KR101377595B1 - 무전해 도금 장치 - Google Patents

무전해 도금 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR101377595B1
KR101377595B1 KR1020120025235A KR20120025235A KR101377595B1 KR 101377595 B1 KR101377595 B1 KR 101377595B1 KR 1020120025235 A KR1020120025235 A KR 1020120025235A KR 20120025235 A KR20120025235 A KR 20120025235A KR 101377595 B1 KR101377595 B1 KR 101377595B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
roller
plating
squeegee
nip
dipping
Prior art date
Application number
KR1020120025235A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20130104080A (ko
Inventor
김준섭
여성근
Original Assignee
(주)피엔티
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by (주)피엔티 filed Critical (주)피엔티
Priority to KR1020120025235A priority Critical patent/KR101377595B1/ko
Publication of KR20130104080A publication Critical patent/KR20130104080A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101377595B1 publication Critical patent/KR101377595B1/ko

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/1601Process or apparatus
    • C23C18/1619Apparatus for electroless plating
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/1601Process or apparatus
    • C23C18/1619Apparatus for electroless plating
    • C23C18/1628Specific elements or parts of the apparatus
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/1601Process or apparatus
    • C23C18/1633Process of electroless plating
    • C23C18/1655Process features
    • C23C18/1664Process features with additional means during the plating process
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/1601Process or apparatus
    • C23C18/1633Process of electroless plating
    • C23C18/1689After-treatment

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemically Coating (AREA)

Abstract

금속 웹(web)에 무전해 도금 방식으로 금속 피막을 코팅(coating)하는 무전해 도금 장치가 개시된다. 개시된 무전해 도금 장치는, 도금 물질을 포함하는 도금액이 담긴 도금 수조, 도금액에 아래 측 외주부가 잠긴 딥핑 롤러(dipping roller), 딥핑 롤러와의 사이에 도금액의 수위보다 높은 위치에 스퀴징 닙(squeezing nip)이 형성되도록 딥핑 롤러 측으로 가압되는 스퀴징 롤러(squeezing roller), 및 스퀴징 닙의 위에 마련된 건조 유닛을 구비한다. 무전해 도금 장치는, 연속적으로 공급되는 금속 웹(web)이 상기 딥핑 롤러의 외주면을 따라 진행하여 상기 도금 수조 내의 도금액에 잠긴 후 상기 도금액을 벗어나 상기 스퀴징 닙을 통과하고, 상기 건조 유닛을 통과하여 건조되도록 구성된다.

Description

무전해 도금 장치{Electroless plating apparatus}
본 발명은 금속박(金屬箔)에 무전해 도금 방식으로 금속 피막을 코팅(coating)하는 무전해 도금 장치에 관한 것이다.
전자기기, 정보통신기기 등 많은 분야의 제품에서 금속 피막이 도금된 금속박(金屬箔)이 많이 사용되고 있다. 예컨대, 배터리(battery)에는 산화 방지를 위해 크롬(Cr)이 도금된 동박(銅箔)이 사용된다. 이와 같이 도금된 금속박을 얻기 위하여 일반적으로 전해 도금 방식이 선택된다. 그런데, 전해 도금 방식은 금속박 표면에 도금이 완료될 때까지 도금액에 금속박을 오랜 시간 침잠시켜야 하므로 작업 시간이 오래 걸리고, 도금 비용도 커진다. 또한, 권취된 롤러가 풀리면서 공급되는 금속 웹을 연속적으로 도금 작업하기 곤란하다.
본 발명은 금속 웹(web)을 도금액을 통과시켜 빠르게 도금하는 무전해 도금 장치를 제공한다.
또한, 본 발명은 금속 웹(web)을 연속적으로 무전해 도금하는 무전해 도금 장치를 제공한다.
본 발명은, 도금 물질을 포함하는 도금액이 담긴 도금 수조; 상기 도금액에 아래 측 외주부가 잠긴 딥핑 롤러(dipping roller); 상기 딥핑 롤러와의 사이에 상기 도금액의 수위보다 높은 위치에 스퀴징 닙(squeezing nip)이 형성되도록 상기 딥핑 롤러 측으로 가압되는 스퀴징 롤러(squeezing roller); 및, 상기 스퀴징 닙의 위에 마련된 건조 유닛;을 구비하고, 연속적으로 공급되는 금속 웹(web)이 상기 딥핑 롤러의 외주면을 따라 진행하여 상기 도금 수조 내의 도금액에 잠긴 후 상기 도금액을 벗어나 상기 스퀴징 닙을 통과하고, 상기 건조 유닛을 통과하여 건조되도록 구성된 무전해 도금 장치를 제공한다.
상기 건조 유닛은 상기 금속 웹의 양 측면으로 공기를 불어내는, 상기 금속 웹의 폭 방향으로 연장된 에어 나이프(air knife)를 구비할 수 있다.
본 발명의 무전해 도금 장치는 상기 금속 웹이 상기 도금 수조 내의 도금액에 잠기기에 앞서, 상기 딥핑 롤러의 외주면에 접촉 대면하는 상기 금속 웹의 일 측면에 동종(同種)의 도금액을 분사하는 도금액 분사 유닛을 더 구비할 수 있다.
상기 스퀴징 롤러는 내측 파이프와, 상기 내측 파이프를 감싸는, 경도 30 내지 40의 고무로 이루어진 내층과, 상기 내층을 감싸는, 경도 50 내지 60의 고무로 이루어진 외층을 구비할 수 있고, 상기 내층과 외층의 두께는 각각 4.5 내지 5.5mm 일 수 있다.
상기 딥핑 롤러의 외주면은 경도 80 내지 100의 소재로 이루어질 수 있다.
상기 금속 웹은 구리(Cu) 소재로 이루어지고, 상기 도금액은 크롬(Cr) 성분을 포함할 수 있다.
본 발명의 무전해 도금 장치는 상기 딥핑 롤러에 대한 상기 스퀴징 롤러의 가압력을 조절하기 위한 스퀴징 닙 조절 유닛을 더 구비할 수 있다.
상기 스퀴징 닙 조절 유닛은, 시계 방향 및 반시계 방향으로 회전 가능한 스크류(screw); 상기 스퀴징 롤러의 샤프트(shaft)를 지지하는 것으로, 상기 스크류의 회전 방향에 따라 상기 딥핑 롤러의 향한 방향이나 그 반대 방향으로 이동 가능한 스퀴징 롤러 샤프트 지지부재; 및, 조이면 상기 스퀴징 롤러 샤프트 지지부재를 이동하지 못하도록 고정하는 클램프(clamp);를 구비할 수 있다.
상기 스퀴징 닙 조절 유닛은, 상기 스퀴징 롤러의 샤프트를 지지하는 스퀴징 롤러 샤프트 지지부재; 상기 스퀴징 롤러 샤프트 지지부재를 상기 딥핑 롤러를 향한 방향이나 그 반대 방향으로 이동시키는 액츄에이터(actuator); 상기 딥핑 롤러의 샤프트를 지지하는 딥핑 롤러 샤프트 지지부재; 상기 딥핑 롤러 샤프트 지지부재에 고정 탑재되고, 상기 스퀴징 롤러 샤프트 지지부재에 접촉 가압되면 그 가압력에 대응하는 전기 신호를 송신하는 로드 셀(load cell); 및, 상기 로드 셀의 전기 신호를 수신하여 상기 스퀴징 롤러의 가압력을 추산(推算)하고, 상기 추산한 값과 미리 정해진 기준 값이 같아지는 방향으로 상기 스퀴징 롤러 샤프트 지지부재가 이동하도록 상기 액츄에이터를 구동 제어하는 액츄에이터 콘트롤러;를 구비할 수 있다.
본 발명의 무전해 도금 장치에 의하면, 금속 웹의 표면을 연속적으로 빠르게 다른 종류의 금속으로 도금할 수 있다. 또한, 무전해 도금 방식으로 도금할 수 있어 전해 도금 방식보다 비용을 절감할 수 있다.
한편, 딥핑 롤러와 스퀴징 롤러 사이의 닙(nip) 간격을 콘트롤러에 의해 제어하는 본 발명의 실시예에 따르면, 사용자의 작업 숙련도에 무관하게 양호한 도금 품질을 유지할 수 있어 작업 불량을 줄일 수 있다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 무전해 도금 장치를 도시한 구성도이다.
도 2는 도 1의 무전해 도금 장치의 스퀴징 닙 조절 유닛의 일 예를 도시한 평면도이다.
도 3은 도 1의 무전해 도금 장치의 스퀴징 닙 조절 유닛의 다른 일 예를 도시한 평면도이다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 무전해 도금 장치를 상세히 설명한다. 본 명세서에서 사용되는 용어(terminology)들은 본 발명의 바람직한 실시예를 적절히 표현하기 위해 사용된 용어들로서, 이는 사용자 또는 운용자의 의도 또는 본 발명이 속하는 분야의 관례 등에 따라 달라질 수 있다. 따라서, 본 용어들에 대한 정의는 본 명세서 전반에 걸친 내용을 토대로 내려져야 할 것이다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 무전해 도금 장치를 도시한 구성도이다. 도 1을 참조하면, 무전해 도금 장치(10)는, 예컨대 구리(Cu)와 같은 금속으로 이루어진 금속 웹(web)(3)의 표면에, 예컨대 크롬(Cr)과 같은 다른 종류의 금속층(5)을 무전해 도금하는 장치로서, 도금 수조(15), 딥핑 롤러(dipping roller)(20), 스퀴징 롤러(squeezing roller)(25), 건조 유닛, 도금액 분사 유닛을 구비한다.
도금 수조(15)는 예컨대, 크롬(Cr)과 같은 도금 물질을 포함하는 도금액(4)이 담겨 있고, 상측이 개방된다. 딥핑 롤러(20)는 도금 수조(15)의 도금액(4)에 그 아래 측 외주부가 잠기게 마련된다. 스퀴징 롤러(25)는 딥핑 롤러(20) 측으로 가압되어 스퀴징 롤러(25)와 딥핑 롤러(20) 사이에 스퀴징 닙(squeezing nip)(35)이 형성된다. 상기 스퀴징 닙(35)은 도금 수조(15)에 담긴 도금액(4)의 수위보다 높은 위치에 형성된다.
건조 유닛은 스퀴징 닙(35)의 위에 마련되고, 금속 웹(3)의 양 측면으로 고압의 공기를 불어내는 한 쌍의 에어 나이프(air knife)(18)를 구비한다. 상기 에어 나이프(18)는 금속 웹(3)의 폭 방향으로 연장된다.
한편, 도금액 분사 유닛은 금속 웹(3)의 폭 방향으로 일정 간격으로 복수 개 배열된 도금액 분사 노즐(16)을 구비할 수 있다. 상기 도금액 분사 노즐(16)은 금속 웹(3)이 도금 수조(15) 내의 도금액(4)에 잠기기에 앞서, 딥핑 롤러(20)의 외주면에 접촉 대면하는 금속 웹(3)의 일 측면에 동종(同種)의 도금액(4)을 분사한다. 이는 딥핑 롤러(20)에 금속 웹(3)이 감기면, 금속 웹(3)의 딥핑 롤러에 접촉하는 면은 도금 수조(15)의 도금액(4)에 충분히 함침되지 못할 가능성이 있다. 따라서 금속 웹(3)이 딥핑 롤러(20)에 감기기 전에, 도금액 분사 노즐(16)이 금속 웹(3)의 상기 딥핑 롤러(20)에 닿는 면에 충분히 도금액(4)을 공급한다. 상기 도금액 분사 노즐(16)은 스프링 쿨러 방식의 노즐이거나, 슬릿 방식의 노즐일 수도 있으며, 상기 도금 수조(15) 상부에 설치되어서, 금속 웹(3)에 묻지 않은 도금액은 도금 수조(15)로 들어가도록 할 수도 있다.
무전해 도금 장치(10)는 또한, 딥핑 롤러(20)로 향하는 금속 웹(3)을 지지하는 공급 지지 롤러(11)와, 스퀴징 닙(35)을 통과하여 배출되는 금속 웹(3)을 지지하는 배출 지지 롤러(12)를 더 구비한다.
도 1에 도시되진 않았으나 금속 웹(3)은 롤러에 감긴 상태로 준비되고, 이 롤러가 풀리면서 연속적으로 무전해 도금 장치(10)에 공급될 수 있다. 또한, 무전해 도금 장치(10)를 통과하여 도금층(5)이 형성된 금속 웹(3)을 다른 롤러에 감기면서 연속적으로 수거된다. 무전해 도금 장치(10)로 공급되는 금속 웹(3)은 공급 지지 롤러(11)에 지지되고 딥핑 롤러(20)로 향하는 도중에 도금액 분사 노즐(16)에 의해 일측면에 도금액(4)이 분사되어 그 일측면에 고르게 도포된다.
연속적으로 상기 금속 웹(3)은 딥핑 롤러(20)의 외주면을 따라 진행하여 도금 수조(15) 내의 도금액(4)에 잠긴다. 이에 따라 금속 웹(3)의 타측면에 도금액(4)이 고르게 도포된다. 상기 금속 웹(3)의 일측면은 딥핑 롤러(20)의 외주면에 접촉 대면하여 도금 수조(15)에 담긴 도금액(4)이 도포되기는 어렵지만, 상기 도금액 분사 노즐(16)에서 분사된 도금액(4)으로 충분히 도포되어 도금 품질에 영향을 미치지 않는다.
도금 수조(15) 속의 도금액(4)에 잠긴 금속 웹(3)은 딥핑 롤러(20)의 외주면을 따라 이동하여 도금액(4)을 벗어나고, 연이어 스퀴징 닙(35)을 통과한다. 스퀴징 롤러(25)가 딥핑 롤러(20) 측으로 가압되므로 금속 웹(3)의 양 측면에 도포된 도금액(4)은 스퀴징 닙(35)을 통과하면서 금속 성분 이외의 성분이 배출되고, 금속 성분은 금속 웹(3)에 더욱 견고하게 밀착 결합된다.
스퀴징 닙(35)을 통과한 금속 웹(3)은 서로 마주보고 있는 한 쌍의 에어 나이프(18) 사이를 통과하고, 그 도중에 상기 에어 나이프(18)로부터 고압의 공기가 불어져 도금액(4)이 건조되어 금속 웹(3)의 양 측면에 도금층(5)이 형성된다. 상기 도금층(5)이 형성된 금속 웹(3)은 배출 지지 롤러(12)에 의해 지지되고 다른 롤러(미도시)에 감기면서 수거되도록 무전해 도금 장치(10)에서 배출된다.
도 2는 도 1의 무전해 도금 장치의 스퀴징 닙 조절 유닛의 일 예를 도시한 평면도이다. 도 2를 참조하면, 스퀴징 롤러(25)는 내측 파이프(26)와, 상기 내측 파이프(26)를 감싸는 내층(27)과, 상기 내층(27)을 감싸는 외층(28)을 구비하고, 상기 외층(28)이 딥핑 롤러(20)의 외주면과 대면하여 스퀴징 닙(35)이 형성된다. 상기 내측 파이프(26)는 길이 방향 양 단부의 스퀴징 롤러 샤프트(29)와 연결되는 것으로, 통상적으로 강관이 사용된다. 상기 내층(27)은 스퀴징 닙(35)을 형성하며 스퀴징 롤러(25)와 딥핑 롤러(20)가 회전할 때의 충격을 완충하는 역할 및 스퀴징 롤러(25)를 통하여 충분히 스퀴징되도록 접촉력을 높여주는 역할을 한다. 상기 내층(27)는 쇼어경도(Shore hardness)가 30 내지 40의 고무로 이루어지고, 두께는 4.5 내지 5.5mm 이다. 더욱 바람직하게는 내산성이 강한 EPDM(ethylene propylene diene monomer (M-class) rubber) 소재로 이루어질 수 있다.
상기 외층(28)은 스퀴징 닙(35)을 통과하는 금속 웹(3)에 강한 압력을 가하여 도금액(4)을 금속 웹(3)에 부착시키는 역할을 한다. 이와 같은 소위, 스퀴징 효과를 극대화할 수 있도록 상기 외층(28)은 쇼어경도가 50 내지 60의 고무로 이루어지고, 두께는 4.5 내지 5.5mm 이다. 외층(28)도 내산성이 강한 EPDM 소재로 이루어질 수 있다. 이로 인해 스퀴징 닙(35)을 통과하면 금속 웹(3) 양 측 표면의 도금층(5) 두께를 8 내지 10㎛ 로 얇게 형성시킴과 동시에, 전부분에 걸쳐서 균질하게 코팅 가능하다.
즉, 본 발명에 따르면, 스퀴징 롤러(25)가 강관을 서로 다른 강도를 가지는 고무로 감싸는 구조를 한다. 즉, 강관 상에 상대적으로 경도가 낮은 내층(27)으로 감싸고, 상기 내층(27) 상을 경도가 높은 외층(28)으로 감싸도록 한다. 이에 따라서 내층(27)의 상대적으로 낮은 강도로 인하여 완충력이 향상되고, 외층(28)의 상대적으로 높은 강도로 인하여 면압을 극대화하여서 이상적인 도금액 코팅이 가능하도록 한다.
상기한 바와 같이, 스퀴징 닙(35)을 통과하면 금속 웹(3) 양 측 표면의 도금층(5) 두께를 8 내지 10㎛ 정도로 얇게 형성시킬 수 있는데, 상기 도금층(5) 두께를 얇게 형성시킴으로써 에어 나이프에 의한 건조가 가능하게 된다.
한편, 딥핑 롤러(20)의 외주면은 스퀴징 롤러의 내층 및 외층보다 경도가 높은, 예를 들어서 쇼어경도(Shore hardness)가 80 내지 100이고, 내산성이 강한 소재로 이루어질 수 있다. 상기 딥핑 롤러 외주면 소재의 일예로 에보나이트(ebonite) 소재일 수 있다.
무전해 도금 장치(10)는 딥핑 롤러(20)에 대한 스퀴징 롤러(25)의 가압력을 조절하기 위한 스퀴징 닙 조절 유닛을 더 구비한다. 스퀴징 닙 조절 유닛은 프레임(40)에 체결된, 시계 방향 및 반시계 방향으로 회전 가능한 스크류(screw)(45)와, 스퀴징 롤러 샤프트(29)를 지지하며, 스크류(45)의 회전 방향에 따라 딥핑 롤러(20)를 향한 방향이나 그 반대 방향으로 이동 가능한 스퀴징 롤러 샤프트 지지부재(43)를 구비한다.
스크류(45)가 회전할 때 프레임(40)에 대해 직선 이동하지 않고 상기 스크류(45)에 나사 체결된 스퀴징 롤러 샤프트 지지부재(43)가 직선 이동하도록 구성될 수도 있고, 스퀴징 롤러 샤프트 지지부재(43)와 스크류(45)가 연결되어 상기 스크류(45)가 회전하면 상기 스크류(45)와 스퀴징 롤러 샤프트 지지부재(43)가 동시에 프레임(40)에 대해 같은 방향으로 직선 이동하도록 구성될 수도 있다. 한편, 딥핑 롤러(20)의 샤프트(22)는 프레임(40)에 고정 체결된 딥핑 롤러 샤프트 지지부재(41)에 의해 직선 이동 불가능하게 지지된다.
스퀴징 닙 조절 유닛은 클램프(clamp)(47)를 더 구비한다. 사용자가 스크류(45)를 일정한 각도로 회전시켜 딥핑 롤러(20)에 대한 스퀴징 롤러(25)의 가압력을 조정하고 이 설정을 고정시키기 위해 클램프(47)를 조이면 상기 스퀴징 롤러 샤프트 지지부재(43)가 이동하지 못하도록 고정된다. 따라서, 양품 생산에 적절한 가압력을 유지하며 무전해 도금 작업을 진행할 수 있다. 한편, 가압력 설정을 변경하거나 작업을 멈추고 장치를 수리할 경우에는 조였던 클램프(47)를 풀고 스크류(45)를 회전시켜 스퀴징 롤러 샤프트 지지부재(43)를 이동할 수 있다.
도 3은 도 1의 무전해 도금 장치의 스퀴징 닙 조절 유닛의 다른 일 예를 도시한 평면도이다. 도 3에서 도 1 및 도 2의 참조번호와 동일한 참조번호로 지시된 부재는 도 1 및 도 2에서 이미 설명한 바 있으므로 중복된 설명은 생략한다. 도 3을 참조하면, 본 발명의 다른 실시예에 따른 스퀴징 닙 조절 유닛은, 딥핑 롤러 샤프트(22)를 지지하는 것으로, 프레임(50)에 고정 체결된 딥핑 롤러 샤프트 지지부재(51)와, 스퀴징 롤러 샤프트(29)를 지지하는 스퀴징 롤러 샤프트 지지부재(55)와, 스퀴징 롤러 샤프트 지지부재(55)를 딥핑 롤러(20)를 향한 방향이나 그 반대 방향으로 이동시키는 액츄에이터(actuator)(63)를 구비한다. 상기 액츄에이터(63)는 에어 실린더(air cylinder)일 수 있고, 프레임(50)에 고정 결합된다.
상기 스퀴징 롤러 샤프트 지지부재(55)는 스퀴징 롤러(25)의 길이 방향으로 돌출된 돌기부(57)를 구비한다. 한편, 딥핑 롤러 샤프트 지지부재(51)의 내측면에는 로드셀 탑재부(53)가 마련되고, 여기에는 로드 셀(load cell)(60)이 탑재된다. 로드 셀(60)은 액츄에이터(63)의 구동에 의해 스퀴징 롤러 샤프트 지지부재(55)가 딥핑 롤러(20) 측으로 이동하면 상기 돌기부(57)에 의해 접촉 가압될 수 있다. 로드 셀(60)이 가압되면 그 가압력의 크기에 대응하는 전기 신호가 발생한다.
한편, 스퀴징 닙 조절 유닛은 액츄에이터 콘트롤러(65)를 더 구비한다. 액츄에이터 콘트롤러(65)는 로드 셀(60)로부터 전기 신호를 수신할 수 있게 전기적으로 연결되고, 액츄에이터(63)에 제어 신호를 송신할 수 있게 전기적으로 연결된다. 로드 셀(60)의 가압된 때 그 가압력의 크기에 대응되게 발생하는 전기 신호는 액츄에이터 콘트롤러(65)에 수신되고, 이 전기 신호에 기초하여 스퀴징 롤러(25)가 딥핑 롤러(20)를 가압하는 가압력이 추산(推算)된다. 이 추산한 값과 미리 정해진 기준값, 소위 디폴트 값(default value)이 같아지는 방향으로 스퀴징 롤러 샤프트 지지부재(55)가 이동하도록 액츄에이터 콘트롤러(65)는 액츄에이터(63)에 제어 신호를 송신하며, 이 제어 신호에 따라 액츄에이터(63)가 스퀴징 롤러 샤프트 지지부재(55)를 이동시켜 스퀴징 롤러(25)가 이동하게 되므로, 스퀴징 롤러(25)의 가압력이 사용자의 개입 없이 자동적으로 적정한 수준으로 유지될 수 있다.
본 발명은 도면에 도시된 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능함을 이해할 수 있을 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 보호범위는 첨부된 특허청구범위에 의해서만 정해져야 할 것이다.
10: 무전해 도금 장치 15: 도금 수조
16: 도금액 분사 노즐 18: 에어 나이프
20: 딥핑 롤러 25: 스퀴징 롤러
27: 내층 28: 외층

Claims (10)

  1. 도금 물질을 포함하는 도금액이 담긴 도금 수조;
    상기 도금액에 아래 측 외주부가 잠긴 딥핑 롤러(dipping roller);
    상기 딥핑 롤러와의 사이에 상기 도금액의 수위보다 높은 위치에 스퀴징 닙(squeezing nip)이 형성되도록 상기 딥핑 롤러 측으로 가압되는 스퀴징 롤러(squeezing roller); 및,
    상기 스퀴징 닙의 위에 마련된 건조 유닛;을 구비하고,
    연속적으로 공급되는 금속 웹(web)이 상기 딥핑 롤러의 외주면을 따라 진행하여 상기 도금 수조 내의 도금액에 잠긴 후 상기 도금액을 벗어나 상기 스퀴징 닙을 통과하고, 상기 건조 유닛을 통과하여 건조되도록 구성되며,
    상기 스퀴징 롤러는, 내측 파이프와, 상기 내측 파이프를 감싸는 고무 소재의 내층과, 상기 내층을 감싸며 상기 내층보다 경도가 높은 고무로 이루어진 외층을 구비하며,
    상기 내층은 쇼어경도(Shore hardness)가 30 내지 40의 고무로 이루어지고,
    상기 외층은 쇼어경도가 50 내지 60의 고무로 이루어지는 것을 특징으로 하는 무전해 도금 장치.
  2. 제1 항에 있어서,
    상기 건조 유닛은 상기 금속 웹의 양 측면으로 공기를 불어내는, 상기 금속 웹의 폭 방향으로 연장된 에어 나이프(air knife)를 구비하는 것을 특징으로 하는 무전해 도금 장치.
  3. 제1 항에 있어서,
    상기 금속 웹이 상기 도금 수조 내의 도금액에 잠기기에 앞서, 상기 딥핑 롤러의 외주면에 접촉 대면하는 상기 금속 웹의 일 측면에 동종(同種)의 도금액을 분사하는 도금액 분사 유닛을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 무전해 도금 장치.
  4. 삭제
  5. 제1 항에 있어서,
    상기 내층과 외층의 두께는 각각 4.5 내지 5.5mm 인 것을 특징으로 하는 무전해 도금 장치.
  6. 제1 항에 있어서,
    상기 딥핑 롤러의 외주면은 쇼어경도가 80 내지 100의 소재로 이루어진 것을 특징으로 하는 무전해 도금 장치.
  7. 제1 항에 있어서,
    상기 금속 웹은 구리(Cu) 소재로 이루어지고, 상기 도금액은 크롬(Cr) 성분을 포함하는 것을 특징으로 하는 무전해 도금 장치.
  8. 도금 물질을 포함하는 도금액이 담긴 도금 수조;
    상기 도금액에 아래 측 외주부가 잠긴 딥핑 롤러(dipping roller);
    상기 딥핑 롤러와의 사이에 상기 도금액의 수위보다 높은 위치에 스퀴징 닙(squeezing nip)이 형성되도록 상기 딥핑 롤러 측으로 가압되는 스퀴징 롤러(squeezing roller); 및,
    상기 스퀴징 닙의 위에 마련된 건조 유닛;을 구비하고,
    연속적으로 공급되는 금속 웹(web)이 상기 딥핑 롤러의 외주면을 따라 진행하여 상기 도금 수조 내의 도금액에 잠긴 후 상기 도금액을 벗어나 상기 스퀴징 닙을 통과하고, 상기 건조 유닛을 통과하여 건조되도록 구성되고,
    상기 스퀴징 롤러는, 내측 파이프와, 상기 내측 파이프를 감싸는 고무 소재의 내층과, 상기 내층을 감싸며 상기 내층보다 경도가 높은 고무로 이루어진 외층을 구비하며,
    상기 딥핑 롤러에 대한 상기 스퀴징 롤러의 가압력을 조절하기 위한 스퀴징 닙 조절 유닛을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 무전해 도금 장치.
  9. 제8 항에 있어서, 상기 스퀴징 닙 조절 유닛은,
    시계 방향 및 반시계 방향으로 회전 가능한 스크류(screw);
    상기 스퀴징 롤러의 샤프트(shaft)를 지지하는 것으로, 상기 스크류의 회전 방향에 따라 상기 딥핑 롤러의 향한 방향이나 그 반대 방향으로 이동 가능한 스퀴징 롤러 샤프트 지지부재; 및,
    조이면 상기 스퀴징 롤러 샤프트 지지부재를 이동하지 못하도록 고정하는 클램프(clamp);를 구비하는 것을 특징으로 하는 무전해 도금 장치.
  10. 제8 항에 있어서, 상기 스퀴징 닙 조절 유닛은,
    상기 스퀴징 롤러의 샤프트를 지지하는 스퀴징 롤러 샤프트 지지부재;
    상기 스퀴징 롤러 샤프트 지지부재를 상기 딥핑 롤러를 향한 방향이나 그 반대 방향으로 이동시키는 액츄에이터(actuator);
    상기 딥핑 롤러의 샤프트를 지지하는 딥핑 롤러 샤프트 지지부재;
    상기 딥핑 롤러 샤프트 지지부재에 고정 탑재되고, 상기 스퀴징 롤러 샤프트 지지부재에 접촉 가압되면 그 가압력에 대응하는 전기 신호를 송신하는 로드 셀(load cell); 및,
    상기 로드 셀의 전기 신호를 수신하여 상기 스퀴징 롤러의 가압력을 추산(推算)하고, 상기 추산한 값과 미리 정해진 기준 값이 같아지는 방향으로 상기 스퀴징 롤러 샤프트 지지부재가 이동하도록 상기 액츄에이터를 구동 제어하는 액츄에이터 콘트롤러;를 구비하는 것을 특징으로 하는 무전해 도금 장치.
KR1020120025235A 2012-03-12 2012-03-12 무전해 도금 장치 KR101377595B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020120025235A KR101377595B1 (ko) 2012-03-12 2012-03-12 무전해 도금 장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020120025235A KR101377595B1 (ko) 2012-03-12 2012-03-12 무전해 도금 장치

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20130104080A KR20130104080A (ko) 2013-09-25
KR101377595B1 true KR101377595B1 (ko) 2014-03-24

Family

ID=49452983

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020120025235A KR101377595B1 (ko) 2012-03-12 2012-03-12 무전해 도금 장치

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101377595B1 (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20160048591A (ko) 2014-10-24 2016-05-04 (주)피엔티 금속박 제조 장치

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104561946B (zh) * 2013-10-16 2017-09-22 人科机械有限公司 镀覆装置用挤压辊隙的压力调整模块及镀覆装置
CN106400040A (zh) * 2016-12-05 2017-02-15 江苏吉星光通讯科技有限公司 氖灯灯丝镀银镀锡烘干自动生产线
CN110592633B (zh) * 2019-10-18 2024-06-11 广东坤川实业有限公司 一种智能切液压辊装置
KR102333692B1 (ko) * 2020-06-08 2021-12-02 (주)피엔티 금속박 표면 도금 장치
KR102333691B1 (ko) * 2020-06-08 2021-12-02 (주)피엔티 금속박 표면 도금 장치

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20160048591A (ko) 2014-10-24 2016-05-04 (주)피엔티 금속박 제조 장치

Also Published As

Publication number Publication date
KR20130104080A (ko) 2013-09-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101377595B1 (ko) 무전해 도금 장치
KR101317677B1 (ko) 무전해 도금 장치용 스퀴징 닙의 압력조절모듈 및 이를 구비한 무전해 도금 장치
JP4565990B2 (ja) 塗工装置および塗工方法
EP2436723B1 (en) Method for manufacturing prepreg for printed wiring board and device for manufacturing prepreg for printed wiring board
KR101829294B1 (ko) 점착테이프 제조장치용 복합 코터기
US20140090593A1 (en) Application apparatus and application method
CN107972358A (zh) 印刷覆膜装置
CN211756504U (zh) 一种防水卷材生产中的刮涂设备
JP6595138B1 (ja) 両面塗布方法及び装置
CN212189690U (zh) 薄膜涂胶装置
CN117358500A (zh) 具有柔性膜的涂布模块
CN104561946B (zh) 镀覆装置用挤压辊隙的压力调整模块及镀覆装置
KR100665481B1 (ko) 필름 연속 도금 장치 및 방법
KR101198164B1 (ko) 롤 프린터
KR20160049227A (ko) 은페이스트 충진장치
JP2007176173A5 (ko)
KR102593771B1 (ko) 이차전지용 프라이머 코팅장치와 프라이머 코팅용 챔버
JP6751447B2 (ja) 真空内のフレキシブル基板の連続処理のための装置、及びそのための方法
CN208484195U (zh) 一种过辊调节装置
JP3411037B2 (ja) 間欠塗工方法およびそれに用いられる装置
CN111663170A (zh) 新型镀覆装置
KR970015926A (ko) 방수지 도포 장치
CN215278226U (zh) 一种用于保护膜生产的粘胶辊
KR102333691B1 (ko) 금속박 표면 도금 장치
CN211937637U (zh) 一种浸胶系统

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E90F Notification of reason for final refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170412

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180319

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20190320

Year of fee payment: 6