CN109746142B - 镀膜装置 - Google Patents
镀膜装置 Download PDFInfo
- Publication number
- CN109746142B CN109746142B CN201711080631.9A CN201711080631A CN109746142B CN 109746142 B CN109746142 B CN 109746142B CN 201711080631 A CN201711080631 A CN 201711080631A CN 109746142 B CN109746142 B CN 109746142B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- heat
- coating
- rotary drum
- plate section
- film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Spray Control Apparatus (AREA)
Abstract
本发明提供了一种镀膜装置,镀膜装置用于向膜基材上喷涂镀膜原料,镀膜装置包括箱体、转鼓、镀膜喷头和热量反射部,其中,箱体具有真空腔,转鼓可转动地设置在真空腔内,膜产品贴附在转鼓的外表面以随转鼓运动,镀膜喷头设置在真空腔内,且镀膜喷头的喷射端朝向转鼓的外表面设置,以向膜产品的背离转鼓一侧的表面喷涂镀膜原料,热量反射部设置在真空腔内,并位于镀膜喷头的背离转鼓的一侧,以将真空腔内的热量集中汇聚并辐射至镀膜喷头处而起到对镀膜喷头加热的作用。本发明解决了现有技术中的镀膜作业过程中,镀膜原料容易在膜产品的表面出现聚集或凝结的现象,从而导致镀膜作业的效果差的问题。
Description
技术领域
本发明涉及镀膜技术领域,具体而言,涉及一种镀膜装置。
背景技术
在现有技术中,镀膜装置用于在膜产品的表面涂覆镀膜原料以在膜产品的表面形成镀层,从而使膜产品获得良好的耐磨性、防水性、导电性、耐腐蚀性、耐高温性、抗氧化性或改变表面张力等特性,从而提升膜产品的性能,全面的改善产品的品质。
现有的镀膜装置在镀膜作业过程中,膜产品的表面容易出现镀膜原料的聚集或凝结现象,导致镀膜效果很差,且在膜产品表面形成的镀层厚度不均,严重影响了膜产品的正常使用。因此,现有的镀膜装置存在镀膜作业的可靠性差的问题。
发明内容
本发明的主要目的在于提供一种镀膜装置,以解决现有技术中的镀膜作业过程中,镀膜原料容易在膜产品的表面出现聚集或凝结的现象,从而导致镀膜作业的效果差的问题。
为了实现上述目的,本发明提供了一种镀膜装置,用于向膜产品上喷涂镀膜原料,包括:箱体,箱体具有真空腔;转鼓,转鼓可转动地设置在真空腔内,膜产品贴附在转鼓的外表面以随转鼓运动;镀膜喷头,镀膜喷头设置在真空腔内,且镀膜喷头的喷射端朝向转鼓的外表面设置,以向膜产品的背离转鼓一侧的表面喷涂镀膜原料;热量反射部,热量反射部设置在真空腔内,并位于镀膜喷头的背离转鼓的一侧,以将真空腔内的热量集中汇聚并辐射至镀膜喷头处而起到对镀膜喷头加热的作用。
进一步地,热量反射部呈板状,呈板状的热量反射部的朝向转鼓一侧的表面为反射镜面。
进一步地,箱体上开设有进料口和出料口,膜产品由进料口进入真空腔,在转鼓上盘绕后由出料口离开真空腔,热量反射部包括相连接的预热板段、热量补偿板段和连接板段,其中,预热板段设置在进料口处,热量补偿板段环绕转鼓的外表面延伸,连接板段与箱体的内壁面连接。
进一步地,预热板段和连接板段为直板段,热量补偿板段为弧形板段。
进一步地,热量补偿板段与转鼓之间的间距大于等于10cm且小于等于100cm。
进一步地,热量反射部由不锈钢制成。
进一步地,镀膜喷头的喷射端与转鼓的外表面之间的距离大于等于1mm且小于等于2mm。
进一步地,镀膜喷头为多个,多个镀膜喷头绕转鼓的轴向和周向间隔设置。
进一步地,镀膜装置还包括进料辊和出料辊,其中,进料辊可转动地设置在真空腔内并位于进料口处,出料辊设置在真空腔内并位于出料口处。
进一步地,热量反射部连接电源并通过电加热产生热量,以向真空腔内的释放热量。
应用本发明的技术方案,通过将热量反射部设置在真空腔内,并将热量反射部设置在镀膜喷头的背离转鼓的一侧,热量反射部能够将真空腔内的热量集中汇聚并辐射至镀膜喷头处而起到对镀膜喷头加热的作用。这样,充分地利用了真空腔内的热量对镀膜喷头进行热量补偿,使镀膜喷头处的温度接近于恒定,避免镀膜喷头处出现过大的温度降,从而使镀膜喷头喷射镀膜原料的整个镀膜作业过程中,镀膜原料始终能够吸收足够的热量而被均匀地喷射至膜产品的表面,使膜产品的表面形成的镀层厚度均匀,不会出现镀膜原料的聚集或凝结现象,进而大大地提升了镀膜作业的效果,保证了镀膜装置进行镀膜作业的可靠性。
附图说明
构成本申请的一部分的说明书附图用来提供对本发明的进一步理解,本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明,并不构成对本发明的不当限定。在附图中:
图1示出了根据本发明的一种可选实施例的带有膜产品的镀膜装置的内部结构示意图。
其中,上述附图包括以下附图标记:
1、膜产品;10、箱体;11、真空腔;12、进料口;13、出料口;20、转鼓;30、镀膜喷头;40、热量反射部;41、预热板段;42、补偿板段;43、连接板段;50、进料辊;60、出料辊;70、进料辅助辊;80、出料辅助辊。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。以下对至少一个示例性实施例的描述实际上仅仅是说明性的,决不作为对本发明及其应用或使用的任何限制。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
为了解决现有技术中的镀膜作业过程中,镀膜原料容易在膜产品1的表面出现聚集或凝结的现象,从而导致镀膜作业的效果差的问题,本发明提供了一种镀膜装置。
如图1所示,镀膜装置用于向膜产品1上喷涂镀膜原料,镀膜装置包括箱体10、转鼓20、镀膜喷头30和热量反射部40,其中,箱体10具有真空腔11,转鼓20可转动地设置在真空腔11内,膜产品1贴附在转鼓20的外表面以随转鼓20运动,镀膜喷头30设置在真空腔11内,且镀膜喷头30的喷射端朝向转鼓20的外表面设置,以向膜产品1的背离转鼓20一侧的表面喷涂镀膜原料,热量反射部40设置在真空腔11内,并位于镀膜喷头30的背离转鼓20的一侧,以将真空腔11内的热量集中汇聚并辐射至镀膜喷头30处而起到对镀膜喷头30加热的作用。
通过将热量反射部40设置在真空腔11内,并将热量反射部40设置在镀膜喷头30的背离转鼓20的一侧,热量反射部40能够将真空腔11内的热量集中汇聚并辐射至镀膜喷头30处而起到对镀膜喷头30加热的作用。这样,充分地利用了真空腔11内的热量对镀膜喷头30进行热量补偿,使镀膜喷头30处的温度接近于恒定,避免镀膜喷头30处出现过大的温度降,从而使镀膜喷头30喷射镀膜原料的整个镀膜作业过程中,镀膜原料始终能够吸收足够的热量而被均匀地喷射至膜产品1的表面,使膜产品1的表面形成的镀层厚度均匀,不会出现镀膜原料的聚集或凝结现象,进而大大地提升了镀膜作业的效果,保证了镀膜装置进行镀膜作业的可靠性。
可选地,热量反射部40呈板状,呈板状的热量反射部40的朝向转鼓20一侧的表面为反射镜面。热量反射部40设置呈板状不仅能够减少热量反射部40的耗材而降低镀膜装置的整体成本,而且避免热量反射部40占用真空腔11内的过大空间而提高了真镀膜装置的实用性。此外,热量反射部40的朝向转鼓20一侧的表面为反射镜面,反射镜面能够更高效更快捷地将真空腔11内的热量辐射到镀膜喷头30处,以对镀膜喷头30进行热量补偿而保证镀膜作业过程中,确保由镀膜喷头30喷出的镀膜原料吸收足够的热量。
如图1所示,箱体10上开设有进料口12和出料口13,膜产品1由进料口12进入真空腔11,在转鼓20上盘绕后由出料口13离开真空腔11,热量反射部40包括相连接的预热板段41、热量补偿板段42和连接板段43,其中,预热板段41设置在进料口12处,热量补偿板段42环绕转鼓20的外表面延伸,连接板段43与箱体10的内壁面连接。这样,当膜产品1由进料口12进入真空腔11,立刻能受到预热板段41的辐射加热,即实现了对膜产品1的预处理,使膜产品1具有一定的温度,保证了后续的镀膜作业的效果。此外,热量补偿板段42能够在整个镀膜作业中,使膜产品1充分地吸收热量,以保证温度而确保具有良好的镀膜效果。连接板段43也能够将一定的热量辐射到膜产品1上,以防止完成镀膜作业的膜产品1向出料口13运动的过程中,温度急速下降而出现膜产品1裂纹的现象。
可选地,预热板段41和连接板段43为直板段,热量补偿板段42为弧形板段。这种结构形式的热量反射部40呈Ω形,不仅便于制造,有利于控制镀膜装置的整体成本,而且其结构形式适配于转鼓20的形状,确保了位于转鼓20的外表面的膜产品1能够充分吸收热量。
可选地,热量补偿板段42与转鼓20之间的间距大于等于10cm且小于等于100cm。
优选地,热量补偿板段42与转鼓20之间的间距为40cm。
可选地,为了保证热量反射部40的结构稳定性,且不受到高温的影响,热量反射部40由不锈钢制成。
可选地,镀膜喷头30的喷射端与转鼓20的外表面之间的距离大于等于1mm且小于等于2mm。
可选地,为了提高对膜产品1的镀膜作业效果,镀膜喷头30为多个,多个镀膜喷头30绕转鼓20的轴向和周向间隔设置。需要说明的是,多个镀膜喷头30均包覆在热量反射部40内,以确保热量反射部40能够同时对多个镀膜喷头30进行热辐射。
如图1所示,镀膜装置还包括进料辊50和出料辊60,其中,进料辊50可转动地设置在真空腔11内并位于进料口12处,出料辊60设置在真空腔11内并位于出料口13处。这样,通过进料辊50和出料辊60能够可靠地对膜产品1在真空腔11内的运动提供动力,确保了镀膜作业平稳地进行。
如图1所示,镀膜装置还包括进料辅助辊70和出料辅助辊80,进料辅助辊70和出料辅助辊80均可转动地设置在真空腔11内,其中,膜产品1由进料口12进入真空腔11后顺次搭接在进料辊50和进料辅助辊70上,之后盘绕在转鼓20的外周,最后顺次搭接在出料辅助辊80和出料辊60上后由出料口13离开真空腔11,在膜产品1的整个运动过程中,进料辅助辊70和出料辅助辊80起到了对膜产品1的导向和支撑作用,膜产品1在进料辅助辊70或出料辅助辊80处改变运动方向,避免了发生大角度弯折而损坏。
在本申请一个未图示的可选实施例中,热量反射部40连接电源并通过电加热产生热量,以向真空腔11内的释放热量。这样,通过对热量反射部40通电以使热量反射部40作为辅助热源向真空腔11内的释放热量,从而确保真空腔11内具有充足的热量,从而使热量反射部40可靠地将充足的热量热辐射到镀膜喷头30上。
需要说明的是,本申请中涉及的镀膜原料为三甲基铝,但不局限于此。
需要注意的是,这里所使用的术语仅是为了描述具体实施方式,而非意图限制根据本申请的示例性实施方式。如在这里所使用的,除非上下文另外明确指出,否则单数形式也意图包括复数形式,此外,还应当理解的是,当在本说明书中使用术语“包含”和/或“包括”时,其指明存在特征、步骤、操作、器件、组件和/或它们的组合。
除非另外具体说明,否则在这些实施例中阐述的部件和步骤的相对布置、数字表达式和数值不限制本发明的范围。同时,应当明白,为了便于描述,附图中所示出的各个部分的尺寸并不是按照实际的比例关系绘制的。对于相关领域普通技术人员已知的技术、方法和设备可能不作详细讨论,但在适当情况下,所述技术、方法和设备应当被视为授权说明书的一部分。在这里示出和讨论的所有示例中,任何具体值应被解释为仅仅是示例性的,而不是作为限制。因此,示例性实施例的其它示例可以具有不同的值。应注意到:相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项,因此,一旦某一项在一个附图中被定义,则在随后的附图中不需要对其进行进一步讨论。
在本发明的描述中,需要理解的是,方位词如“前、后、上、下、左、右”、“横向、竖向、垂直、水平”和“顶、底”等所指示的方位或位置关系通常是基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,在未作相反说明的情况下,这些方位词并不指示和暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位或者以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明保护范围的限制;方位词“内、外”是指相对于各部件本身的轮廓的内外。
为了便于描述,在这里可以使用空间相对术语,如“在……之上”、“在……上方”、“在……上表面”、“上面的”等,用来描述如在图中所示的一个器件或特征与其他器件或特征的空间位置关系。应当理解的是,空间相对术语旨在包含除了器件在图中所描述的方位之外的在使用或操作中的不同方位。例如,如果附图中的器件被倒置,则描述为“在其他器件或构造上方”或“在其他器件或构造之上”的器件之后将被定位为“在其他器件或构造下方”或“在其他器件或构造之下”。因而,示例性术语“在……上方”可以包括“在……上方”和“在……下方”两种方位。该器件也可以其他不同方式定位(旋转90度或处于其他方位),并且对这里所使用的空间相对描述作出相应解释。
此外,需要说明的是,使用“第一”、“第二”等词语来限定零部件,仅仅是为了便于对相应零部件进行区别,如没有另行声明,上述词语并没有特殊含义,因此不能理解为对本发明保护范围的限制。
需要注意的是,这里所使用的术语仅是为了描述具体实施方式,而非意图限制根据本申请的示例性实施方式。如在这里所使用的,除非上下文另外明确指出,否则单数形式也意图包括复数形式,此外,还应当理解的是,当在本说明书中使用术语“包含”和/或“包括”时,其指明存在特征、步骤、工作、器件、组件和/或它们的组合。
需要说明的是,本申请的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别类似的对象,而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换,以便这里描述的本申请的实施方式能够以除了在这里图示或描述的那些以外的顺序实施。
以上所述仅为本发明的优选实施例而已,并不用于限制本发明,对于本领域的技术人员来说,本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (9)
1.一种镀膜装置,用于向膜产品(1)上喷涂镀膜原料,其特征在于,包括:
箱体(10),所述箱体(10)具有真空腔(11);
转鼓(20),所述转鼓(20)可转动地设置在所述真空腔(11)内,所述膜产品(1)贴附在所述转鼓(20)的外表面以随所述转鼓(20)运动;
镀膜喷头(30),所述镀膜喷头(30)设置在所述真空腔(11)内,且所述镀膜喷头(30)的喷射端朝向所述转鼓(20)的外表面设置,以向所述膜产品(1)的背离所述转鼓(20)一侧的表面喷涂所述镀膜原料;
热量反射部(40),所述热量反射部(40)设置在所述真空腔(11)内,并位于所述镀膜喷头(30)的背离所述转鼓(20)的一侧,以将所述真空腔(11)内的热量集中汇聚并辐射至所述镀膜喷头(30)处而起到对所述镀膜喷头(30)加热的作用;
所述热量反射部(40)呈板状,呈板状的所述热量反射部(40)的朝向所述转鼓(20)一侧的表面为反射镜面。
2.根据权利要求1所述的镀膜装置,其特征在于,所述箱体(10)上开设有进料口(12)和出料口(13),所述膜产品(1)由所述进料口(12)进入所述真空腔(11),在所述转鼓(20)上盘绕后由所述出料口(13)离开所述真空腔(11),所述热量反射部(40)包括相连接的预热板段(41)、热量补偿板段(42)和连接板段(43),其中,所述预热板段(41)设置在所述进料口(12)处,所述热量补偿板段(42)环绕所述转鼓(20)的外表面延伸,所述连接板段(43)与所述箱体(10)的内壁面连接。
3.根据权利要求2所述的镀膜装置,其特征在于,所述预热板段(41)和所述连接板段(43)为直板段,所述热量补偿板段(42)为弧形板段。
4.根据权利要求2所述的镀膜装置,其特征在于,所述热量补偿板段(42)与所述转鼓(20)之间的间距大于等于10cm且小于等于100cm。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的镀膜装置,其特征在于,所述热量反射部(40)由不锈钢制成。
6.根据权利要求1至4中任一项所述的镀膜装置,其特征在于,所述镀膜喷头(30)的喷射端与所述转鼓(20)的外表面之间的距离大于等于1mm且小于等于2mm。
7.根据权利要求1至4中任一项所述的镀膜装置,其特征在于,所述镀膜喷头(30)为多个,多个所述镀膜喷头(30)绕所述转鼓(20)的轴向和周向间隔设置。
8.根据权利要求2所述的镀膜装置,其特征在于,所述镀膜装置还包括进料辊(50)和出料辊(60),其中,所述进料辊(50)可转动地设置在所述真空腔(11)内并位于所述进料口(12)处,所述出料辊(60)设置在所述真空腔(11)内并位于所述出料口(13)处。
9.根据权利要求1所述的镀膜装置,其特征在于,所述热量反射部(40)连接电源并通过电加热产生热量,以向所述真空腔(11)内的释放热量。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201711080631.9A CN109746142B (zh) | 2017-11-06 | 2017-11-06 | 镀膜装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201711080631.9A CN109746142B (zh) | 2017-11-06 | 2017-11-06 | 镀膜装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN109746142A CN109746142A (zh) | 2019-05-14 |
CN109746142B true CN109746142B (zh) | 2021-04-02 |
Family
ID=66400746
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201711080631.9A Active CN109746142B (zh) | 2017-11-06 | 2017-11-06 | 镀膜装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN109746142B (zh) |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0652303A1 (en) * | 1993-11-09 | 1995-05-10 | General Vacuum Equipment Limited | Evaporator for vacuum web coating |
CN1177652A (zh) * | 1996-05-21 | 1998-04-01 | 松下电器产业株式会社 | 薄膜、制备该薄膜的方法和设备、以及包括该薄膜的电子元件 |
CN101008074A (zh) * | 2006-01-24 | 2007-08-01 | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 | 加热装置及采用该加热装置的真空镀膜设备 |
EP1460642B1 (en) * | 2003-03-20 | 2009-03-04 | Agfa HealthCare NV | Manufacturing method of phosphor or scintillator sheets and panels suitable for use in a scanning apparatus |
CN103261468A (zh) * | 2010-12-21 | 2013-08-21 | 太阳能光电股份公司 | 蒸发源、蒸发室、涂覆方法以及喷嘴板 |
CN103643206A (zh) * | 2012-11-29 | 2014-03-19 | 光驰科技(上海)有限公司 | 真空蒸镀源及使用该真空蒸镀源的真空蒸镀方法 |
CN204589286U (zh) * | 2015-04-22 | 2015-08-26 | 温州职业技术学院 | 一种真空镀膜设备 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4682565A (en) * | 1984-11-19 | 1987-07-28 | Sfe Technologies | Vapor nozzle with gas barrier bars |
CN1499164A (zh) * | 2002-11-04 | 2004-05-26 | 北京有色金属研究总院 | 用于制备薄膜的筒型辐射式加热器 |
US20050005846A1 (en) * | 2003-06-23 | 2005-01-13 | Venkat Selvamanickam | High throughput continuous pulsed laser deposition process and apparatus |
CN100343415C (zh) * | 2005-05-06 | 2007-10-17 | 杨林 | 在塑料薄膜或纸上直镀彩虹膜层的方法 |
CN103276366B (zh) * | 2013-05-20 | 2015-07-22 | 上海超导科技股份有限公司 | 适合于卷对卷连续化带材制备工艺的箱式加热器 |
CN103805955B (zh) * | 2014-01-20 | 2016-03-02 | 深圳市金凯新瑞光电股份有限公司 | 一种用于卷绕式溅射三层介质膜的镀膜方法 |
-
2017
- 2017-11-06 CN CN201711080631.9A patent/CN109746142B/zh active Active
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0652303A1 (en) * | 1993-11-09 | 1995-05-10 | General Vacuum Equipment Limited | Evaporator for vacuum web coating |
CN1177652A (zh) * | 1996-05-21 | 1998-04-01 | 松下电器产业株式会社 | 薄膜、制备该薄膜的方法和设备、以及包括该薄膜的电子元件 |
EP1460642B1 (en) * | 2003-03-20 | 2009-03-04 | Agfa HealthCare NV | Manufacturing method of phosphor or scintillator sheets and panels suitable for use in a scanning apparatus |
CN101008074A (zh) * | 2006-01-24 | 2007-08-01 | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 | 加热装置及采用该加热装置的真空镀膜设备 |
CN103261468A (zh) * | 2010-12-21 | 2013-08-21 | 太阳能光电股份公司 | 蒸发源、蒸发室、涂覆方法以及喷嘴板 |
CN103643206A (zh) * | 2012-11-29 | 2014-03-19 | 光驰科技(上海)有限公司 | 真空蒸镀源及使用该真空蒸镀源的真空蒸镀方法 |
CN204589286U (zh) * | 2015-04-22 | 2015-08-26 | 温州职业技术学院 | 一种真空镀膜设备 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN109746142A (zh) | 2019-05-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US10245851B2 (en) | Printing apparatus | |
JP5421934B2 (ja) | 電極製造装置、電極製造方法 | |
US20110315657A1 (en) | Method and apparatus for manufacturing graphene transfer film | |
WO2009029942A3 (en) | Mechanically integrated and closely coupled print head and mist source | |
TW201129706A (en) | Evaporation source and deposition apparatus having the same | |
JP2012146852A (ja) | 電極製造装置、電極製造方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 | |
US8297219B2 (en) | Spray apparatus and coating system using same | |
CN109746142B (zh) | 镀膜装置 | |
JP2019055590A (ja) | 段ボール設備 | |
CN102297577B (zh) | 鼓式干燥装置 | |
KR101377595B1 (ko) | 무전해 도금 장치 | |
CN206464150U (zh) | 一种带超声喷雾的热辊涂布机 | |
US20130228083A1 (en) | Roll-to-roll printing apparatus | |
CN104875492B (zh) | 介质支承装置以及液体喷出装置 | |
CN204769428U (zh) | 提高涂布厚度精度的涂布机 | |
US10744755B2 (en) | Application of coating fluid using movable rollers | |
CN113578669A (zh) | 一种钢板表面处理的涂覆机构 | |
CN206938163U (zh) | 在线涂胶印刷设备 | |
CN109876984A (zh) | 一种在质子膜表面涂布催化剂层的设备及方法 | |
CN217170222U (zh) | 数码打印机用油墨加热装置 | |
CN205600157U (zh) | 一种药芯焊丝生产线 | |
CN205098687U (zh) | 卷纸存放装置以及打印设备 | |
KR200283568Y1 (ko) | 폴리에틸렌 시트 라미네이팅 장치 | |
CN214487534U (zh) | 一种洁净喷涂装置 | |
KR102328491B1 (ko) | Pe강관 제조 시스템 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |