JP2004340933A - 燐光体又はシンチレータシートの製造方法及び走査装置に使用するために好適なパネル - Google Patents

Abstract

【課題】封止された領域内で燐光体又はシンチレータ層を被覆し複数のシートを製造する方法において、大きな面積のプレートにおける感度及び解像度の均一性を改良し、蒸着中及び所望の寸法への切断時に発生するダスト又は汚れによる欠陥をなくす。
【解決手段】真空チャンバー１は、所望シート寸法の５倍以上の可撓性支持体５を運搬する少なくとも二つの円柱形キャリアローラ５，２０、所望の燐光体又はシンチレータ組成を与える原材料混合物を含有する少なくとも一つのるつぼ３、及び積層ユニットを含む。本製造方法は、前記支持体を前記ローラ上に装着し、所望の組成を有する燐光体又はシンチレータ層を前記支持体上に蒸着し、前記層に所望の層を積層し、さらに前記層を所望の寸法のシートに切断する各工程を含む。前記積層工程は前記層を保護箔でカバーする工程を含み、前記チャンバーは、少なくとも前記蒸着工程中真空条件下で維持される。
【選択図】 図２

Description

本発明は可撓性支持体上に原材料の蒸気流から層を連続的にオンラインで被覆する特別な方法に関する。特に本発明は高エネルギー放射線検出及び像形成、特にコンピュータ放射線写真、スクリーン／フィルム放射線写真及び直接放射線写真に使用するために好適なスクリーン、パネル又はプレートに使用される、シンチレータ又は燐光体シートの製造又は生産に関する。

放射線写真においては、被写体の内部は、Ｘ線、γ線及び高エネルギー素粒子線、例えばβ線、電子ビーム又は中性子線の群に属する、イオン化放射線としても知られる高エネルギー放射線である透過放射線によって再現される。

透過放射線を可視光及び／又は紫外放射線に変換するため、“燐光体”と称される“ルミネセント”物質が使用される。例えばＣＲＴスクリーンに使用されるカソードルミネセント燐光体は二つの関連したルミネセント特性（蛍光及び燐光）を示す。蛍光は電子ビーム励起の時間中に燐光体から放出された光のルミネセント発生又は放出である。燐光は電子ビーム励起の休止後に生じる燐光体からの光の放出である。燐光の持続時間、又は残光の減衰割合は定常状態の蛍光の明るさの１０％レベルに減少又は減衰するために燐光のために要求される時間の測定値として通常表示される持続性として示される。

例えばＵＳ−Ａ ３８３８２７３に開示されているような公知のＸ線像増倍管では、入力スクリーンは蛍光層又はシンチレータとして一般に言及されるＸ線増感放射線変換層を付着したガラス又はアルミニウムの如き支持体を含む。

従来の放射線写真システムでは、Ｘ線写真は、被写体を通って像に従って透過し、かついわゆる増感スクリーン（Ｘ線変換スクリーン）において対応する強度の光に変換されたＸ線によって得られる。そこでは燐光体粒子は透過されたＸ線を吸収し、それらを可視光及び／又は紫外放射線に変換する。写真フィルムはＸ線の直接衝突に対してより可視光及び／又は紫外放射線に対しての方がより感受性がある。実際には前記スクリーンによって像に従って放出された光は密着する写真ハロゲン化銀乳剤層を照射し、それは露光後、現像されてＸ線像と一致した銀像をそこに形成する。

例えばＵＳ−Ａ ３８５９５２７に記載されているように光刺激性貯蔵燐光体が使用されるＸ線記録システムが開発されており、前記燐光体はそれらのＸ線照射時の即座の光放出（即発）に加えて、Ｘ線エネルギーの大部分を一時的に貯蔵する性質を有する。前記エネルギーは光刺激工程に使用される光とは異なる波長の蛍光の形の光刺激によって放出される。前記Ｘ線記録システムでは光刺激時に放出された光は光電子的に変換され逐次電気信号に変換される。かかる燐光体で被覆された貯蔵スクリーン又はパネルは入射パターンに従って変調されたＸ線ビームに露光され、その結果としてＸ線放射パターンと一致して、エネルギーが被覆された貯蔵燐光体に一時的に貯蔵される。露光後ある間隔で、可視又は赤外光のビームは貯蔵されたエネルギーの光としての放出を刺激するためにパネルを走査する。その光は検出されて逐次電気信号に変換され、それは可視像を生成するように処理される。刺激光は例えば光増倍管の如き光電気変換要素を利用することによって電気信号に変換されることができる。燐光体は走査ビームによって刺激されるまで入射Ｘ線エネルギーをできるだけ多く貯蔵すべきであり、貯蔵されたエネルギーをできるだけ少なく放出すべきであることは明らかである。これは“デジタル放射線写真”又は“コンピュータ放射線写真（ＣＲ）”と称される。

最近、病院では患者のＸ線露光直後にコンピュータモニター上にＸ線像を得る傾向が増加している。そのデジタル化情報を貯蔵及び送信することによって、診断のスピード及び効率は増強される。従って直接デジタル診断Ｘ線像を与える“直接放射線写真”は放射線写真装置における適応された検出パネルの露光後、従来のスクリーン／フィルムシステムの代わりに好ましくなる。Ｘ線量子は“像ピックアップ”要素としてソリッドステートフラット検出器を利用することによって電気信号に変換される。かかるフラット検出器は一般に“フラットパネル検出器”と称され、二次元に配置される。ａ−Ｓｅの如き検出手段として光伝導性材料をそこで使用し、電子の負電荷及び正孔の正電荷をＸ線エネルギーによって発生し、前記Ｘ線エネルギーをそれらの分離された電荷に直接変換する。かくして得られた電荷は微細領域単位で二次元に配置された読み出し要素によって電気信号として読み出される。

さらに間接タイプのフラットパネル検出器が知られ、そこではＸ線エネルギーはシンチレータによって光に変換され、変換された光は微細領域単位で二次元に配置されたａ−Ｓｉの如き光電気変換要素によって電荷に変換される。電荷は微細領域単位で二次元に配置された光電気変換読み出し要素によって電気信号として再び読み出される。

さらに直接放射線写真検出器が知られ、そこではＸ線エネルギーはシンチレータによって光に変換され、変換された光はレンズ又は光ファイバーの如き変換体を通して同じ平面内でマトリックスに従って配置された一以上のＣＣＤ又はＣＭＯＳセンサ上に投射される。ＣＣＤ又はＣＭＯＳセンサの内側では、光電気変換、及び電荷電圧変換によって、各画素ごとに電気信号が得られる。それゆえ、このタイプの検出器はソリッドステートフラット検出器としても規定される。

燐光体スクリーン又はパネルを使用するいかなる放射線写真システムによっても、特に本発明の範囲内ではデジタル放射線写真システムにおいて生成される像品質は燐光体スクリーンの構成に大きく依存する。一般に、Ｘ線の所定量の吸収において燐光体スクリーンが薄いほど、像品質は良好になるだろう。これは燐光体スクリーンの燐光体に対する結合剤の比率が低いほど、そのスクリーン又はパネルで達成されうる像品質は良好になることを意味する。従って、最適なシャープネスは結合剤が全くないスクリーンが使用されるときに得られることができる。かかるスクリーンは例えば支持体上の燐光体材料の物理蒸着（それは熱蒸着、スパッタリング、電子線蒸着などであってもよい）によって製造されることができる。かかるスクリーンは化学蒸着によっても製造されることができる。しかしながら、この製造方法は入手可能な全ての任意の燐光体で高品質スクリーンを製造するためには使用されることができない。上述の製造方法は高い結晶対称性及び単純な化学組成を有する燐光体結晶が使用されるときに最良の結果に導く。従って好ましい例では貯蔵スクリーン又はパネルにおけるアルカリ金属ハロゲン化物燐光体の使用は貯蔵燐光体放射線の分野で良く知られており、これらの燐光体の高い結晶対称性は構造化されたスクリーン及び結合剤のないスクリーンを与えることができる。

アルカリハロゲン化物燐光体を有する結合剤のないスクリーンが製造されるとき、かかるスクリーンを使用するときに得られうる像品質を向上するために燐光体結晶を幾つかの種類のパイル又は柱状ブロック、針、タイルなどのように蒸着させることが有益であることが開示されている。ＵＳ−Ａ ４７６９５４９では結合剤のない燐光体スクリーンの像品質は燐光体層が細い柱で形成されたブロック構造を有するときに改良されうることが開示されている。ＵＳ−Ａ ５０５５６８１ではパイル状構造でアルカリハロゲン化物燐光体を含む貯蔵燐光体スクリーンが開示されている。またＥＰ−Ａ １１１３４５８では選択された蒸着されたＣｓＢｒ：Ｅｕ燐光体を与えられた燐光体パネルが開示され、そこでは結合剤のない燐光体が最適化された像品質のために微細な針状結晶として存在する。

シンチレータの化学組成及び層厚さの均一性の観点から、一定スピード、像品質及び診断信頼性のために、貯蔵燐光体プレートの製造において二次元パネル表面全体にわたって前記一定の組成及び層厚さを与えることが最も重要であることは明らかである。均一な被覆プロファイルを努力すべきである。

真空蒸着装置において支持体を被覆する装置がプレートの形の回転可能な支持体保持構造を含む、ＵＳ−Ａ ４４４９４７８のような蒸着技術を利用する製造方法は数及び被覆される面積において制限される被覆パネルを与える。さらに、正方形又は矩形パネルが望ましいとき、蒸発源の上で円形対称性で回転するプレート上に蒸着されない極めて多くの高価な残留物が作られる。加えて、かかる回転支持体上に固定された源から材料を蒸着するとき、一定の厚さを有する層を得ることは困難である。回転軸を中心として持つ支持体上の円は同一の蒸着履歴を持つだろう。これは中心対称性厚さプロファイルを作り、それは蒸着された層の厚さが特別な手段（例えばマスクの使用、但し材料損失に導くだろう）がとられない限り、矩形支持体の側部のいずれに沿っても一定でないことを意味する。

製造方法は例えば真空蒸着装置においてバッチ方式で（プレート対プレート）、硬い支持体を被覆するための装置を伴うＵＳ出願２００３／００２４４７９のような蒸着技術を利用する。かかる装置は運搬機構によって負荷チャンバーから非負荷チャンバーへ運搬する支持体ホルダーを含む。別のバッチ法はＵＳ−Ａ ６４０２９０５に記載され、そこでは一般に蒸着被覆法が適用され、それによって蒸気は一般に従来技術に適用されるように蒸着領域に垂直な一つの軸のまわりで回転する支持体上に蒸着される。また、そこでは支持体上の蒸着厚さ分布の不均一性を制御及び補償するためのシステム及び方法が記載される。

かかるバッチ法では被覆失敗は一般にパネルの完全な損失に導くだろう。さらにかかるバッチ法では原材料の高い損失が常にあるだろう。

支持体の変形性の不足はまた、支持体上の燐光体又はシンチレータ層の被覆のフォーマットを真空蒸着チャンバーの最大横断面に制限する。異なるあつらえたサイズの燐光体プレートが利用可能であるように製造方法の層厚さが大きな表面積にわたって一定である燐光体又はシンチレータプレート又はパネルの製造方法を提供するための解決策は２００３年３月２０日に出願されたＥＰ出願Ｎｏ．０３１００７２３に与えられている。その方法は同じ蒸着法から高い工程収率を生じ、従って極めて大きな可撓性支持体上に燐光体又はシンチレータプレート又はパネルを製造する方法であって、これらの大きな表面積を所望のフォーマットに切断し、物理的、化学的又は機械的損傷、又はそれらの組合せに対してこれらの可撓性プレート又はパネルを保護する方法を提供する。そこには多くの手段が記載されているが、特に全てのフォーマットのコンピュータ放射線写真、スクリーン／フィルム放射線写真及び直接放射線写真における走査装置において使用準備のできたスクリーン、プレート又はパネルが考えられるとき、診断像形成品質のために、パネルのダスト又は汚れをなくすことが極めて重要である。

それゆえ本発明の目的は燐光体又はシンチレータプレートの製造方法を提供することであり、大きな面積のプレートから作られた前記プレートは前記大きな面積のプレートの全面積にわたってスピード及びシャープネスにおける改良された均一性をさらに示し、使用準備するときのそれらの寸法にかかわらず、それらのプレート又はパネルは蒸着中及び／又は所望の寸法を有するプレートを切断した後に発生するダスト又は汚れによる欠陥が全くないものである。

他の目的は以下の記述から明らかとなるだろう。

上述の有利な効果は請求項１に述べられた特別な特徴を有する特別な製造方法によって有利に実現される。本発明の好ましい例のための特別な特徴は従属請求項及び図面に述べられている。

本発明のさらなる利点及び具体例は以下の記載及び図面から明らかになるだろう。

図面の簡単な記述
以下の図面は被覆されるべき支持体及び被覆工程が行われる装置と関連した構成の様々な例の図を表す。本発明による被覆方法の好ましい例を示すこれらの図面は決してそれらに限定されないことは明らかである。

図１は２００３年３月２０日付出願のＥＰ出願Ｎｏ．０３１００７２３から知られ、比較例として、電気的に加熱されたオーブン（２）及び耐火性るつぼ、トレー又はボート（３）を含む円柱形真空チャンバー（１）を示す。耐火性るつぼ、トレー又はボート（３）は可撓性シート（５）上に蒸着されるために蒸発されるべき原材料の混合物（４）を含む。可撓性シート（５）は冷却された支持ローラ（６）によって支持され、ローラ（６）は熱絶縁層（７）によって及び円柱体上の周囲に装着されかつ前記可撓性シート（５）の両端をさらに相互接続する耐熱性コイルばね（８）によって前記可撓性シート（５）から熱的に絶縁されている。前記可撓性シート（５）の加熱は赤外線ヒータ（９）及び反射ケージ（１０）によって行われる。高温計（１１）は温度の測定を可能にする。可撓性シート（５）は蒸気流（１６）のための源として加熱された原材料の混合物（４）によって与えられる蒸気流（１６）を通って前方向に連続的に又は不連続的に移動する。バッフル（１２）及び（１３）は蒸着をローラ（６）上に装着されたシート（５）の選択された部分に制限する。耐火性ボート又はトレー（３）は金属ラスタ（１４）でカバーされ、それは可撓性シート（５）上に蒸着された被覆燐光体層上のピット（及び不均一部分）の形成を避ける。冷却されたバッフル（１７）は被覆されるべき表面を蒸気流から遮断するか又は被覆されるべき表面を蒸気流にさらすように移動されてもよい。

所望により蒸発部（１８）と加熱部（１９）の間に分離壁（１５）を設けることができる。

図２は本発明配置として真空チャンバー（１）を示し、可撓性シート（５）は蒸気流（１６）を通して矢印（２１）によって示される方向に移動する二つの運搬ローラ（即ち下方の運搬ローラ（６）及び上方の運搬ローラ（２０））のまわりで延ばされ、蒸気流（１６）はるつぼ、トレー又はボート（３）に存在しかつ前記蒸気流（１６）を発生する蒸気源を与えるために加熱される原材料の混合物（４）によって与えられ、るつぼ、トレー又はボート（３）は容器（２５）、内部加熱された煙突（２６）及び制御可能な出口（２７）を与えられ、燐光体層を（好ましくは連続）多数の連続工程で蒸気流を通過する可撓性シート（５）上に蒸着させ、可撓性シート（５）は真空チャンバー（１）を去らず、少なくとも前記蒸着工程中、封止された領域は真空条件下で維持される。図は限定されないこと及び多くの構成が２００３年３月２０日付出願のＥＰ出願Ｎｏ．０３１００７２３から既に述べられたような真空チャンバー（１）の空間内で可能であることは明らかである。

ダスト又は汚れを避ける目的を達成するために存在する特定の部品は可撓性支持体シート（５）上に存在する場合は燐光体又はシンチレータ層を蒸着する前に除去される支持体（５）の保護箔（２９）であり、真空吸引テーブル（３０）は燐光体又はシンチレータ蒸着後に積層された保護箔の正確な位置決めを与える。

蒸着の均一性をさらに改良する目的を達成するために存在する特定の部品は加熱システムである：煙突（２６）の壁上にシンチレータ又は燐光体材料の凝縮を避けるためにるつぼ内の温度をあるレベルに維持するために既に述べられたものに加えて、蒸気をそれに通過させるためのスリットを有する遮熱材（４１）が温度を高い所望レベルに維持する別の源として作用する。

蒸着の均一性のための別の重要な部品は封止された領域内の熱の損失を避ける反射ケージ（１０）である：その空間配置は蒸着の均一性及び再現性のためにさらなる過剰な手段を避けるように最適化される。それにもかかわらず別の重要な部品は支持体中に十分な熱を持つために“オフ”及び“オン”状態を与える冷却ユニット（３９）である：いったん燐光体が蒸着を開始すると、支持体の温度の増加で冷却が“オン”状態に切り換わり、一方冷却中のさらなる温度減少は実施例にさらに説明されるように“オフ”状態に切り換わることによって補償される。

制御及びかじ取り部品はランプの近くでかつ燐光体又はシンチレータ原材料レベルの下のるつぼの内側の（タンタル）保護された熱電対（４４）及び外側るつぼ壁と接触する熱電対（４３）である。

重要な制御部品はキャパシタンス測定に基づいて蒸着されたシンチレータ又は燐光体層の厚さを決定する厚さ測定システム（２２）である。

さらに全手順中、支持体シート（５）上の緊張の制御及び調整のための一以上の圧力調整シリンダ（３１）が存在する。

本発明の範囲内では、可撓性支持体上への被覆領域の蒸着工程によって、真空条件下で維持された封止された領域（“真空チャンバー”とも称される）内で、可撓性支持体上へ燐光体又はシンチレータ層を被覆する方法であって、前記燐光体又はシンチレータ層は前記可撓性支持体が少なくとも二つのローラ上に装着されかつその上に案内される構成で前記可撓性支持体上に好ましくは連続的に蒸着される方法が提供される。

本発明の範囲内では、“可撓性支持体”という用語は“シート、ウェブ又はローラの形の可逆的に変形可能な支持又は被支持層”として理解され、その表面領域は燐光体又はシンチレータ材料で被覆されなければならない。かかる支持体は可撓性シート又はパネルとして存在することを意味する。

本発明の方法によれば可撓性支持体を有する複数の燐光体又はシンチレータシート又はパネルは封止された領域内で燐光体又はシンチレータ層を被覆することによって提供され、そこでは前記領域は所望のシンチレータシート又はパネルの寸法フォーマットを少なくとも５倍越える可撓性支持体を運搬するための少なくとも二つの円柱形キャリアローラを含み、前記円柱形キャリアローラは各々、互いに平行な配置の軸を有し、前記領域は前記層のために所望の燐光体又はシンチレータ組成を与える原材料の混合物を含有する少なくとも一つのるつぼを含み、前記領域は積層ユニットを含み、前記方法は前記可撓性支持体を前記キャリアローラ上に装着し、所望の燐光体又はシンチレータ組成を有する前記燐光体又はシンチレータ層を前記可撓性支持体上に蒸着し、前記燐光体又はシンチレータ層を積層工程によって積層し、そして前記層を保護箔でカバーする工程を含み、さらに前記層を所望のフォーマットを有するシート又はパネルに切断する工程を含み、少なくとも前記蒸着工程中、前記領域は真空チャンバーとして真空条件下で維持される。所望のフォーマットは商業的に利用可能な１４″×１７″（３５．６ｃｍ×４３．２ｃｍ）の良く知られた面積であるが、それらには決して限定されない。

本発明の目的を十分に達成するためには、前記封止された領域は離層ユニットをさらに含み、最初の保護積層箔を与えられる場合、前記可撓性支持体の離層工程は前記燐光体又はシンチレータ組成を蒸着する工程の前に含まれる。

本発明の方法によれば前記燐光体又はシンチレータ層を積層する前記工程及び前記可撓性支持体を離層する前記工程はともに真空条件下で実施される。

支持体材料としてガラス、セラミック材料、ポリマー材料又は金属；より好ましくはガラス、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリイミド、アルミニウム、Ｐｙｒｅｘ（登録商標）、ポリメチルアクリレート、ポリメチルメタクリレート、サファイア、セレン化亜鉛、Ｚｅｒｏｄｕｒ（登録商標）、セラミック層及びアルミニウム、鋼、黄銅及び銅から選択される金属又は合金を使用することができる。支持体は原則としてそれらに限定されるべきではなく、本発明の被覆方法に一般に適用されるような範囲のエネルギーの付加後、例えば溶融によるような不可逆性の変形に対抗するいかなる金属又は合成材料も使用のために好適である。本発明の方法において可撓的に動く支持体として特に好ましいものは支持体全体にわたって完全に均一な温度を可能にする極めて良好な熱伝導性材料としてのアルミニウムである。

本発明の方法によれば前記可撓性支持体は保護箔でカバーされた陽極酸化されたアルミニウム支持体層である。

本発明の方法によれば前記陽極酸化されたアルミニウム支持体層は５０〜５００μｍの範囲、より好ましくは２００〜３００μｍの範囲の厚さを有する。かかる陽極酸化されたアルミニウム支持体は蒸着された燐光体又はシンチレータに関して特に好ましい接着特性を示し、５００μｍ〜１０００μｍの厚さを有するシンチレータ層で被覆された可撓性アルミニウム支持体を曲げたときであってもシンチレータ又は燐光体“フレーク”の離層又は“クラック”を起こさない：本発明の方法に従って作られるとき望ましくないクラックの発生に関して全く問題に遭遇しなかった。

装着工程は好ましくは吸引テーブル（３０）によって行われ、そこでは可撓性支持体上の張力制御は２ローラ（一方（上方）のローラが他方（下方）のローラの上に存在する）の構成の場合に一方のローラを押し上げる（空気）圧力シリンダ（３１）を調整することによって行われる。

本発明の方法によれば前記装着工程では支持体の二つの端は耐熱性接着剤で、二つのリベットで又はそれらの組合せで一緒に接着される。

本発明の方法によれば一方のキャリアローラは制御された方法でその軸まわりにモータによって回転し、他方のローラは前記一方のローラの動きによって回転し、回転中、ローラ上の可撓性支持体の位置は前記可撓性支持体の位置調整を与える圧力調整シリンダに接続された光学位置センサによって制御される。

本発明の方法によれば前記可撓性支持体上に最初に積層された前記保護積層箔はいったん前記可撓性支持体が緊張させられると前記離層工程において除去される。

本発明の方法によれば前記保護積層箔は真空チャンバーに存在する離層ユニットを使用して、離層によって真空下で除去される。前記箔は例えばポリエチレン箔、ポリイミド箔及びポリエステル箔のようなポリマー箔であるが、それらに限定されない。

本発明の方法によれば前記キャリアローラは耐熱性コイルばねが円柱形キャリアローラの軸と平行な線と２０°〜４０°の範囲の角度を作るような方法で円柱体の長さにわたって装着された複数の耐熱性コイルばね及び／又は熱絶縁層によって前記可撓性支持体から熱的に絶縁される。より好ましくは前記コイルばねは２５°〜３５°の範囲の角度を作り、より一層好ましくは約３０°の角度が考えられる。

真空チャンバーに残る空間が大きいほど、利用可能な制御部位が多くなる。自由空間には移動する可撓性支持体上への均一な蒸着を最適化することに関して異なる部位での温度制御のためのセンサ及び熱制御手段を与えることができる。そうでなければ例えば赤外線によるような加熱によって温度を局部的に増大するための手段が真空チャンバー中に与えられ、そこでは自由空間は（例えばローラの近隣に又は真空チャンバー内の臨界的部位に）かかる設置を可能にする。

本発明の方法によれば前記蒸着工程中、前記可撓性支持体の温度は調節可能なヒータによって及び支持体に沿って設置されたアドレス可能な冷却ユニットによって１５０℃〜３００℃、より好ましくは１５０℃〜２５０℃、さらにより好ましくは１８０℃〜２２０℃の範囲（ターゲット温度は約２００℃であると考えられる）に維持される。ヒータとして、赤外線ヒータが有利に使用される。特に後に反射スクリーンを有する前記支持体に沿って水平に、例えば縦方向に配置された大きな石英ランプが使用される。しかしながら、垂直配置は除外されない。追加の赤外線ヒータとして後に反射スクリーンを有する少なくとも二つの小さな石英ランプが可撓性支持体の縁において使用され、前記支持体の中央と縁の間の温度差を減らす。大きな縦方向石英ランプと約６０°の角度を作るために前記追加のランプが配置されることが有利である。さらに小さなランプの電池が後述の実施例の追加実験に記載されるように有利に使用される。

本発明の方法によれば前記冷却ユニットは後側上の室温の水で冷却された黒体冷却要素、及び前記冷却要素の前又は支持体側上の多数のスラットの形のルーバのアドレス可能な（開放又は閉鎖）スクリーンから構成される。その一つの例では前記スラットは互いに部分的に重ならせてそれらの長い側を支持体の移動方向に沿って置かれ、それによって前側上で反射する能力（“冷却オフ”）及びそれらの長い軸に沿って全体で回転する能力（“冷却オン”）を与える。

本発明の方法によれば前記温度は一組の高温計によって前記可撓性支持体の全幅にわたって測定される。一つの例では前記高温計は上部にパラボラ反射器を有するレンズベースの高温計である。その好ましい例では前記反射器は全蒸着された鏡であり、前記パラボラ反射器の各焦点は対応する高温計レンズの各焦点と一致するように配置される。

蒸着された材料の層厚さを制御するための手段は所望の厚さが達成されたときに蒸着工程を停止するように設置されることが有利である。本発明の方法によれば前記封止された領域は前記シンチレータ又は燐光体層を蒸着しながら厚さを決定する厚さ測定システムを制御部としてさらに含み、前記測定システムはキャパシタンス測定に基づく。

本発明の方法によれば前記可撓性支持体は熱放射線のための反射ケージによって空間的に包囲される。

本発明の方法によれば前記燐光体又はシンチレータ層を蒸着した後に前記保護箔を積層する工程によって与えられる前記保護箔は切断前又は後に離層工程によって除去される一時的な保護層、又は永続する保護箔層である。積層工程は最初の支持体ウェブの位置決め中にすでに前に使用された吸引テーブル（３０）を利用することが有利である。

好ましい例では離層は一以上のローラ（２４）によって離層巻き上げローラ（３３）に装着される離層先駆体（３４）を利用することによって行う。別の例では離層は前記離層ユニット上に前記保護積層箔をフック又は固定することによって行われる。

本発明の方法によれば前記燐光体又はシンチレータ層を蒸着した後に前記保護箔を積層する工程によって与えられる前記保護箔は永続する保護層であり、前記永続する保護層は保護積層箔を最初に与えられた場合に前記可撓性支持体の離層工程中に使用される同じ離層ユニットによってさらなる離層工程において除去される剥離層を含む保護層パッケージから与えられる。積層パッケージにおけるかかる保護層は一方の側に剥離層として接着剤層を、他方の側に保護箔を有するポリマー層からなることが有利である。好ましい剥離層は例えば接着剤層と接触したシリコーン処理されたポリエチレンテレフタレート剥離層であり、一方保護箔は例えばポリエチレン箔、ポリエステル箔又はポリイミド箔のようなポリマー箔であるが、それらに限定されない。積層パッケージは積層箔を供給するための機構を有する積層ユニット（３６）を通過することが有利であり、保護箔は蒸着された燐光体層上に積層されるためには剥離層から離層される。この操作が真空で行われるとき、燐光体層はダスト及びほこりが全くなく、本発明の目的に対応する。剥離層はさらに保護された支持体上に存在する最初の積層体の離層のために利用可能であるのと同じ離層収集ローラへガイドローラ（４５）上で案内される。支持体上の最初の積層体の特別な存在は本発明の目的を十分に達成するために考えられていることは明らかである。例えばポリエチレン保護された陽極酸化アルミニウム支持体で開始することによって利点が得られるが、それに限定されない。

本発明の方法によれば所望のフォーマットを有するシート又はパネルに燐光体又はシンチレータ層で被覆された前記可撓性支持体を切断することは真空チャンバーの外で行う。

本発明の方法はさらに、前記燐光体又はシンチレータ層を担持する前記シート又はパネルをキャリア層上に積層する工程を特徴とする。

本発明の方法によれば前記キャリア層は可撓性又は硬質ポリマー層、ガラス支持体及び硬質金属シートからなる群から選択される。

真空圧力（真空条件は少なくとも１０^−１ｍｂａｒであり、もし被覆装置の好ましい構成において達成可能であるなら１０^−４ｍｂａｒ以下にも相当する）下での封止された領域内の一般的配置では、容器は好ましくは図２に図示されたように前述のような一つのるつぼである。二次元の被覆される表面の各方向に配置された複数のるつぼを使用することは除外されない。さらにＥＰ出願Ｎｏ．０３１０２００３及び０３１２０００４（ともに２００３年７月４日出願）に記載されるようにるつぼに関して考慮した有利な手段を使用することが推奨される。

容器中の原材料の組成は望むような組成を与えるように選択され、前記組成は存在する原材料の比によって決定されることは明らかである。原材料の比は蒸発された原材料の蒸着後に所望の化学燐光体又はシンチレータ組成を与えるために選択される。固体粉末、粒子又は顆粒の形でるつぼ中の均一な原料混合物を得るために原材料を混合することが望ましく、又は移動する支持体材料上に被覆された所望の燐光体を与えるために原材料の所望の比率に相当する組成を有する芳香剤（ｐａｓｔｉｌｌｅｓ）として存在させることが望ましい。微粉砕法は蒸発前の高度の均一性を与えるために有利であり、それゆえ推奨される。様々な成分が前述したように一連に又は平行に又は組合わされた配置で配置された様々なるつぼから蒸発されてもよい。但し、均一な蒸気クラウドは蒸気流によって可撓性支持体に与えられ、前記支持体上への凝縮によって蒸着されることが条件である。同じ又は異なる原材料含有物又は原材料混合物を有する二つの細長いワンパートのボートは例えばウェブの移動方向に連続して存在させてもよい。別の例では、もしより均一な被覆プロファイルを与えるなら、ボートは支持体の移動方向に垂直な一つの軸又はより多くの軸に平行に配置されてもよい。但し、重なり合う蒸気クラウドは前記燐光体又はシンチレータの均一な厚さ、組成及び被覆量を有する燐光体又はシンチレータ層において支持体上に蒸着される蒸気流を与えることが条件である。一つより多いるつぼの存在は単位時間あたりに蒸着される燐光体又はシンチレータ材料の量をより多く供給する能力のために有利であるかもしれない。支持体の極めて高い温度増加を避けるために十分に高い速度で可撓性支持体が蒸気流を通過すべきであるときはさらにそうである。支持体が容器を通過する速度は十分な冷却手段が凝縮のために存在しない限り、蒸着を不可能にする支持体の望ましくない局部的な加熱に照らしてあまり遅すぎないようにすべきである。支持又は被支持の支持体はそれゆえ所望の最適な特性を有する蒸着された燐光体又はシンチレータ層を得るために５０℃〜３００℃の温度を有することが好ましい。

るつぼ、トレー又はボートとしても知られる一以上の容器にエネルギーを供給すべきであり、かくしてそこに存在する原材料の蒸気流を起こし、それは封止された領域において蒸発されることは明らかである：エネルギーは熱、電気、又は電磁エネルギー源によってそこに与えられる。電磁エネルギー源の例としてダイオード、陰極アーク、レーザビーム、電子ビーム、イオンビーム、磁気放射線又は無線周波数を使用してもよく、それらはパルス化されていてもいなくてもよく、それらに限定されない。電気エネルギーは熱エネルギーへの変換を与え、それによって蒸発されるべき原材料を充填した容器又はるつぼへの熱の伝達を与えるための構成で容器又はるつぼのまわりに巻かれた抵抗コイルを利用する抵抗加熱によって一般に与えられる。５５０℃〜９００℃の範囲の温度まで容器又はるつぼを加熱する程度のエネルギー供給が極めて望まれる。それらの温度では、容器は腐蝕抵抗を有するべきであることは明らかであり、従って耐火性容器が好ましい。そのための好ましい容器又はるつぼ材料はタングステン、タンタル、モリブデン及び他の好適な耐火性金属である。前述のようなエネルギー供給はるつぼ中の原材料の混合物を４５０℃以上、好ましくは５５０℃以上の温度まで、より好ましくは５５０℃〜９００℃の範囲に加熱する。

ターゲット原材料から生じる蒸発された材料のクラウドは移動する支持体の方向に容器又はるつぼからの流れの形のクラウドとして逃避し、そこで被覆された層は凝縮によって形成される。上の記載から、考えられるような均一な被覆プロファイルを得るために、均一性が液化された原材料の本体に与えられるときのみ均一なクラウドが実現されることは明らかである。結果として、容器上に供給されるエネルギーの均一な分布は厳しい要求である。好ましい例では、均一性のために、るつぼは前記るつぼ上で動く可撓性支持体の幅と一致する最大寸法を有する単一の細長い“ボート”の形であり、従ってその表面領域の各点において瞬間的な速度の大きさが一定である。

もし蒸着工程中又は後に要求されるなら、酸素はアルゴンガス入口（４２）を介して酸素ガスの形で真空蒸着チャンバー中に導入されることができる。特に二つの蒸着工程の間又は燐光体蒸着の終わりのアニール工程が有益であるかもしれない。

被覆量プロファイルに関する重要な要因は容器と動く支持体の間の距離である。その距離は可撓性支持体の位置における蒸気クラウドのプロファイルを決定する。るつぼと支持体の間の最短距離の平均値は５〜１０ｃｍの範囲であることが好ましい。大きすぎる距離は材料の損失及び方法の減少した収率に導き、一方少なすぎる距離は支持体の温度の過度の上昇に導くだろう。加熱された容器に存在する液化された原材料の飛びはねによって、燐光体又はシンチレータの不均一な蒸着を生じる“スポットエラー”又は“ピット”を避けることに関してさらに注意を払うべきである。そのためにとられる手段は図２に示されており、ＥＰ出願Ｎｏ．０３１０２００３及び０３１０２００４（２００３年７月４日出願）に記載されたものも有利に適用される。

本発明の方法によれば前記燐光体又はシンチレータ組成を蒸着する前記工程は一以上のるつぼからの原材料の蒸気流によって開始され、前記蒸気流は熱、電気、又は電磁エネルギー又はそれらの組合せによって前記原材料及び前記容器にエネルギーを加えることにより生成される。

本発明の方法によれば前記燐光体又はシンチレータ組成を蒸着する前記工程は物理蒸着によって、化学蒸着によって又は物理蒸着と化学蒸着の組合せによって行われる。

別の例では前記燐光体は光刺激性燐光体であり、より好ましくは本発明の被覆方法によれば、前記光刺激性（貯蔵）燐光体はＣｓＢｒ：Ｅｕ燐光体である。それと関連し本発明による被覆方法において特に好ましいものは、特に限定されないが、前記原材料がＰＣＴ出願ＷＯ ０１／０３１５６に開示されるような製造方法に使用されるようなＣｓＢｒ及びＥｕＸ′_２，ＥｕＸ′_３及びＥｕＯＸ′からなる群から選択されるユーロピウム化合物の１０^−３〜５ｍｏｌ％であり、Ｘ′はＦ，Ｃｌ，Ｂｒ及びＩからなる群から選択されるハロゲン化物である。さらにより好ましいものはＣｓＢｒ及びＥｕＯＢｒ原材料から選択されたＣｓＢｒ：Ｅｕ燐光体の本発明による結合剤のない被覆方法であり、そこでは前記燐光体はその特定の針状形態を特徴とする。高度の結晶性はＥＰ−Ａ １１１３４５８に図示されるような特定のＸＲＤスペクトルを与えるＸ線回析技術によって容易に分析される。それゆえＣｓＢｒとＥｕＯＢｒの混合物はるつぼにおいて原材料混合物として与えられ、両原材料間の比は通常、約９０重量％の安価なＣｓＢｒと１０重量％の高価なＥｕＯＢｒである。しかしながら、被覆（蒸発）温度の関数として低い材料及び製造コストに有利なように組成に変化を生じさせずに比を適応することができることが示された：９９．５重量％ＣｓＢｒ及び０．５重量％ＥｕＯＢｒの比の量で原材料混合物の蒸発温度を高くすると前と同じ結果を与える。

針状燐光体として蒸着後に得られた好ましいＣｓＢｒ：Ｅｕ^２＋燐光体は針状結晶間の間隙を特徴とする。それらの間隙を満たすために、間隙がポリマー化合物で部分的に満たされるＥＰ出願Ｎｏ．０２１００２３５（２００２年３月８日出願）、好ましいβ−Ｃｕ−フタロシアニンナノ結晶染料化合物のような蒸着された顔料が前記間隙を満たすＥＰ出願Ｎｏ．０２１００２９６（２００２年３月２６日出願）又は間隙がシラザン及びシロキサザンタイプのポリマー化合物、それらの混合物及び前記シラザン又はシロキサザンタイプのポリマー化合物と相溶性のポリマー化合物からなる群から選択されるポリマー化合物で少なくとも部分的に満たされるＥＰ出願Ｎｏ．０３１００４７１（２００３年２月２６日出願）に記載のような手段をとることができる。特に前記染料又は顔料に関して、その蒸着は本発明による製造方法の構成に使用される真空蒸着チャンバー内で行うことができる。

本発明の方法による好ましいＣｓＢｒ：Ｅｕ^２＋燐光体を与えられたシート又はパネルを作るために前記原材料は燐光体プリカーサとして少なくともＣｓ_ｘＥｕ_ｙＸ′_ｘ＋αｙを含み、ｙに対するｘの比率は０．２５の値を越え、α≧２であり、Ｘ′はＣｌ，Ｂｒ及びＩ及びそれらの組合せからなる群から選択されるハロゲン化物である。

本発明の方法による別の例では前記原材料は燐光体プリカーサとして少なくともＣｓＢｒ及びＣｓ_ｘＥｕ_ｙＸ′_ｘ＋αｙを含み、ｙに対するｘの比率は０．２５の値を越え、α≧２であり、Ｘ′はＣｌ，Ｂｒ及びＩ及びそれらの組合せからなる群から選択されるハロゲン化物である。

前述のプリカーサが使用される所望のＣｓＢｒ：Ｅｕ燐光体を製造及び被覆するための方法はＥＰ出願Ｎｏ．０４１００６７５及び０４１００６７８（ともに２００４年２月２０日出願）にそれぞれ記載されている。

本発明の方法によれば、蒸着の時に、前記燐光体又はシンチレータ層は結合剤のない層である。これは十分に理解されることができる。なぜならばかかる高温では容器中の燐光体又はシンチレータ原材料に加えてさらに追加の結合剤の存在は実際的でないからである。しかしながら、例えば支持体と燐光体又はシンチレータ層の間又は被覆層における好ましい燐光体又はシンチレータ針状結晶間で結合剤材料として作用するために蒸発される能力を示すポリマーを利用することは除外されない。さらにポリマー層を蒸着された層上に積層するとき、ポリマー材料がそれらの針状結晶間の間隙を少なくとも部分的に充填することは除外されない。

本発明の方法によれば前記燐光体層は光刺激性ＣｓＢｒ：Ｅｕ燐光体の結合剤のない層である。

本発明の方法による別の例では前記燐光体は即発ルミネセント燐光体である。前記ルミネセント燐光体は例えばスクリーン／フィルム放射線写真に使用されるような増感スクリーンに使用するために好適である。

ＣＲ及びＤＲと関連した特定の用途に関して、像品質に照らして、特にシャープネスに関して、前述のような結合剤のない燐光体又はシンチレータ層が好ましいことは明らかである。それに関して所望のシンチレータ燐光体を作るための原材料の蒸発は好ましい技術であることは明らかである。但し、本発明によれば、クレームされたように可撓性支持体上に層が蒸着されることが条件であり、そこでは特定のＣＲ及びＤＲ用途に好適な使用準備された平坦なシート又はパネルを得るために可撓性支持体を変形することが考えられる。本発明に方法に従って有利に製造される好ましいＣｓＢｒ：Ｅｕ燐光体に加えて他の吸湿性燐光体又はシンチレータ層は例えば増感スクリーンに使用されるＢａＦＣｌ：Ｅｕ，ＢａＦＢｒ：Ｅｕ及びＧｄＯＢｒ：Ｔｍ；シンチレータパネルに適用されるＣｓＩ：Ｎａ及び例えばＢａＦＢｒ：Ｅｕ，ＢａＦＩ：Ｅｕ，（Ｂａ，Ｓｒ）Ｆ（Ｂｒ，Ｉ）：Ｅｕ，ＲｂＢｒ：Ｔｌ，ＣｓＢｒ：Ｅｕ，ＣｓＣｌ：Ｅｕ及びＲｂＢｒ：Ｅｕのようなコンピュータ放射線写真（ＣＲ）に使用するために好適な貯蔵燐光体；又はＤＲカセットに使用するために特に好適なＣｓＩ：Ｔｌである。

本発明をその好ましい例と関連して以下記載するが、本発明をそれらの例に限定することは意図されないことが理解されるだろう。

実施例
比較例１
この例は光刺激性ＣｓＢｒ：Ｅｕ像形成プレートを得るために実施される従来法を記載する。

ＣｓＢｒ：Ｅｕ光刺激性燐光体層は原材料としてＣｓＢｒ及びＥｕＯＢｒの混合物から出発して支持体の中心を通り支持体に垂直な軸のまわりに回転する平坦な硬質アルミニウム支持体上に熱蒸着によって真空チャンバー内で蒸着された。前記支持体を回転している間、その瞬間的な速度の大きさは支持体の外側（境界）において最高であり、支持体の中央でゼロである。

支持体は２４０℃の温度を有する抵抗加熱された加熱プレートの助けで加熱された。

支持体は８００μｍの厚さ、１８ｃｍの幅及び２４ｃｍの長さを有するアルミニウムであった。アルミニウム支持体はモータによってその軸のまわりに制御された方法で回転する支持体ホルダーに対して装着された。アルミニウムは１分あたり１２回転の角速度で回転していた。支持体は２４０℃の抵抗加熱された加熱プレートによって加熱された。

ＣｓＢｒ／ＥｕＯＢｒ＝９９．５％／０．５％重量％比率のＣｓＢｒ及びＥｕＯＢｒの混合物を蒸発させるための原材料混合物として使用し、二つの容器中に置いた。容器と支持体の距離は約１５ｃｍであった。容器は回転支持体の縁によって規定される円の周囲に置かれた。容器は中に一つのスリットを有するカバープレート及び支持体の方へ蒸気流を案内するガイドプレートでカバーされた。

真空圧力下（真空チャンバーへのアルゴンガスの連続入口と連続ポンピングの間の平衡として２×１０^−１Ｐａの圧力が維持された）でかつ蒸気源の十分に高い温度（７５０℃）で、得られた蒸気は回転する支持体の方に向けられ、その上に蒸着された。

５００μｍの平均厚さを有するＣｓＢｒ：Ｅｕ刺激性燐光体層を支持体の全面積にわたって蒸着した。

蒸発された材料の１３重量％だけが支持体上に蒸着された。

実際の使用のために好適な０．０４３ｍ^２の面積が得られた。

刺激性燐光体層はＵＶ放射線下で青いルミネセンスを示す。

本発明例１
可撓性の陽極酸化されたアルミニウム支持体を有するＣｓＢｒ：Ｅｕ光刺激性燐光体スクリーンは原材料としてＣｓＢｒ及びＥｕＯＢｒの混合物から出発して熱蒸着法によって真空チャンバー内で製造された。前記可撓性の陽極酸化されたアルミニウム支持体上への前記蒸着法は前記支持体が瞬間的な速度の大きさがその全表面にわたって一定であるような方法で実施された。

図２を参照すると１．４ｍの直径及び１．７５ｍの長さを有する円柱形真空チャンバー（１）は電気加熱オーブン（２）及び耐火性トレー又はボート（３）を含有し、耐火性トレー又はボート（３）には９９．５重量％／０．５重量％＝ＣｓＢｒ／ＥｕＯＢｒの比率のＣｓＢｒ及びＥｕＯＢｒの混合物（４）の４ｋｇを蒸発させるための原材料として存在させた。

るつぼ（３）は０．５ｍｍの厚さを有する“タンタル”から構成された細長いボートであり、るつぼ容器（２５）、内部加熱された煙突（２６）及び制御可能な出口（２７）の三つの部分から構成され、それらの縦方向部分は漏れを克服するために一つの連続するタンタルベースプレートから折り曲げられている。煙突は蒸発された材料の凝縮を克服するために煙突を加熱するためのヒータ（２８）を与えられた。さらに煙突ヒータ（２８）は制御されずかつ制限されない方法で支持体上に溶融又は蒸発された材料を飛散するのを克服するために方向を調整するように位置させた。制御可能な出口（２７）として５ｍｍのリップ開口が使用された。スリット開口を有する遮熱材（４１）は制御されかつ均一な方法で連続的に動く支持体上への蒸気の逃避及び蒸着を起こすために要求されるエネルギーの損失及び熱の逃避を避けるために熱を遮蔽した。

真空チャンバー（１）中へのアルゴンガスの連続入口（４２）によって維持された真空圧力（２×１０^−３ｍｂａｒと等価な２×１０^−１Ｐａの圧力）下でかつ蒸気源（７６０℃）及び煙突（２６）の十分に高い温度で、得られた蒸気は移動するシート支持体（５）の方に向けられ、前記支持体が蒸気流（１６）に沿って移動している間、連続的にその上に蒸着された。蒸気源の前記温度は前記るつぼの底の下で圧縮されかつその外側に存在する熱電対（４３）及びるつぼ及び煙突（２６）に存在するタンタル保護された熱電対（４４）によって測定された。２８０μｍの厚さ、１．１８ｍの幅及び２．５０ｍの長さを有する陽極酸化されたアルミニウム支持体（５）は保護箔（２９）とともに二つの円柱形支持ローラ（６）及び（２０）（両者は４０ｃｍの直径及び１．１８ｍの長さを有する）のまわりの陽極酸化側上に装着された。前記陽極酸化側は燐光体が蒸着されるべきである側に位置された。支持体（５）は機械に存在する吸引テーブル（３０）によって正確に位置させた。位置決め中、真空条件を使用することは要求されないが、所望により真空条件を使用することができる。支持体の二つの端は耐熱性接着剤及び二つのリベットで一緒に接着された。支持体上の緊張は上部支持ローラ（２０）を押し上げる二つのシリンダ上の圧力を調整することによってさらに制御された。かかるシステムはさらに、支持体の熱膨張による陽極酸化されたアルミニウム支持体の加熱中の緊張の損失を回避又は補償する。下部ローラ（６）はその軸のまわりのモータによって制御された方法で回転し、一方上部ローラは回転する下部ローラ（６）によって移動する支持体によって回転した。真空下で回転中、ローラ上の支持体の位置は上部キャリアローラ（２０）を押し上げるために与えられた圧力調整シリンダ（３１）に結合された光学位置センサ（真空下に置かれる）によって制御されることができるだろう。陽極酸化されたアルミニウムは１分あたり２０ｍの一定の線速度で移動した。

下部円柱形キャリアローラ（６）及び上部キャリアローラ（２０）は耐熱性コイルばね（８）が円柱体の軸と平行な線と３０°の角度をなすような方法で円柱体の長さにわたって装着された耐熱性コイルばね（８）によって及び熱絶縁層（７）によって支持体シート（５）から熱的に絶縁された。

アルミニウムのための保護箔はいったん支持体が緊張状態になったら除去された。

別の実験では、それは真空チャンバー（１）に存在する離層ユニット（３３）を利用することによって真空下で除去された。離層は一方の側上で一以上の離層ローラ（３５）から離層ローラ（２４）までにわたって装着されかつ他方の側上で保護箔（３７）に接続された離層先駆体（３４）の使用によって実現された。

さらに別の実験では、先駆体は真空下で保護箔にフック又は固定された。

真空下の保護箔の離層は真空サイクルが開始される前にダストがフィルム上に蒸着される危険は全くないという点で特に有利である。

支持体（５）の温度は２００℃の近くに（±１０℃）維持された。温度は五つの高温計でローラの全幅にわたって測定された。環境上の熱放射線の反射による加熱効果の測定による失敗のために誤った温度測定を解消するために、上部にパラボラ反射器を有するレンズベースの高温計（３８）を使用した。反射器における良好な反射を得るために金蒸着された鏡が使用された。パラボラ反射器の焦点は高温計レンズの焦点と一致するように向けられた。支持体の温度は支持体に沿って設置されたアドレス可能な冷却ユニット（３９）によって及び調整可能な赤外線ヒータ（９）によって調整された。使用された赤外線ヒータ（９）は石英ランプから作られた。それらのランプはアルミニウム支持体の吸収スペクトルに一致する波長スペクトル内でエネルギー放出を与えるために十分な出力で常にアドレスされた。有効熱放射時間は７パルスレベルによって調整され、放射線の量はランプの“オン”及び“オフ”期間の調整で決定した。それらのランプは支持体に沿って水平に置かれ、その後に反射スクリーンを有していた。さらに、後に反射スクリーンを有する二つの小さな石英ランプが縁に使用され、プレートの中央と縁の間の温度差を減らすようにした。これらのランプは大きな縦方向石英ランプと６０°の角度を作るような方法で配置された。

別の実験では別個にアドレス可能である小さな赤外線ランプの電池が加熱システム（４０）として使用された。各ランプの出力は測定された温度への自動的な結合（ｂａｃｋ−ｃｏｕｐｌｉｎｇ）によって調整された。このようにして支持体の全幅にわたって満足のいく温度プロファイルが得られることができる。

効果的な加熱を与えるため、支持体は熱放射線の損失を抑えるために反射ケージ（１０）によって包囲された。その反射ケージ（１０）は、空間限定を考慮し、障害物をできるだけ多く迂回して、反射材料（この場合にはアルミニウム）から作られた。

蒸発された燐光体又はシンチレータ材料を蒸着している間の過剰な温度増加を克服するために、支持体は支持体の全幅にわたってかつそれに沿って設置されたアドレス可能な冷却ユニット（３９）によって冷却された。冷却ユニットは“オン”又は“オフ”状態に切り換えることによって有効又は有効でないようにできるようにアドレス可能であった。それゆえ、それは後側で室温の水で冷却された黒体冷却要素、及び前又は支持体側でルーバ（多数のスラット）のアドレス可能な（開放又は閉鎖された）スクリーンから作られた。スラットは互いに部分的に重ならせてそれらの長い側を支持体の移動方向に沿って置かれ、前側上で反射する能力、及びそれらの長い軸に沿って回転する能力を与える。“冷却オフ”状態（“閉鎖”状態）ではスラットの反射表面は支持体中に保持される熱を保つために支持体の方に向けられ、一方“冷却オン”状態ではスラットはスクリーンの後の冷却黒体が支持体の冷却を与えることができるようにスクリーンを開放するため９０°にわたって回転された。

４００μｍの平均厚さを有するＣｓＢｒ：Ｅｕ刺激性燐光体層は４５分の時間内で連続工程で支持体の全長さにわたって蒸着し、その間蒸着された層の厚さは増加した。支持体の各部位は耐火性ボート又はトレー上の蒸気流を多数回連続的に通過した。それによって層は回転ごとに厚さを増大させて成長し、前記増大した厚さはキャパシタンス測定に基づいた厚さ測定装置（２２）によってオンラインで測定された：キャパシタンスの変化は成長する燐光体層によって導入され、二つの電極（そのうちの一つは上部キャリアロールと接続され、接地電位で設定された）の間で測定された。結果として、支持体上への蒸着された層の均一性についての考えを与えるために、５９４μｍ〜６９１μｍの範囲の厚さの変化がその全幅にわたって得られた。

刺激性燐光体層は再びＵＶ放射線下で青色ルミネセンスを示した。

所望のサイズ、例えば３５ｃｍ×４５ｃｍを有するパネルは良好な縁品質を有する上記の大きなプレートから切断された。切断されたパネルは次いで転写可能な接着剤を使用して層の損傷なしに硬質平坦ガラスプレートに対して積層された。

前記と同じ方法で真空蒸着されたプレートのサイズを、陽極酸化されたアルミニウム支持体の長さを２．７４ｍより多く増大することによって２ｍ^２より多い面積まで増大した。これは支持ローラ（６）の直径を０．４ｍから０．９ｍに増大することによって実施された。

実施例２
針状燐光体像形成層の蒸着後に、真空下で前記像形成層の積層によって与えられた積層体によって一時的な保護をした以外、本発明例１と同じ実験を行った。このようにして材料は真空チャンバーから外に安全に動かすために保護された。材料は破壊屑又はダストの混入ができないように積層体の存在下で切断することができた。切断後、一時的な保護積層体は離層によって除去された。離層中、切断縁上に存在する破壊屑又はダストは積層体に粘着したが、材料に混入しなかった。

実施例３
針状燐光体像形成層の蒸着後に、真空下で前記像形成層を積層パッケージから作られる永続的な保護層で積層することによって与えられた積層体によって保護した以外、本発明例１と同じ実験を行った。この実験では積層パッケージはシリコーン処理されたポリエチレンテレフタレート剥離層、接着剤層及び保護箔からなった。積層パッケージは積層箔を供給するための機構を有する積層ユニット（３６）を通過し、保護箔は剥離層（シリコーン処理されたポリエチレンテレフタレート）から離層され、蒸着された燐光体層上に積層された。この操作は真空下で行われたので、燐光体層はダストを全く有さなかった。剥離層は保護された支持体上に存在する最初の積層体の離層のために使用されるのと同じ離層収集ローラへガイドローラ（４５）上でさらに案内された。

永続的な保護層で保護されたシート又はパネルは破壊屑又はダストの混入ができないように永続的な保護積層層の存在下でさらに切断されることができた。

本発明の好ましい例を詳細に記載したが、特許請求の範囲に規定された本発明の範囲から逸脱せずに多数の変形をなしうることが当業者には明らかであろう。

比較例としての真空チャンバーを示す。 本発明例としての真空チャンバーを示す。

符号の説明

１ 真空チャンバー
２ オーブン
３ るつぼ、トレー又はボート
４ 原材料の混合物
５ シート
６ 運搬キャリアローラ
７ 熱絶縁層
８ 円柱形ばね
９ 赤外線ヒータ
１０ 反射ケージ
１１ 高温計
１２ バッフル
１３ バッフル
１４ 金属ラスタ
１５ 分離プレート
１６ 蒸気流
１７ バッフル
１８ 蒸発部
１９ 加熱部
２０ 上部運搬キャリアローラ
２１ 走行路
２２ 厚さ測定システム
２３ 巻き出しローラ（積層体を供給するローラ）
２４ 巻き上げローラ（支持体上の最初の積層保護箔を収集するローラ）
２５ るつぼ容器
２６ 内部加熱された煙突
２７ 制御可能な出口
２８ 煙突ヒータ
２９ 最初に離層された保護箔
３０ （所望により真空の）吸引テーブル
３１ 圧力調整シリンダ
３２ 光学位置センサ
３３ （支持体上の最初の積層体のため、及び所望により蒸着された燐光体又はシンチレータ層を積層するための積層体パッケージの剥離層のための）離層箔のための離層収集ローラ
３４ 離層先駆体
３５ 離層ローラ
３６ 蒸着工程後に適用される積層箔
３７ 蒸着工程後に積層される保護箔
３８ 高温計
３９ 冷却ユニット
４０ 加熱システム
４１ スリットを有する遮熱材
４２ ガス入口
４３ 熱電対
４４ 保護された熱電対
４５ ガイドローラ
４６ 積層剥離箔（任意）

Claims (13)

1. 封止された領域内で燐光体又はシンチレータ層を被覆することによって可撓性支持体を有する複数の燐光体又はシンチレータシート又はパネルを製造する方法であって、前記領域は所望のシンチレータシート又はパネルの寸法フォーマットを少なくとも５倍越える可撓性支持体を運搬するための少なくとも二つの円柱形キャリアローラを含み、前記円柱形キャリアローラは各々、互いに平行な配置の軸を有し、前記領域は前記層のために所望の燐光体又はシンチレータ組成を与える原材料の混合物を含有する少なくとも一つのるつぼを含み、前記領域は積層ユニットを含み、前記方法は前記可撓性支持体を前記キャリアローラ上に装着し、所望の燐光体又はシンチレータ組成を有する前記燐光体又はシンチレータ層を前記可撓性支持体上に蒸着し、前記燐光体又はシンチレータ層を積層工程によって積層し、そして前記層を保護箔でカバーする工程を含み、さらに前記層を所望のフォーマットを有するシート又はパネルに切断する工程を含み、少なくとも前記蒸着工程中、前記領域は真空チャンバーとして真空条件下で維持される方法。
2. 前記領域は離層ユニットをさらに含み、前記可撓性支持体を離層する工程は最初の保護積層箔を与えられる場合、前記燐光体又はシンチレータ組成を蒸着する前記工程の前に含まれる請求項１に記載の方法。
3. 前記燐光体又はシンチレータ層を積層する前記工程及び前記可撓性支持体を離層する前記工程は共に真空条件下で実施される請求項１又は２に記載の方法。
4. 一方のキャリアローラは制御された方法でその軸まわりにモータによって回転し、他方のローラは前記一方のローラの動きによって回転し、回転中、ローラ上の可撓性支持体の位置は前記可撓性支持体の位置調整を与える圧力調整シリンダに接続された光学位置センサによって制御される請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
5. 前記キャリアローラは耐熱性コイルばねが円柱形キャリアローラの軸と平行な線と２０°〜４０°の範囲の角度を作るような方法で円柱体の長さにわたって装着された複数の耐熱性コイルばね及び／又は熱絶縁層によって前記可撓性支持体から熱的に絶縁される請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
6. 前記蒸着工程中、前記可撓性支持体の温度は調節可能なヒータによって及び支持体に沿って設置されたアドレス可能な冷却ユニットによって１５０℃〜３００℃の範囲に維持される請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。
7. 前記冷却ユニットは後側上の室温の水で冷却された黒体冷却要素、及び前記冷却要素の前又は支持体側上の多数のスラットの形のルーバのアドレス可能な（開放又は閉鎖）スクリーンから構成される請求項６に記載の方法。
8. 前記封止された領域は前記シンチレータ又は燐光体層を蒸着しながら厚さを決定する厚さ測定システムを制御部としてさらに含み、前記測定システムはキャパシタンス測定に基づく請求項１〜７のいずれか一項に記載の方法。
9. 前記燐光体又はシンチレータ層を蒸着した後に前記保護箔を積層する工程によって与えられる前記保護箔は切断前又は後に離層工程によって除去される一時的な保護層、又は永続する保護箔層である請求項１〜８のいずれか一項に記載の方法。
10. 前記燐光体又はシンチレータ層を蒸着した後に前記保護箔を積層する工程によって与えられる前記保護箔は永続する保護層であり、前記永続する保護層は保護積層箔を最初に与えられた場合に前記可撓性支持体の離層工程中に使用される同じ離層ユニットによってさらなる離層工程において除去される剥離層を含む保護層パッケージから与えられる請求項１〜９のいずれか一項に記載の方法。
11. 前記原材料は燐光体プリカーサとして少なくともＣｓ_ｘＥｕ_ｙＸ′_ｘ＋αｙを含み、ｙに対するｘの比率は０．２５の値を越え、α≧２であり、Ｘ′はＣｌ，Ｂｒ及びＩ及びそれらの組合せからなる群から選択されるハロゲン化物である請求項１〜１０のいずれか一項に記載の方法。
12. 前記原材料は燐光体プリカーサとして少なくともＣｓＢｒ及びＣｓ_ｘＥｕ_ｙＸ′_ｘ＋αｙを含み、ｙに対するｘの比率は０．２５の値を越え、α≧２であり、Ｘ′はＣｌ，Ｂｒ及びＩ及びそれらの組合せからなる群から選択されるハロゲン化物である請求項１〜１０のいずれか一項に記載の方法。
13. 前記燐光体層は光刺激性ＣｓＢｒ：Ｅｕ燐光体の結合剤のない層である請求項１〜１２のいずれか一項に記載の方法。
    

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