JP6595138B1 - 両面塗布方法及び装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】 基材の両面に塗布剤を塗布する両面塗布方法及び装置の生産性及び塗布品質を向上すること。【解決手段】 基材１の走行ラインＬに沿う上流側から下流側の各位置に、第１塗布装置２０と第２塗布装置３０と乾燥装置５０を順に配置し、第１塗布装置２０によって基材１の一側面に塗布剤を塗布し、第２塗布装置３０によって基材１の他側面に塗布剤を塗布し、両面に塗布剤が塗布された基材１を乾燥装置５０によって乾燥処理する両面塗布方法であって、第２塗布装置３０と乾燥装置５０の間に少なくとも１つのスムーザーロール４１及び又は４２を配置し、このスムーザーロール４１及び又は４２を塗布剤が塗布された基材１の一側面Ａ又は他側面Ｂに接触させるもの。【選択図】 図１

Description

本発明は、基材の両面に塗布剤を塗布する両面塗布方法及び装置に関する。
従来、基材の両面に塗布剤を塗布する両面塗布装置として、特許文献１に記載のものがある。
特許文献１に記載の両面塗布装置は、金属箔で構成された基材の走行ラインに沿う上流側から下流側の各位置に第１塗布装置と第２塗布装置と乾燥装置が順に配置され、第１塗布装置によって基材の一側面に電池用の活物質層を塗布し、第２塗布装置によって基材の他側面に難燃剤を塗布し、両面に塗布剤が塗布された基材を乾燥装置によって乾燥処理可能としている。
このとき、特許文献１に記載の両面塗布装置では、乾燥装置に導入される基材の幅方向における該基材の両端の一側面と他側面にある無塗布領域のそれぞれを一対の支持ロールによって上下から挟み込み支持するものとしている。これにより、乾燥装置の内部でばたつく基材の振動が第２塗布装置に及ぶことを抑え、第２塗布装置による塗布品質が損なうことの回避を図っている。
特許第5622893号
しかしながら、特許文献１に記載の両面塗布装置にあっては、基材の一側面と他側面の両端に、一対の支持ロールで挟み込み支持するための無塗布領域を設ける必要があって、基材の一側面と他側面の全面を第１塗布装置と第２塗布装置による塗布領域にできず、両面塗布装置の生産性を損なう。
また、基材の一側面と他側面の両端を一対の支持ロールで挟み込み支持しても、乾燥装置の内部でばたつく基材の振動が該基材の幅方向の全域で第２塗布装置に及ぶことを十分には抑制できず、第２塗布装置による塗布品質を損なうおそれがある。
本発明の課題は、基材の両面に塗布剤を塗布する両面塗布方法及び装置の生産性及び塗布品質を向上することにある。
請求項１に係る発明は、基材の走行ラインに沿う上流側から下流側の各位置に、第１塗布装置と第２塗布装置と乾燥装置を順に配置し、第１塗布装置によって基材の一側面に塗布剤を塗布し、第２塗布装置によって基材の他側面に塗布剤を塗布し、両面に塗布剤が塗布された基材を乾燥装置の熱風吹出しノズルが吹付ける熱風によって乾燥処理する両面塗布方法であって、第２塗布装置と乾燥装置の間に少なくとも１つのスムーザーロールを配置し、このスムーザーロールを基材の走行方向に対して逆転させて塗布剤が塗布された該基材の一側面又は他側面に接触させてそれらの面に形成された塗膜を均し、乾燥装置に最も近いスムーザーロールと乾燥装置との間には基材に接触する他の支持体を配置することなく、該乾燥装置の熱風吹出しノズルが吹出す熱風を受けてばたつく該基材の振動を該基材に接触する上記スムーザーロールの存在によって遮断し、該振動が第２塗布装置の側に及ぶことを抑制するとともに、前記乾燥装置が、基材の走行ラインに沿う上下に上下の各熱風吹出しノズルを配置して構成され、該乾燥装置の最も入口寄りに配置される熱風吹出しノズルが吹出す熱風を、該乾燥装置の最も入口寄りに配置されたスムーザーロールが接触する基材の面に対する反対面に吹付け、この熱風により基材を上記スムーザーロールに押付けるようにしたものである。
請求項２に係る発明は、請求項１に係る発明において更に、前記第２塗布装置と乾燥装置の間に、２つのスムーザーロールを配置し、一方のスムーザーロールを塗布剤が塗布された基材の一側面に接触させ、他方のスムーザーロールを塗布剤が塗布された基材の他側面に接触させるようにしたものである。
請求項３に係る発明は、請求項１又は２に係る発明において更に、前記スムーザーロールを塗布剤が塗布された基材の一側面又は他側面に押込み接触させるようにしたものである。
請求項４に係る発明は、請求項１乃至３のいずれかに係る発明において更に、前記第２塗布装置が、グラビアロールと、該グラビアロールに塗布剤を供給する塗布剤供給装置とを有し、該グラビアロールを水平方向に走行する基材に押付けながら該基材に塗布剤を塗布するものとし、塗布剤供給装置は、グラビアロールを塗布剤収容パンに浸漬させて回転させながら、該グラビアロールに塗布剤を付着させ、該グラビアロールに付着した塗布剤をドクターブレードで計量して該グラビアロールに供給するものとし、上記ドクターブレードをグラビアロールの水平面上に位置する外周面に当接させるようにしたものである。
請求項５に係る発明は、請求項４に係る発明において更に、前記塗布剤供給装置が、塗布剤収容パンを概ね直方体状とし、該直方体状パンの上面に沿うようにドクターブレードを設け、該直方体状パンを、グラビアロールの周囲かつ基材の走行ラインの直下で、鉛直方向に対して２０乃至４０度傾けた位置に配置するようにしたものである。
請求項６に係る発明は、基材の走行ラインに沿う上流側から下流側の各位置に、第１塗布装置と第２塗布装置と乾燥装置が順に配置され、第１塗布装置によって基材の一側面に塗布剤を塗布し、第２塗布装置によって基材の他側面に塗布剤を塗布し、両面に塗布剤が塗布された基材を乾燥装置の熱風吹出しノズルが吹付ける熱風によって乾燥処理するように構成された両面塗布装置であって、第２塗布装置と乾燥装置の間に少なくとも１つのスムーザーロールが配置され、このスムーザーロールを基材の走行方向に対して逆転させて塗布剤が塗布された該基材の一側面又は他側面に接触させてそれらの面に形成された塗膜を均すことを可能にするとともに、乾燥装置に最も近いスムーザーロールと乾燥装置との間には基材に接触する他の支持体が配置されることなく、該乾燥装置の熱風吹出しノズルが吹出す熱風を受けてばたつく該基材の振動を該基材に接触する上記スムーザーロールの存在によって遮断し、該振動が第２塗布装置の側に及ぶことを抑制可能にするとともに、前記乾燥装置が、基材の走行ラインに沿う上下に上下の各熱風吹出しノズルを配置して構成され、該乾燥装置の最も入口寄りに配置される熱風吹出しノズルが吹出す熱風を、該乾燥装置の最も入口寄りに配置されたスムーザーロールが接触する基材の面に対する反対面に吹付け、この熱風により基材を上記スムーザーロールに押付け可能にするようにしたものである。
請求項７に係る発明は、請求項６に係る発明において更に、前記第２塗布装置と乾燥装置の間に、２つのスムーザーロールが配置され、一方のスムーザーロールを塗布剤が塗布された基材の一側面に接触させ、他方のスムーザーロールを塗布剤が塗布された基材の他側面に接触可能にするようにしたものである。
請求項８に係る発明は、請求項６又は７に係る発明において更に、前記スムーザーロールを塗布剤が塗布された基材の一側面又は他側面に押込み接触可能にするようにしたものである。
請求項９に係る発明は、請求項６乃至８のいずれかに係る発明において更に、前記第２塗布装置が、グラビアロールと、該グラビアロールに塗布剤を供給する塗布剤供給装置とを有し、該グラビアロールを水平方向に走行する基材に押付けながら該基材に塗布剤を塗布するものとし、塗布剤供給装置は、グラビアロールを塗布剤収容パンに浸漬させて回転させながら、該グラビアロールに塗布剤を付着させ、該グラビアロールに付着した塗布剤をドクターブレードで計量して該グラビアロールに供給するものとし、上記ドクターブレードをグラビアロールの水平面上に位置する外周面に当接可能にするようにしたものである。
請求項１０に係る発明は、請求項９に係る発明において更に、前記塗布剤供給装置が、塗布剤収容パンを概ね直方体状とし、該直方体状パンの上面に沿うようにドクターブレードを設け、該直方体状パンが、グラビアロールの周囲かつ基材の走行ラインの直下で、鉛直方向に対して２０乃至４０度傾けた位置に配置されるようにしたものである。
請求項１１に係る発明は、請求項６乃至１０のいずれかに係る発明において更に、前記基材の原反を巻出し、この基材を第１塗布装置と第２塗布装置とスムーザーロールと乾燥装置に順に通過させて巻取るオフライン設備にて構成されるようにしたものである。
（請求項１、６）
(a)両面塗布装置は、第１塗布装置と第２塗布装置により基材の一側面と他側面の両面に連続的に塗布剤を塗布し、この両面に塗布剤が塗布された基材を乾燥装置による一工程で乾燥処理する。従って、両面塗布装置の生産性を向上するとともに、両面塗布装置の全長を短くし、設備コストも低減できる。
このとき、基材の一側面と他側面の各全面を、第１塗布装置と第２塗布装置による塗布領域とし、かつ乾燥装置による乾燥領域とするものになり、両面塗布装置の生産性を向上できる。
(b)第２塗布装置と乾燥装置の間に少なくとも１つのスムーザーロールを配置し、このスムーザーロールを塗布剤が塗布された基材の一側面又は他側面に接触させる。これにより、乾燥装置の内部を浮遊状態で通過する薄肉の基材が、熱風吹出しノズルから吹出る熱風を受けて高周波で上下に振動してばたつく場合にも、当該基材の振動は当該基材に接触するスムーザーロールの存在により遮断されて、第２塗布装置の側に及ぶことが抑制され、塗布品質を改善できる。
(c)第２塗布装置が例えばグラビア方式を構成するグラビアロールを有し、グラビアロールの外周に接触する塗布剤が基材の該グラビアロールに対する直下流側に塗布ビード（液溜まり）を形成するときにも、上記の基材の振動が第２塗布装置の側に及んで当該塗布ビードを乱すことを、上述(b)のスムーザーロールの存在により回避できる。即ち、第２塗布装置は、上述(b)のスムーザーロールが上記の塗布ビードの安定化を図り、グラビアロールの下流側における基材の他側面に、該グラビアロールによって計量された所定厚みの塗膜を安定的に形成する。ひいては、該基材の他側面に塗膜の段ムラ等の被膜欠陥を生ずることがなく、第２塗布装置による塗布品質を損なうことがない。
基材がフィルム厚みを５μm以上２００μm以下の範囲内とするような低剛性のプラスチックフィルムからなり、乾燥装置における振動を生じ易い場合にも、第２塗布装置による塗布品質を顕著に改善できる。
(d)第２塗布装置としては、グラビア方式同様に基材の振動の影響を受け易いスロットダイ方式を採用することもできる。スロットダイ方式からなる第２塗布装置は、走行中の基材の他側面にダイヘッドから押し出される一定量の塗布剤を所定厚みになるように塗布する。
(e)第２塗布装置としては、バー方式を構成するワイヤバーを有するものとすることもできる。
従来の両面塗布装置の第２塗布装置としてバー方式を採用し、塗布剤の粘度を高くした場合に、基材の走行速度を上げると、基材のワイヤバーに対する直上流に形成される塗布剤の塗布ビードに基材が接触するワイヤバーの計量部で、塗布剤の液圧によって基材が浮き上がり、基材がワイヤバーに接触することができなくなって塗布剤を所定厚みに計量できない。従って、塗布剤の粘度によって生産性が制限される。
これに対し、第２塗布装置を構成するワイヤバーが基材の他側面に塗布剤を塗布しているとし、基材の一側面に接触するように配置される上述(b)のスムーザーロールが上記の塗布ビードの安定を図り、基材の上記の浮き上がりを抑え、高粘度の塗布剤を採用するときにも、基材をワイヤバーに安定的に接触させて塗布剤を所定厚みに計量できる。
（請求項２、７）
(f)第２塗布装置と乾燥装置の間に、２つのスムーザーロールを配置し、一方のスムーザーロールを塗布剤が塗布された基材の一側面に接触させ、他方のスムーザーロールを塗布剤が塗布された基材の他側面に接触させる。これにより、乾燥装置の内部でばたつく基材の振動は２つのスムーザーロールにより確実に遮断されて第２塗布装置に及ぶことがなく、第２塗布装置の上述(c)、(d)、(e)における塗布ビードの安定化を図ることができる。
ここで、第２塗布装置から直近のスムーザーロールまでの距離が、５０mm以上５００mm以下の範囲内であるものとすることにより、第２塗布装置から当該スムーザーロールまでの間における基材の弛みやばたつきの発生を一層好適に抑制できる。そして、上述の直近のスムーザーロールから隣接する他のスムーザーロールまでの距離が、５０mm以上３００mm以下の範囲内であるものとすることにより、乾燥装置に起因する基材のばたつきが第２塗布装置の側に及ぶことを一層好適に抑制できる。
（請求項３、８）
(g)前述(a)乃至(f)のスムーザーロールを塗布剤が塗布された基材に押込み接触させる接触量を、例えばスクリューねじにより０mm〜３０mmの範囲内で調整することにより、乾燥装置に起因する基材のばたつきが第２塗布装置の側に及ぶことを一層抑制できる。
（請求項１、６）
(h)前述(a)乃至(f)のスムーザーロールは、基材の走行方向に対して逆転させ、基材の走行速度に対して例えば１０％〜１５０％の範囲内で回転させることにより、塗布剤が塗布された基材に該スムーザーロールを接触させても、該スムーザーロールが該塗布剤を均すことによって塗布品質の悪化を一層好適に抑制できる。
（請求項１、６）
(i)乾燥装置が、基材の走行ラインに沿う上下の各複数位置に上下の各熱風吹出しノズルを配置して構成され、乾燥装置の最も入口寄りに配置される熱風吹出しノズルにより、該乾燥装置の最も入口寄りに配置されたスムーザーロールが接触する基材の面に対する反対面に向けて熱風を吹出し、この熱風により基材を上記スムーザーロールに押付ける。これにより、基材は、熱風により押付けられたスムーザーロールに対して浮き上がり難く、該基材を第２塗布装置に対して安定的に走行させ、第２塗布装置の前述(c)、(d)、(e)における塗布ビードの一層の安定化を図り、第２塗布装置による塗布品質をより向上するものになる。
（請求項４、９）
(j)第２塗布装置が、グラビアロールと、該グラビアロールに塗布剤を供給する塗布剤供給装置とを有し、該グラビアロールを水平方向に走行する基材に押付けながら該基材に塗布剤を塗布するものとし、塗布剤供給装置は、グラビアロールを塗布剤収容パンに浸漬させて回転させながら、該グラビアロールに塗布剤を付着させ、該グラビアロールに付着した塗布剤をドクターブレードで計量して該グラビアロールに供給するものとし、上記ドクターブレードをグラビアロールの水平面上に位置する外周面に当接させる。
即ち、第２塗布装置の塗布方式をグラビアリバースキス方式とすることで、塗布剤の粘度が例えば０．５mPa・s以上２００mPa・s以下の範囲内であれば、基材の走行速度が上がっても該基材に所定厚みの塗膜を形成できる。従って、塗布剤粘度の使用範囲が広く、両面塗布装置の生産性を向上できる。
また、両面塗布装置における塗布作業の終了は、第２塗布装置の上流側に配置されているガイドロールを昇降させて基材をグラビアロールとの接触位置から離隔するものとされている。このとき、基材に接触していた塗布ビードが瞬時に開放される結果、基材への塗布剤の付着量が過多となり、このような塗布剤を乾燥装置で乾燥しきれない懸念がある。ところが、グラビアロールの下流側にはスムーザーロールが接触していて、基材における塗布剤付着量の過多部分をこのスムーザーロールによって均すことから、そのような塗布剤の付着過多を抑制できる。
また、ドクターブレードは、グラビアロールのたわみによる影響を最も受けにくい位置で該グラビアロールの外周面に当接するものとされ、グラビアロールへの塗布剤の付着量を高精度に計量できる。
（請求項５、１０）
(k)塗布剤供給装置が、塗布剤収容パンを概ね直方体状とし、該直方体状パンの上面に沿うようにドクターブレードを設け、該直方体状パンを、グラビアロールの周囲かつ基材の走行ラインの直下で、鉛直方向に対して２０乃至４０度傾けた位置に配置する。従って、塗布剤供給装置は、グラビアロールに対して水平位置から下流側下方例えば３０度の位置に配置され、基材を塗布剤供給装置に干渉させることなく水平方向に走行させることができ、この基材がその後通過する乾燥装置における基材の走行ラインを水平化し、該乾燥装置の設置レイアウト性を向上できる。
（請求項１１）
(l)両面塗布装置が、基材の原反を巻出し、この基材を第１塗布装置と第２塗布装置とスムーザーロールと乾燥装置に順に通過させて巻取るオフライン設備にて構成される。これにより、高品質の基材を投入できるし、この基材を低張力搬送にて走行させ、高品質の機能性フィルムを生産できる。
原反を連続的に供給するオフライン設備では、原反が切り替わる旧基材と新基材の繋ぎ目部に塗布剤が供給されると、旧基材と新基材の間に塗布剤が入り込み、乾燥装置内での基材のばたつきの増長や、未乾燥となる塗布剤が乾燥装置の下流側のガイドロールに付着する等の不具合を生ずることから、通常は繋ぎ目部が通過する際には第１塗布装置及び第２塗布装置を基材と非接触状態にして塗布剤を供給しないようにし、繋ぎ目部の通過後に再度第１塗布装置及び第２塗布装置を基材に接触させて塗布していて生産性が悪い。これに対して、本発明では、原反の切り替わる繋ぎ目部に塗布剤が供給されても、その供給された塗布剤をスムーザーロールによってその後均すものであり、基材の繋ぎ目部が第１塗布装置及び第２塗布装置を通過するとき、第１塗布装置及び第２塗布装置を基材と非接触状態にする必要がなく、生産性を向上できる。
図１は両面塗布装置を示す模式図である。 図２は第２塗布装置を示す模式図である。 図３は両面塗布装置の変形例を示す模式図である。 図４はスムーザーロールのためのクリーニングドクターを示す模式図である。 図５はフローティングドライヤと第２塗布装置の間の基材の振動状態を測定した実験結果を示す図表である。 図６は塗布方式と振動遮断手段の組合せが基材の塗布状態に及ぼす実験結果を示す図表である。 図７はバー方式とグラビア方式における基材の走行速度に対する塗布膜厚の変化量を調査した実験結果を示す図表である。
図１に示した本実施形態の両面塗布装置１００は、基材１の走行ラインＬに沿う上流側から下流側の各位置に、巻出し装置１０、第１塗布装置２０、第２塗布装置３０、振動遮断手段４０、乾燥装置５０、巻取り装置６０を順に配置している。
両面塗布装置１００は、基材１の原反を巻出し装置１０から巻出し、この基材１に対して第１塗布装置２０、第２塗布装置３０によって両面塗工を施し、この塗布剤が塗布された基材１を振動遮断手段４０に経由させた後に乾燥装置５０により乾燥する一連の処理を連続して行ない、乾燥した基材１を巻取り装置６０に巻取るオフライン設備にて構成される。
基材１は、プラスチックや金属で構成された柔軟なシート材からなり、長尺の帯状をなして芯材にロール状に巻かれた原反の状態で、両面塗布装置１００に供給される。
本実施形態において、基材１は、フィルム厚みを例えば5μm以上200μm以下の範囲内とする低剛性のプラスチックフィルムとすることができる。
また、本実施形態において、塗布剤が塗布された基材１の走行速度は、5m/min以上200m/min以下の範囲内とすることが好ましい。また、基材１に塗布される上述の塗布剤は、粘度を0.5mPa・s以上200mPa・s以下の範囲内とする塗布液とすることが好ましい。
両面塗布装置１００にあっては、巻出し装置１０から巻出された基材１の他側面Ｂ(一側面Ａでも可)がガイドロール２ａに支持誘導され、水平に沿う走行状態で第１塗布装置２０に導かれ、第１塗布装置２０によって基材１の一側面Ａの全面に塗布剤が塗布される。第１塗布装置２０で一側面Ａに塗布剤が塗布された基材１は、該基材１の他側面Ｂがガイドロール２ｂ、２ｃに支持誘導されて水平に沿う走行状態で第２塗布装置３０に導かれ、第２塗布装置３０によって基材１の他側面Ｂの全面に塗布剤が塗布される。このようにして両面Ａ、Ｂの各全面に塗布剤が塗布された基材１は、振動遮断手段４０を経由した後に乾燥装置５０の入口５１Ａから出口５１Ｂを通過して乾燥処理された後、ガイドロール２ｄ、２eに支持誘導されて巻取装置６０に巻取られる。
両面塗布装置１００にあっては、第１塗布装置２０で塗布剤が塗布された基材１の一側面Ａと、第２塗布装置３０で塗布剤が塗布された基材１の他側面Ｂのそれぞれが、振動遮断手段４０を構成するスムーザーロール４１、４２のそれぞれと接触し、その後、他の部材と接触することのない非接触状態で、乾燥装置５０の入口５１Ａから出口５１Ｂに渡って通過するように構成されている。
このとき、第１塗布装置２０と第２塗布装置３０は、図１、図２に示す如くのグラビア方式（グラビアリバースキス方式）からなるものとされ、基材１の走行方向（矢印Ｆの向き）に向けて逆転（矢印Ｎの向き）するとともに塗布剤を随伴するグラビアロール２１、３１の外周に、基材１の他側面Ｂを接触させることにより、当該塗布剤を当該基材１の他側面Ｂに所定厚みになるように計量して塗布するように構成されている。
第１塗布装置２０と第２塗布装置３０は、グラビアロール２１、３１と、グラビアロール２１、３１に塗布剤を供給する塗布剤供給装置２２、３２とを有し、グラビアロール２１、３１を水平方向に走行する基材１に押付けながら該基材１に塗布剤を塗布する。
塗布剤供給装置２２、３２は、グラビアロール２１、３１を塗布剤収容パン２３、３３に浸漬させて回転させながら、該グラビアロール２１、３１に塗布剤を付着させ、該グラビアロール２１、３１に付着した塗布剤をドクターブレード２４Ａと２４Ｂ（不図示）、３４Ａと３４Ｂで計量して該グラビアロール２１、３１に供給するものとしている。
塗布剤供給装置２２、３２にあっては、ポンプによって塗布剤収容パン２３、３３に連続的に塗布剤が送液され、この塗布剤が基材１の走行方向に向けて逆転中のグラビアロール２１、３１の外周に随伴される。この塗布剤はグラビアロール２１、３１の外周に一定容積充満した後にドクターブレード２４Ａと２４Ｂ、３４Ａと３４Ｂによって余剰液を掻き落とされ、このようにして計量されてグラビアロール２１、３１の外周の各彫刻溝２１Ｐ（不図示）、３１Ｐに持ち込まれた一定量の塗布剤が、グラビアロール２１、３１の外周に接触して所定速度で走行している基材１の下面（一側面Ａと他側面Ｂ）に一定の転写率（彫刻溝２１Ｐ、３１Ｐの容積の例えば２０乃至４０％）で転写されて塗布され、該グラビアロール２１、３１の下流側に通過した基材１の一側面Ａ又は他側面Ｂに所定厚みの塗膜２Ｋを形成する。グラビアロール２１、３１の外周の彫刻溝２１Ｐ、３１Ｐに持ち込まれたものの基材１の一側面Ａ又は他側面Ｂに転写されなかった残余の塗布剤は、再度塗布剤供給装置２２、３２の塗布剤収容パン２３、３３に持ち込まれ、グラビアロール２１、３１の各彫刻溝２１Ｐ、３１Ｐには新たに塗布剤が供給される。グラビアロール２１、３１の各彫刻溝２１Ｐ、３１Ｐとしては、例えば斜線型や格子型、亀甲（ハニカム）型等が採用され、１インチ当たりの彫刻数と彫刻溝の深さによって容積を調整し、この容積によって計量すべき塗布量が決定される。
塗布剤供給装置２２、３２にあっては、ドクターブレード２４Ａ、３４Ａをグラビアロール２１、３１の水平面上に位置する外周面に当接させている。また、塗布剤収容パン２３、３３を概ね直方体状とし、該直方体状パン２３、３３の上面に沿うようにドクターブレード２４Ａと２４Ｂ、３４Ａと３４Ｂを設け、該直方体状パン２３、３３を、グラビアロール２１、３１の周囲かつ基材１の走行ラインの直下で、鉛直方向に対して２０乃至４０度傾けた位置（グラビアロール２１、３１に対する下流側で水平方向から下方に例えば３０度をなす位置）に配置している。
また、第１塗布装置２０及び第２塗布装置３０を、外径が３０mm〜２５０mmの範囲内にある円柱状のグラビアロール２１、３１を有し、該グラビアロール２１、３１に沿って配置される密閉型の塗布剤収容パン２３、３３に塗布剤を収容してなる塗布剤収容装置２２、３２を有するグラビアリバースキス方式とすることで、塗布剤の経時変化や周辺設備の汚染を防止することができる。
ここで、グラビアロール２１、３１の表面処理及び表面材質としては、耐久性、離型性を向上させるためにハードクロムメッキやダイヤモンドライクカーボン処理、セラミック溶射等を施したものを使用しても良い。
また、ドクターブレード２４Ａと２４Ｂ、３４Ａと３４Ｂの材質としては金属製、プラスチック製等を使用しても良い。
尚、両面塗布装置１００において、グラビア方式からなる第１塗布装置２０は、図３に示す如く、基材１の鉛直方向に走行する走行ラインにおけるガイドロール２ｂとガイドロール２ｃの間に配置されても良い。このとき、塗布剤供給装置２２は、直方体状パン２３を基材１の走行ラインに沿う鉛直方向に対して平行配置することができる。
また、第１塗布装置２０としては、前述したグラビア方式の他に、スロットダイ方式やワイヤバーを有するバー方式等を採用できる。
スロットダイ方式からなる第１塗布装置２０は、走行中の基材１の一側面Ａにダイヘッドから押し出される一定量の塗布剤を所定厚みになるように塗布する。
バー方式からなる第１塗布装置２０は、基材１の走行方向に向けて正転するとともに塗布剤を随伴するワイヤバーの外周に、基材１の一側面Ａを接触させることにより、当該塗布剤を当該基材１の一側面Ａに所定厚みになるように計量して塗布する。
また、第２塗布装置３０としては、前述したグラビア方式の他に、グラビア方式同様に基材１の振動の影響を受け易いスロットダイ方式を採用することもできる。スロットダイ方式からなる第２塗布装置３０は、走行中の基材１の他側面Ｂにダイヘッドから押し出される一定量の塗布剤を所定厚みになるように塗布する。
また、第２塗布装置３０としては、ワイヤバーを有するバー方式を採用することもできる。バー方式からなる第２塗布装置３０は、基材１の走行方向に向けて正転するとともに塗布剤を随伴するワイヤバーの外周に、基材１の他側面Ｂを接触させることにより、当該塗布剤を当該基材１の他側面Ｂに所定厚みになるように計量して塗布する。
このとき、第２塗布装置３０において、グラビアロール３１の外周に随伴されて基材１の他側面Ｂに転写されることとなる塗布剤は、該塗グラビアロール３１の直下流側に塗布ビード２Ｊ（液溜まり）を形成する。両面塗布装置１００では、この塗布ビード２Jを安定させるために振動遮断手段４０を採用するものとしている。
振動遮断手段４０は、第２塗布装置３０と乾燥装置５０の間に配置され、第１塗布装置２０で塗布剤が塗布された基材１の一側面Ａと接触する一側面スムーザーロール４１と、第２塗布装置３０で塗布剤が塗布された基材１の他側面Ｂに接触する他側面スムーザーロール４２を有する。乾燥装置５０内の基材１のばたつきによって基材１に生じる高周波振動は、この基材１が一側面スムーザーロール４１と他側面スムーザーロール４２に接触することで第２塗布装置３０の側への伝搬が遮断される。このため、第２塗布装置３０におけるグラビアロール３１の外周に随伴されて他側面Ｂに持ち込まれる塗布剤は、グラビアロール３１の直下流側に幅方向で均一な安定した塗布ビードを形成してその安定状態を乱すことがなく、塗布剤供給装置３２及びグラビアロール３１によって計量された所定厚みの塗膜をグラビアロール３１の下流側に形成する。これにより、第２塗布装置３０が基材１の他側面Ｂに形成する塗膜２Ｋに段ムラ等の塗工欠陥を生ずることがなく、第２塗布装置３０による塗布品質を損なうことがない。
振動遮断手段４０の各スムーザーロール４１、４２は、不図示のエアシリンダ装置の伸縮動作によって、塗布剤が塗布された基材１の各面に接離される。
また、振動遮断手段４０の各スムーザーロール４１、４２は、塗布剤が塗布された基材１の各面に押込み接触される。押込み接触量は、例えば０mm乃至３０mmの範囲内でスクリューねじの螺動操作により調整される。
振動遮断手段４０の存在は、第１塗布装置２０及び第２塗布装置３０によって基材１の各面に得られた所定厚みの各塗膜２Ｋにスムーザーロール４１、４２が接触するため、その塗布品質を損なわれる懸念がある。そこで、振動遮断手段４０にあっては、スムーザーロール４１、４２を基材１の走行方向に対する逆回転で該基材１に接触させる。このとき、各スムーザーロール４１、４２の回転速度は、基材１の走行速度に対して１０％乃至１５０％の範囲内とし、好適には５０％乃至１００％の範囲内とすることが好ましい。これにより、基材１の各面の各塗膜２Ｋを均して塗布品質の悪化を抑制する。
スムーザーロール４１、４２としては、表面粗度が０．１S乃至０．８Sの範囲内とするとともに、外径が１０mm乃至１００mmの範囲内とし、好適には２０mm乃至５０mmの範囲内とすることにより、クレーンやホイスト等を使用せずに交換することができ、第１塗布装置２０及び第２塗布装置３０で塗布された基材１に接触しても、その塗布品質の悪化を一層好適に抑制することができる。スムーザーロール４１、４２の外径を小さくするほど、基材１の走行速度を上げたときの該スムーザーロール４１、４２の回転数が高くなってその駆動負荷は大きくなるものの、基材１と該スムーザーロール４１、４２とのメニスカスが小さくなり、より良好な塗布品質が得られる。
スムーザーロール４１、４２は、常時異物の付着がない状態で基材１と接触するため、図３に示したクリーニングドクター４３を付帯させても良い。
スムーザーロール４１、４２としては、基材１と接触する表面の耐久性、離型性を向上させるためにハードクロムメッキやダイヤモンドライクカーボン処理、セラミック溶射等を施しても良い。
スムーザーロール４１、４２としては、丸棒の外周面に加工による螺旋状（リング状でも可）の溝を彫刻した溝付きロールを採用しても良い。
乾燥装置５０は、非接触乾燥方式のフローティングドライヤ５１によって構成され、両面Ａ、Ｂに塗布剤が塗布された基材１を通過させて乾燥処理する。
フローティングドライヤ５１は、基材１が送り込まれる入口５１Ａと、基材１を送り出す出口５１Ｂを備える。走行する基材１を上下の支持ロール等によって何ら支持することなく、浮遊状態のまま通過させる。フローティングドライヤ５１の内部には、基材１の走行ラインに沿う上下の各複数位置に、かつ上下互い違いに配置される上下の各熱風吹出しノズル５２が配置されている。各熱風吹出しノズル５２は、熱風（ドライエア）を上下から基材１に向けて吹付ける。
フローティングドライヤ５１は、走行する基材１を浮遊状態のまま通過させるものであり、基材１は各熱風吹出しノズル５２が吹付ける熱風により高周波で上下に微振動してばたつくものになる。
しかるに、乾燥装置５０にあっては、フローティングドライヤ５１において最も入口５１Ａ寄りに配置されている熱風吹出しノズル５２が基材１の一側面Ａに向けて下向きの熱風を吹出すものとされ（矢印Ｈの向き）、この熱風の風圧力を受けた基材１を振動遮断手段４０の他側面スムーザーロール４２の外周面に押付けるものとしている。従って、乾燥装置５０に起因する基材１の振動は他側面スムーザーロール４２により遮断され、第２塗布装置３０におけるグラビアロール３１の直下流側に形成される塗布ビードの安定性を向上するものになる。
一側面スムーザーロール４１と他側面スムーザーロール４２はフローティングドライヤ５１において最も入口５１Ａの側に配置されている熱風吹出しノズル５２の設置位置により配置を変更しても良い。即ち、フローティングドライヤ５１によって最も入口５１Ａ寄りに配置されている熱風吹出しノズル５２が基材１の他側面Ｂに向けて上向きの熱風を吹出すものとするとき、振動遮断手段４０において最も入口５１Ａ寄りに配置されるスムーザーロール４２を基材１の一側面Ａに接触させるものとし、この熱風の風圧力を受けた基材１をそのスムーザーロール４２の外周面に押付けるものとする。
従って、本実施形態によれば以下の作用効果を奏する。
(a)両面塗布装置１００は、第１塗布装置２０と第２塗布装置３０により基材１の一側面Ａと他側面Ｂの両面に連続的に塗布剤を塗布し、この両面に塗布剤が塗布された基材１を乾燥装置５０による一工程で乾燥処理する。従って、両面塗布装置１００の生産性を向上するとともに、両面塗布装置１００の全長を短くし、設備コストも低減できる。
このとき、基材１の一側面Ａと他側面Ｂの各全面を、第１塗布装置２０と第２塗布装置３０による塗布領域とし、かつ乾燥装置５０による乾燥領域とするものになり、両面塗布装置１００の生産性を向上できる。
(b)第２塗布装置３０と乾燥装置５０の間に少なくとも１つのスムーザーロール、本実施形態では２つのスムーザーロール４１、４２を配置し、このスムーザーロール４１、４２を塗布剤が塗布された基材１の一側面Ａ又は他側面Ｂに接触させる。これにより、乾燥装置５０の内部を浮遊状態で通過する薄肉の基材１が、熱風吹出しノズル５２から吹出る熱風を受けて高周波で上下に振動してばたつく場合にも、当該基材１の振動は当該基材１に接触するスムーザーロール４１、４２の存在により遮断されて、第２塗布装置３０の側に及ぶことが抑制され、塗布品質を改善できる。
(c)第２塗布装置３０が例えばグラビア方式を構成するグラビアロール３１を有し、グラビアロール３１の外周に接触する塗布剤が基材１の該グラビアロール３１に対する直下流側に塗布ビード（液溜まり）を形成するときにも、上記の基材１の振動が第２塗布装置３０の側に及んで当該塗布ビードを乱すことを、上述(b)のスムーザーロール４１、４２の存在により回避できる。即ち、第２塗布装置３０は、上述(b)のスムーザーロール４１、４２が上記の塗布ビードの安定化を図り、グラビアロール３１の下流側における基材１の他側面Ｂに、該グラビアロール３１によって計量された所定厚みの塗膜を安定的に形成する。ひいては、該基材１の他側面Ｂに塗膜の段ムラ等の被膜欠陥を生ずることがなく、第２塗布装置３０による塗布品質を損なうことがない。
基材１がフィルム厚みを５μm以上２００μm以下の範囲内とするような低剛性のプラスチックフィルムからなり、乾燥装置５０における振動を生じ易い場合にも、第２塗布装置３０による塗布品質を顕著に改善できる。
(d)第２塗布装置３０としては、グラビア方式同様に基材１の振動の影響を受け易いスロットダイ方式を採用することもできる。スロットダイ方式からなる第２塗布装置３０は、走行中の基材１の他側面Ｂにダイヘッドから押し出される一定量の塗布剤を所定厚みになるように塗布する。
(e)第２塗布装置３０としては、バー方式を構成するワイヤバーを有するものとすることもできる。
従来の両面塗布装置１００の第２塗布装置３０としてバー方式を採用し、塗布剤の粘度を高くした場合に、基材１の走行速度を上げると、基材１のワイヤバーに対する直上流に形成される塗布剤の塗布ビードに基材１が接触するワイヤバーの計量部で、塗布剤の液圧によって基材１が浮き上がり、基材１がワイヤバーに接触することができなくなって塗布剤を所定厚みに計量できない。従って、塗布剤の粘度によって生産性が制限される。
これに対し、第２塗布装置３０を構成するワイヤバーが基材１の他側面Ｂに塗布剤を塗布しているとし、基材１の一側面Ａに接触するように配置される上述(b)のスムーザーロール４１、４２が上記の塗布ビードの安定を図り、基材１の上記の浮き上がりを抑え、高粘度の塗布剤を採用するときにも、基材１をワイヤバーに安定的に接触させて塗布剤を所定厚みに計量できる。
(f)第２塗布装置３０と乾燥装置５０の間に、２つのスムーザーロール４１、４２を配置し、一方のスムーザーロール４１を塗布剤が塗布された基材１の一側面Ａに接触させ、他方のスムーザーロール４２を塗布剤が塗布された基材１の他側面Ｂに接触させる。これにより、乾燥装置５０の内部でばたつく基材１の振動は２つのスムーザーロール４１、４２により確実に遮断されて第２塗布装置３０に及ぶことがなく、第２塗布装置３０の上述(c)、(d)、(e)における塗布ビードの安定化を図ることができる。
ここで、第２塗布装置３０から直近のスムーザーロール４１までの距離が、５０mm以上５００mm以下の範囲内であるものとすることにより、第２塗布装置３０から当該スムーザーロール４１までの間における基材１の弛みやばたつきの発生を一層好適に抑制できる。そして、上述の直近のスムーザーロール４１から隣接する他のスムーザーロール４２までの距離が、５０mm以上３００mm以下の範囲内であるものとすることにより、乾燥装置５０に起因する基材１のばたつきが第２塗布装置３０の側に及ぶことを一層好適に抑制できる。
(g)前述(a)乃至(f)のスムーザーロール４１、４２を塗布剤が塗布された基材１に押込み接触させる接触量を、例えばスクリューねじにより０mm〜３０mmの範囲内で調整することにより、乾燥装置５０に起因する基材１のばたつきが第２塗布装置３０の側に及ぶことを一層抑制できる。
(h)前述(a)乃至(f)のスムーザーロール４１、４２は、基材１の走行方向に対して逆転させ、基材１の走行速度に対して例えば１０％〜１５０％の範囲内で回転させることにより、塗布剤が塗布された基材１に該スムーザーロール４１、４２を接触させても、該スムーザーロール４１、４２が該塗布剤を均すことによって塗布品質の悪化を一層好適に抑制できる。
(i)乾燥装置５０が、基材１の走行ラインＬに沿う上下の各複数位置に上下の各熱風吹出しノズル５２を配置して構成され、乾燥装置５０の最も入口５１Ａ寄りに配置される熱風吹出しノズル５２により、該乾燥装置５０の最も入口５１Ａ寄りに配置されたスムーザーロール４２が接触する基材１の面に対する反対面に向けて熱風を吹出し、この熱風により基材１を上記スムーザーロール４２に押付ける。これにより、基材１は、熱風により押付けられたスムーザーロール４２に対して浮き上がり難く、該基材１を第２塗布装置３０に対して安定的に走行させ、第２塗布装置３０の前述(c)、(d)、(e)における塗布ビードの一層の安定化を図り、第２塗布装置３０による塗布品質をより向上するものになる。
(j)第２塗布装置３０が、グラビアロール３１と、該グラビアロール３１に塗布剤を供給する塗布剤供給装置３２とを有し、該グラビアロール３１を水平方向に走行する基材１に押付けながら該基材１に塗布剤を塗布するものとし、塗布剤供給装置３２は、グラビアロール３１を塗布剤収容パン３３に浸漬させて回転させながら、該グラビアロール３１に塗布剤を付着させ、該グラビアロール３１に付着した塗布剤をドクターブレード３４Ａ、３４Ｂで計量して該グラビアロール３１に供給するものとし、上記ドクターブレード３４Ａ、３４Ｂをグラビアロール３１の水平面上に位置する外周面に当接させる。
即ち、第２塗布装置３０の塗布方式をグラビアリバースキス方式とすることで、塗布剤の粘度が例えば０．５mPa・s以上２００mPa・s以下の範囲内であれば、基材１の走行速度が上がっても該基材１に所定厚みの塗膜を形成できる。従って、塗布剤粘度の使用範囲が広く、両面塗布装置１００の生産性を向上できる。
また、両面塗布装置１００における塗布作業の終了は、第２塗布装置３０の上流側に配置されているガイドロール２ｃを昇降させて基材１をグラビアロール３１との接触位置から離隔するものとされている。このとき、基材１に接触していた塗布ビードが瞬時に開放される結果、基材１への塗布剤の付着量が過多となり、このような塗布剤を乾燥装置５０で乾燥しきれない懸念がある。ところが、グラビアロール３１の下流側にはスムーザーロール４１、４２が接触していて、基材１における塗布剤付着量の過多部分をこのスムーザーロール４１、４２によって均すことから、そのような塗布剤の付着過多を抑制できる。
また、ドクターブレード３４Ａは、グラビアロール３１のたわみによる影響を最も受けにくい位置で該グラビアロール３１の外周面に当接するものとされ、グラビアロール３１への塗布剤の付着量を高精度に計量できる。
(k)塗布剤供給装置３２が、塗布剤収容パン３３を概ね直方体状とし、該直方体状パン３３の上面に沿うようにドクターブレード３４Ａ、３４Ｂを設け、該直方体状パン３３を、グラビアロール３１の周囲かつ基材１の走行ラインＬの直下で、鉛直方向に対して２０乃至４０度傾けた位置に配置する。従って、塗布剤供給装置３２は、グラビアロール３１に対して水平位置から下流側下方例えば３０度の位置に配置され、基材１を塗布剤供給装置３２に干渉させることなく水平方向に走行させることができ、この基材１がその後通過する乾燥装置５０における基材１の走行ラインＬを水平化し、該乾燥装置５０の設置レイアウト性を向上できる。
(l)両面塗布装置１００が、基材１の原反を巻出し、この基材１を第１塗布装置２０と第２塗布装置３０とスムーザーロール４１、４２と乾燥装置５０に順に通過させて巻取るオフライン設備にて構成される。これにより、高品質の基材１を投入できるし、この基材１を低張力搬送にて走行させ、高品質の機能性フィルムを生産できる。
原反を連続的に供給するオフライン設備では、原反が切り替わる旧基材１と新基材１の繋ぎ目部に塗布剤が供給されると、旧基材１と新基材１の間に塗布剤が入り込み、乾燥装置５０内での基材１のばたつきの増長や、未乾燥となる塗布剤が乾燥装置５０の下流側のガイドロールに付着する等の不具合を生ずることから、通常は繋ぎ目部が通過する際には第１塗布装置２０及び第２塗布装置３０を基材１と非接触状態にして塗布剤を供給しないようにし、繋ぎ目部の通過後に再度第１塗布装置２０及び第２塗布装置３０を基材１に接触させて塗布していて生産性が悪い。これに対して、本発明では、原反の切り替わる繋ぎ目部に塗布剤が供給されても、その供給された塗布剤をスムーザーロールによってその後均すものであり、基材１の繋ぎ目部が第１塗布装置２０及び第２塗布装置３０を通過するとき、第１塗布装置２０及び第２塗布装置３０を基材１と非接触状態にする必要がなく、生産性を向上できる。
以下、両面塗布装置１００の実験結果について説明する。
本実施形態に係る振動遮断手段４０を具備しない従来の両面塗布装置１００では、第１塗布装置２０で塗布剤が塗布された基材１の一側面Ａと、第２塗布装置３０で塗布剤が塗布された基材１の他側面Ｂの塗布品質を損なわないようにするため、基材１を他の部材と接触しないよう乾燥装置５０の入口５１Ａから出口５１Ｂに渡って通過させようとすると、乾燥装置５０の内部でばたつく基材１の振動が第２塗布装置３０に及ぶものになる。一方、グラビアリバース方式を採用している第２塗布装置３０では、塗布ビードがワイヤバーの直上流側に形成されるバー方式と異なり、塗布ビードがグラビアロールの直下流側に形成されるため、乾燥装置５０に起因した基材１の振動が直接塗布ビードを振動させてその塗布品質を損なうものとする。
図５は、テスト１乃至６の比較例と、テスト７の本実施形態に係る振動遮断手段４０を用いた本発明方法と、テスト８の基材１の両端を挟み込む両端挟み込み方法のそれぞれについて、基材１に及ぼす張力と乾燥装置５０を構成するフローティングドライヤ５１から吹出す熱風風速を可変した場合に、基材１の振動状態を第２塗布装置３０と乾燥装置５０の間で測定したものであるが、テスト３、５、６に認められるように、熱風風速を下げることや張力を上げることで基材１の振動は軽減される傾向がみられる。しかしながら、熱風風速を下げると基材１に塗布された塗布剤の乾燥効率が悪化し、乾燥装置５０の炉長が長くなって設備コストが高くなる。また、基材１に及ぼす張力を上げると基材１の収縮により基材１の幅方向寸法が変化する懸念がある。
これに対し、テスト７の本発明方法によれば、第２塗布装置３０と乾燥装置５０の間の基材１に振動遮断手段４０のスムーザーロール４１、４２を押し当てるものとすることにより、熱風風速を下げることなく、基材１に及ぼす張力を上げたときと同等の振動軽減効果がある。
図６は、テスト１１の比較例と、テスト１２の基材１の両端を挟み込む両端挟み込み方法と、テスト１３の本実施形態に係る振動遮断手段４０を用いた本発明方法のそれぞれについて、塗布方式と振動遮断手段の組み合わせが基材１の塗布状態に及ぼす影響を評価したものである。テスト１１のバー方式では、塗布ビードがワイヤバーの上流側に形成されるため、振動遮断手段を具備しなくても基材１の振動の影響を生じにくいが、塗布剤の粘度や基材速度により所定の塗布厚みが得られなくなる。テスト１２のグラビア方式では、グラビアロールの下流側に塗布ビードが形成されるため、乾燥装置で生じた基材の振動を遮断する必要があるが、基材の両端挟み込み方法では振動を遮断することができず、塗布ビードの安定化は図れない。
これに対し、テスト１３の本発明方法によれば、振動遮断手段４０として２本のスムーザーロール４１、４２を第２塗布装置３０と乾燥装置５０の間に設置し、基材１の一側面Ａと他側面Ｂにこれらのスムーザーロール４１、４２を接触させることで、乾燥装置５０に起因する基材１の振動を遮断することができ、これによって第２塗布装置３０の塗布ビードの安定化を図ることができる。第１塗布装置２０で塗布剤が塗布された基材１の一側面Ａと、第２塗布装置３０で塗布剤が塗布された基材１の他側面Ｂにスムーザーロール４１、４２が接触するが、各スムーザーロール４１、４２を基材１の進行方向に対して逆回転させて該基材１に接触させることで、塗布品質を損なうことなく生産性を向上できる。
図７は、バー方式とグラビア方式における基材の走行速度に対する塗布膜厚の変化量を調査したものであり、グラビア方式（グラビアリバースキス方式）では、同一の粘度条件のバー方式と比較するとき、基材の走行速度（ライン速度）が上がっても安定した膜厚を得ることができる。これにより、塗布剤粘度の使用範囲が広く、両面塗布装置の生産性を向上できる。
以上、本発明の実施形態を図面により詳述したが、本発明の具体的な構成はこの実施形態に限られるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲の設計の変更等があっても本発明に含まれる。例えば、第１塗布装置２０、第２塗布装置３０、振動遮断手段４０及び乾燥装置５０を装備してなる本発明の両面塗布方法及び装置は、製膜設備で採用されるインライン設備に適用しても良い。オフライン設備が不要となりコスト削減を図ることができるし、生産効率を向上することもできる。
また、本発明の両面塗布方法及び装置にあっては、第２塗布装置と乾燥装置の間に唯１個のスムーザーロールを配置しても良い。このとき、第２塗布装置が基材１の他側面Ｂに塗布剤を塗布するものであれば、唯１個のスムーザーロールを基材１の一側面Ａに接触させ、第２塗布装置に接して塗布剤を塗布される基材１の浮き上がりを抑えるものとし、更には乾燥装置の最も入口寄りに配置される熱風吹出しノズルにより、基材１の他側面Ｂに向けて熱風を吹出し、この熱風により基材１を上記唯１個のスムーザーロールに押付けるようにすることが好ましい。
また、本発明の両面塗布方法及び装置にあっては、第２塗布装置と乾燥装置の間で基材の走行ラインに沿う上流側から下流側の各位置に、３個以上のスムーザーロールを順に配置しても良い。
本発明によれば、基材の両面に塗布剤を塗布する両面塗布方法及び装置の生産性及び塗布品質を向上することができる。
１ 基材
２ 塗布剤
１０ 巻出し装置
２０ 第１塗布装置
３０ 第２塗布装置
３１ グラビアロール
３２ 塗布剤供給装置
３３ 塗布剤収容パン
３４Ａ、３４Ｂ ドクターブレード
４０ 振動防止機構
４１、４２ スムーザーロール
５０ 乾燥装置
５１ フローティングドライヤ
５１Ａ 入口
５１Ｂ 出口
５２ 熱風吹出しノズル
６０ 巻取り装置
１００ 両面塗布装置
Ａ 一側面
Ｂ 他側面
Ｌ 走行ライン

Claims (11)

  1. 基材の走行ラインに沿う上流側から下流側の各位置に、第１塗布装置と第２塗布装置と乾燥装置を順に配置し、第１塗布装置によって基材の一側面に塗布剤を塗布し、第２塗布装置によって基材の他側面に塗布剤を塗布し、両面に塗布剤が塗布された基材を乾燥装置の熱風吹出しノズルが吹付ける熱風によって乾燥処理する両面塗布方法であって、
    第２塗布装置と乾燥装置の間に少なくとも１つのスムーザーロールを配置し、このスムーザーロールを基材の走行方向に対して逆転させて塗布剤が塗布された該基材の一側面又は他側面に接触させてそれらの面に形成された塗膜を均し、
    乾燥装置に最も近いスムーザーロールと乾燥装置との間には基材に接触する他の支持体を配置することなく、該乾燥装置の熱風吹出しノズルが吹出す熱風を受けてばたつく該基材の振動を該基材に接触する上記スムーザーロールの存在によって遮断し、該振動が第２塗布装置の側に及ぶことを抑制するとともに、
    前記乾燥装置が、基材の走行ラインに沿う上下に上下の各熱風吹出しノズルを配置して構成され、該乾燥装置の最も入口寄りに配置される熱風吹出しノズルが吹出す熱風を、該乾燥装置の最も入口寄りに配置されたスムーザーロールが接触する基材の面に対する反対面に吹付け、この熱風により基材を上記スムーザーロールに押付けるようにした両面塗布方法。
  2. 前記第２塗布装置と乾燥装置の間に、２つのスムーザーロールを配置し、一方のスムーザーロールを塗布剤が塗布された基材の一側面に接触させ、他方のスムーザーロールを塗布剤が塗布された基材の他側面に接触させる請求項１に記載の両面塗布方法。
  3. 前記スムーザーロールを塗布剤が塗布された基材の一側面又は他側面に押込み接触させる請求項１又は２に記載の両面塗布方法。
  4. 前記第２塗布装置が、グラビアロールと、該グラビアロールに塗布剤を供給する塗布剤供給装置とを有し、該グラビアロールを水平方向に走行する基材に押付けながら該基材に塗布剤を塗布するものとし、
    塗布剤供給装置は、グラビアロールを塗布剤収容パンに浸漬させて回転させながら、該グラビアロールに塗布剤を付着させ、該グラビアロールに付着した塗布剤をドクターブレードで計量して該グラビアロールに供給するものとし、
    上記ドクターブレードをグラビアロールの水平面上に位置する外周面に当接させる請求項１乃至３のいずれかに記載の両面塗布方法。
  5. 前記塗布剤供給装置が、塗布剤収容パンを概ね直方体状とし、該直方体状パンの上面に沿うようにドクターブレードを設け、
    該直方体状パンを、グラビアロールの周囲かつ基材の走行ラインの直下で、鉛直方向に対して２０乃至４０度傾けた位置に配置する請求項４に記載の両面塗布方法。
  6. 基材の走行ラインに沿う上流側から下流側の各位置に、第１塗布装置と第２塗布装置と乾燥装置が順に配置され、第１塗布装置によって基材の一側面に塗布剤を塗布し、第２塗布装置によって基材の他側面に塗布剤を塗布し、両面に塗布剤が塗布された基材を乾燥装置の熱風吹出しノズルが吹付ける熱風によって乾燥処理するように構成された両面塗布装置であって、
    第２塗布装置と乾燥装置の間に少なくとも１つのスムーザーロールが配置され、このスムーザーロールを基材の走行方向に対して逆転させて塗布剤が塗布された該基材の一側面又は他側面に接触させてそれらの面に形成された塗膜を均すことを可能にするとともに、
    乾燥装置に最も近いスムーザーロールと乾燥装置との間には基材に接触する他の支持体が配置されることなく、該乾燥装置の熱風吹出しノズルが吹出す熱風を受けてばたつく該基材の振動を該基材に接触する上記スムーザーロールの存在によって遮断し、該振動が第２塗布装置の側に及ぶことを抑制可能にするとともに、
    前記乾燥装置が、基材の走行ラインに沿う上下に上下の各熱風吹出しノズルを配置して構成され、該乾燥装置の最も入口寄りに配置される熱風吹出しノズルが吹出す熱風を、該乾燥装置の最も入口寄りに配置されたスムーザーロールが接触する基材の面に対する反対面に吹付け、この熱風により基材を上記スムーザーロールに押付け可能にする両面塗布装置。
  7. 前記第２塗布装置と乾燥装置の間に、２つのスムーザーロールが配置され、一方のスムーザーロールを塗布剤が塗布された基材の一側面に接触させ、他方のスムーザーロールを塗布剤が塗布された基材の他側面に接触可能にする請求項６に記載の両面塗布装置。
  8. 前記スムーザーロールを塗布剤が塗布された基材の一側面又は他側面に押込み接触可能にする請求項６又は７に記載の両面塗布装置。
  9. 前記第２塗布装置が、グラビアロールと、該グラビアロールに塗布剤を供給する塗布剤供給装置とを有し、該グラビアロールを水平方向に走行する基材に押付けながら該基材に塗布剤を塗布するものとし、
    塗布剤供給装置は、グラビアロールを塗布剤収容パンに浸漬させて回転させながら、該グラビアロールに塗布剤を付着させ、該グラビアロールに付着した塗布剤をドクターブレードで計量して該グラビアロールに供給するものとし、
    上記ドクターブレードをグラビアロールの水平面上に位置する外周面に当接可能にする請求項６乃至８のいずれかに記載の両面塗布装置。
  10. 前記塗布剤供給装置が、塗布剤収容パンを概ね直方体状とし、該直方体状パンの上面に沿うようにドクターブレードを設け、
    該直方体状パンが、グラビアロールの周囲かつ基材の走行ラインの直下で、鉛直方向に対して２０乃至４０度傾けた位置に配置される請求項９に記載の両面塗布装置。
  11. 前記基材の原反を巻出し、この基材を第１塗布装置と第２塗布装置とスムーザーロールと乾燥装置に順に通過させて巻取るオフライン設備にて構成される請求項６乃至１０のいずれかに記載の両面塗布装置。
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