JP2004327963A5 - - Google Patents

Claims (9)

1. 基板を着脱自在に保持する保持手段と、
   前記基板の被処理面を下方に向けた状態で、前記保持手段から前記基板を吸着する吸着手段と、
   前記基板の下方に設けられ、前記基板の被処理面に対し処理を行う処理手段と、
   前記処理手段及び／又は前記吸着手段を、水平面内で移動させる移動手段と、
   を具備したことを特徴とする基板処理装置。
2. 基板よりも下方に溜められた塗布液をノズルの毛細管現象により上昇させ、上昇させた前記塗布液を下方に向けられた前記基板の被塗布面に接液させ、前記ノズルと前記基板を相対的に移動させることによって、前記被塗布面に塗布膜を形成する塗布装置であって、
   前記基板を着脱自在に保持する保持手段と、
   前記基板の被塗布面を下方に向けた状態で、前記保持手段から前記基板を吸着する吸着手段と、
   前記ノズル及び／又は前記吸着手段を、水平面内で移動させる移動手段と、
   を具備したことを特徴とする塗布装置。
3. 前記保持手段が、基板の脱着時に所定角度回動して基板を垂直方向に起こすことを特徴とする請求項２記載の塗布装置。
4. 前記塗布膜をレジストとしたことを特徴とする請求項２又は３記載の塗布装置。
5. 前記基板をフォトマスクブランクとしたことを特徴とする請求項２〜４のいずれかに記載の塗布装置。
6. 塗布液をノズルの毛細管現象により上昇させ、上昇させた前記塗布液を下方に向けられた基板の被塗布面に接液させ、前記ノズルと前記基板を相対的に移動させることによって、前記被塗布面に塗布膜を形成する塗布方法であって、
   前記基板の被塗布面が下方を向くように、前記基板を保持手段にセットする段階と、
   前記基板の被塗布面を下方に向けた状態で、前記保持手段及び／又は吸着手段を上下動させて接近させる段階と、
   前記吸着手段が前記基板を吸着する段階と、
   前記保持手段及び／又は前記吸着手段を上下動させて離反させる段階と、
   前記ノズル及び／又は前記吸着手段を水平面内で移動させて、前記基板の被塗布面に塗布膜を形成する段階と、
   を有することを特徴とする塗布方法。
7. 前記塗布膜をレジストとしたことを特徴とする請求項６に記載の塗布方法。
8. 前記基板をフォトマスクブランクとしたことを特徴とする請求項６又は７に記載の塗布方法。
9. フォトマスクブランクに、ノズルの毛細管現象により上昇したレジスト溶液を塗布する塗布工程を有するフォトマスクの製造方法であって、
   前記塗布工程における塗布方法が、
   前記フォトマスクブランクの被塗布面が下方を向くように、前記フォトマスクブランクを保持手段にセットする段階と、
   前記フォトマスクブランクの被塗布面を下方に向けた状態で、前記保持手段及び／又は吸着手段を上下動させて接近させる段階と、
   前記吸着手段が前記フォトマスクブランクを吸着する段階と、
   前記保持手段及び／又は前記吸着手段を上下動させて離反させる段階と、
   前記ノズル及び／又は前記吸着手段を水平面内で移動させて、前記フォトマスクブランクの被塗布面に前記レジスト溶液を塗布する段階と、
   を有することを特徴とするフォトマスクの製造方法。