JP2004327653A

JP2004327653A - 真空処理装置

Info

Publication number: JP2004327653A
Application number: JP2003119259A
Authority: JP
Inventors: Yoshi Watabe; 嘉渡部
Original assignee: IHI Corp
Current assignee: IHI Corp
Priority date: 2003-04-24
Filing date: 2003-04-24
Publication date: 2004-11-18

Abstract

【課題】石英製容器に耐圧性を求める必要がなく、そのため、石英製容器を管状に形成する代わりに、平板状の石英板を接合することで石英製容器を製作することが可能で、それにより、大型の石英製容器を低コストで構成する。
【解決手段】セレン化処理又は硫化処理が可能な石英製容器（１０）の外側に間隔を隔てて金属製耐圧容器（６０）を配置し、石英製容器（１０）の内部空間（４０）と金属製耐圧容器（６０）との間に形成される外部空間（５０）とを、独立又は連通して真空排気可能に構成した。
【選択図】図１

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、例えばＣＩＳ太陽電池の基板の量産に好適な真空処理装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
一般に、ＣＩＳ（ＣｕＩｎＳｅ_２）太陽電池の基板の生産には、６５０℃程度のセレン化工程又は硫化工程が必要になる。このような工程に用いられる真空チャンバは、高温での耐セレン特性を有する物質である石英で製作されるのが通例である。
【０００３】
【特許文献１】
再公表００−６３９５６号公報
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、太陽電池のガラス基板が大型化し、生産枚数を増やすためには、大型の真空チャンバが必要となる。このような真空チャンバを石英で構成するには、図８に示すように、大気圧との差圧に耐える大型の石英管（すなわち円筒形の石英チャンバ）を製作しなければならないが、コストが非常に高くなる。そのうえ、このような大型の石英管が万一破損した場合、その交換には高いコストと、納期までに長い時間のかかることが避けられず、はなはだ不便であるという問題があった。
【０００５】
この発明の課題は、上記従来のもののもつ問題点を排除して、石英製容器の外側に間隔を隔てて金属製耐圧容器を配置することで、石英製容器に耐圧性を求める必要がなく、そのため、石英製容器を管状に形成する代わりに、平板状の石英板を接合することで石英製容器を製作することが可能で、それにより、大型の石英製容器を低コストで構成することのできる真空処理装置を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
この発明は上記課題を解決するものであって、請求項１に係る発明は、セレン化処理又は硫化処理が可能な石英製容器の外側に間隔を隔てて金属製耐圧容器を配置し、前記石英製容器の内部空間と前記金属製耐圧容器との間に形成される外部空間とを、独立又は連通して真空排気可能に構成した真空処理装置である。
【０００７】
請求項２に係る発明は、セレン化処理又は硫化処理が可能な石英製容器の外側に間隔を隔てて金属製耐圧容器を配置し、前記石英製容器の下部にシール構造を介して連結した金属製部材の下端部と前記金属製耐圧容器の下端部とを一体的に組み付けることで石英製容器と金属製耐圧容器とを相互に間隔を隔てて一体に構成し、前記石英製容器の内部空間と前記金属製耐圧容器との間に形成される外部空間とを、独立又は連通して真空排気可能に構成した真空処理装置である。
【０００８】
請求項３に係る発明は、請求項２記載の発明において、前記石英製容器は主要部と裾部分とで構成され、前記外部空間に設けた加熱装置により前記主要部の内部空間はプロセス温度まで昇温され、前記裾部分は前記主要部のプロセス温度が前記金属製部材まで伝わらないように断熱することで、前記金属製部材はセレン化処理又は硫化処理で劣化されない温度以下に維持される真空処理装置である。
【０００９】
請求項４に係る発明は、セレン化処理又は硫化処理が可能な石英製容器の外側に間隔を隔てて金属製耐圧容器を配置し、前記金属製耐圧容器との間に形成される前記石英製容器の外部空間に、当該石英製容器の内部空間をプロセス温度まで昇温させるための加熱装置を設け、前記石英製容器の内部空間と外部空間とを独立又は連通して真空排気可能に構成した真空処理装置である。
【００１０】
請求項５に係る発明は、請求項１、２または４記載の発明において、前記石英製容器の内部空間用と外部空間用とにそれぞれ独立して作動可能な真空排気手段を備えるとともに、内部空間の圧力と外部空間の圧力との差圧を検出する差圧検出手段を備え、前記内部空間用の真空排気手段を作動させるとき、前記差圧検出手段により検出される差圧がつねに均衡するように前記外部空間用の真空排気手段の作動を制御する真空処理装置である。
【００１１】
【発明の実施の形態】
この発明の実施の形態を、図面を参照して説明する。
図１は、この発明による真空処理装置の一実施の形態を示す概略的縦断正面図、図２はその要部の横断平面図である。この真空処理装置１は、セレン化処理又は硫化処理が可能な石英製容器（石英チャンバ）１０の外側に、間隔を隔てて金属製耐圧容器（耐圧チャンバ）６０を配置し、石英製容器１０の内部空間４０と外部空間５０とを、独立又は連通して真空排気可能に構成したものである。石英製容器１０の内部空間４０は、太陽電池のガラス基板４１を多数枚セット可能な石英製の基板ホルダ４２を収容可能な大きさに形成される。また、石英製容器１０の外部空間５０、すなわち、石英製容器１０と金属製耐圧容器６０との間には、石英製容器１０の内部空間４０を昇温させるための加熱装置（例えば石英ヒータ）５１と、この加熱装置５１が金属製耐圧容器６０を過熱させないための金属製反射板５２を配置してある。
【００１２】
図２、図３、図４に示すように、石英製容器（石英チャンバ）１０は、前後左右の４面に天板を加えた５面からなる底のない四角い箱体として形成され、裾部分を除く主要部１０Ａ全体が透明石英で構成される一方、裾部分１０Ｂだけは不透明石英で構成されている。このような四角い箱体の主要部１０Ａは、板状の透明石英板を溶接などで接合することにより構成可能であり、また、主要部１０Ａと裾部分１０Ｂとの継ぎ目も、透明石英と不透明石英とを溶接などで接合することにより構成可能である。石英製容器１０の主要部１０Ａ全体を構成する透明石英は、加熱装置５１から入射される赤外線を貫通させることで、また、加熱されて自身が赤外線を放射することで、内部空間４０をセレン化処理又は硫化処理に適した６５０℃程度まで昇温させる。一方、石英製容器１０の裾部分１０Ｂを構成する不透明石英は、加熱装置５１から入射される赤外線を貫通させないため、透明石英に比べて内部空間４０の温度上昇を低く抑える。さらに、裾部分１０Ｂの内部空間４０には、不透明石英で構成される反射板４３が基板ホルダ４２に複数枚配置されることで、これらの反射板４３より下方の内部空間４０は反射板４３により断熱されて２００℃程度以下までの昇温に抑えられる。そして、この裾部分１０Ｂの下端にはフランジ１１が形成されている。
【００１３】
図４に示すように、石英製容器１０の下部には、例えばＳＵＳ３１０などの高クロム系のステンレス製部材２０がシール構造３０を介して連結される。このステンレス製部材２０には上端フランジ２１および下端フランジ２２が形成されている。シール構造３０は、ステンレス製部材２０の上端フランジ２１に形成された環状溝３１内にＯリング３２を配置し、このＯリング３２に裾部分１０Ｂ下端のフランジ１１下面を接合し、このフランジ１１上面にテフロンリング３３を介して環状部材３４を配置して、この環状部材３４に円周方向に複数箇所形成された孔と、これに対応して上端フランジ２１に形成された同様の孔とにねじ止め部材３５を貫通してねじ止めすることで、ステンレス製部材２０の上端フランジ２１と裾部分１０Ｂ下端のフランジ１１とを、Ｏリング３２によるシール機能を介して結合するものである。これにより、ステンレス製部材２０は、石英製容器１０の下部に一体に連結される。ＳＵＳ３１０などの高クロム系のステンレスは、２００℃程度までの温度ならセレン化処理又は硫化処理による劣化などの影響を実質的に受けずに済むため、不透明石英で構成される裾部分１０Ｂおよび不透明石英で構成される反射板４３より下方に配置されることで、セレン化処理又は硫化処理による劣化などの影響を受けないために必要な温度条件（２００℃程度より低い温度）を満たすことができるが、さらに、図示しない適宜の水冷ジャケット等を付設することでこれより充分低い温度まで冷却することが好ましい。
【００１４】
また、図２、図３に示すように、金属製耐圧容器（耐圧チャンバ）６０は、例えばステンレス、鉄など適宜の金属製のものであり、天井があって底がなく、しかも内側に、石英製容器１０をその下部にステンレス製部材２０を連結したままそっくり収容可能な大きさの円筒の箱体として形成されている。このような金属製耐圧容器６０は、その外側面が周囲環境との境界を形成するから、図示しない適宜の水冷ジャケット等を付設することで周囲環境に安全な温度まで冷却することが好ましい。また、金属製耐圧容器６０の下端にはフランジ６１が形成されていて、石英製容器１０下部のステンレス製部材２０の下端フランジ２２および金属製耐圧容器６０下端のフランジ６１が、装置フレーム７０に固定されることで、下部にステンレス製部材２０を連結した石英製容器１０と金属製耐圧容器６０とが相互に間隔を隔てて一体に構成される。そして、石英製容器１０の内部空間４０に連なる底部開口を開閉するための、例えばＳＵＳ３１０などの高クロム系のステンレス製底蓋７１が、装置フレーム７０の下方に昇降可能に配置され、ステンレス製底蓋７１を上昇させて装置フレーム７０の下面に密着シールすることで、石英製容器１０の内部空間４０が完全に密閉されるようになっている。そのため、ステンレス製底蓋７１を開けない限り、石英製容器１０の内部空間４０で行われるセレン化処理又は硫化処理による環境汚染などの影響を外部にもたらす危険性はない。
【００１５】
図１、図５に示すように、真空処理装置１の下方には、太陽電池のガラス基板４１を多数枚セット可能な石英製の基板ホルダ４２を収容可能なエアロック室８０が設けられる。このエアロック室８０と石英製容器１０の内部空間４０とは、ステンレス製底蓋７１を開けることで連通可能に構成され、ステンレス製底蓋７１を載せて昇降させることでステンレス製底蓋７１の開閉を行う昇降機構８１がエアロック室８０内に設けてある。そのため、この昇降機構８１にステンレス製底蓋７１を載せ、さらにその上に基板ホルダ４２を載置した状態で、昇降機構８１を作動させることで、ガラス基板４１をセットした基板ホルダ４２を、エアロック室８０から石英製容器１０の内部空間４０へ搬入し、また、石英製容器１０の内部空間４０からエアロック室８０へ搬出できるようになっている。また、エアロック室８０には、基板ホルダ４２をエアロック室８０に出し入れするためのハッチ８２が設けられ、このハッチ８２を開けてガラス基板４１を出し入れできるようになっている。
【００１６】
このような真空処理装置１には、石英製容器１０の内部空間４０と外部空間５０とを独立又は連通して真空排気を実現するため、つぎのような圧力制御システム１００が設けられている。
【００１７】
図６に示すように、圧力制御システム１００は、石英製容器１０の内部空間４０のプロセス圧力を計測するプロセス圧力計１０１と、内部空間４０と外部空間５０との差圧を計測する差圧計１０２と、外部空間５０内の残留ガスなどの状態を分析する残留ガス分析器（ＲＧＡ）１０３とを備える。また、圧力制御システム１００は、石英製容器１０の内部空間４０に所要のガスを導入するための内部給気配管１１０と、内部空間４０からガスを排気するための内部排気配管１２０と、石英製容器１０の外部空間５０に所要のガスを導入するための外部給気配管１３０と、外部空間５０からガスを排気するための外部排気配管１４０と、さらに、石英製容器１０の内部空間４０と外部空間５０とを連通可能な連通配管１５０とで構成される。このうち、プロセス圧力計１０１の計測プローブ、差圧計１０２の内部空間圧力計測プローブ、内部給気配管１１０および内部排気配管１２０の先端は、いずれも、石英製容器１０の下部にシール構造３０を介して連結されたステンレス製部材２０に設置することができ、これにより、石英製容器１０自身には孔加工などを全く行わないで済ますことが可能である。
【００１８】
内部給気配管１１０は、材料ガス供給管１１１およびリークテスト用Ｈｅ（ヘリウム）ガス供給管１１２を備えている。また、内部排気配管１２０は、その排気管路中に、メインバルブ１２１とニードルバルブ１２２のほか、水冷トラップ１２３、ルーツブロワ１２４および真空排気するためのドライポンプ１２５を備えている。水冷トラップ１２３は、内部空間４０からの排気ガス中に含まれるプロセスに用いたセレンや硫黄を冷却することで凝縮させ、このようにして凝縮させたセレンや硫黄を排気ガス中から除去するものである。ルーツブロワ１２４は、排気ポンプとしてのドライポンプ１２５を効率よく働かせるため、排気ガスを一旦圧縮するものである。
【００１９】
外部給気配管１３０は、ベンチレーション用Ｎ_２（窒素）ガス供給管１３１を備え、ベンチレーション用Ｎ_２（窒素）ガス供給管１３１の管路中には、ニードルバルブ１３２およびストップバルブ１３３を備えている。また、外部排気配管１４０は、その排気管路中に、メインバルブ１４１とニードルバルブ１４２のほか、ターボ分子ポンプ１４３および真空排気するための油回転ポンプ１４４を備えている。ターボ分子ポンプ１４３は、残留ガス分析器（ＲＧＡ）１０３を使って例えばリークテストをするために、外部空間５０の残留ガス濃度を分子量領域まで低下させるものである。
【００２０】
連通配管１５０には連通管バルブ１５１が設けられ、この連通管バルブ１５１を閉めることで石英製容器１０の内部空間４０と外部空間５０とは完全に遮断され、また、連通管バルブ１５１を開くことで内部空間４０と外部空間５０とを連通させることができるようになっている。
【００２１】
次に、上記のように構成された真空処理装置１を使用して実行する例えばＣＩＳ太陽電池の基板生産プロセスについて、図７を参照して説明する。
【００２２】
まず最初に、連通管バルブ１５１を開けて、石英製容器１０の内部空間４０と外部空間５０とを連通させた状態で、内部排気配管１２０のメインバルブ１２１を閉め、外部排気配管１４０のメインバルブ１４１を開けて油回転ポンプ１４４を作動させることで、石英製容器１０の内部空間４０および外部空間５０をすべて真空排気する。このとき、つぎのようにしてリークテストを行うことが可能である。すなわち、リークテスト用Ｈｅ（ヘリウム）ガス供給管１１２から石英製容器１０の内部空間４０にリークテスト用のＨｅ（ヘリウム）ガスを例えば１００〜２００Ｐａ（パスカル）程度導入する。万一、シール構造３０の例えばＯリング３２のどこかの箇所でリーク（ガス漏れ）が発生した場合、内部空間４０に導入されたＨｅ（ヘリウム）ガスが外部空間５０へ漏れ出すことになるから、外部空間５０におけるこのＨｅ（ヘリウム）ガスの存在の有無を残留ガス分析器（ＲＧＡ）１０３が調べることで、リーク（ガス漏れ）の有無を検出することができる。そして、真空排気が完了したら、外部排気配管１４０のメインバルブ１４１を閉めて油回転ポンプ１４４を停止させるとともに、連通管バルブ１５１を閉めることで、内部空間４０と外部空間５０とを完全に遮断させる。
【００２３】
つぎに、材料ガス供給管１１１から石英製容器１０の内部空間４０に、Ｈ_２Ｓｅ（セレン化水素）ガスを約２／３気圧程度入れる。このとき、ベンチレーション用Ｎ_２（窒素）ガス供給管１３１から石英製容器１０の外部空間５０にＮ_２（窒素）ガスを入れることで、石英製容器１０の内部空間４０の圧力と外部空間５０の圧力とを均衡させた状態に保つ。すなわち、内部空間４０はＨ_２Ｓｅ（セレン化水素）ガスによって約２／３気圧になり、外部空間５０はＮ_２（窒素）ガスによって同様に約２／３気圧になる。
【００２４】
つぎに、加熱装置５１を作動させて内部空間４０の温度を上げていく。もちろん、加熱装置５１を作動させるのであるから、外部空間５０の温度も上がっていく。このとき、内部空間４０のＨ_２Ｓｅ（セレン化水素）ガスは温度上昇とともに膨張して内部空間４０の圧力が高くなるから、内部空間４０のガス圧力が大気圧を超える手前まで高くなったら、内部排気配管１２０のニードルバルブ１２２を開けてドライポンプ１２５をわずかに作動させることで少し排気してガス圧力を低下させる。一方、外部空間５０のＮ_２（窒素）ガスも温度上昇とともに膨張して外部空間５０の圧力が高くなるから、外部空間５０のガス圧力が大気圧を超える手前まで高くなったら、外部排気配管１４０のニードルバルブ１４２を開けて油回転ポンプ１４４をわずかに作動させることで少し排気してガス圧力を低下させる。もちろん、このような内部空間４０のガス圧力の調整および外部空間５０のガス圧力の調整は、内外両ガス圧力を実質的に均衡させた状態に保って行うことが好ましい。内部空間４０の温度がＣＩＳ太陽電池の基板生産プロセスに必要な所定の温度に達するまで、このような内部空間４０のガス圧力の調整および外部空間５０のガス圧力の調整を繰り返す。
【００２５】
そして、内部空間４０の温度がＣＩＳ太陽電池の基板生産プロセスに必要な所定の温度まで上昇して一定の状態になると、内部空間４０のＨ_２Ｓｅ（セレン化水素）ガス圧力も一定の状態になるから、この内部空間４０の温度とＨ_２Ｓｅ（セレン化水素）ガス圧力が一定の状態を所要時間維持することで、石英製容器１０の内部空間４０ではセレン化工程が行われる。
【００２６】
セレン化工程の所要時間が経過したら、内部排気配管１２０のメインバルブ１２１を開けてドライポンプ１２５を作動させることで、石英製容器１０の内部空間４０からＨ_２Ｓｅ（セレン化水素）ガスを排気して一旦真空にする。一方、外部排気配管１４０のメインバルブ１４１を開けて油回転ポンプ１４４を作動させることで、石英製容器１０の外部空間５０からも同時にＮ_２（窒素）ガスを排気して一旦真空にする。このとき、内部空間４０から排気するのに合わせて外部空間５０からも排気することで差圧計１０２が中立位置からどちらへも振れないようにするため、外部排気配管１４０のニードルバルブ１４２と外部給気配管１３０のストップバルブ１３３とを用いて外部空間５０からの排気を制御する。真空排気が完了したら、内部排気配管１２０のメインバルブ１２１を閉めてドライポンプ１２５を停止させるとともに、外部排気配管１４０のメインバルブ１４１を閉めて油回転ポンプ１４４を停止させる。
【００２７】
つぎに、材料ガス供給管１１１から石英製容器１０の内部空間４０に、Ｈ_２Ｓ（硫化水素）ガスを約２／３気圧程度入れる。一方、ベンチレーション用Ｎ_２（窒素）ガス供給管１３１から石英製容器１０の外部空間５０に、Ｎ_２（窒素）ガスを同様に約２／３気圧程度入れる。このとき、気体の熱容量は非常に小さいので、ガスを入れても温度はほとんど下がらず、実質的に温度変化は生じない。そして、内部空間４０にＨ_２Ｓ（硫化水素）ガスが約２／３気圧充填され、外部空間５０にＮ_２（窒素）ガスが約２／３気圧充填されて内部空間４０の圧力と外部空間５０の圧力とが均衡したこの状態を所要時間維持することで、石英製容器１０の内部空間４０では硫化工程が行われる。
【００２８】
硫化工程の所要時間が経過したら、内部排気配管１２０のメインバルブ１２１を開けてドライポンプ１２５を作動させることで、石英製容器１０の内部空間４０からＨ_２Ｓ（硫化水素）ガスを排気して一旦真空にする。一方、外部排気配管１４０のメインバルブ１４１を開けて油回転ポンプ１４４を作動させることで、石英製容器１０の外部空間５０からも同時にＮ_２（窒素）ガスを排気して一旦真空にする。このとき、内部空間４０から排気するのに合わせて外部空間５０からも排気することで差圧計１０２が中立位置からどちらへも振れないようにするため、外部排気配管１４０のニードルバルブ１４２と外部給気配管１３０のストップバルブ１３３とを用いて外部空間５０からの排気を制御する。真空排気が完了したら、内部排気配管１２０のメインバルブ１２１を閉めてドライポンプ１２５を停止させるとともに、外部排気配管１４０のメインバルブ１４１を閉めて油回転ポンプ１４４を停止させる。
【００２９】
そのあと、連通管バルブ１５１を開けて、石英製容器１０の内部空間４０と外部空間５０とを連通させた状態にし、ベンチレーション用Ｎ_２（窒素）ガス供給管１３１から石英製容器１０の外部空間５０にＮ_２（窒素）ガスを入れ、さらに連通配管１５０を経て内部空間４０にもＮ_２（窒素）ガスを入れることで、石英製容器１０の内部空間４０および外部空間５０をいずれも無害なガスによって大気圧にする。そして、この大気圧状態で内部空間４０の温度が適度に低下したら、ハッチ８２を開いてエアロック室８０からガラス基板４１を取り出す。
【００３０】
なお、上記の実施の形態では、真空処理装置１の一部としてエアロック室８０を備えた構成としたが、これに限定するものでなく、例えば、エアロック室８０の代わりに真空処理装置本体を所要の高さに担持する適宜の支持部材を備えた構成とすることが可能である。
【００３１】
また、図７のグラフでは、プロセスの開始時の温度が常温付近にあって、この常温付近からプロセス温度まで加熱しているが、例えばエアロック室８０の温度を管理しておき、プロセス温度から大きく温度低下しないよう予備加熱しておけば、開始直後からプロセス温度でＣＩＳ太陽電池の基板生産プロセスを実行することが可能である。
【００３２】
【発明の効果】
この発明は以上のように、セレン化処理又は硫化処理が可能な石英製容器の外側に間隔を隔てて金属製耐圧容器を配置し、前記石英製容器の内部空間と前記金属製耐圧容器との間に形成される外部空間とを、独立又は連通して真空排気可能に構成したので、石英製容器の外側に間隔を隔てて金属製耐圧容器を配置することで、石英製容器に耐圧性を求める必要がなく、そのため、石英製容器を管状に形成することが不要で、平板状の石英板を接合することで石英製容器を構成することが可能である。このため、大型の石英製容器を安価な初期投資コストで構成することができるばかりでなく、石英が破損した場合の交換コストも安価になる。また、石英製容器が大型になれば金属製耐圧容器を含めても、耐圧石英管に比べて全体のコストを低く抑えることができる。さらに、真空断熱されているので、均一な容器内温度を得やすく、省エネルギーである。したがって、例えばＣＩＳ太陽電池の基板の量産に適用して好適なものであるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明による真空処理装置の一実施の形態を示す概略的縦断正面図である。
【図２】図１の真空処理装置の要部の横断平面図である。
【図３】エアロック室を除く真空処理装置本体の概略的説明図である。
【図４】シール構造を含む要部の拡大説明図である。
【図５】真空処理装置本体の一部を含むエアロック室の概略的説明図である。
【図６】圧力制御システムの構成を示す概略的説明図である。
【図７】圧力制御システムの動作を示すグラフである。
【図８】従来の円筒形の石英チャンバを使用した場合の要部の横断平面図である。
【符号の説明】
１真空処理装置
１０石英製容器（石英チャンバ）
１０Ａ主要部
１０Ｂ裾部分
１１フランジ
２０ステンレス製部材
２１上端フランジ
２２下端フランジ
３０シール構造
３１環状溝
３２Ｏリング
３３テフロンリング
３４環状部材
３５ねじ止め部材
４０内部空間
４１ガラス基板
４２基板ホルダ
４３反射板
５０外部空間
５１加熱装置（例えば石英ヒータ）
５２金属製反射板
６０金属製耐圧容器（耐圧チャンバ）
６１フランジ
７０装置フレーム
７１ステンレス製底蓋
８０エアロック室
８１昇降機構
８２ハッチ
１００圧力制御システム
１０１プロセス圧力計
１０２差圧計
１０３残留ガス分析器（ＲＧＡ）
１１０内部給気配管
１１１材料ガス供給管
１１２リークテスト用Ｈｅ（ヘリウム）ガス供給管
１２０内部排気配管
１２１メインバルブ
１２２ニードルバルブ
１２３水冷トラップ
１２４ルーツブロワ
１２５ドライポンプ
１３０外部給気配管
１３１ベンチレーション用Ｎ_２（窒素）ガス供給管
１３２ニードルバルブ
１３３ストップバルブ
１４０外部排気配管
１４１メインバルブ
１４２ニードルバルブ
１４３ターボ分子ポンプ
１４４油回転ポンプ
１５０連通配管
１５１連通管バルブ

Claims

セレン化処理又は硫化処理が可能な石英製容器の外側に間隔を隔てて金属製耐圧容器を配置し、
前記石英製容器の内部空間と前記金属製耐圧容器との間に形成される外部空間とを、独立又は連通して真空排気可能に構成したことを特徴とする真空処理装置。
セレン化処理又は硫化処理が可能な石英製容器の外側に間隔を隔てて金属製耐圧容器を配置し、前記石英製容器の下部にシール構造を介して連結した金属製部材の下端部と前記金属製耐圧容器の下端部とを一体的に組み付けることで石英製容器と金属製耐圧容器とを相互に間隔を隔てて一体に構成し、前記石英製容器の内部空間と前記金属製耐圧容器との間に形成される外部空間とを、独立又は連通して真空排気可能に構成したことを特徴とする真空処理装置。
前記石英製容器は主要部と裾部分とで構成され、前記外部空間に設けた加熱装置により前記主要部の内部空間はプロセス温度まで昇温され、
前記裾部分は前記主要部のプロセス温度が前記金属製部材まで伝わらないように断熱することで、前記金属製部材はセレン化処理又は硫化処理で劣化されない温度以下に維持されることを特徴とする請求項２記載の真空処理装置。
セレン化処理又は硫化処理が可能な石英製容器の外側に間隔を隔てて金属製耐圧容器を配置し、
前記金属製耐圧容器との間に形成される前記石英製容器の外部空間に、当該石英製容器の内部空間をプロセス温度まで昇温させるための加熱装置を設け、
前記石英製容器の内部空間と外部空間とを独立又は連通して真空排気可能に構成したことを特徴とする真空処理装置。
前記石英製容器の内部空間用と外部空間用とにそれぞれ独立して作動可能な真空排気手段を備えるとともに、内部空間の圧力と外部空間の圧力との差圧を検出する差圧検出手段を備え、
前記内部空間用の真空排気手段を作動させるとき、前記差圧検出手段により検出される差圧がつねに均衡するように前記外部空間用の真空排気手段の作動を制御することを特徴とする請求項１、２または４記載の真空処理装置。