CN204589286U - 一种真空镀膜设备 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种真空镀膜设备，包括真空镀膜箱体，所述真空镀膜箱体的内底面上固定有一底座，所述的底座上设置有用于放置工件的工作台和驱动所述工作台旋转的驱动机构，所述真空镀膜箱体的内顶端上设置有滑移导轨，所述的滑移导轨上滑动均布有多个预加热装置，所述的预加热装置包括有滑块、金属挠性软管、反射罩、加热器，所述的滑块滑动设置于滑移导轨上并在滑动后通过锁紧螺栓与滑移导轨形成固定，金属挠性软管的一端与所述滑块固定，所述的反射罩为半圆形，并固定在金属挠性软管的另一端上，所述的加热器固装于反射罩内并朝向工作台。通过采用上述结构，本实用新型提供了一种可使工件均匀受热并有效改善后续镀膜效果的真空镀膜设备。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种真空镀膜设备。
背景技术
真空镀膜是指在真空环境下利用物理或化学手段在工件表面沉积一层具有特殊用途膜层的表面处理方法，由于在通常情况下，人们在对工件进行镀膜前都需先对工件进行预加热处理，因此在现有技术中，真空镀膜箱体内均设置有预加热装置，但是现有的预加热装置往往是固定不可调节的，从而致使所述预加热装置无法根据实际所需相应调整加热角度及位置，进而容易造成被加热处理的工件受热不均，大大影响后续镀膜的效果。
发明内容
针对现有技术的不足，本实用新型提供了一种可使工件均匀受热并有效改善后续镀膜效果的真空镀膜设备。
为实现上述目的，本实用新型提供了一种真空镀膜设备，包括真空镀膜箱体，所述真空镀膜箱体的内底面上固定有一底座，所述的底座上设置有用于放置工件的工作台和驱动所述工作台旋转的驱动机构，所述真空镀膜箱体的内顶端上设置有滑移导轨，所述的滑移导轨上滑动均布有多个预加热装置，所述的预加热装置包括有滑块、金属挠性软管、反射罩、加热器，所述的滑块滑动设置于滑移导轨上并在滑动后通过锁紧螺栓与滑移导轨形成固定，金属挠性软管的一端与所述滑块固定，所述的反射罩为半圆形，并固定在金属挠性软管的另一端上，所述的加热器固装于反射罩内并朝向工作台。
本实用新型的有益效果是：采用上述结构，由于所述的预加热装置是安装于滑移导轨上，因此其加热位置可根据所需进行调节，同时，由于所述的加热器是装设在反射罩内，而所述反射罩与滑块之间通过金属挠性软管连接，因此根据金属挠性软管可任意弯曲转动变形的特性，从而可根据所需对加热器的加热角度进行调节。此外，由于所述用于放置工件的工作台还可在驱动机构的作用下旋转，因此通过上述结构设置，可有效确保工件更加均匀地受热，从而有利于改善后续镀膜效果。
本实用新型可进一步设置为半圆形反射罩的外表面上涂设有惰性材料层，所述的惰性材料层优选氧化铝涂层。半圆形反射罩的开口端上可拆卸安装固定有封口板，所述的可拆卸安装固定优选螺纹连接配合。
采用上述结构，在半圆形反射罩的外表面涂设惰性材料层，可在后续镀膜阶段对反射罩形成有效保护。同理，所述封口板在人们对工件预加热时打开，而在镀膜阶段封闭，从而对加热器形成有效保护。
本实用新型还可进一步设置为所述的驱动机构包括有电机、连接轴和轴承，连接轴的一端与电机传动连接，连接轴的另一端与工作台固定，所述的轴承装设在连接轴与底座之间。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图；
图2为图1的I部放大图。
具体实施方式
如图1、2所示给出了一种真空镀膜设备，包括真空镀膜箱体1，所述真空镀膜箱体1的内底面上固定有一底座2，所述的底座2上设置有用于放置工件的工作台3和驱动所述工作台3旋转的驱动机构4，所述的驱动机构4包括有电机41、连接轴42和轴承43，连接轴42的一端与电机41传动连接，连接轴42的另一端与工作台3固定，所述的轴承43装设在连接轴42与底座2之间。所述真空镀膜箱体1的内顶端上设置有滑移导轨5，所述的滑移导轨5上滑动均布有多个预加热装置6，所述的预加热装置6包括有滑块61、金属挠性软管62、反射罩63、加热器64，所述的滑块61滑动设置于滑移导轨5上并在滑动后通过锁紧螺栓7与滑移导轨5形成固定，金属挠性软管62的一端与所述滑块61固定，所述的反射罩63为半圆形，并固定在金属挠性软管62的另一端上，所述的加热器64固装于反射罩63内并朝向工作台3。半圆形反射罩63的外表面上涂设有惰性材料层8，所述的惰性材料层8优选氧化铝涂层。半圆形反射罩63的开口端上可拆卸安装固定有封口板9，所述的可拆卸安装固定优选螺纹连接配合。
采用上述结构，由于所述的预加热装置6是安装于滑移导轨5上，因此其加热位置可根据所需进行调节，同时，由于所述的加热器64是装设在反射罩63内，而所述反射罩63与滑块61之间通过金属挠性软管62连接，因此根据金属挠性软管62可任意弯曲转动变形的特性，从而可根据所需对加热器64的加热角度进行调节。此外，由于所述用于放置工件的工作台3还可在驱动机构4的作用下旋转，因此通过上述结构设置，可有效确保工件更加均匀地受热，从而有利于改善后续镀膜效果。
Claims (5)
1.一种真空镀膜设备，包括真空镀膜箱体，其特征在于：所述真空镀膜箱体的内底面上固定有一底座，所述的底座上设置有用于放置工件的工作台和驱动所述工作台旋转的驱动机构，所述真空镀膜箱体的内顶端上设置有滑移导轨，所述的滑移导轨上滑动均布有多个预加热装置，所述的预加热装置包括有滑块、金属挠性软管、反射罩、加热器，所述的滑块滑动设置于滑移导轨上并在滑动后通过锁紧螺栓与滑移导轨形成固定，金属挠性软管的一端与所述滑块固定，所述的反射罩为半圆形，并固定在金属挠性软管的另一端上，所述的加热器固装于反射罩内并朝向工作台。
2.根据权利要求1所述的一种真空镀膜设备，其特征在于：半圆形反射罩的外表面上涂设有惰性材料层，半圆形反射罩的开口端上可拆卸安装固定有封口板。
3.根据权利要求2所述的一种真空镀膜设备，其特征在于：所述的惰性材料层为氧化铝涂层。
4.根据权利要求2所述的一种真空镀膜设备，其特征在于：所述的封口板通过螺纹螺接装设于半圆形反射罩的开口端上。
5.根据权利要求1所述的一种真空镀膜设备，其特征在于：所述的驱动机构包括有电机、连接轴和轴承，连接轴的一端与电机传动连接，连接轴的另一端与工作台固定，所述的轴承装设在连接轴与底座之间。
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