わせた構造が知られている。
【０００３】
以上の光情報媒体において、射出成形により得られた基板には残留応力があり、残留応力により基板に反りが発生することが知られている。そこで、基板の残留応力を低減するためにアニール処理が施される（例えば、特許文献１〜３参照。）。アニール処理は、例えば、複数の基板を、各基板間にスペーサーを挿入して間隔をあけながら垂直のスタックポールに支持させた状態で行われる。しかし、この状態で一定の昇温速度で昇温しアニール温度に到達させると、基板の変形（反り）により基板同士が当接し、光情報媒体の機械特性が悪化することがあった。
【０００４】
【特許文献１】
特開平８−６３８０７号公報
【特許文献２】
特開平１０−１１８１５号公報
【特許文献３】
特開２００３−６７９８８号公報
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上記問題点に鑑みなされたものであり、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、
本発明の目的は、基板の機械特性を向上させることができる光情報媒体の製造方法を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成すべく鋭意検討の結果、本発明者は、下記本発明により当該目的を達成できることを見出した。
すなわち本発明は、基板に対してアニール処理を施すアニール工程を有する光情報媒体の製造方法であって、前記アニール工程において、昇温前の初期温度からアニール温度に至るまでの温度をステップ状に上昇させることを特徴とする光情報媒体の製造方法である。
【０００７】
【発明の実施の形態】
本発明の光情報媒体の製造方法は、基板に対してアニール処理を施すアニール工程を有する光情報媒体の製造方法であって、前記アニール工程において、昇温前の初期温度からアニール温度に至るまでの温度をステップ状に上昇させることを特徴としている。以下、先ず、本発明の光情報媒体の製造方法により製造される光情報媒体について説明する。
【０００８】
＜光情報媒体＞
本発明に係る光情報媒体は、レーザー光の照射により情報の記録が可能な記録層又はピットを有する情報基板と保護基板とを貼り合わせてなる。情報基板には、必要に応じて、光反射層、保護層等が設けられる。
すなわち、本発明に係る光情報媒体は、レーザー光により情報の記録および再生が可能な記録層を有する光情報媒体や、レーザー光により再生可能な情報が記録された記録部（ピット）を有する光情報媒体に適用することができる。
なお、前者はＤＶＤ−Ｒ、ＤＶＤ−ＲＷ等の情報の書き込みが可能な追記型もしくは書き換え可能型の光情報媒体であり、後者はＤＶＤ−ＲＯＭ等のあらかじめ情報が書き込まれた光情報媒体である。
【０００９】
ＤＶＤ−ＲＯＭ等のあらかじめ情報が書き込まれた光情報媒体では、少なくとも情報基板の貼り合わせ面には、ピットが形成されている。また、保護基板は、情報基板と同様にピットが形成されている構成としてもよく、いわゆるダミー基板としてピットを形成しない構成としてもよい。
以下、ＤＶＤ−Ｒ、ＤＶＤ−ＲＷ等の光情報媒体を例に、本発明に使用される上記基板および各層について説明する。なお、層構成や材料等は、単なる例示であって、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００１０】
［情報基板、保護基板］
基板としては、従来の光情報媒体の基板材料として用いられている各種の材料を任意に選択して使用することができる。
具体的には、ガラス；ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂；ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂；エポキシ樹脂；アモルファスポリオレフィン；ポリエステル；アルミニウム等の金属；等を挙げることができ、所望によりこれらを併用してもよい。
上記材料の中では、耐湿性、寸法安定性および低価格等の点から、アモルファスポリオレフィン、ポリカーボネートが好ましく、ポリカーボネートが特に好ましい。また、基板の厚さは、０．５〜１．２ｍｍとすることが好ましく、０．６〜１．１ｍｍとすることがより好ましい。
【００１１】
情報基板には、トラッキング用の案内溝またはアドレス信号等の情報を表わす凹凸（プリグルーブ）が形成されている。
プリグルーブのトラックピッチは、３００〜９００ｎｍの範囲とすること好ましく、３５０〜８５０ｎｍとすることがより好ましく、４００〜８００ｎｍとすることがさらに好ましい。
３００ｎｍ未満では、プリグルーブを正確に形成することが困難になる上、クロストークの問題が発生することがあり、９００ｎｍを超えると、記録密度が低下する問題が生ずることがある。
また、プリグルーブの深さ（溝深さ）は、１００〜１６０ｎｍの範囲とすることが好ましく、１２０〜１５０ｎｍとすることがより好ましく、１３０〜１４０ｎｍとすることがさらに好ましい。
１００ｎｍ未満では、十分な記録変調度が得られないことがあり、１６０ｎｍを超えると、反射率が大幅に低下することがある。
さらに、プリグルーブの半値幅は、２００〜４００ｎｍの範囲とすることが好ましく、２３０〜３８０ｎｍとすることがより好ましく、２５０〜３５０ｎｍとすることがさらに好ましい。
２００ｎｍ未満では、成形時に溝が十分に転写されなかったり、記録のエラーレートが高くなったりすることがあり、４００ｎｍを超えると、記録時に形成されるピットが広がってしまい、クロストークの原因となったり、十分な変調度が得られないことがある。
【００１２】
［記録層］
ＤＶＤ−Ｒの場合、記録層に用いる色素は特に限定されないが、使用可能な色素の例としては、シアニン色素、フタロシアニン色素、イミダゾキノキサリン系色素、ピリリウム系・チオピリリウム系色素、アズレニウム系色素、スクワリリウム系色素、Ｎｉ、Ｃｒなどの金属錯塩系色素、ナフトキノン系色素、アントラキノン系色素、インドフェノール系色素、インドアニリン系色素、トリフェニルメタン系色素、メロシアニン系色素、オキソノール系色素、アミニウム系・ジインモニウム系色素及びニトロソ化合物を挙げることができる。これらの色素のうちでは、シアニン色素、フタロシアニン系色素、アズレニウム系色素、スクワリリウム系色素、オキソノール系色素及びイミダゾキノキサリン系色素が好ましい。
記録層は単層でも重層でもよい。また、記録層の層厚は、一般に２０〜５００ｎｍの範囲にあり、好ましくは３０〜３００ｎｍの範囲にあり、より好ましくは５０〜２００ｎｍの範囲にある。
【００１３】
ＤＶＤ−ＲＷの場合、記録層は、結晶状態と非晶状態の少なくとも２つの状態をとり得る少なくともＡｇ、Ａｌ、Ｔｅ、Ｓｂからなる相変化型の光記録材料からなることが好ましい。かかる記録層は、公知の方法で形成することができる。
なお、当該記録層上には、必要に応じて、公知の誘電体層が形成される。
【００１４】
［光反射層］
光反射層には、レーザー光に対する反射率が高い光反射性物質が用いられる。当該反射率は、７０％以上であることが好ましい。
反射率が高い光反射性物質としては、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉ等の金属および半金属あるいはステンレス鋼を挙げることができる。これらの光反射性物質は単独で用いてもよいし、あるいは二種以上の組合せで、または合金として用いてもよい。これらのうちで好ましいものは、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌおよびステンレス鋼である。特に好ましくは、Ａｕ、Ａｇ、Ａｌあるいはこれらの合金であり、最も好ましくは、Ａｕ、Ａｇあるいはこれらの合金である。
光反射層の層厚は、一般的には１０〜３００ｎｍの範囲とし、５０〜２００ｎｍの範囲とすることが好ましい。
【００１５】
［保護層］
反射層もしくは記録層の上には、記録層などを物理的および化学的に保護する目的で保護層を設けることが好ましい。なお、ＤＶＤ−Ｒ型の光情報媒体の製造の場合と同様の形態、すなわち二枚の基板を記録層を内側にして貼り合わせる構成をとる場合は、必ずしも保護層の付設は必要ではない。保護層の材料としては、ＳｉＯ２、ＭｇＦ２、ＳｎＯ２、Ｓｉ３Ｎ４などの無機物質、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、ＵＶ硬化性樹脂等の有機物質を用いることができる。保護層の層厚は、一般には０．１〜１００μｍの範囲にある。
【００１６】
また、反射層と記録層との間に、記録層の特性に応じて、例えば、記録層との接着性向上のための光透過層を設けてもよい。
光透過層としては、レーザー波長で９０％以上の透過率があるものであれば如何なる材料をも使用することができる。
上記光透過層は、従来公知の方法により形成することができ、光透過層の厚さは、２〜５０ｎｍとすることが好ましい。
【００１７】
保護層は、水分の侵入やキズの発生を防止する。保護層を構成する材料としては、紫外線硬化樹脂、可視光硬化樹脂、熱硬化性樹脂、二酸化ケイ素等であることが好ましく、なかでも紫外線硬化樹脂であることが好ましい。該紫外線硬化樹脂としては、例えば、大日本インキ化学工業社製の「ＳＤ−６４０」等の紫外線硬化樹脂を挙げることができる。また、ＳＤ−３４７（大日本インキ化学工業社製）、ＳＤ−６９４（大日本インキ化学工業社製）、ＳＫＣＤ１０５１（ＳＫＣ社製）等を使用することができる。保護層の厚さは、１〜２００μｍの範囲が好ましく、５０〜１５０μｍの範囲がより好ましい。
また、保護層が、レーザー光路として使用される層構成においては、透明性を有することが必要とされる。ここで、「透明性」とは、記録光および再生光に対して、該光を透過する（透過率：９０％以上）ほどに透明であることを意味する。
【００１８】
＜光情報媒体の製造方法＞
以上の光情報媒体を製造し得る本発明の光情報媒体の製造方法について以下に詳述する。
【００１９】
［情報基板、保護基板の成形］
情報基板、保護基板の成形は、前述の基板材料を用い、射出成形、圧縮成形、又は射出圧縮成形によって行うことができる。また、スタンパーを油圧プレス機のモールディングダイスの片側に取り付け、溶融点付近まで加熱した樹脂をプレス加工することにより圧縮成形することもできる。
【００２０】
［記録層の形成］
記録層は、上記色素等の記録物質を、結合剤等と共に適当な溶剤に溶解して色素溶液を調製し、次いでこの色素溶液を基板（情報基板）のプリグルーブが形成された面に塗布して塗膜を形成したのち乾燥することにより形成される。
塗布法として、スピンコート法を適用する際の温度は、２３℃以上とすることが好ましく、２５℃以上とすることがより好ましい。温度の上限は特にないが、溶剤の引火点より低い温度とする必要があり、好ましく３５℃とする。
２３℃未満とすると、溶剤の乾燥が遅くなり、目的とする色素膜厚（記録層の厚み）が得られない場合や塗布乾燥時間が長くなり、生産性が低下することがある。
【００２１】
また、記録物質等を溶解処理する方法としては、超音波処理、ホモジナイザー、加温等の方法を適用することができる。
【００２２】
色素溶液を調製する際の溶剤としては、酢酸ブチル、乳酸エチル、セロソルブアセテート等のエステル；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン等のケトン；ジクロルメタン、１，２−ジクロルエタン、クロロホルム等の塩素化炭化水素；ジメチルホルムアミド等のアミド；メチルシクロヘキサン等の炭化水素；テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサン等のエーテル；エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノールジアセトンアルコール等のアルコール；２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール等のフッ素系溶剤；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類；等を挙げることができる。
【００２３】
上記溶剤は使用する記録物質の溶解性を考慮して単独で、あるいは二種以上を組み合わせて使用することができる。塗布液中にはさらに酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、潤滑剤等各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。
【００２４】
記録層には、該記録層の耐光性を向上させるために、種々の褪色防止剤を含有させることができる。
褪色防止剤としては、一般的に一重項酸素クエンチャーが用いられる。一重項酸素クエンチャーとしては、公知の特許明細書等の刊行物に記載のものを利用することができる。
その具体例としては、特開昭５８−１７５６９３号公報、同５９−８１１９４号公報、同６０−１８３８７号公報、同６０−１９５８６号公報、同６０−１９５８７号公報、同６０−３５０５４号公報、同６０−３６１９０号公報、同６０−３６１９１号公報、同６０−４４５５４号公報、同６０−４４５５５号公報、同６０−４４３８９号公報、同６０−４４３９０号公報、同６０−５４８９２号公報、同６０−４７０６９号公報、同６３−２０９９９５号公報、特開平４−２５４９２号公報、特公平１−３８６８０号公報、および同６−２６０２８号公報等の各公報、ドイツ特許３５０３９９号明細書、そして日本化学会誌１９９２年１０月号第１１４１頁等に記載のものを挙げることができる。
【００２５】
前記一重項酸素クエンチャー等の褪色防止剤の使用量は、記録するための化合物の量に対して、通常０．１〜５０質量％の範囲であり、好ましくは、０．５〜４５質量％の範囲、更に好ましくは、３〜４０質量％の範囲、特に好ましくは５〜２５質量％の範囲である。
【００２６】
褪色防止剤の代表的な例としては、ニトロソ化合物、金属錯体、ジインモニウム塩、アミニウム塩を挙げることができる。これらの例は、例えば、特開平２−３００２８８号、同３−２２４７９３号、及び同４−１４６１８９号等の各公報に記載されている。
【００２７】
前記結合剤の例としては、ゼラチン、セルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴムなどの天然有機高分子物質；及びポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリエチレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物などの合成有機高分子を挙げることができる。結合剤を使用する場合に、結合剤の使用量は、一般に色素１００質量部に対して０．２〜２０質量部、好ましくは、０．５〜１０質量部、更に好ましくは１〜５質量部である。
【００２８】
塗布温度としては、２０〜４０℃であれば特に問題はないが、好ましくは２５〜３５℃、さらに好ましくは２７〜３３℃である。また、塗布時の相対湿度としは、２０〜６０％ＲＨであればよく、好ましくは３０〜５０％ＲＨ、さらに好ましくは３５〜４５％ＲＨである。
【００２９】
［光反射層の形成］
光反射層は、例えば、上記反射性物質を、蒸着、スパッタリングまたはイオンプレーティングすることにより記録層の上に形成することができる。本発明においては、保存性を向上させる目的、或いは外観を変える目的で、反射層は上記材料を単層で積層してもよく、２種以上の材料を多層に積層してもよい。
【００３０】
［保護層の形成］
保護層は、無機物質の場合は、真空蒸着、スパッタリング、塗布等の方法により、有機物質の場合は、プラスチックフィルムのラミネート、溶剤に溶解した塗布液の塗布乾燥等により形成することができる。あるいは保護層は、例えば、プラスチックの押出加工で得られたフィルムを、接着剤を介して反射層上にラミネートすることにより形成することができる。また、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂の場合には、これらを適当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのち、この塗布液を塗布し、乾燥することによっても形成することができる。ＵＶ硬化性樹脂の場合には、そのままもしくは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのちこの塗布液を塗布し、ＵＶ光を照射して硬化させることによっても形成することができる。これらの塗布液中には、更に帯電防止剤、酸化防止剤、ＵＶ吸収剤等の各種添加剤を目的に応じて添加してもよい。
【００３１】
ディスクの反りを防止するため、塗布膜への紫外線の照射はパルス型の光照射器（好ましくは、ＵＶ照射器）を用いて行うことが好ましい。パルス間隔はｍｓｅｃ以下が好ましく、μｓｅｃ以下がより好ましい。１パルスの照射光量は特に制限されないが、３ｋＷ／ｃｍ２以下が好ましく、２ｋＷ／ｃｍ２以下がより好ましい。
また、照射回数は特に制限されないが、２０回以下が好ましく、１０回以下がより好ましい
【００３２】
［アニール工程］
本発明の光情報媒体の製造方法においては、記録層を形成した情報基板及び／又は保護基板に対してアニール処理を施すアニール工程を設ける。アニール工程においては、昇温前の初期温度からアニール温度に至るまでの温度をステップ状に上昇させる。アニール温度に至るまで温度をステップ状に上昇させることにより、基板内に存在する残留応力の解放を少しずつ進行させ、急激な温度変化による基板の反りの発生を防止することができる。ひいては、基板をスタックポールを用いて段積みしたとき、基板同士の当接を防止することができ、基板の機械特性が向上する。また、基板の反りを少なくすることができるため、スタックポールによって段積みする際に、各基板間に挿入するスペーサーの厚みを小さくすることができ、１本のスタックポールに段積み可能な基板枚数が増加し、生産効率の向上を図ることができる。
【００３３】
前記「ステップ状に上昇させる」とは、温度上昇時において、一定時間温度を略一定にしながら上昇させるステップを有することを意味する。例えば、アニール温度が８０℃の場合、図１のグラフに示すように、常温（初期温度）から加熱し、５０℃に到達したらある時間一定に保ち、一定時間経過後、アニール温度８０℃まで昇温する。
【００３４】
アニール工程における温度をステップ状に上昇させる手段としては、例えば、アニール炉の温度調節機能を利用すること、等が挙げられる。
【００３５】
昇温前の初期温度としては、室温とすることができ、また、アニール温度としては、例えば８０℃とすることができるが、本発明はこれに限定されることはない。
【００３６】
１ステップにおける保持時間としては、基板全体が均一温度となる時間とすることが好ましい。例えば、基板の材質としてポリカーボネートを用いた場合、ポリカーボネートの線膨張係数：６．５×１０−５ｃｍ／ｃｍ／℃で、ＤＶＤ−Ｒの場合、基板の外径：１２０ｍｍ、クランプエリア径：３３ｍｍとした場合、温度変化によるクランプエリアからみた外径部の変形量は下記式で表される。
変形量＝（基板の外径−クランプエリア径）／２×線膨張係数×温度変化
偏心量は規格で１００μｍ以下と規定されており、温度による変形量（基板内の温度ばらつきによる基板変形のばらつき）を規格以下とするためには、１ステップの温度上昇は３０℃以下とすることが好ましい。
【００３７】
本発明において、アニール工程における基板の支持手段としては、特に限定はないが、例えば、以下の▲１▼〜▲３▼が挙げられる。
▲１▼基板、スペーサー、基板…の順に、垂直に立設されたスタックポールに串刺しして支持する。
▲２▼コンベア上で基板を立てた状態で支持する。
▲３▼コンベア上で基板を寝かせた状態で支持する。
【００３８】
［基板と保護基板との貼り合わせ］
基板と保護基板との貼り合わせには、種々の接着剤を使用することができる。例えば、情報基板の保護層上に紫外線硬化樹脂（大日本インキ化学工業（株）製ＳＤ６４０等）をスピンコート法によって、２０〜６０μｍの厚さに塗布して、接着層を形成する。形成した接着層上に、保護基板を載置し、保護基板上から紫外線を照射して紫外線硬化樹脂を硬化させて貼り合わせる。
【００３９】
【実施例】
本発明を以下に示す実施例により具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００４０】
（実施例１）
射出成型機（住友重機械工業（株）製）を用いて、ポリカーボネート樹脂を、スパイラル状のグルーブ（溝深さ１５０ｎｍ、溝幅３００ｎｍ、トラックピッチ０．７４μｍ）および凹部を有する外径１２０ｍｍ、内径１５ｍｍ、厚さ０．６ｍｍの透明な基板（情報基板）を作製した。同様にして、保護基板を作製した。
【００４１】
作製した保護基板に対し、常温から５０℃まで昇温し、５０℃の温度を所定の時間略一定に保ち、さらに８０℃まで昇温し、アニール処理を施した。
【００４２】
下記化学式で表わされる色素Ａ０．２５ｇおよび色素Ｂ０．０６ｇをフッ素アルコール（２，２，３，３テトラフルオロプロパノール溶剤）３０ｇに混合し、１時間超音波処理を施して溶解し、色素塗布液を調製した。
【００４３】
【化１】
【００４４】
【化２】
【００４５】
温度２５℃、相対湿度４５％ＲＨにて、調製した色素塗布液をスピンコート法によって、前記情報基板のグルーブが形成されている面に塗布し、恒温槽中で５５℃２時間保持し、厚さ８０ｎｍの記録層を形成した。
【００４６】
記録層を形成した情報基板に対して、前記保護基板と同一の条件でアニール処理を施した。
【００４７】
次いで、形成した記録層上に、ＤＣマグネトロンスパッタにより銀をスパッタリングして、厚さ８０ｎｍの光反射層を形成した。
【００４８】
以上のようにして記録層および光反射層が形成された情報基板をスピンコーターにセットし、ＵＶ硬化接着剤を前記光反射層上に塗布し６０ｒｐｍでスピンコートした。そして、情報基板上に保護基板をかぶせ、さらに４４００ｒｐｍで回転させてＵＶ硬化接着剤を２枚の基板の間に充填した。
貼り合わせ後の基板を別のターンテーブルに移し、該ターンテーブルとともにＵＶ照射部に移動させＵＶ光を照射してＵＶ硬化接着剤を硬化させ、２枚の基板を接着して光ディスク（光情報媒体）を作製した。
【００４９】
（比較例１）
保護基板及び情報基板に、８０℃まで一定の昇温速度で昇温させるアニール処理を施したこと以外は実施例１と同様にして比較例１の光ディスクを作製した。
【００５０】
［評価］
作製した実施例１及び比較例１の光ディスクの各基板単独での機械特性（Ｒ−ｔｉｌｔ）を測定した。測定結果を表１に示す。
【００５１】
【表１】
【００５２】
表１より、実施例１の光ディスクは、比較例１の光ディスクと比較して、機械特性（Ｒ−ｔｉｌｔ）が良好であることが分かる。
【００５３】
【発明の効果】
本発明によれば、基板の機械特性を向上させることができる光情報媒体の製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】アニール工程における昇温過程をグラフで示す図である。
【発明の属する技術分野】
本発明は、光情報媒体の製造方法であって、特に、貼り合わせ型の光情報媒体の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
文字情報、画像情報、音声情報等を大量に記録・再生する高密度の光情報媒体（ＤＶＤ）、また一回もしくは複数回の情報記録が可能な光情報媒体（ＤＶＤ−ＲもしくはＤＶＤ−ＲＷ）に対する高密度化の要請は増大しつつある。かかる光情報媒体では、最短ピットおよびトラックピッチをＣＤの半分以下にしたりする等の他、光情報媒体を２層に貼り合わせることにより情報記録の高密度化が図られている。
このような貼り合わせタイプの光情報媒体は、基板上に記録層もしくはピット、反射層、保護層等を有する積層体（情報基板）同士を、保護層の面同士で接着させた構造としたり、上記１の積層体と記録層等を設けない保護基板（ダミー基板）とを貼り合わせた構造が知られている。
【０００３】
以上の光情報媒体において、射出成形により得られた基板には残留応力があり、残留応力により基板に反りが発生することが知られている。そこで、基板の残留応力を低減するためにアニール処理が施される（例えば、特許文献１〜３参照。）。アニール処理は、例えば、複数の基板を、各基板間にスペーサーを挿入して間隔をあけながら垂直のスタックポールに支持させた状態で行われる。しかし、この状態で一定の昇温速度で昇温しアニール温度に到達させると、基板の変形（反り）により基板同士が当接し、光情報媒体の機械特性が悪化することがあった。
【０００４】
【特許文献１】
特開平８−６３８０７号公報
【特許文献２】
特開平１０−１１８１５号公報
【特許文献３】
特開２００３−６７９８８号公報
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上記問題点に鑑みなされたものであり、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、
本発明の目的は、基板の機械特性を向上させることができる光情報媒体の製造方法を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成すべく鋭意検討の結果、本発明者は、下記本発明により当該目的を達成できることを見出した。
すなわち本発明は、基板に対してアニール処理を施すアニール工程を有する光情報媒体の製造方法であって、前記アニール工程において、昇温前の初期温度からアニール温度に至るまでの温度をステップ状に上昇させることを特徴とする光情報媒体の製造方法である。
【０００７】
【発明の実施の形態】
本発明の光情報媒体の製造方法は、基板に対してアニール処理を施すアニール工程を有する光情報媒体の製造方法であって、前記アニール工程において、昇温前の初期温度からアニール温度に至るまでの温度をステップ状に上昇させることを特徴としている。以下、先ず、本発明の光情報媒体の製造方法により製造される光情報媒体について説明する。
【０００８】
＜光情報媒体＞
本発明に係る光情報媒体は、レーザー光の照射により情報の記録が可能な記録層又はピットを有する情報基板と保護基板とを貼り合わせてなる。情報基板には、必要に応じて、光反射層、保護層等が設けられる。
すなわち、本発明に係る光情報媒体は、レーザー光により情報の記録および再生が可能な記録層を有する光情報媒体や、レーザー光により再生可能な情報が記録された記録部（ピット）を有する光情報媒体に適用することができる。
なお、前者はＤＶＤ−Ｒ、ＤＶＤ−ＲＷ等の情報の書き込みが可能な追記型もしくは書き換え可能型の光情報媒体であり、後者はＤＶＤ−ＲＯＭ等のあらかじめ情報が書き込まれた光情報媒体である。
【０００９】
ＤＶＤ−ＲＯＭ等のあらかじめ情報が書き込まれた光情報媒体では、少なくとも情報基板の貼り合わせ面には、ピットが形成されている。また、保護基板は、情報基板と同様にピットが形成されている構成としてもよく、いわゆるダミー基板としてピットを形成しない構成としてもよい。
以下、ＤＶＤ−Ｒ、ＤＶＤ−ＲＷ等の光情報媒体を例に、本発明に使用される上記基板および各層について説明する。なお、層構成や材料等は、単なる例示であって、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００１０】
［情報基板、保護基板］
基板としては、従来の光情報媒体の基板材料として用いられている各種の材料を任意に選択して使用することができる。
具体的には、ガラス；ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂；ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂；エポキシ樹脂；アモルファスポリオレフィン；ポリエステル；アルミニウム等の金属；等を挙げることができ、所望によりこれらを併用してもよい。
上記材料の中では、耐湿性、寸法安定性および低価格等の点から、アモルファスポリオレフィン、ポリカーボネートが好ましく、ポリカーボネートが特に好ましい。また、基板の厚さは、０．５〜１．２ｍｍとすることが好ましく、０．６〜１．１ｍｍとすることがより好ましい。
【００１１】
情報基板には、トラッキング用の案内溝またはアドレス信号等の情報を表わす凹凸（プリグルーブ）が形成されている。
プリグルーブのトラックピッチは、３００〜９００ｎｍの範囲とすること好ましく、３５０〜８５０ｎｍとすることがより好ましく、４００〜８００ｎｍとすることがさらに好ましい。
３００ｎｍ未満では、プリグルーブを正確に形成することが困難になる上、クロストークの問題が発生することがあり、９００ｎｍを超えると、記録密度が低下する問題が生ずることがある。
また、プリグルーブの深さ（溝深さ）は、１００〜１６０ｎｍの範囲とすることが好ましく、１２０〜１５０ｎｍとすることがより好ましく、１３０〜１４０ｎｍとすることがさらに好ましい。
１００ｎｍ未満では、十分な記録変調度が得られないことがあり、１６０ｎｍを超えると、反射率が大幅に低下することがある。
さらに、プリグルーブの半値幅は、２００〜４００ｎｍの範囲とすることが好ましく、２３０〜３８０ｎｍとすることがより好ましく、２５０〜３５０ｎｍとすることがさらに好ましい。
２００ｎｍ未満では、成形時に溝が十分に転写されなかったり、記録のエラーレートが高くなったりすることがあり、４００ｎｍを超えると、記録時に形成されるピットが広がってしまい、クロストークの原因となったり、十分な変調度が得られないことがある。
【００１２】
［記録層］
ＤＶＤ−Ｒの場合、記録層に用いる色素は特に限定されないが、使用可能な色素の例としては、シアニン色素、フタロシアニン色素、イミダゾキノキサリン系色素、ピリリウム系・チオピリリウム系色素、アズレニウム系色素、スクワリリウム系色素、Ｎｉ、Ｃｒなどの金属錯塩系色素、ナフトキノン系色素、アントラキノン系色素、インドフェノール系色素、インドアニリン系色素、トリフェニルメタン系色素、メロシアニン系色素、オキソノール系色素、アミニウム系・ジインモニウム系色素及びニトロソ化合物を挙げることができる。これらの色素のうちでは、シアニン色素、フタロシアニン系色素、アズレニウム系色素、スクワリリウム系色素、オキソノール系色素及びイミダゾキノキサリン系色素が好ましい。
記録層は単層でも重層でもよい。また、記録層の層厚は、一般に２０〜５００ｎｍの範囲にあり、好ましくは３０〜３００ｎｍの範囲にあり、より好ましくは５０〜２００ｎｍの範囲にある。
【００１３】
ＤＶＤ−ＲＷの場合、記録層は、結晶状態と非晶状態の少なくとも２つの状態をとり得る少なくともＡｇ、Ａｌ、Ｔｅ、Ｓｂからなる相変化型の光記録材料からなることが好ましい。かかる記録層は、公知の方法で形成することができる。
なお、当該記録層上には、必要に応じて、公知の誘電体層が形成される。
【００１４】
［光反射層］
光反射層には、レーザー光に対する反射率が高い光反射性物質が用いられる。当該反射率は、７０％以上であることが好ましい。
反射率が高い光反射性物質としては、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉ等の金属および半金属あるいはステンレス鋼を挙げることができる。これらの光反射性物質は単独で用いてもよいし、あるいは二種以上の組合せで、または合金として用いてもよい。これらのうちで好ましいものは、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌおよびステンレス鋼である。特に好ましくは、Ａｕ、Ａｇ、Ａｌあるいはこれらの合金であり、最も好ましくは、Ａｕ、Ａｇあるいはこれらの合金である。
光反射層の層厚は、一般的には１０〜３００ｎｍの範囲とし、５０〜２００ｎｍの範囲とすることが好ましい。
【００１５】
［保護層］
反射層もしくは記録層の上には、記録層などを物理的および化学的に保護する目的で保護層を設けることが好ましい。なお、ＤＶＤ−Ｒ型の光情報媒体の製造の場合と同様の形態、すなわち二枚の基板を記録層を内側にして貼り合わせる構成をとる場合は、必ずしも保護層の付設は必要ではない。保護層の材料としては、ＳｉＯ２、ＭｇＦ２、ＳｎＯ２、Ｓｉ３Ｎ４などの無機物質、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、ＵＶ硬化性樹脂等の有機物質を用いることができる。保護層の層厚は、一般には０．１〜１００μｍの範囲にある。
【００１６】
また、反射層と記録層との間に、記録層の特性に応じて、例えば、記録層との接着性向上のための光透過層を設けてもよい。
光透過層としては、レーザー波長で９０％以上の透過率があるものであれば如何なる材料をも使用することができる。
上記光透過層は、従来公知の方法により形成することができ、光透過層の厚さは、２〜５０ｎｍとすることが好ましい。
【００１７】
保護層は、水分の侵入やキズの発生を防止する。保護層を構成する材料としては、紫外線硬化樹脂、可視光硬化樹脂、熱硬化性樹脂、二酸化ケイ素等であることが好ましく、なかでも紫外線硬化樹脂であることが好ましい。該紫外線硬化樹脂としては、例えば、大日本インキ化学工業社製の「ＳＤ−６４０」等の紫外線硬化樹脂を挙げることができる。また、ＳＤ−３４７（大日本インキ化学工業社製）、ＳＤ−６９４（大日本インキ化学工業社製）、ＳＫＣＤ１０５１（ＳＫＣ社製）等を使用することができる。保護層の厚さは、１〜２００μｍの範囲が好ましく、５０〜１５０μｍの範囲がより好ましい。
また、保護層が、レーザー光路として使用される層構成においては、透明性を有することが必要とされる。ここで、「透明性」とは、記録光および再生光に対して、該光を透過する（透過率：９０％以上）ほどに透明であることを意味する。
【００１８】
＜光情報媒体の製造方法＞
以上の光情報媒体を製造し得る本発明の光情報媒体の製造方法について以下に詳述する。
【００１９】
［情報基板、保護基板の成形］
情報基板、保護基板の成形は、前述の基板材料を用い、射出成形、圧縮成形、又は射出圧縮成形によって行うことができる。また、スタンパーを油圧プレス機のモールディングダイスの片側に取り付け、溶融点付近まで加熱した樹脂をプレス加工することにより圧縮成形することもできる。
【００２０】
［記録層の形成］
記録層は、上記色素等の記録物質を、結合剤等と共に適当な溶剤に溶解して色素溶液を調製し、次いでこの色素溶液を基板（情報基板）のプリグルーブが形成された面に塗布して塗膜を形成したのち乾燥することにより形成される。
塗布法として、スピンコート法を適用する際の温度は、２３℃以上とすることが好ましく、２５℃以上とすることがより好ましい。温度の上限は特にないが、溶剤の引火点より低い温度とする必要があり、好ましく３５℃とする。
２３℃未満とすると、溶剤の乾燥が遅くなり、目的とする色素膜厚（記録層の厚み）が得られない場合や塗布乾燥時間が長くなり、生産性が低下することがある。
【００２１】
また、記録物質等を溶解処理する方法としては、超音波処理、ホモジナイザー、加温等の方法を適用することができる。
【００２２】
色素溶液を調製する際の溶剤としては、酢酸ブチル、乳酸エチル、セロソルブアセテート等のエステル；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン等のケトン；ジクロルメタン、１，２−ジクロルエタン、クロロホルム等の塩素化炭化水素；ジメチルホルムアミド等のアミド；メチルシクロヘキサン等の炭化水素；テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサン等のエーテル；エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノールジアセトンアルコール等のアルコール；２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール等のフッ素系溶剤；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類；等を挙げることができる。
【００２３】
上記溶剤は使用する記録物質の溶解性を考慮して単独で、あるいは二種以上を組み合わせて使用することができる。塗布液中にはさらに酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、潤滑剤等各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。
【００２４】
記録層には、該記録層の耐光性を向上させるために、種々の褪色防止剤を含有させることができる。
褪色防止剤としては、一般的に一重項酸素クエンチャーが用いられる。一重項酸素クエンチャーとしては、公知の特許明細書等の刊行物に記載のものを利用することができる。
その具体例としては、特開昭５８−１７５６９３号公報、同５９−８１１９４号公報、同６０−１８３８７号公報、同６０−１９５８６号公報、同６０−１９５８７号公報、同６０−３５０５４号公報、同６０−３６１９０号公報、同６０−３６１９１号公報、同６０−４４５５４号公報、同６０−４４５５５号公報、同６０−４４３８９号公報、同６０−４４３９０号公報、同６０−５４８９２号公報、同６０−４７０６９号公報、同６３−２０９９９５号公報、特開平４−２５４９２号公報、特公平１−３８６８０号公報、および同６−２６０２８号公報等の各公報、ドイツ特許３５０３９９号明細書、そして日本化学会誌１９９２年１０月号第１１４１頁等に記載のものを挙げることができる。
【００２５】
前記一重項酸素クエンチャー等の褪色防止剤の使用量は、記録するための化合物の量に対して、通常０．１〜５０質量％の範囲であり、好ましくは、０．５〜４５質量％の範囲、更に好ましくは、３〜４０質量％の範囲、特に好ましくは５〜２５質量％の範囲である。
【００２６】
褪色防止剤の代表的な例としては、ニトロソ化合物、金属錯体、ジインモニウム塩、アミニウム塩を挙げることができる。これらの例は、例えば、特開平２−３００２８８号、同３−２２４７９３号、及び同４−１４６１８９号等の各公報に記載されている。
【００２７】
前記結合剤の例としては、ゼラチン、セルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴムなどの天然有機高分子物質；及びポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリエチレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物などの合成有機高分子を挙げることができる。結合剤を使用する場合に、結合剤の使用量は、一般に色素１００質量部に対して０．２〜２０質量部、好ましくは、０．５〜１０質量部、更に好ましくは１〜５質量部である。
【００２８】
塗布温度としては、２０〜４０℃であれば特に問題はないが、好ましくは２５〜３５℃、さらに好ましくは２７〜３３℃である。また、塗布時の相対湿度としは、２０〜６０％ＲＨであればよく、好ましくは３０〜５０％ＲＨ、さらに好ましくは３５〜４５％ＲＨである。
【００２９】
［光反射層の形成］
光反射層は、例えば、上記反射性物質を、蒸着、スパッタリングまたはイオンプレーティングすることにより記録層の上に形成することができる。本発明においては、保存性を向上させる目的、或いは外観を変える目的で、反射層は上記材料を単層で積層してもよく、２種以上の材料を多層に積層してもよい。
【００３０】
［保護層の形成］
保護層は、無機物質の場合は、真空蒸着、スパッタリング、塗布等の方法により、有機物質の場合は、プラスチックフィルムのラミネート、溶剤に溶解した塗布液の塗布乾燥等により形成することができる。あるいは保護層は、例えば、プラスチックの押出加工で得られたフィルムを、接着剤を介して反射層上にラミネートすることにより形成することができる。また、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂の場合には、これらを適当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのち、この塗布液を塗布し、乾燥することによっても形成することができる。ＵＶ硬化性樹脂の場合には、そのままもしくは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのちこの塗布液を塗布し、ＵＶ光を照射して硬化させることによっても形成することができる。これらの塗布液中には、更に帯電防止剤、酸化防止剤、ＵＶ吸収剤等の各種添加剤を目的に応じて添加してもよい。
【００３１】
ディスクの反りを防止するため、塗布膜への紫外線の照射はパルス型の光照射器（好ましくは、ＵＶ照射器）を用いて行うことが好ましい。パルス間隔はｍｓｅｃ以下が好ましく、μｓｅｃ以下がより好ましい。１パルスの照射光量は特に制限されないが、３ｋＷ／ｃｍ２以下が好ましく、２ｋＷ／ｃｍ２以下がより好ましい。
また、照射回数は特に制限されないが、２０回以下が好ましく、１０回以下がより好ましい
【００３２】
［アニール工程］
本発明の光情報媒体の製造方法においては、記録層を形成した情報基板及び／又は保護基板に対してアニール処理を施すアニール工程を設ける。アニール工程においては、昇温前の初期温度からアニール温度に至るまでの温度をステップ状に上昇させる。アニール温度に至るまで温度をステップ状に上昇させることにより、基板内に存在する残留応力の解放を少しずつ進行させ、急激な温度変化による基板の反りの発生を防止することができる。ひいては、基板をスタックポールを用いて段積みしたとき、基板同士の当接を防止することができ、基板の機械特性が向上する。また、基板の反りを少なくすることができるため、スタックポールによって段積みする際に、各基板間に挿入するスペーサーの厚みを小さくすることができ、１本のスタックポールに段積み可能な基板枚数が増加し、生産効率の向上を図ることができる。
【００３３】
前記「ステップ状に上昇させる」とは、温度上昇時において、一定時間温度を略一定にしながら上昇させるステップを有することを意味する。例えば、アニール温度が８０℃の場合、図１のグラフに示すように、常温（初期温度）から加熱し、５０℃に到達したらある時間一定に保ち、一定時間経過後、アニール温度８０℃まで昇温する。
【００３４】
アニール工程における温度をステップ状に上昇させる手段としては、例えば、アニール炉の温度調節機能を利用すること、等が挙げられる。
【００３５】
昇温前の初期温度としては、室温とすることができ、また、アニール温度としては、例えば８０℃とすることができるが、本発明はこれに限定されることはない。
【００３６】
１ステップにおける保持時間としては、基板全体が均一温度となる時間とすることが好ましい。例えば、基板の材質としてポリカーボネートを用いた場合、ポリカーボネートの線膨張係数：６．５×１０−５ｃｍ／ｃｍ／℃で、ＤＶＤ−Ｒの場合、基板の外径：１２０ｍｍ、クランプエリア径：３３ｍｍとした場合、温度変化によるクランプエリアからみた外径部の変形量は下記式で表される。
変形量＝（基板の外径−クランプエリア径）／２×線膨張係数×温度変化
偏心量は規格で１００μｍ以下と規定されており、温度による変形量（基板内の温度ばらつきによる基板変形のばらつき）を規格以下とするためには、１ステップの温度上昇は３０℃以下とすることが好ましい。
【００３７】
本発明において、アニール工程における基板の支持手段としては、特に限定はないが、例えば、以下の▲１▼〜▲３▼が挙げられる。
▲１▼基板、スペーサー、基板…の順に、垂直に立設されたスタックポールに串刺しして支持する。
▲２▼コンベア上で基板を立てた状態で支持する。
▲３▼コンベア上で基板を寝かせた状態で支持する。
【００３８】
［基板と保護基板との貼り合わせ］
基板と保護基板との貼り合わせには、種々の接着剤を使用することができる。例えば、情報基板の保護層上に紫外線硬化樹脂（大日本インキ化学工業（株）製ＳＤ６４０等）をスピンコート法によって、２０〜６０μｍの厚さに塗布して、接着層を形成する。形成した接着層上に、保護基板を載置し、保護基板上から紫外線を照射して紫外線硬化樹脂を硬化させて貼り合わせる。
【００３９】
【実施例】
本発明を以下に示す実施例により具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００４０】
（実施例１）
射出成型機（住友重機械工業（株）製）を用いて、ポリカーボネート樹脂を、スパイラル状のグルーブ（溝深さ１５０ｎｍ、溝幅３００ｎｍ、トラックピッチ０．７４μｍ）および凹部を有する外径１２０ｍｍ、内径１５ｍｍ、厚さ０．６ｍｍの透明な基板（情報基板）を作製した。同様にして、保護基板を作製した。
【００４１】
作製した保護基板に対し、常温から５０℃まで昇温し、５０℃の温度を所定の時間略一定に保ち、さらに８０℃まで昇温し、アニール処理を施した。
【００４２】
下記化学式で表わされる色素Ａ０．２５ｇおよび色素Ｂ０．０６ｇをフッ素アルコール（２，２，３，３テトラフルオロプロパノール溶剤）３０ｇに混合し、１時間超音波処理を施して溶解し、色素塗布液を調製した。
【００４３】
【化１】
【化２】
温度２５℃、相対湿度４５％ＲＨにて、調製した色素塗布液をスピンコート法によって、前記情報基板のグルーブが形成されている面に塗布し、恒温槽中で５５℃２時間保持し、厚さ８０ｎｍの記録層を形成した。
【００４６】
記録層を形成した情報基板に対して、前記保護基板と同一の条件でアニール処理を施した。
【００４７】
次いで、形成した記録層上に、ＤＣマグネトロンスパッタにより銀をスパッタリングして、厚さ８０ｎｍの光反射層を形成した。
【００４８】
以上のようにして記録層および光反射層が形成された情報基板をスピンコーターにセットし、ＵＶ硬化接着剤を前記光反射層上に塗布し６０ｒｐｍでスピンコートした。そして、情報基板上に保護基板をかぶせ、さらに４４００ｒｐｍで回転させてＵＶ硬化接着剤を２枚の基板の間に充填した。
貼り合わせ後の基板を別のターンテーブルに移し、該ターンテーブルとともにＵＶ照射部に移動させＵＶ光を照射してＵＶ硬化接着剤を硬化させ、２枚の基板を接着して光ディスク（光情報媒体）を作製した。
【００４９】
（比較例１）
保護基板及び情報基板に、８０℃まで一定の昇温速度で昇温させるアニール処理を施したこと以外は実施例１と同様にして比較例１の光ディスクを作製した。
【００５０】
［評価］
作製した実施例１及び比較例１の光ディスクの各基板単独での機械特性（Ｒ−ｔｉｌｔ）を測定した。測定結果を表１に示す。
【００５１】
【表１】
表１より、実施例１の光ディスクは、比較例１の光ディスクと比較して、機械特性（Ｒ−ｔｉｌｔ）が良好であることが分かる。
【００５３】
【発明の効果】
本発明によれば、基板の機械特性を向上させることができる光情報媒体の製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】アニール工程における昇温過程をグラフで示す図である。
Claims (1)
- 基板に対してアニール処理を施すアニール工程を有する光情報媒体の製造方法であって、
前記アニール工程において、昇温前の初期温度からアニール温度に至るまでの温度をステップ状に上昇させることを特徴とする光情報媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003171741A JP2005011393A (ja) | 2003-06-17 | 2003-06-17 | 光情報媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003171741A JP2005011393A (ja) | 2003-06-17 | 2003-06-17 | 光情報媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2005011393A true JP2005011393A (ja) | 2005-01-13 |
Family
ID=34096099
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2003171741A Pending JP2005011393A (ja) | 2003-06-17 | 2003-06-17 | 光情報媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2005011393A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2021519537A (ja) * | 2018-03-26 | 2021-08-10 | ソイテック | 高周波デバイス用の基板を製造するための方法 |
-
2003
- 2003-06-17 JP JP2003171741A patent/JP2005011393A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2021519537A (ja) * | 2018-03-26 | 2021-08-10 | ソイテック | 高周波デバイス用の基板を製造するための方法 |
| US11870411B2 (en) | 2018-03-26 | 2024-01-09 | Soitec | Method for manufacturing a substrate for a radiofrequency device |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2008515121A (ja) | 光情報記録媒体及びその製造方法 | |
| TW200531049A (en) | Apparatus for recording dye based recordable DVD media and process for recording the same | |
| JP2005011393A (ja) | 光情報媒体の製造方法 | |
| JP2006196035A (ja) | 光ディスク | |
| JP2006196039A (ja) | 光ディスク | |
| JP2005116067A (ja) | 光情報媒体の製造方法 | |
| JP2003263779A (ja) | 光情報記録媒体及びその製造方法 | |
| JP2006155801A (ja) | 光記録媒体の製造方法 | |
| JP4098487B2 (ja) | 光情報記録媒体 | |
| JP4156914B2 (ja) | 光記録媒体及びその製造方法 | |
| JP4054187B2 (ja) | 光記録媒体の製造方法 | |
| JP2003016689A (ja) | 光情報記録媒体 | |
| JP4077612B2 (ja) | 光情報記録媒体の製造方法 | |
| JP2006196038A (ja) | 光ディスク | |
| JP2003165272A (ja) | 光情報記録媒体 | |
| JP2003217193A (ja) | 光記録媒体の製造方法 | |
| JP4076866B2 (ja) | 光情報記録媒体および光情報記録方法 | |
| JP2006196036A (ja) | 光ディスク | |
| JP2004220634A (ja) | 光情報記録媒体およびその製造方法 | |
| JP2005071492A (ja) | 光情報記録媒体 | |
| JP2004227631A (ja) | 光情報媒体及びその製造方法 | |
| JP2005078655A (ja) | 光情報記録媒体 | |
| JP2004178733A (ja) | 光記録媒体の製造方法 | |
| JP2003168243A (ja) | 光情報記録媒体 | |
| JP2003067989A (ja) | 光情報記録媒体の製造方法 |