JP2004349672A - 充填材及びそれを用いた多層配線基板並びに多層配線基板の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 フィラーと熱硬化性樹脂と硬化剤と硬化触媒とを含有し、溶剤を含有しない充填材であって、前記熱硬化性樹脂としてエポキシ樹脂、前記硬化剤としてジシアンジアミド系硬化剤、前記硬化触媒としてウレア系化合物を含有する充填材を用いる。そして、前記充填材を配線基板2に形成されたスルーホールに4充填し、この充填材5の露出面に導体層6を形成し、順次絶縁層7、11と導体パターン層9、12とを積層して多層配線基板1を形成する。
【選択図】 図1
Description
上記に於いて、各原料の添加量は、熱硬化性樹脂と硬化剤との和を100質量部とした質量部(phr)で示すと、例えば、次のようにすればよい。熱硬化性樹脂及び硬化剤の添加量は、熱硬化性樹脂を89phr以上97phr以下、硬化剤を3phr以上11phr以下にすればよい。また、硬化触媒及びフィラーの添加量は、硬化触媒を0.5phr以上9phr以下、フィラーを100phr以上1000phr以下にすればよい。
本発明の充填材は、硬化触媒としてウレア系化合物を含むので、フィラー、熱硬化性樹脂、硬化剤等の偏りが少なく、均一な組成で硬化することができ、更に硬化後の耐熱性に優れ、この耐熱性を得るために120℃以上180℃以下の比較的低い温度で硬化させることができて好ましい。
上記のジシアンジアミド系硬化剤の粉末は、平均粒子径が0.1μm以上100μm以下の範囲であることが好ましく、更には1μm以上30μm以下、更には1μm以上15μm以下の範囲が好ましい。その理由は、平均粒子径がこれらの範囲より大きい場合は、配線基板に形成したスルーホールや電子部品が収納された貫通孔又は凹部に充填材を充填するときに目詰まりが生じて充填不足となったり、フィラー、熱硬化性樹脂、硬化剤、エポキシ樹脂の混練が不均一になったりして好ましくないからである。また、平均粒子径が0.1μmより小さい場合は、充填剤の寿命や粘度制御が困難になり好ましくないからである。
上記の充填材によれば、配線基板に形成した内径が200μm以下の小径のスルーホールでも目詰まりを生じることなく充填材を充填できるという作用効果が得られる。
特許請求の範囲に記載の他の発明は、配線基板に形成されたスルーホールに上記の何れか記載の充填材を充填して硬化させ、次いで、前記配線基板の表面に露出した前記充填材の上面に導体層を形成することを特徴とする多層配線基板の製造方法である。
まず、スルホールを形成するために、配線基板にドリルやレーザなどを用いて貫通孔を形成する。その後、この貫通孔の内壁に無電解メッキを施し、さらに所定の厚みの導体を得るために電解メッキを行う。
まず、前記充填材の上面に形成した前記導体層の上面に絶縁層を積層する。この絶縁層は液状、フィルム状のいずれを用いても良く、併用しても良いが、フィルム状のものを用いると工程数が削減されて好ましい。液状のものを用いる場合にはスクリーン印刷工法やロールコーター法、カーテンコーター法等を用いて積層すると良い。また、フィルム状のものを用いる場合には、加熱圧着して積層すると良い。
まず、配線基板にドリル、パンチング、レーザなどを用いて貫通孔又は凹部を形成する。
以下に、一実施例を用いて特許請求の範囲に記載の発明について説明する。
まず、熱硬化性樹脂と硬化剤の混合材を作製するために下記の原料を準備した。
熱硬化性樹脂として、ビスフェノールA型エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン製、商品名;エピコート828)とグリシジルアミン型のエポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン製、商品名;エピコート630)を準備した。硬化剤として、ジシアンジアミド系硬化剤(ジャパンエポキシレジン製、商品名;DICY7;平均粒子径7μm、粉末状)を準備した。硬化触媒として、ウレア系化合物である脂環族ジメチルウレア(サンアプロ製、商品名;U−CAT3503N)、芳香族ジメチルウレア(サンアプロ製、商品名;U−CAT3502T)及びイミダゾール化合物の2,4−ジアミノ−6−[2´−ウンデシルイミダゾリル−(1)´]−エチル−s−トリアジン(四国化成工業製、商品名;キュアゾールC11Z−A)を準備した。溶剤として、ジメチルホルムアミドを準備した。
まず、充填材を作製するために下記の原料を準備した。
熱硬化性樹脂として、ビスフェノールA型エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン製、商品名;エピコート828)を準備した。硬化剤として、ジシアンジアミド系硬化剤(ジャパンエポキシレジン製、商品名;DICY7;平均粒子径7μm、粉末状)を準備した。硬化触媒として、ウレア系化合物である芳香族ジメチルウレア(サンアプロ製、商品名;U−CAT3502T)と2,4−ジアミノ−6−[2´−ウンデシルイミダゾリル−(1)´]−エチル−s−トリアジン(四国化成工業製、商品名;キュアゾールC11Z−A)を準備した。溶剤として、ジメチルホルムアミドを準備した。
次に、前述の各充填材を用いて、図1に示す多層配線基板1を形成した。図1は、本発明が適用された多層配線基板1の構成を表す断面図である。図1に基づいて多層配線基板1の構成及び製造方法と、この多層配線基板1におけるスルーホール充填評価結果について説明する。
次いで、CO2レーザを用いて絶縁層7を貫通するバイアホール8を形成した。このとき、バイアホール8が配線基板2に形成した導体層6と重なる位置に形成した。その後、絶縁層7の上面に導体パターン層9を形成し、この導体パターン層9と充填材5の露出面を覆う導体層6とが接続されるようにするようにバイアホール8の内壁にそってバイア導体10を形成した。
(3)ピール強度の評価
まず、充填材を作製するために下記の原料を準備した。
次いで、この配線基板を、プレッシャークッカー試験槽に入れ、PCT(プレッシャークッカー試験)を行うとともに、PCT前後における導体層と充填材とのピール強度試験を行った。この際、ピール強度試験は、充填材表面に形成した幅10mmの導体層の端部を僅かに引き剥がし、この端部を把持し、配線基板の面に対して垂直方向に50±1mm/min.の速度で引き上げ、導体層が充填材から剥離する強度を測定した。また、PCTは、配線基板を、槽内温度が121℃、槽内気圧が2.1atm、のプレッシャークッカー試験槽に168時間放置した。そして、PCT前のピール強度とPCT後のピール強度を表3に表した。
次に、実施例(3)に用いた充填剤、硬化剤、硬化触媒を用い、更に各原料の添加量とフィラーの粒子径を変化させ、前記の「(2)多層配線基板の作製とスルーホール充填評価」と同様に、多層配線基板1を作製し、スルーホール充填評価を行った。まず、充填材を作製するために下記の原料を準備した。
本第1実施例による充填材5は、熱硬化性樹脂と硬化剤が相溶した樹脂にフィラーが均一に含有されるので、配線基板2に形成したスルーホール4に充填して用いると、充填材5上面への導体層6を形成する際に印刷性が向上し導体層6との密着強度が良好であった。そして、この充填材5を用いた多層配線基板1は、サーマルサイクル試験を行うと、充填材5と充填材5上面の導体層6又はスルーホール4内の導体3との剥離やクラックが低減でき、更に、導体層6の上面に積層した絶縁層7、11、導体パターン層9、12、ソルダーレジスト層13等の剥離(デラミネーション)やクラックが低減でき信頼性が良好であった。
また、本実施例において、多層配線基板1の上面の導体パターン層12にNiをメッキし、さらにその上面にAuをメッキしたが、この導体パターン層12の上面には低抵抗を有する他の金属をメッキしても良いし、しなくても良い。
[第2実施例]
次に、前述の各充填材24、32を用いて、図2に示す多層配線基板21を形成した。図2は、本発明が適用された第2実施例の多層配線基板21の構成を表す断面図である。
次いで、図3(a)に示すように、配線基板23に、スルーホール31を形成するための貫通孔29を(例えばドリル加工やレーザ加工により)多数個形成すると共に、コンデンサ素子33を収納するための貫通孔41を(例えばパンチング加工により)形成した。
次いで、図3(d)に示すように、配線基板23の第1主面23aの上面に印刷マスクを設置し、充填材24を印刷して貫通孔41に充填した。その後、100℃〜150℃の温度雰囲気中にこの配線基板23を放置し充填材24の仮硬化(完全に硬化が飽和していない状態)を行った。尚、充填材24がコンデンサ素子33と貫通孔41との隙間に十分充填されるように、真空脱泡を行って充填材24から気泡を抜き、その後に上記仮硬化を行った。
次いで、充填材24の露出面及び配線基板23の表面を覆うように公知のデスミア及びメッキ法によって導体層を積層した。また、上記導体層を積層する際には、スルーホール形成用の貫通孔29の内周面にも導体31aを形成した。
次いで、充填材32の露出面及び配線基板32の表面を覆うように公知のデスミア及びメッキ法によって導体層を積層した。その後、エッチングによって導体層の不要部分を除去し、図3(f)に示すように、導体層25a、25bを形成した。
本第2実施例による多層配線基板21によれば、溶剤を含有すること無く、フィラー、熱硬化性樹脂、硬化剤などが均一な組成で硬化する充填材24をコンデンサ素子33が収納された貫通孔41に充填したので、充填材24の上面に印刷した導体層25a、25bとの密着強度が優れ、熱衝撃試験やプレッシャークッカー試験などにおいて、充填材24とその上面に形成した導体層25aとの界面に、間隙(デラミネーション)や、クラックなどの発生を低減でき、信頼性が良好であった。
Claims (11)
- フィラーと熱硬化性樹脂と硬化剤と硬化触媒とを含有し、溶剤を含有しない充填材であって、前記熱硬化性樹脂としてエポキシ樹脂、前記硬化剤としてジシアンジアミド系硬化剤、を含有したことを特徴とする充填材。
- 前記硬化触媒として、少なくともウレア系化合物を含有したことを特徴とする請求項1に記載の充填材。
- 前記ジシアンジアミド系硬化剤として、粉末状、樹枝状及びフレーク状から選ばれる少なくとも一種の形態であるものを用いたことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の充填材。
- 前記フィラーは、平均粒子径が0.1μm以上12μm以下、最大粒子径が75μm以下の略球形であることを特徴とする請求項1〜請求項3の何れか一項に記載の充填材。
- 配線基板に形成されたスルーホールに請求項1〜請求項4の何れか一項に記載の充填材を充填し、該スルーホールから露出した充填材の上面に導体層を形成したことを特徴とする多層配線基板。
- 前記導体層の上面に形成された絶縁層と、この絶縁層の上面に形成された導体パターン層と、該導体層と該導体パターン層とを電気的に接続するバイア導体とを有することを特徴とする請求項5に記載の多層配線基板。
- 前記スルーホールの孔径が200μm以下であることを特徴とする請求項5又は請求項6に記載の多層配線基板。
- 配線基板に形成された貫通孔又は凹部の内部に電子部品を収納し、該貫通孔又は該凹部と該電子部品との隙間に請求項1〜4の何れか1項に記載の充填材を充填し、該凹部又は該貫通孔から露出した該充填材の上面に導体層を形成したことを特徴とする多層配線基板。
- 配線基板に形成されたスルーホールに請求項1〜請求項4の何れか一項に記載の充填材を充填して硬化させ、次いで、前記配線基板の表面に露出した該充填材の上面に導体層を形成することを特徴とする多層配線基板の製造方法。
- 前記導体層の上面に絶縁層を積層し、更に、該絶縁層にバイアホールを穿設し、該絶縁層の上面および該バイアホールの内壁面に導体パターン層およびバイア導体をそれぞれ形成し、該導体パターン層と該導体層を該バイア導体により接続することを特徴とする請求項9に記載の多層配線基板の製造方法。
- 配線基板に形成された貫通孔又は凹部の内部に電子部品を収納し、該貫通孔又は該凹部と該電子部品との隙間に請求項1〜4の何れか1項に記載の充填材を充填し、該凹部又は該貫通孔から露出した該充填材の上面に導体層を形成することを特徴とする多層配線基板の製造方法。
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JP4365641B2 (ja) | 2009-11-18 |
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