JP2004526606A5 - - Google Patents
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- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims 13
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 claims 12
- 230000003287 optical Effects 0.000 claims 8
- 230000003678 scratch resistant Effects 0.000 claims 5
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 5
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims 5
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 claims 4
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 4
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 claims 4
- 239000000463 material Substances 0.000 claims 4
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims 4
- GEIAQOFPUVMAGM-UHFFFAOYSA-N oxozirconium Chemical compound [Zr]=O GEIAQOFPUVMAGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 4
- 239000004033 plastic Substances 0.000 claims 4
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 claims 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 4
- IXSPLXSQNNZJJU-UHFFFAOYSA-N trimethyl(silyloxy)silane Chemical compound C[Si](C)(C)O[SiH3] IXSPLXSQNNZJJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 4
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 claims 3
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 claims 3
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 claims 3
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 claims 3
- IDXCKOANSQIPGX-UHFFFAOYSA-N (acetyloxy-ethenyl-methylsilyl) acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](C)(C=C)OC(C)=O IDXCKOANSQIPGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- DOYKFSOCSXVQAN-UHFFFAOYSA-N 3-[diethoxy(methyl)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCOC(=O)C(C)=C DOYKFSOCSXVQAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- MCDBEBOBROAQSH-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl prop-2-enoate Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCOC(=O)C=C MCDBEBOBROAQSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- DGBFOBNYTYHFPN-UHFFFAOYSA-N 3-[ethoxy(dimethyl)silyl]propyl prop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](C)(C)CCCOC(=O)C=C DGBFOBNYTYHFPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- JBDMKOVTOUIKFI-UHFFFAOYSA-N 3-[methoxy(dimethyl)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](C)(C)CCCOC(=O)C(C)=C JBDMKOVTOUIKFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- DMZPTAFGSRVFIA-UHFFFAOYSA-N 3-[tris(2-methoxyethoxy)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound COCCO[Si](OCCOC)(OCCOC)CCCOC(=O)C(C)=C DMZPTAFGSRVFIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- XDQWJFXZTAWJST-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOC(=O)C=C XDQWJFXZTAWJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- BESKSSIEODQWBP-UHFFFAOYSA-N 3-tris(trimethylsilyloxy)silylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCC[Si](O[Si](C)(C)C)(O[Si](C)(C)C)O[Si](C)(C)C BESKSSIEODQWBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- LSZMEVZPFPOJIT-UHFFFAOYSA-N COC(CO[SiH2]C=C)OC Chemical compound COC(CO[SiH2]C=C)OC LSZMEVZPFPOJIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- UIUXUFNYAYAMOE-UHFFFAOYSA-N Methylsilane Chemical compound [SiH3]C UIUXUFNYAYAMOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- NOZAQBYNLKNDRT-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(ethenyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](OC(C)=O)(OC(C)=O)C=C NOZAQBYNLKNDRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- TWXCZWPCNKKHIF-UHFFFAOYSA-N [ethenyl(trimethylsilyloxy)silyl]oxy-trimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)O[SiH](C=C)O[Si](C)(C)C TWXCZWPCNKKHIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims 2
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 claims 2
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 claims 2
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 claims 2
- OYWALDPIZVWXIM-UHFFFAOYSA-N dimethyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]-trimethylsilyloxysilane Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)CCCOCC1CO1 OYWALDPIZVWXIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- FEHYCIQPPPQNMI-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triphenoxy)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1O[Si](OC=1C=CC=CC=1)(C=C)OC1=CC=CC=C1 FEHYCIQPPPQNMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- MBGQQKKTDDNCSG-UHFFFAOYSA-N ethenyl-diethoxy-methylsilane Chemical compound CCO[Si](C)(C=C)OCC MBGQQKKTDDNCSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- MABAWBWRUSBLKQ-UHFFFAOYSA-N ethenyl-tri(propan-2-yloxy)silane Chemical compound CC(C)O[Si](OC(C)C)(OC(C)C)C=C MABAWBWRUSBLKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- DYFMAHYLCRSUHA-UHFFFAOYSA-N ethenyl-tris(2-methylpropoxy)silane Chemical compound CC(C)CO[Si](OCC(C)C)(OCC(C)C)C=C DYFMAHYLCRSUHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- BQRPSOKLSZSNAR-UHFFFAOYSA-N ethenyl-tris[(2-methylpropan-2-yl)oxy]silane Chemical compound CC(C)(C)O[Si](OC(C)(C)C)(OC(C)(C)C)C=C BQRPSOKLSZSNAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- CWAFVXWRGIEBPL-UHFFFAOYSA-N ethoxysilane Chemical compound CCO[SiH3] CWAFVXWRGIEBPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims 2
- ICCDZMWNLNRHGP-UHFFFAOYSA-N methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]-bis(prop-1-en-2-yloxy)silane Chemical compound CC(=C)O[Si](C)(OC(C)=C)CCCOCC1CO1 ICCDZMWNLNRHGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 claims 2
- 230000001681 protective Effects 0.000 claims 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims 2
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical group CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- QNWOFLWXQGHSRH-UHFFFAOYSA-N trimethyl-[methyl(trimethylsilyloxy)silyl]oxysilane Chemical compound C[Si](C)(C)O[SiH](C)O[Si](C)(C)C QNWOFLWXQGHSRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- CIOXFKGQNIJXKF-UHFFFAOYSA-N tris(2-methoxyethoxy)silane Chemical group COCCO[SiH](OCCOC)OCCOC CIOXFKGQNIJXKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- WYEQAOSMOYTHJX-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3,3,4,4-octamethylcyclohexane Chemical compound CC1(C)CCC(C)(C)C(C)(C)C1(C)C WYEQAOSMOYTHJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- WSMYBZZUAFRRBM-UHFFFAOYSA-N 2-(2-butoxycarbonyloxyethoxy)ethyl butyl carbonate Chemical compound CCCCOC(=O)OCCOCCOC(=O)OCCCC WSMYBZZUAFRRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- XYPTZZQGMHILPQ-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-6-trimethoxysilylhex-1-en-3-one Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCC(=O)C(C)=C XYPTZZQGMHILPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- IXGYIZZVEFOESR-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-6-trimethoxysilylhexa-1,5-dien-3-one Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=CCC(=O)C(C)=C IXGYIZZVEFOESR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- LZMNXXQIQIHFGC-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C LZMNXXQIQIHFGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- NWBTXZPDTSKZJU-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethyl(trimethylsilyloxy)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCC[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C NWBTXZPDTSKZJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- QXDDDCNYAAJLBT-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl(trimethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)CCCCl QXDDDCNYAAJLBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N Bis(trimethylsilyl)amine Chemical compound C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229920000126 Latex Polymers 0.000 claims 1
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L Magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims 1
- SLYCYWCVSGPDFR-UHFFFAOYSA-N Octadecyltrimethoxysilane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC[Si](OC)(OC)OC SLYCYWCVSGPDFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 claims 1
- 229920001721 Polyimide Polymers 0.000 claims 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 claims 1
- IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N Trimethylsilyl chloride Chemical group C[Si](C)(C)Cl IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 claims 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims 1
- 239000006117 anti-reflective coating Substances 0.000 claims 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims 1
- LGEJHPHGNSBWOF-UHFFFAOYSA-N chloro-(3,3-dimethylbutyl)-dimethylsilane Chemical compound CC(C)(C)CC[Si](C)(C)Cl LGEJHPHGNSBWOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- OOCUOKHIVGWCTJ-UHFFFAOYSA-N chloromethyl(trimethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)CCl OOCUOKHIVGWCTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- YUWMHVAIAHCLSE-UHFFFAOYSA-N chloromethyl-dodecyl-dimethylsilane Chemical compound CCCCCCCCCCCC[Si](C)(C)CCl YUWMHVAIAHCLSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims 1
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 claims 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims 1
- WSFMFXQNYPNYGG-UHFFFAOYSA-M dimethyl-octadecyl-(3-trimethoxysilylpropyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)CCC[Si](OC)(OC)OC WSFMFXQNYPNYGG-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 1
- PHDAZHGCTGTQAS-UHFFFAOYSA-M dimethyl-tetradecyl-(3-trimethoxysilylpropyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)CCC[Si](OC)(OC)OC PHDAZHGCTGTQAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 1
- RSIHJDGMBDPTIM-UHFFFAOYSA-N ethoxy(trimethyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(C)C RSIHJDGMBDPTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229920002313 fluoropolymer Polymers 0.000 claims 1
- 238000005755 formation reaction Methods 0.000 claims 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 claims 1
- 239000004816 latex Substances 0.000 claims 1
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 claims 1
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 1
- 229920000636 poly(norbornene) polymer Polymers 0.000 claims 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 claims 1
- 239000011528 polyamide (building material) Substances 0.000 claims 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims 1
- 229920003288 polysulfone Polymers 0.000 claims 1
- 229920002578 polythiourethane polymer Polymers 0.000 claims 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 claims 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 claims 1
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N precursor Substances N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- BFASWJXWTSCDRR-UHFFFAOYSA-M prop-2-enyl carbonate Chemical compound [O-]C(=O)OC[C]=C BFASWJXWTSCDRR-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 125000004469 siloxy group Chemical group [SiH3]O* 0.000 claims 1
- 125000000446 sulfanediyl group Chemical group *S* 0.000 claims 1
- 150000003553 thiiranes Chemical class 0.000 claims 1
- UMFJXASDGBJDEB-UHFFFAOYSA-N triethoxy(prop-2-enyl)silane Chemical compound CCO[Si](CC=C)(OCC)OCC UMFJXASDGBJDEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000005051 trimethylchlorosilane Substances 0.000 claims 1
Claims (22)
- 被覆された光学物品を形成させる方法であって、
(a)形成用空隙を規定する対向した光学表面を有する二つの部材からなるモールドを設ける工程と、
(b)前記モールドの光学表面の少なくとも一つの上に、反射防止膜と、耐擦傷膜と、耐衝撃プライマー膜とを連続的に形成させる工程と、
(c)前記形成用空隙に光学基体用液状硬化性組成物を充填する工程と、
(d)前記液状硬化性組成物を硬化させる工程と、
(e)二つの部材からなるモールドを分解し、少なくとも一つの表面に、耐衝撃プライマー膜と、耐擦傷膜と、反射防止膜とを成膜され、かつ、接着された光学基体を有する被覆された光学物品を回収する工程と
を具備する方法。 - 前記二つの部材からなるモールドがプラスチック材料製である、請求項1に記載の方法。
- 前記二つの部材からなるモールドが、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリスルホン、ポリエチレンテレフタレートとポリカーボネートとの共重合体、結晶性ポリエチレンテレフタレート、ガラス繊維強化ポリエチレンテレフタレートおよびポリノルボルネンからなる群から選ばれるプラスチック材料製である、請求項2に記載の方法。
- 前記プラスチック材料がポリカーボネートである、請求項2に記載の方法。
- 前記プラスチック材料が更に離型剤を含有する、請求項2に記載の方法。
- 前記離型剤が、トリメチルクロロシラン、クロロメチルトリメチルシラン、クロロプロピルトリメチルシラン、クロロメチルドデシルジメチルシラン、塩素末端ポリジメチルシロキサン、(3,3−ジメチルブチル)ジメチルクロロシラン、ヘキサメチルジシラザン、オクタメチルシクロテトラシロザン、アミノプロピルジメチル末端ポリジメチルシロキサン、3−トリメトキシシリルプロピルオクタデシルジメチルアンモニウムクロライド、テトラデシルジメチル(3−トリメトキシシリルプロピル)アンモニウムクロライド、トリメチルエトキシシランおよびオクタデシルトリメトキシシランからなる群から選ばれる、請求項5に記載の方法。
- 更に、前記工程(b)の前に、前記モールドの前記光学表面の上に、保護用および/または離型用被膜を形成させる工程を具備する、請求項2に記載の方法。
- 前記保護用および/または離型用被膜が、
−UV硬化アクリル層;
−アミン含有ポリシロキサン層;
−フルオロカーボンポリマー層;
−真空成膜されたフッ化マグネシウム層
から選ばれる、請求項7に記載の方法。 - 前記反射防止膜が、高屈折率および低屈折率の交互の誘電材料層の積層を有する、請求項1に記載の方法。
- 前記誘電材料層の積層が、SiO2/ZrO2/SiO2/ZrO2の4層の積層である、請求項9に記載の方法。
- 更に、前記耐擦傷膜との接着を促進させるために、前記反射防止膜の上に、追加SiO2層を形成させる工程を具備する、請求項9に記載の方法。
- 更に、前記耐擦傷膜との接着を促進させるために、前記反射防止膜の上に、追加SiO2層を形成させる工程を具備する、請求項10に記載の方法。
- 前記耐擦傷膜が、エポキシアルコキシシラン、ジアルキルジアルコキシシランおよびコロイダルシリカまたはそれらの加水分解物を主成分として含有する組成物を硬化させることにより形成される、請求項1に記載の方法。
- 前記耐擦傷膜組成物が、更に、エポキシアルコキシシランおよび不飽和アルコキシシランの予備的濃縮溶液であるカップリング剤の有効量を含有する、請求項13に記載の方法。
- 前記エポキシアルコキシシランが、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルペンタメチルジシロキサン、γ−グリジコキシプロピルメチルジイソプロペノキシシラン、(γ−グリシドキシプロピル)メチルジエトキシシラン、γ−グリシドプロピルジメチルエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルジイソプロピルエトキシシランおよび(γ−グリシドキシプロピル)ビス(トリメチルシロキシ)メチルシランの群から選ばれる、請求項14に記載の方法。
- 前記不飽和アルコキシシランが、トリス(2−メトキシエトキシ)シラン、ビニルトリス−イソブトキシシラン、ビニルトリス−t−ブトキシシラン、ビニルトリフェノキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリイソプロポキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルメチルジエトキシシラン、ビニルメチルジアセトキシシラン、ビニルビス(トリメチルシロキシ)シラン、ビニルジメトキシエトキシシラン、アルキルトリエトキシシラン、アルキルトリエトキシシランおよびアリルトリス(トリメチルシロキシ)シラン、3−アクリロキシプロピルトリス(トリメチシロキシ)シラン、3−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−アクリロキシプロピルエチルビス(トリメチルシロキシ)シラン、3−アクリロキシプロピルジメチルエトキシシラン、n−(3−アクリロキシ−2−ヒドロキシプロピル)−3−アミノプロピル−トリエトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリス(ビニルジメチキシル−シロキシ)シラン、3−メタクリロキシプロピルトリス(トリメトルシロキシ)−シラン、3−メタクリロキシプロピルトリス(メトキシエトキシ)シラン、3−メタクリプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルペンタメチルジ−シロキサン、3−メタクリロキシプロピルメチル−ジメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルジメチルメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルジメチルエトキシシラン、3−メタクリル−プロペニルトリメトキシシランならびに3−メタクリロキシプロピルビス(トリメチル−シロキシ)メチルシランからなる群から選ばれる、請求項14に記載の方法。
- 前記耐衝撃プライマー膜が、ポリ(メタ)アクリル系組成物またはポリウレタン系組成物を硬化させることにより形成される、請求項1に記載の方法。
- 前記組成物がラテックスである、請求項17に記載の方法。
- 前記耐衝撃プライマー膜組成物が、エポキシアルコキシシランおよび不飽和アルコキシシランの予備的濃縮溶液であるカップリング剤の有効量を含有する、請求項17に記載の方法。
- 前記エポキシアルコキシシランが、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルペンタメチルジシロキサン、γ−グリジコキシプロピルメチルジイソプロペノキシシラン、(γ−グリシドキシプロピル)メチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルジメチルエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルジイソプロピルエトキシシランおよび(γ−グリシドキシプロピル)ビス(トリメチルシロキシ)メチルシランの群から選ばれる、請求項19に記載の方法。
- 前記不飽和アルコキシシランが、トリス(2−メトキシエトキシ)シラン、ビニルトリスイソブトキシシラン、ビニルトリス−t−ブトキシシラン、ビニルトリフェノキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリイソプロポキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルメチルジエトキシシラン、ビニルメチルジアセトキシシラン、ビニルビス(トリメチルシロキシ)シラン、ビニルジメトキシエトキシシラン、アリルトリエトキシシラン、アルキルトリエトキシシランおよびアリルトリス(トリメチルシロキシ)シラン、3−アクリロキシプロピルトリス(トリメチシロキシ)シラン、3−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−アクリロキシプロピルエチルビス(トリメチルシロキシ)シラン、3−アクリロキシプロピルジメチルエトキシシラン、n−(3−アクリロキシ−2−ヒドロキシプロピル)−3−アミノプロピル−トリエトキシシラン、3−メタクリロキシトリス(ビニルジメチルシロキシ)シラン、3−メタクリロキシプロピルトリス(トリメチルシロキシ)シラン、3−メタクリロキシプロピルトリス(メトキシエトキシ)シラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルペンタメチルジシロキサン、3−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルジメチルメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルジメチルエトキシシラン、3−メタクリロキシプロペニルトリメトキシシランならびに3−メタクリロキシプロピルビス(トリメチルシロキシ)メチルシランからなる群から選ばれる、請求項19に記載の方法。
- 前記光学基体が、
−ジエチレングリコールビス(アリルカーボネート)系組成物;
−(メタ)アクリルモノマー系組成物;
−チオ(メタ)アクリルモノマー系組成物;
−ポリチオウレタン前駆体モノマー系組成物;または
−エポキシおよび/またはエピスルフィドモノマー系組成物
の重合に由来する基体である、請求項1に記載の方法。
。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US29442601P | 2001-05-29 | 2001-05-29 | |
PCT/EP2002/005795 WO2002096628A2 (en) | 2001-05-29 | 2002-05-27 | Method for forming on-site a coated optical article |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004526606A JP2004526606A (ja) | 2004-09-02 |
JP2004526606A5 true JP2004526606A5 (ja) | 2007-03-01 |
JP4551620B2 JP4551620B2 (ja) | 2010-09-29 |
Family
ID=23133372
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002593127A Expired - Fee Related JP4551620B2 (ja) | 2001-05-29 | 2002-05-27 | 現場で被覆された光学物品を形成させる方法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6890458B2 (ja) |
EP (1) | EP1395417B1 (ja) |
JP (1) | JP4551620B2 (ja) |
AT (1) | ATE334809T1 (ja) |
AU (1) | AU2002312945A1 (ja) |
DE (1) | DE60213593T2 (ja) |
WO (1) | WO2002096628A2 (ja) |
Families Citing this family (34)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7108958B2 (en) * | 2002-07-31 | 2006-09-19 | Brewer Science Inc. | Photosensitive bottom anti-reflective coatings |
JP5368674B2 (ja) * | 2003-10-15 | 2013-12-18 | ブルーワー サイエンス アイ エヌ シー. | 現像液に可溶な材料および現像液に可溶な材料をビアファーストデュアルダマシン適用において用いる方法 |
JP4580774B2 (ja) * | 2004-02-16 | 2010-11-17 | 富士フイルム株式会社 | 反射防止フィルム、それを用いた偏光板、並びにそれらを用いた表示装置 |
US7695781B2 (en) | 2004-02-16 | 2010-04-13 | Fujifilm Corporation | Antireflective film, polarizing plate including the same, image display unit including the same and method for producing antireflective film |
US20070207406A1 (en) * | 2004-04-29 | 2007-09-06 | Guerrero Douglas J | Anti-reflective coatings using vinyl ether crosslinkers |
US20050255410A1 (en) * | 2004-04-29 | 2005-11-17 | Guerrero Douglas J | Anti-reflective coatings using vinyl ether crosslinkers |
US20070045777A1 (en) * | 2004-07-08 | 2007-03-01 | Jennifer Gillies | Micronized semiconductor nanocrystal complexes and methods of making and using same |
WO2006023297A1 (en) * | 2004-08-16 | 2006-03-02 | Molecular Imprints, Inc. | Method and composition to provide a layer with uniform etch characteristics |
US7939131B2 (en) * | 2004-08-16 | 2011-05-10 | Molecular Imprints, Inc. | Method to provide a layer with uniform etch characteristics |
US20060103037A1 (en) * | 2004-11-18 | 2006-05-18 | Kai Su | Disposable molds and method of using the same |
US8899547B2 (en) * | 2004-11-18 | 2014-12-02 | Qspex Technologies, Inc. | Molds and method of using the same for optical lenses |
US20060103041A1 (en) * | 2004-11-18 | 2006-05-18 | Kai Su | Molds and method of using the same for forming plus or minus lenses |
AU2006326863A1 (en) * | 2005-12-21 | 2007-06-28 | Carl Zeiss Vision Australia Holdings Limited | Primer layer coating compositions |
US9185810B2 (en) * | 2006-06-06 | 2015-11-10 | Second Sight Medical Products, Inc. | Molded polymer comprising silicone and at least one metal trace and a process of manufacturing the same |
US7914974B2 (en) | 2006-08-18 | 2011-03-29 | Brewer Science Inc. | Anti-reflective imaging layer for multiple patterning process |
US8741158B2 (en) | 2010-10-08 | 2014-06-03 | Ut-Battelle, Llc | Superhydrophobic transparent glass (STG) thin film articles |
CN101971102B (zh) | 2008-01-29 | 2012-12-12 | 布鲁尔科技公司 | 用来通过多次暗视场曝光对硬掩模进行图案化的在线法 |
US8268907B2 (en) * | 2008-06-13 | 2012-09-18 | Essilor International (Compagnie Generale D'optique) | Photocurable acrylic coating compositions having good adhesion properties to a subsequent coating and corresponding coated substrates |
US9640396B2 (en) | 2009-01-07 | 2017-05-02 | Brewer Science Inc. | Spin-on spacer materials for double- and triple-patterning lithography |
US8222360B2 (en) | 2009-02-13 | 2012-07-17 | Visiogen, Inc. | Copolymers for intraocular lens systems |
EP2563826A2 (en) | 2010-04-29 | 2013-03-06 | Battelle Memorial Institute | High refractive index composition |
US11292919B2 (en) * | 2010-10-08 | 2022-04-05 | Ut-Battelle, Llc | Anti-fingerprint coatings |
US9042019B2 (en) | 2011-04-15 | 2015-05-26 | Qspex Technologies, Inc. | Anti-reflective lenses and methods for manufacturing the same |
US9335443B2 (en) | 2011-04-15 | 2016-05-10 | Qspex Technologies, Inc. | Anti-reflective lenses and methods for manufacturing the same |
WO2012170008A1 (en) * | 2011-06-06 | 2012-12-13 | Abb Research Ltd. | Method of producing shaped articles from a uv-curable silicone rubber composition |
GB201112447D0 (en) * | 2011-07-20 | 2011-08-31 | Surface Innovations Ltd | Method |
JP6182156B2 (ja) * | 2012-01-17 | 2017-08-16 | 三井化学株式会社 | 表面起伏を有する可撓性膜および電気活性光学系におけるその使用 |
CN104718466B (zh) * | 2012-10-10 | 2016-07-06 | Qspex科技有限公司 | 抗反射透镜和制造所述抗反射透镜的方法 |
US20150239773A1 (en) | 2014-02-21 | 2015-08-27 | Ut-Battelle, Llc | Transparent omniphobic thin film articles |
ES2773488T3 (es) | 2016-10-21 | 2020-07-13 | Zeiss Carl Vision Int Gmbh | Procedimiento de impresión 3D para la producción de un cristal de gafas |
EP3441798A1 (en) * | 2017-08-09 | 2019-02-13 | Essilor International | Optical article comprising a substrate with embedded particles for light transmission enhancement |
KR102502637B1 (ko) * | 2018-05-14 | 2023-02-22 | 미쓰이 가가쿠 가부시키가이샤 | 에피설파이드계 광학재료용 모노머의 몰드 자동 주입방법 |
CN111744743A (zh) * | 2019-12-27 | 2020-10-09 | 厦门谨德光电科技有限公司 | 一种uv固化加硬眼镜片的制备方法及其制备装置 |
DE102022121363A1 (de) | 2022-08-24 | 2024-02-29 | HELLA GmbH & Co. KGaA | Beschichtungsstruktur zur Beschichtung eines Reflektors für den Einsatz in einem Scheinwerfer eines Kraftfahrzeugs |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5226237A (en) * | 1975-08-25 | 1977-02-26 | Ulvac Corp | Process for treating the surface of a lens made of synthesized plastics |
JPS53111336A (en) * | 1977-03-11 | 1978-09-28 | Toray Ind Inc | Coating composition |
AU570214B2 (en) | 1982-09-07 | 1988-03-10 | Signet Armorlite, Inc. | Coating ophthalmic lenses |
JPS5978301A (ja) * | 1982-10-28 | 1984-05-07 | Seiko Epson Corp | 合成樹脂製レンズ |
JPH0642002B2 (ja) * | 1983-07-29 | 1994-06-01 | セイコーエプソン株式会社 | プラスチックレンズ |
JPH0762722B2 (ja) | 1986-09-30 | 1995-07-05 | ホ−ヤ株式会社 | プラスチックレンズ |
JPH0679084B2 (ja) | 1986-12-04 | 1994-10-05 | ホーヤ株式会社 | プラスチックレンズ |
US5096626A (en) * | 1988-06-10 | 1992-03-17 | Asahi Kogaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Process of molding a coated plastic lens |
JP3196780B2 (ja) | 1989-06-20 | 2001-08-06 | 日本板硝子株式会社 | プラスチックレンズの製造法 |
US5267340A (en) * | 1989-08-08 | 1993-11-30 | E-Tek Dynamics, Inc. | Fiber optic coupler and method of making same |
US5160668A (en) * | 1989-12-05 | 1992-11-03 | Optical Coating Laboratory, Inc. | Method for forming optical elements having an optical coating by replication of a mold |
US5385955A (en) | 1992-11-05 | 1995-01-31 | Essilor Of America, Inc. | Organosilane coating composition for ophthalmic lens |
US5316791A (en) * | 1993-01-21 | 1994-05-31 | Sdc Coatings Inc. | Process for improving impact resistance of coated plastic substrates |
FR2727895A1 (fr) * | 1994-12-12 | 1996-06-14 | Essilor Int | Procede pour la realisation d'une lentille optique en matiere synthetique polymerisable et appareillage correspondant |
FR2727894A1 (fr) * | 1994-12-12 | 1996-06-14 | Essilor Int | Procede pour le remplissage d'un moule destine a l'obtention d'une lentille optique |
US5733483A (en) * | 1995-01-13 | 1998-03-31 | Soane Technologies, Inc. | Method for formation of on-site coated and tinted optical elements |
AUPQ326399A0 (en) | 1999-09-21 | 1999-10-28 | Sola International Holdings Ltd | Method of coating an optical element |
US6572794B1 (en) * | 2000-07-24 | 2003-06-03 | Essilor International Compagnie Generale D'optique | Method of manufacturing a photochromic molded article |
-
2002
- 2002-05-27 AU AU2002312945A patent/AU2002312945A1/en not_active Abandoned
- 2002-05-27 AT AT02738113T patent/ATE334809T1/de not_active IP Right Cessation
- 2002-05-27 JP JP2002593127A patent/JP4551620B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2002-05-27 WO PCT/EP2002/005795 patent/WO2002096628A2/en active IP Right Grant
- 2002-05-27 DE DE60213593T patent/DE60213593T2/de not_active Expired - Lifetime
- 2002-05-27 EP EP02738113A patent/EP1395417B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2002-05-29 US US10/157,292 patent/US6890458B2/en not_active Expired - Fee Related
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