KR102184055B1 - 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은, 챔버로부터 외부로의 기체의 유출 및 외부로부터 챔버 내로의 외기의 유입을 효과적으로 방지하는 것을 목적으로 한다. 본 발명에 관련된 기판 처리 장치 (1) 는, 도공막이 형성된 기판 (S) 을 상면에 재치하는 유지부 (12) 와, 유지부에 재치되는 기판을 가열하는 가열부와, 유지부에 재치되는 기판의 상방에 기체가 유통하는 유통 공간을 형성하는 챔버 (11) 와, 유통 공간의 일방 단부측에서 개구되는 급기구 (351) 를 통하여, 유통 공간에 가열된 기체를 공급하는 급기부 (30) 와, 유통 공간을 사이에 두고 급기구와는 반대측의 유통 공간의 타방 단부측에서 개구되는 배기구 (116) 를 통하여, 유통 공간으로부터 기체를 배출하는 배기부 (50) 와, 유통 공간 내의 기압과 챔버의 외기의 기압의 차압을 검출하는 검출부 (16) 와, 그 검출 결과에 기초하여, 차압이 저감되도록, 급기량 및 배기량의 적어도 일방을 제어하는 제어부를 구비한다.

Description

기판 처리 장치 및 기판 처리 방법{SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD}
본 발명은, 기판을 가열 처리하는 기판 처리 장치 및 방법에 관한 것이다. 특히, 기판 표면에 형성된 도공막의 성분을, 가열에 의해 휘발시키는 기판 처리 기술에 관한 것이다.
예를 들어 반도체 기판, 표시 장치용 유리 기판, 포토마스크용 유리 기판, 광 디스크용 기판 등, 각종 기판의 처리 공정에 있어서는, 기판에 도공액을 도포한 후, 도공액에 함유되는 성분을 휘발시킨다는 처리가 널리 이용되고 있다. 휘발을 촉진하기 위해서, 기판이 가열되는 경우가 있다. 이와 같은 가열 처리를 목적으로 하는 기판 처리 장치에서는, 챔버 내에서 처리가 실시되는 것이 일반적이다. 이것은, 열의 방산을 억제하여 에너지 효율을 향상시킴과 함께, 가열에 의해 휘발된 도공액의 성분이 주위로 비산되는 것을 방지하기 위해서이다. 이 경우, 가열에 의해 휘발된 도공액의 성분이 챔버 내에서 식혀져 석출되어, 챔버 내벽면에 부착되는 경우가 있다. 이와 같은 부착물은 기판에 낙하함으로써 오염원이 될 수 있다.
이 문제에 대응하기 위해, 예를 들어 특허문헌 1, 2 에 기재된 기판 처리 장치에서는, 챔버의 천정면을 따라, 승온된 기체에 의한 기류를 형성하기 위한 수단이 형성되어 있다. 즉, 챔버의 측부에 가열 기체를 토출시키는 급기구가 형성됨과 함께, 기판을 사이에 두고 급기구와는 반대측에 형성된 배기구로부터 가열 기체가 배기된다. 이로써, 휘발된 도공액의 성분은 챔버 내에서 석출되지 않고 외부로 배출된다.
일본 공개특허공보 2008-251670호 일본 공개특허공보 2008-251863호
상기의 특허문헌 1, 2 에는, 가열 기체의 챔버로의 급기량 및 챔버로부터의 배기량 그리고 그것들의 제어에 대해 명시가 없다. 단, 안정적인 기류를 형성한다는 목적으로부터는, 급기량과 배기량을 동등하게 하는 것이 전제가 되어 있다고 생각된다. 그러나, 급기량과 배기량의 밸런스를 잃게 하는 여러 가지의 요인이 존재한다. 예를 들어, 휘발된 도공액의 성분이 배기 경로 내에서 석출되어 배기 경로의 단면적을 축소시킴으로써 배기량이 저하되고, 결과적으로 급기량이 배기량을 상회해 버린다는 현상이 일어날 수 있다.
이 예에 한정되지 않고, 어떠한 요인으로 급기량이 배기량보다 커지면, 챔버의 내압이 상승하여, 챔버로부터 외부로 기체의 누출이 발생한다. 누출되는 기체에는, 도공액으로부터 휘발된 성분도 함유된다. 이 때문에, 그러한 성분이 주위 분위기에서 식혀져 챔버의 주위에서 석출되어, 주위의 부품이나, 챔버에 대해 반입·반출되는 기판에 부착된다는 문제가 발생한다. 또, 반대로 배기량이 급기량보다 커지면, 온도 저하의 원인이 되는 상온의 외기나 오염 물질 등을, 챔버 내로 유입시켜 버린다는 문제가 발생한다. 이러한 점에서, 상기 종래 기술에 있어서는, 급기량과 배기량의 밸런스를 항상 유지할 필요가 있다. 그러나, 특허문헌 1, 2 에서는, 이 점에 관해서는 특별히 고려되어 있지 않다.
본 발명은 상기 과제를 감안하여 이루어진 것으로, 챔버 내에 가열된 기체를 도입하고 그것을 배출하는 수단을 갖는 기판 처리 장치에 있어서, 챔버로부터 외부로의 기체의 유출 및 외부로부터 챔버 내로의 외기의 유입을, 효과적으로 방지할 수 있는 기술을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명에 관련된 기판 처리 장치의 일 양태는, 상기 목적을 달성하기 위해, 도공막이 형성된 기판을 상면에 재치 (載置) 하는 유지부와, 상기 유지부에 재치되는 상기 기판을 가열하는 가열부와, 상기 유지부를 수용하고, 상기 유지부에 재치되는 상기 기판의 상방에 기체가 유통하는 유통 공간을 형성하는 챔버와, 상기 유통 공간의 일방 단부측에서 상기 챔버에 개구되는 급기구를 통하여, 상기 유통 공간에 가열된 기체를 공급하는 급기부와, 상기 유통 공간을 사이에 두고 상기 급기구와는 반대측의, 상기 유통 공간의 타방 단부측에서 상기 챔버에 개구되는 배기구를 통하여, 상기 유통 공간으로부터 상기 기체를 배출하는 배기부와, 상기 유통 공간 내의 기압과 상기 챔버의 외기의 기압의 차압을 검출하는 검출부와, 상기 검출부의 검출 결과에 기초하여, 상기 차압이 저감되도록, 상기 급기부에 의한 급기량과 상기 배기부에 의한 배기량의 적어도 일방을 제어하는 제어부를 구비하고 있다.
또, 본 발명에 관련된 기판 처리 방법의 일 양태는, 도공막이 형성된 기판을 챔버 내의 유지부에 재치하여 가열하는 기판 처리 방법으로서, 상기 목적을 달성하기 위해, 상기 챔버는, 상기 기판의 상방에 기체가 유통하는 유통 공간을 형성하고, 상기 유통 공간의 일방 단부측에서 상기 챔버에 개구되는 급기구를 통하여, 상기 유통 공간에 가열된 기체를 공급함과 함께, 상기 유통 공간을 사이에 두고 상기 급기구와는 반대측의, 상기 유통 공간의 타방 단부측에서 상기 챔버에 개구되는 배기구를 통하여, 상기 유통 공간으로부터 상기 기체를 배기하고, 상기 유통 공간 내의 기압과 상기 챔버의 외기의 기압의 차압을 검출하고, 상기 검출부의 검출 결과에 기초하여, 상기 차압이 저감되도록, 상기 급기구로부터의 급기량과 상기 배기구로부터의 상기 배기부에 의한 배기량의 적어도 일방을 제어한다.
이와 같이 구성된 발명에서는, 챔버 내의 기압과, 외기의 기압의 차압이 검출되고, 그 검출 결과에 따라 급기량과 배기량의 적어도 일방이 제어된다. 챔버 내의 기압이 외기압보다 높으면 내부 기체의 유출이 발생하고, 반대의 경우에는 챔버 내로 외기가 유입된다. 급기량과 배기량이 각각 소정치로 제어되어 있었다고 해도, 그것들의 미미한 변동이나 그 밖의 외적 요인으로 미소한 기압차가 발생할 수 있다.
그러나 본 발명에서는, 급기량 및 배기량의 적어도 일방이, 챔버 내와 외기의 차압의 검출 결과에 기초하여 제어되어 있고, 보다 구체적으로는, 기압차를 작게 하도록 제어되어 있다. 이 때문에, 챔버 내와 외기의 기압차의 발생을 억제하는 것이 가능하다. 그 결과, 기압차에서 기인하는 챔버로부터의 내부 기체의 유출이나 챔버로의 외기의 유입을, 효과적으로 방지할 수 있다.
상기와 같이, 본 발명에 의하면, 챔버 내와 외기의 차압이 검출되고, 그 차가 작아지도록 급기량 및 배기량의 적어도 일방이 제어된다. 이 때문에, 챔버 내와 외기 사이의 기압차에서 기인하는, 챔버로부터의 기체의 유출 및 챔버로의 외기의 유입을 효과적으로 방지할 수 있다.
도 1 은, 본 발명에 관련된 기판 처리 장치의 일 실시형태를 나타내는 도면이다.
도 2 는, 본 실시형태의 기판 처리 장치의 전기적 구성을 나타내는 블록도이다.
도 3 은, 이 실시형태에 있어서의 기판의 가열 처리를 나타내는 플로 차트이다.
도 4 는, 가열 처리의 변형예를 나타내는 플로 차트이다.
도 5 는, 복수의 처리 유닛을 갖는 기판 처리 시스템의 구성예를 나타내는 도면이다.
도 1 은 본 발명에 관련된 기판 처리 장치의 일 실시형태를 나타내는 도면이다. 또, 도 2 는 본 실시형태의 기판 처리 장치의 전기적 구성을 나타내는 블록도이다. 이 기판 처리 장치 (1) 는, 표면에 도공액이 도포된 각종 기판, 예를 들어 반도체 기판이나 유리 기판 등을 받아들여 가열하는 것에 의해, 도공액 중의 용매 성분을 휘발시킬 목적에서 사용되는 것이다. 예를 들어 기판 표면에 포토레지스트막을 형성할 목적에서, 이 기판 처리 장치 (1) 를 사용할 수 있다. 또한, 기판 및 도공액의 종류에 대해서는 이것에 한정되는 것은 아니다.
도 1 및 도 2 에 나타내는 바와 같이, 기판 처리 장치 (1) 는, 기판 (S) 에 대한 처리의 주체가 되는 처리 유닛 (10) 과, 처리 유닛 (10) 에 가열 기체를 공급하는 급기 유닛 (30) 과, 처리 유닛 (10) 으로부터 배출되는 기체를 배기하는 배기 유닛 (50) 과, 이들 각 유닛을 제어하여 장치 전체의 동작을 맡는 제어 유닛 (70) 을 구비하고 있다.
도 1 에 있어서 처리 유닛 (10) 은, 그 측면 단면도가 나타나 있다. 처리 유닛 (10) 은, 기판 (S) 을 받아들이는 챔버 (11) 를 구비하고 있다. 챔버 (11) 내에서 처리를 실시함으로써, 가열 처리에 의해 휘발된 도공막의 성분이 주위로 비산되는 것을 방지한다. 이것과 함께, 가열되는 기판 (S) 의 주위를 덮음으로써 열의 방산을 억제하고, 에너지 효율을 높일 수 있다. 이들 목적을 위해서, 챔버 (11) 는, 모두 이중벽 구조로 된 금속제, 예를 들어 스테인리스제의 천판 (111), 측판 (112), 바닥판 (113) 및 셔터 (114) 를 상자형으로 조합한 구조로 되어 있다.
셔터 (114) 는, 챔버 (11) 의 일방 측면에 형성된 개구 (115) 에 대해 자유롭게 개폐할 수 있게 장착되어 있다. 셔터 (114) 는, 닫힌 상태에서는 패킹 (116) 을 개재하여 챔버 (11) 의 측면으로 눌림으로써 개구 (115) 를 막는다. 한편, 도 1 에 점선으로 나타내는 셔터 (114) 의 열린 상태에서는, 개방된 개구 (115) 를 통하여 외부와의 사이에서 기판 (S) 의 주고 받기를 실시할 수 있다. 즉, 도시되지 않은 외부의 반송 로봇 등에 유지되는 미처리의 기판 (S) 이, 개구 (115) 를 통하여 챔버 (11) 내로 반입된다. 또 챔버 (11) 내의 처리가 끝난 기판 (S) 이, 반송 로봇 등에 의해 외부로 반출된다.
챔버 (11) 의 바닥부에는 핫 플레이트 (12) 가 형성되어 있다. 핫 플레이트 (12) 는, 그 상면이 평탄한 기판 재치면 (121) 으로 되어 있다. 외부로부터 반입되는 기판 (S) 은, 도공액이 도포된 면을 위를 향하게 하여 기판 재치면 (121) 에 재치된다. 도 1 에서는 기재를 생략하고 있지만, 핫 플레이트 (12) 의 내부에는 히터 (122) (도 2) 가 내장되어 있다. 히터 (122) 는, 기판 재치면 (121) 을 소정의 온도로 가열한다. 기판 재치면 (121) 의 온도는, 예를 들어 100 ℃ 내지 130 ℃ 가 된다. 승온된 핫 플레이트 (12) 에 기판 (S) 이 재치됨으로써, 기판 (S) 의 상면에 형성된 도공막이 기판 (S) 을 개재하여 가열되고, 용매 등의 휘발 성분이 가열에 의해 휘발되어, 도공막이 건조 경화된다.
처리 유닛 (10) 에는, 핫 플레이트 (12) 와 반송 로봇 사이에서의 기판 (S) 의 전달을 순조롭게 실시하기 위해서, 리프트 핀 (13) 이 형성되어 있다. 구체적으로는, 챔버 (11) 의 바닥판 (113) 및 핫 플레이트 (12) 에는 수직 방향으로 연장되는 관통공 (131) 이 복수 형성되어 있다. 그 관통공 (131) 들의 각각에, 리프트 핀 (132) 이 삽입 통과되어 있다. 각 리프트 핀 (132) 의 하단은, 승강 부재 (133) 에 고정되어 있다. 승강 부재 (133) 는, 승강 기구 (134) 에 의해 상하 방향으로 자유롭게 승강할 수 있게 되어 있다. 승강 기구 (134) 가 작동하여 승강 부재 (133) 를 승강시킴으로써 각 리프트 핀 (132) 이 일체적으로 승강한다. 이로써, 리프트 핀 (132) 은, 그 상단이 핫 플레이트 (12) 의 기판 재치면 (121) 보다 상방으로 돌출되는 상부 위치와, 상단이 기판 재치면 (121) 보다 하방으로 퇴피한 하부 위치 사이에서 승강 이동한다.
도 1 은 리프트 핀 (132) 이 하부 위치에 있는 상태를 나타내고 있다. 이 상태에서는 리프트 핀 (132) 의 상단은 기판 (S) 으로부터 이간되어 있고, 기판 (S) 은 기판 재치면 (121) 에 밀착되어 있다. 한편, 리프트 핀 (132) 이 상부 위치까지 상승하면, 리프트 핀 (132) 의 상단이 기판 (S) 의 하면에 맞닿아 기판 (S) 을 밀어 올린다. 이로써, 기판 (S) 과 기판 재치면 (121) 사이에 간극이 발생한다. 이 간극에 반송 로봇의 핸드를 진입시킴으로써, 반송 로봇과 기판 재치면 (121) 사이에서의 기판 (S) 의 전달이 가능해진다.
챔버 (11) 의 천판 (111) 의 중앙부에는, 차압 계측용 포트로서의 관통공 (117) 이 형성되어 있다. 관통공 (117) 에는 배관 (15) 이 접속되어 있다. 그리고, 배관 (15) 의 단부 (端部) 에는 미차압계 (16) 가 장착되어 있다. 미차압계 (16) 는, 챔버 (11) 내의 처리 공간 (SP) 의 기압과 챔버 (11) 주위의 외기의 기압의 차압에 따른 신호를 출력한다. 미차압계로는, 예를 들어 실리콘 다이아프램과 이것을 사이에 두는 전극을 가지고, 실리콘 다이아프램의 양측의 공간의 기압차에 따라 정전 용량이 변화하는 타입의 것을 사용할 수 있다. 이 타입의 미차압계로는, 예를 들어 수 Pa 정도의 작은 압력차도 검출 가능한 제품이 시판되고 있다. 다이아프램의 일방측이 처리 공간 (SP) 에 연통되고, 타방측은 대기 개방된다.
챔버 (11) 의 내부 공간 (SP) 중, 수평 방향에 있어서는 셔터 (114) 의 근방이고 수직 방향으로는 천판 (111) 의 바로 아래 위치에, 급기 유닛 (30) 의 급기 노즐 (35) 이 형성되어 있다. 한편, 챔버 (11) 의 내부 공간 (SP) 중, 기판 재치면 (121) 에 재치되는 기판 (S) 을 사이에 두고 급기 노즐 (35) 과는 반대측의 측벽면에는 배기구 (116) 가 형성되어 있다. 배기구 (116) 에는 배기 유닛 (50) 이 접속되어 있다.
급기 유닛 (30) 은, 흡기 밸브 (31) 와, 매스 플로 미터 (MFM) (32) 와, 유량 조정기 (33) 와, 히터 (34) 와, 급기 노즐 (35) 을 구비하고 있다. 흡기 밸브 (31) 는, 도시되지 않은 외부의 공급원으로부터 청정한 건조 공기 (클린 드라이 에어 ; CDA) 를 도입한다. 매스 플로 미터 (32) 는 CDA 의 유량을 계측하고, 그 결과에 따라 유량 조정기 (33) 가 CDA 의 유량을 조정한다. 외부로부터 도입된 CDA 는, 매스 플로 미터 (32) 및 유량 조정기 (33) 에 의해 소정 유량으로 조정되고, 히터 (34) 에 의해 소정 온도로 승온된다. CDA 의 온도로는, 예를 들어 기판 재치면 (121) 의 온도와 동일한 정도로 할 수 있다.
급기 노즐 (35) 은, 챔버 (11) 내의 처리 공간 (SP) 에 설치되어 있다. 급기 노즐 (35) 에는, 처리 공간 (SP) 의 일방 단부 (도 1 에 있어서 우단부) 로부터 중앙부를 향하여 개구되는 급기구 (351) 가 형성되어 있다. 급기구 (351) 로부터는, 승온된 CDA 가 가열 기체로서 처리 공간 (SP) 에 공급된다. 급기구 (351) 로부터 토출되는 가열 기체는, 도 1 에 파선 화살표로 나타내는 바와 같이, 챔버 (11) 의 천판 (111) 의 하면을 따라 흐르는 기류를 생성하고, 최종적으로 처리 공간 (SP) 의 타방 단부 (도 1 에 있어서 좌단부) 에 형성된 배기구 (116) 에 흘러든다. 챔버 (11) 의 천판 (111) 의 하면을 따라 가열 기체에 의한 기류가 형성됨으로써, 기판 (S) 에 도포된 도공액으로부터 휘발된 성분이 재냉각되어 석출되어 천판 (111) 에 부착되는 것이 방지된다.
챔버 (11) 의 천판 (111) 의 하면은, 평탄하고, 또한 기판 (S) 의 상면과 대체로 평행하게 되어 있다. 이 때문에, 급기 노즐 (35) 로부터 토출되는 가열 기체는, 그 급기량이 적절히 설정되는 것에 의해, 천판 (111) 의 하면을 따른 층류 (層流) 를 형성한다. 이렇게 함으로써, 챔버 (11) 내에 난류가 발생함으로써 챔버 (11) 내의 부착물이 기판 (S) 에 낙하하여, 기판 (S) 을 오염시키는 것을 방지할 수 있다.
배기구 (116) 에 도달한 가열 기체는, 배기 유닛 (50) 에 의해 챔버 (11) 로부터 배출된다. 배기 유닛 (50) 은, 챔버 (11) 의 배기구 (116) 에 접속되어 배기 경로를 형성하는 배기관 (51) 과, 배기관 (51) 에 개재 삽입된 배기 밸브 (52), 유량 조정기 (53) 및 블로어 (54) 를 구비하고 있다. 블로어 (54) 에는 모터 (55) 가 접속되어 있다. 모터 (55) 가 회전하는 것에 의해 블로어 (54) 가 작동하여, 배기관 (51) 내의 기체가 배출된다. 배출된 기체는, 최종적으로 외부의 도시되지 않은 유틸리티에 회수된다. 배기 밸브 (52) 및 유량 조정기 (53) 는, 배기관 (51) 을 개재하여 배기되는 기체의 배기량을 증감한다.
배기관 (51) 의 도중에는 관통공 (511) 이 형성되고, 관통공 (511) 에는 배관 (56) 이 접속되어 있다. 그리고, 배관 (56) 의 단부에는 미차압계 (57) 가 장착되어 있다. 미차압계 (57) 는, 배기관 (51) 내의 기압과 챔버 (11) 주위의 외기의 기압의 차압에 따른 신호를 출력한다. 미차압계로는, 챔버 (11) 에 접속된 미차압계 (16) 와 동등한 것을 사용할 수 있다.
도 2 에 나타내는 바와 같이, 제어 유닛 (70) 은, CPU (Central Processing Unit) (71) 와, 메모리 (72) 와, 스토리지 (73) 와, 인터페이스 (74) 를 구비하고 있다. CPU (71) 는, 미리 준비된 제어 프로그램을 실행함으로써, 기판 처리 장치 (1) 에 소정의 동작을 실시시킨다. 스토리지 (73) 는, CPU (71) 가 실행해야 할 제어 프로그램이나 각종의 제어용 데이터를 기억한다. 메모리 (72) 는, CPU (71) 가 제어 프로그램을 실행함으로써 생성되는 각종의 중간 데이터나 장치 각 부로부터 송신되어 오는 신호 데이터 등을 일시적으로 기억한다. 인터페이스 (74) 는, 처리 유닛 (10), 급기 유닛 (30) 및 배기 유닛 (50) 과의 데이터의 송수 (送受) 및 오퍼레이터와의 정보 교환을 맡는다.
제어 유닛 (70) 은 또한, 후술하는 기판 (S) 의 가열 처리를 실행하기 위한 기능 블록으로서, 급기 제어부 (711), 히터 제어부 (712), 승강 제어부 (713), 셔터 제어부 (714), 차압 계측부 (715) 및 배기 제어부 (716) 등을 구비하고 있다. 이들 기능 블록은, 전용 하드웨어에 의해 실현되어도 되고, 또 CPU (71) 가 소정의 제어 프로그램을 실행함으로써 소프트웨어적으로 실현되어도 된다. 또, 적절한 하드웨어와 소프트웨어의 조합에 의해 실현되어도 된다.
급기 제어부 (711) 는, 급기 유닛 (30) 을 제어한다. 구체적으로는, 흡기 밸브 (31) 의 개폐 제어, 매스 플로 미터 (32) 에 의해 검출되는 CDA 의 유량 검출 결과에 기초하는 유량 조정기 (33) 에 의한 유량 조정, 및 히터 (34) 의 온도 조정 등을 실시한다. 이로써, 급기 유닛 (30) 으로부터는 소정 온도, 소정 유량의 가열 기체 (CDA) 가 챔버 (11) 내에 공급된다.
히터 제어부 (712) 는, 핫 플레이트 (12) 에 내장된 히터 (122) 의 온도 조정을 실시한다. 이로써, 기판 (S) 이 소정 온도로 승온된다. 승강 제어부 (713) 는, 구동 기구 (134) 를 작동시켜 리프트 핀 (132) 을 승강시킨다. 셔터 제어부 (714) 는, 셔터 (114) 의 개폐 동작을 제어한다. 외부의 반송 로봇의 동작에 대해 셔터 (114) 와 리프트 핀 (132) 이 협조 동작하는 것에 의해, 챔버 (11) 로의 기판 (S) 의 반입 및 챔버 (11) 로부터의 기판 (S) 의 반출이 실현된다.
차압 계측부 (715) 는, 처리 유닛 (10) 에 형성된 미차압계 (16) 및 배기 유닛 (50) 에 형성된 미차압계 (57) 로부터의 출력 신호에 기초하여 차압을 계측한다. 구체적으로는, 미차압계 (16) 의 출력 신호로부터, 챔버 (11) 내의 처리 공간 (SP) 과 외기 사이의 기압차가 검출된다. 또, 차압계 (57) 의 출력 신호로부터, 배기관 (51) 내와 외기 사이의 기압차가 검출된다. 후술하는 바와 같이, 이들 검출 결과는, 제어 유닛 (70) 이 급기 유닛 (30) 에 의한 급기량 및 배기 유닛 (50) 에 의한 배기량을 제어할 때에 사용된다.
배기 제어부 (716) 는, 배기 유닛 (50) 을 제어한다. 구체적으로는, 배기 밸브 (52) 의 개폐, 유량 조정기 (53) 에 의한 유량 조정, 및 블로어 (54) 에 접속된 모터 (55) 의 회전 제어 등을 실시한다. 이 때, 필요에 따라 미차압계 (57) 의 출력이 사용된다. 보다 구체적으로는, 미차압계 (57) 에 의해 검출되는 배기관 (51) 내의 기압과 외기압의 차가 소정치가 되도록, 배기 밸브 (52), 유량 조정기 (53) 및 모터 (55) 가 제어되는 것에 의해, 일정한 배기 능력으로 배기를 실시할 수 있다.
다음으로, 상기와 같이 구성된 기판 처리 장치 (1) 의 동작에 대해 설명한다. 이 기판 처리 장치 (1) 의 기본적인 동작은, 표면에 도공액의 막이 형성된 기판 (S) 을 외부로부터 받아들여, 기판 (S) 을 가열 처리함으로써 액 중의 용매 성분 등을 휘발시켜, 처리 후의 기판 (S) 을 외부로 송출한다는 것이다. 이 때, 휘발된 성분이 재냉각되어 챔버 (11) 의 천판 (111) 에 부착되는 것을 방지하기 위해서, 천판 (111) 의 하면을 따라 가열 기체에 의한 기류가 형성된다.
도 3 은 이 실시형태에 있어서의 기판의 가열 처리를 나타내는 플로 차트이다. 이 처리는, 제어 유닛 (70) 이 미리 준비된 제어 프로그램을 실행하여 장치 각 부에 소정의 동작을 실시시키는 것에 의해 실현된다. 먼저, 기판 처리 장치 (1) 의 각 부가, 기판 (S) 을 받아들이기 위한 초기 상태로 초기화된다 (스텝 S101). 초기 상태에 있어서는, 셔터 (114) 는 닫히고, 핫 플레이트 (12) 는 기판 (S) 을 가열하기 위한 소정 온도로 승온된다. 또, 급기 유닛 (30) 은, 급기 노즐 (35) 로부터 소정 온도로 가열된 CDA 를 가열 기체로서 챔버 (11) 내에 소정의 급기량으로 공급하고, 배기부 (50) 는 급기량과 동일한 양의 기체를 챔버 (11) 로부터 배출한다.
이 상태로부터 기판 (S) 이 받아들여진다 (스텝 S102). 즉, 리프트 핀 (132) 이 상부 위치에 위치 결정되고, 셔터 (114) 가 열리는 것에 의해, 외부로부터 기판 (S) 의 반입을 받아들일 수 있는 상태가 된다. 외부의 반송 로봇에 의해 기판 (S) 이 챔버 (11) 내로 반입되고, 기판 (S) 은 반송 로봇으로부터 리프트 핀 (132) 에 전달된다. 반송 로봇의 퇴피 후, 셔터 (114) 가 닫힘과 함께 리프트 핀 (132) 이 하부 위치로 하강한다. 이로써 기판 (S) 은 리프트 핀 (132) 으로부터 핫 플레이트 (12) 에 전달된다. 기판 (S) 이 핫 플레이트 (12) 의 기판 재치면 (121) 에 재치되는 것에 의해, 핫 플레이트 (12) 에 의한 기판 (S) 의 가열이 개시된다 (스텝 S103).
이 때, 미차압계 (16) 로부터의 출력 신호에 기초하여 챔버 (11) 내와 외기의 차압이 계측된다 (스텝 S104). 챔버 (11) 내의 기압이 외기의 기압보다 높을 때, 챔버 (11) 로부터 외기로의 기체의 유출이 발생할 수 있다. 예를 들어, 챔버 (11) 를 구성하는 판부재간의 간극, 셔터 (114) 와 패킹 (116) 의 간극, 리프트 핀 (132) 과 관통공 (131) 의 간극 등으로부터, 기체의 유출이 일어날 수 있다.
이와 같이 챔버 (11) 내의 기압이 외기압보다 높아지는 것은, 급기량과 배기량의 평형이 무너져 있을 때인 것으로 생각된다. 예를 들어, 배기에 함유되는 도공액의 성분이 석출되어 배기관 (51) 의 관벽에 부착됨으로써 배기 경로의 단면적이 감소하면, 배기 능력이 저하되어, 급기량에 대한 배기량의 부족이 발생하는 경우가 있다.
그래서, 챔버 (11) 내의 기압이 외기의 기압보다 높으면 (스텝 S105 에 있어서 YES), 배기 제어부 (716) 는 배기 유닛 (50) 의 배기 능력을 증대시킴으로써 배기량을 증가시킨다 (스텝 S107). 배기량의 증감은, 배기 밸브 (52) 의 개도, 유량 조정기 (53) 의 개도 및 모터 (55) 의 회전 수 중 어느 것을 조정함으로써 실시하는 것이 가능하다. 이로써 배기량이 증가하여, 챔버 (11) 내의 기압이 저하된다.
한편, 챔버 (11) 내의 기압이 외기의 기압보다 낮으면 (스텝 S105 에 있어서 NO 또한 스텝 S106 에 있어서 YES), 급기량에 비해 배기량이 과잉인 것으로 생각할 수 있다. 그래서, 이 경우에는 배기량을 저감시키도록 조정이 이루어진다 (스텝 S108). 이로써 챔버 (11) 의 내압이 상승한다. 챔버 (11) 의 내압과 외기압에 차가 없으면 (스텝 S105 에 있어서 NO 또한 스텝 S106 에 있어서 NO), 배기량의 증감은 이루어지지 않는다.
소정 시간이 경과하여 기판 (S) 에 대한 가열 처리가 종료될 때까지 (스텝 S109), 상기한 스텝 S104 내지 S108 의 처리가 계속적으로 실행된다. 이로써, 가열 처리 동안, 항상 챔버 (11) 의 내압과 외기압의 차압이 검출되어, 기압차가 있는 경우에는 그 차를 작게 하도록 배기량의 증감이 실시된다. 그 때문에, 항상 챔버 (11) 의 내압과 외기압이 평형한 상태가 유지된다. 따라서, 챔버 (11) 로부터 외부로의 기체의 유출 및 챔버 (11) 로의 외기의 유입이 모두 효과적으로 억제된다.
기판 (S) 에 대한 가열 처리가 종료되면 (스텝 S109 에 있어서 YES), 당해 기판 (S) 은 외부로 반출된다 (스텝 S110). 즉, 리프트 핀 (132) 이 상승됨으로써 기판 (S) 을 기판 재치면 (121) 으로부터 이간시켜, 셔터 (114) 가 열려 반송 로봇을 진입시키는 것에 의해, 리프트 핀 (132) 으로부터 반송 로봇으로 기판 (S) 이 전달되어 반출된다. 이 동안에도 핫 플레이트 (12) 의 온도 제어 및 가열 기체에 의한 기류 형성을 유지하는 것에 의해, 셔터 (114) 의 개폐에 의한 챔버 (11) 내의 온도 변화를 줄일 수 있다.
다음으로 처리해야 할 새로운 기판이 있는 경우에는 (스텝 S111 에 있어서 YES), 스텝 S102 로 되돌아와, 새로운 기판을 받아들여 상기와 마찬가지로 가열 처리를 실시한다. 이 동안에도, 각 부의 온도 제어 및 가열 기체에 의한 기류 형성은 계속된다. 이렇게 함으로써, 챔버 (11) 내의 온도 변화를 억제하여 복수의 기판 (S) 을 순차 효율적으로 처리할 수 있다. 처리해야 할 기판이 없으면 (스텝 S111 에 있어서 NO), 각 부의 가열 및 기류 형성을 정지시킴으로써 장치는 종료 상태로 이행한다 (스텝 S112).
이와 같이, 이 가열 처리에 있어서는, 챔버 (11) 의 내압과 외기압 사이에 기압차가 있을 때, 그 차를 작게 하는 방향으로 배기량이 증가 또는 저감된다. 이렇게 해서 기압차가 해소됨으로써, 기압차에서 기인하여 발생하는 챔버 (11) 로부터 외부로의 기체의 유출 및 챔버 (11) 로의 외기의 유입이 억제된다. 차압의 검출에 미차압계를 사용함으로써, 미미한 기압차를 높은 감도로 검출하는 것이 가능하다.
또, 배관 내로의 석출물의 부착에 의해 배기 유닛 (50) 의 배기 능력은 불가피적으로 저하되기 시작하지만, 그러한 경우에도, 차압의 발생을 억제하면서 처리를 계속적으로 실행하는 것이 가능해진다. 그 때문에, 메인터넌스 작업의 빈도를 적게 하여 장치의 가동률을 높일 수 있으므로, 생산성의 향상을 도모하는 것이 가능하다.
또한, 여기서는, 배기관 (51) 에 석출물이 부착되어 배기량이 변동되는 것에서 기인하는 챔버 (11) 의 내압 변화에 대응하는 것을 주된 목적으로 하여, 배기량의 조정에 의해, 챔버 (11) 의 내압과 외기압의 기압차의 해소가 도모되고 있다. 그러나, 챔버 (11) 의 내압과 외기압 사이에 기압차는, 이것 이외에도, 예를 들어 급기량 및 배기량 중 어느 것의 미소한 변동에 의해서도 발생할 수 있다. 따라서, 배기량의 증감 대신에, 급기량의 증감에 의해 기압차의 해소를 도모하는 것도 가능하다. 또, 이하에 예시하는 변형예와 같이, 급기량의 조정과 배기량의 조정을 적절히 전환하여 실행하도록 해도 된다.
도 4 는 가열 처리의 변형예를 나타내는 플로 차트이다. 이 변형예에 있어서는, 도 3 의 스텝 S105 내지 S108 대신에, 도 4 의 스텝 S151 내지 S159 가 실행된다. 이외의 동작은 동일하기 때문에, 도 4 에서는 공통 부분의 기재를 생략하고, 변경된 내용에 대해 상세하게 설명한다.
이 처리에서는, 스텝 S104 에 있어서 미차압계 (16) 의 출력에 기초하여 챔버 (11) 내와 외기의 기압차가 계측되는 데에 더하여, 미차압계 (57) 의 출력에 기초하여 배기관 (51) 내와 외기의 기압차가 계측된다 (스텝 S151). 미차압계 (57) 에 의해 검출되는 배기관 (51) 내와 외기의 기압차는, 배기 유닛 (50) 의 배기 능력을 지표한다. 즉, 미차압계 (57) 에 의해 검출되는 차압이 소정의 목표치가 되도록, 배기 유닛 (50) 의 각 부 (배기 밸브 (52), 유량 조정기 (53) 및 모터 (55)) 가 제어되어 있고, 만약 배기 능력이 과잉이면 미차압계 (57) 에 의해 검출되는 차압은 목표치보다 커진다. 반대로, 배기 능력이 부족하면 미차압계 (57) 에 의해 검출되는 차압은 목표치보다 작아진다. 따라서, 미차압계 (57) 가 검출하는 차압에 의해, 배기 유닛 (50) 의 배기 능력의 변화의 유무를 추정하는 것이 가능하다.
구체적으로는, 미차압계 (16) 의 검출 결과에 있어서 챔버 (11) 내의 기압이 외기압보다 높을 때 (스텝 S152 에 있어서 YES), 미차압계 (57) 의 검출 결과에 기초하여 배기 능력의 변동의 유무가 판정된다 (스텝 S157). 배기관 (51) 내와 외기의 차압이 목표치보다 작으면 배기 능력이 저하되어, 급기량에 대해 상대적으로 배기량이 부족한 것으로 판단된다 (스텝 S157 에 있어서 YES). 이 때, 배기량이 증가하도록 배기 유닛 (50) 이 제어된다 (스텝 S158). 한편, 배기량의 부족이 없으면 (스텝 S157 에 있어서 NO), 급기량이 저하되도록 급기 유닛 (30) 이 제어된다 (스텝 S159).
또, 챔버 (11) 내의 기압이 외기압보다 낮을 때에도 (스텝 S152 에 있어서 NO 또한 스텝 S153 에 있어서 YES), 미차압계 (57) 의 검출 결과에 기초하여 배기 능력의 변동의 유무가 판정된다 (스텝 S154). 배기관 (51) 내와 외기의 차압이 목표치보다 크면, 급기량에 대해 상대적으로 배기량이 과잉인 것으로 판단되고 (스텝 S154 에 있어서 YES), 이 경우에는 배기량이 저하되도록 배기 유닛 (50) 이 제어된다 (스텝 S155). 한편, 배기량이 과잉이 아니면 (스텝 S154 에 있어서 NO), 급기량이 증가하도록 급기 유닛 (30) 이 제어된다 (스텝 S156).
챔버 (11) 와 외기 사이에 기압차가 없으면 (스텝 S152 에 있어서 NO 또한 스텝 S153 에 있어서 NO), 급기 유닛 (30) 및 배기 유닛 (50) 의 동작은 현상 유지가 된다. 스텝 S109 이후의 동작에 대해서는 도 3 의 처리와 동일하다.
이와 같은 구성에서는, 챔버 (11) 의 내압의 변동이 배기 능력의 변화에서 기인하는 것인 경우에는 그 변화를 없애도록 배기량을 증가 또는 감소시킨다. 한편, 그 이외의 요인에 의한 경우에는 급기량을 증가 또는 감소시킴으로써 챔버 (11) 내와 외기의 압력차를 작게 하는 것과 같은 제어가 된다. 이로써, 기압차에서 기인하여 발생하는 챔버 (11) 로부터 외부로의 기체의 유출 및 챔버 (11) 로의 외기의 유입이 억제된다.
그런데, 이 종류의 기판 처리 장치에 있어서는, 동일 구성의 처리 유닛이 다단으로 중첩되어 보다 대규모의 기판 처리 시스템이 구축되는 경우가 있다. 이와 같은 경우, 상기한 구성의 기판 처리 장치 (1) 를 복수 세트, 서로 독립된 것으로 하여 조합하는 것도 가능하지만, 다음에서 설명하는 바와 같이, 일부의 구성을 공통화하는 것도 가능하다.
도 5 는 복수의 처리 유닛을 갖는 기판 처리 시스템의 구성예를 나타내는 도면이다. 여기서는 4 단의 처리 유닛 (10) 을 구비한 기판 처리 시스템 (100) 을 예시하지만, 처리 유닛의 단수는 이것에 한정되지 않고 임의이다. 또한, 전술한 구성과 동일한 구성에 대해서는 동일한 부호를 부여하여 자세한 설명을 생략한다.
이 기판 처리 시스템 (100) 은, 4 세트의 처리 유닛 (10) 을 가지고 있고, 각각의 처리 유닛 (10) 은, 핫 플레이트를 내장하는 챔버 (11) 에 미차압계 (16) 가 접속된 구조로 되어 있다. 또 급기 유닛 (30) 도, 각 처리 유닛 (10) 에 대해 1 세트씩 형성되어 있어, 서로 독립적으로 동작한다.
한편, 배기계는 일부가 공통화되어 있다. 즉, 각 챔버 (11) 에 배기관 (51) 이 접속되고, 각 배기관 (51) 에는 각각 미차압계 (57) 및 배기 밸브 (52) 가 접속되어 있다. 단, 배기 밸브 (52) 의 2 차측 배관 (58) 은 서로 접속되어 있고, 4 세트의 처리 유닛 (10) 에 대해 1 세트의 유량 조정기 (53) 및 블로어 (54) 가 형성되어 있다. 이와 같은 구성에 있어서, 배기량의 증감은, 개개의 처리 유닛 (10) 에 접속된 배기 밸브 (52) 의 개도 조정에 의해 실시되게 된다. 이로써, 각각의 처리 유닛 (10) 에 대해, 상기와 동일한 제어가 가능해진다. 그 결과, 챔버 (11) 내와 외기의 기압차에서 기인하여 발생하는 챔버 (11) 로부터 외부로의 기체의 유출 및 챔버 (11) 로의 외기의 유입을 억제한다는 효과가, 각 처리 유닛 (10) 에 있어서 얻어지게 된다.
이상 설명한 바와 같이, 상기 실시형태에 있어서는, 핫 플레이트 (12) 가 본 발명의 「유지부」로서 기능하고 있고, 히터 (122) 가 본 발명의 「가열부」로서 기능하고 있다. 또, 급기 유닛 (30), 배기 유닛 (50) 및 제어 유닛 (70) 이, 본 발명의 「급기부」, 「배기부」및 「제어부」로서 각각 기능하고 있다. 또, 상기 실시형태에서는 미차압계 (16) 가 본 발명의 「검출부」에 상당하는 한편, 미차압계 (57) 가 본 발명의 「제 2 검출부」에 상당하고 있다. 또, 상기 실시형태에 있어서는, 챔버 (11) 의 천판 (111) 의 하면과 기판 (S) 상면 사이의 처리 공간 (SP) 이, 본 발명의 「유통 공간」에 상당하고 있다.
또한, 본 발명은 상기한 실시형태에 한정되는 것이 아니고, 그 취지를 일탈하지 않는 한에 있어서 상기 서술한 것 이외에 여러 가지의 변경을 실시하는 것이 가능하다. 예를 들어, 상기 실시형태에서는, 천판 (111) 중 기판 (S) 의 중앙부 상방에 닿는 위치에 관통공 (117) 이 형성되고 배관 (15) 을 개재하여 미차압계 (16) 가 접속되어 있다. 이것은, 정상적이고 완만한 층류가 형성되어 있는 챔버 (11) 의 중앙부에서 기압을 검출함으로써, 난류에 의한 계측 오차를 억제하여 정확한 차압을 검출하기 위해서이다. 그러나, 관통공 (117) 또는 배관 (15) 의 내벽에 석출물이 부착되어 기판 (S) 에 낙하하는 것을 미연에 회피하기 위해서, 기판 (S) 의 주연부의 상방보다 외측의 천판 (111) 또는 측판 (112) 의 벽면에, 미차압계를 접속하기 위한 계측용 포트가 형성되어 있어도 된다.
또, 상기 실시형태의 챔버 (11) 는, 단열성을 높이기 위해서 이중벽 구조의 금속판을 상자형으로 조합한 구조로 되어 있다. 그러나, 예를 들어 적절한 재료, 예를 들어 금속, 수지, 유리 등으로 미리 상자형으로 형성된 부재로 챔버가 구성되어 있어도 된다.
또, 상기 실시형태에서는 승온된 핫 플레이트 (12) 에 재치됨으로써 기판 (S) 이 가열되지만, 기판의 가열 방법은 이것에 한정되지 않는다. 예를 들어, 유통 공간의 상방에 배치된 「가열부」로서의 히터로부터의 복사열에 의해 기판이 가열되는 구성이어도 된다. 이 경우, 기판 재치면은 반드시 평탄할 필요는 없고, 예를 들어 반송 로봇의 핸드를 진입시키기 위한 절결이 부분적으로 형성되어 있어도 된다. 이와 같은 구성에서는 리프트 핀을 생략하는 것도 가능하다.
또, 상기 실시형태에서는, 도 1 에 나타나는 기판 처리 장치 (1) 의 각 구성을 사용하여 챔버 (11) 내와 외기 사이의 기압차를 없애는 것과 같은 제어가 이루어지고 있다. 그러나, 이와 같이 챔버 내와 외기의 미소한 차압을 검출 가능한 장치 구성을 사용하여, 다음과 같은 제어를 실현하는 것도 가능하다. 예를 들어, 챔버 (11) 내와 외기의 차압을 미리 정해진 일정치로 유지할 수 있다. 혹은, 처리의 진행에 수반하여 차압을 변화시킬 수 있다. 이로써, 기판 처리 장치 (1) 에 의해 실현 가능한 처리의 자유도가 더욱 높아진다.
또한, 상기 실시형태의 가열 처리는, 도공액의 막이 형성된, 요컨대 표면에 액막이 형성된 상태의 기판 (S) 을 받아들이고, 그 용매 성분을 가열에 의해 휘발 시킴으로써 도공막을 건조 경화시키는 것이다. 그러나, 예를 들어 도공막이 미리 고화된 고체막으로부터 승화성의 성분을 승화시켜 제거하기 위한 가열 처리나, 도공막의 전체 성분을 휘발시켜 기판을 건조시키기 위한 가열 처리에도, 상기 구성의 기판 처리 장치 (1) 를 적용하는 것이 가능하다.
이상, 구체적인 실시형태를 예시하여 설명해 온 바와 같이, 본 발명에 있어서는, 챔버 내가 외기보다 고압일 때 배기량을 증가시키거나 또는 급기량을 감소시키고, 챔버 내가 외기보다 저압일 때 배기량을 감소시키거나 또는 급기량을 증가시키도록 구성되어도 된다. 이와 같은 구성에 의하면, 급기량과 배기량의 밸런스를 개선함으로써 차압을 작게 할 수 있다.
이 경우, 상기 기체의 유통 방향에 있어서 상기 배기구보다 하류의 배기 경로 내의 기압과, 외기의 기압의 차압을 검출하는 제 2 검출부를 형성하고, 제 2 검출부의 검출 결과에 기초하여, 급기량 및 상기 배기량 중 어느 것을 변화시킬지를 판단하도록 해도 된다. 이와 같은 구성에 의하면, 제 2 검출부의 검출 결과로부터 배기부의 배기 능력의 변화를 검지할 수 있기 때문에, 배기 능력의 변화의 유무에 따른 적절한 제어가 가능해진다.
또 예를 들어, 검출부는, 일방단이 챔버에 접속되고 내부 공간이 유통 공간과 연통하는 배관과, 배관의 타방단에 접속된 미차압계를 갖는 구성이어도 된다. 차압의 검출에 미차압계를 사용함으로써, 미미한 기압의 차여도 양호한 정밀도로 검출하는 것이 가능해진다. 미차압계를 유통 공간에 노출시키지 않고 배관을 개재하여 유통 공간에 접속함으로써, 유통 공간에 형성되는 기류에 의한 계측 오차를 억제할 수 있다.
이 경우, 배관의 일방단은, 챔버 중 기판의 중앙부 상방의 벽면에 형성된 개구에 접속되어도 된다. 이와 같은 구성에 의하면, 정상적인 기류가 형성되는 챔버의 중앙부에서의 기압을 계측하는 것이 가능하고, 난류에서 기인하는 계측 오차를 억제하는 것이 가능해진다. 혹은 예를 들어, 배관의 일방단은, 챔버 중 기판의 주연부보다 외측의 벽면에 형성된 개구에 접속되어도 된다. 이와 같은 구성에 의하면, 개구 또는 배관에 석출물이 부착되어 낙하하였다고 해도, 이것이 기판에 낙하하는 것은 방지된다.
본 발명은, 기판 표면에 형성된 도공막의 성분을 가열에 의해 휘발시키는 기판 처리 기술에 적용 가능하다. 예를 들어 반도체 기판, 유리 기판 등의 기판 표면에 포토레지스트막, 보호막 등의 기능층을 형성하는 용도에 바람직하다.
1 : 기판 처리 장치
10 : 처리 유닛
11 : 챔버
12 : 핫 플레이트 (유지부)
15 : 배관
16 : 미차압계 (검출부)
30 : 급기 유닛 (급기부)
50 : 배기 유닛 (배기부)
57 : 미차압계 (제 2 검출부)
70 : 제어 유닛 (제어부)
116 : 배기구
117 : 개구
122 : 히터 (가열부)
351 : 급기구
S : 기판
SP : 처리 공간 (유통 공간)

Claims (9)

  1. 도공막이 형성된 기판을 상면에 재치하는 유지부와,
    상기 유지부에 재치되는 상기 기판을 가열하고, 상기 유지부에 내장되어 있는 가열부와,
    상기 유지부를 수용하고, 상기 유지부에 재치되는 상기 기판의 상방에 기체가 유통하는 유통 공간을 형성하는 챔버와,
    상기 유통 공간의 일방 단부측에서 상기 챔버에 개구되는 급기구를 통하여, 상기 유통 공간에 가열된 기체를 공급하는 급기부와,
    상기 유통 공간을 사이에 두고 상기 급기구와는 반대측의, 상기 유통 공간의 타방 단부측에서 상기 챔버에 개구되는 배기구를 통하여, 상기 유통 공간으로부터 상기 기체를 배출하는 배기부와,
    상기 유통 공간 내의 기압과 상기 챔버의 외기의 기압의 차압을 검출하는 검출부와,
    상기 검출부의 검출 결과에 기초하여, 상기 차압이 저감되도록, 상기 급기부에 의한 급기량과 상기 배기부에 의한 배기량의 적어도 일방을 제어하는 제어부를 구비하고,
    상기 급기구로부터 공급되는 상기 가열된 기체는, 상기 유통 공간 내에서 상기 챔버의 천판 (天板) 의 하면을 따른 기류로서 흐르고, 상기 배기구로부터 배출되는, 기판 처리 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 제어부는, 상기 챔버 내가 외기보다 고압일 때 상기 배기량을 증가시키고, 상기 챔버 내가 외기보다 저압일 때 상기 배기량을 감소시키는, 기판 처리 장치.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 제어부는, 상기 챔버 내가 외기보다 고압일 때 상기 배기량을 증가시키거나 또는 상기 급기량을 감소시키고, 상기 챔버 내가 외기보다 저압일 때 상기 배기량을 감소시키거나 또는 상기 급기량을 증가시키는, 기판 처리 장치.
  4. 도공막이 형성된 기판을 상면에 재치하는 유지부와,
    상기 유지부에 재치되는 상기 기판을 가열하는 가열부와,
    상기 유지부를 수용하고, 상기 유지부에 재치되는 상기 기판의 상방에 기체가 유통하는 유통 공간을 형성하는 챔버와,
    상기 유통 공간의 일방 단부측에서 상기 챔버에 개구되는 급기구를 통하여, 상기 유통 공간에 가열된 기체를 공급하는 급기부와,
    상기 유통 공간을 사이에 두고 상기 급기구와는 반대측의, 상기 유통 공간의 타방 단부측에서 상기 챔버에 개구되는 배기구를 통하여, 상기 유통 공간으로부터 상기 기체를 배출하는 배기부와,
    상기 유통 공간 내의 기압과 상기 챔버의 외기의 기압의 차압을 검출하는 검출부와,
    상기 검출부의 검출 결과에 기초하여, 상기 차압이 저감되도록, 상기 급기부에 의한 급기량과 상기 배기부에 의한 배기량의 적어도 일방을 제어하는 제어부와,
    상기 기체의 유통 방향에 있어서 상기 배기구보다 하류의 배기 경로 내의 기압과, 외기의 기압의 차압을 검출하는 제 2 검출부를 구비하고,
    상기 제어부는, 상기 챔버 내가 외기보다 고압일 때 상기 배기량을 증가시키거나 또는 상기 급기량을 감소시키고, 상기 챔버 내가 외기보다 저압일 때 상기 배기량을 감소시키거나 또는 상기 급기량을 증가시키고,
    상기 제어부는, 상기 제 2 검출부의 검출 결과에 기초하여, 상기 급기량 및 상기 배기량 중 어느 것을 변화시킬지를 판단하는, 기판 처리 장치.
  5. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 검출부는,
    일방단이 상기 챔버에 접속되고 내부 공간이 상기 유통 공간과 연통하는 배관과,
    상기 배관의 타방단에 접속된 미차압계를 갖는, 기판 처리 장치.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 배관의 상기 일방단은, 상기 챔버 중 상기 기판의 중앙부 상방의 벽면에 형성된 개구에 접속되는, 기판 처리 장치.
  7. 제 5 항에 있어서,
    상기 배관의 상기 일방단은, 상기 챔버 중 상기 기판의 주연부보다 외측의 벽면에 형성된 개구에 접속되는, 기판 처리 장치.
  8. 도공막이 형성된 기판을 챔버 내의 유지부에 재치하여 가열하는 기판 처리 방법에 있어서,
    상기 챔버는, 상기 기판의 상방에 기체가 유통하는 유통 공간을 형성하고,
    상기 유지부에 내장된 가열부가, 상기 기판을 가열하고,
    상기 유통 공간의 일방 단부측에서 상기 챔버에 개구되는 급기구를 통하여, 상기 유통 공간에 가열된 기체를 공급함과 함께, 상기 유통 공간을 사이에 두고 상기 급기구와는 반대측의, 상기 유통 공간의 타방 단부측에서 상기 챔버에 개구되는 배기구를 통하여, 상기 유통 공간으로부터 상기 기체를 배기하고, 상기 유통 공간 내에서, 상기 기체는 상기 챔버의 천판의 하면을 따른 기류로서 흐르고,
    상기 유통 공간 내의 기압과 상기 챔버의 외기의 기압의 차압을 검출하고,
    상기 검출의 결과에 기초하여, 상기 차압이 저감되도록, 상기 급기구로부터의 급기량과 상기 배기구로부터의 배기량의 적어도 일방을 제어하는,
    기판 처리 방법.
  9. 도공막이 형성된 기판을 챔버 내의 유지부에 재치하여 가열하는 기판 처리 방법에 있어서,
    상기 챔버는, 상기 기판의 상방에 기체가 유통하는 유통 공간을 형성하고,
    상기 유통 공간의 일방 단부측에서 상기 챔버에 개구되는 급기구를 통하여, 상기 유통 공간에 가열된 기체를 공급함과 함께, 상기 유통 공간을 사이에 두고 상기 급기구와는 반대측의, 상기 유통 공간의 타방 단부측에서 상기 챔버에 개구되는 배기구를 통하여, 상기 유통 공간으로부터 상기 기체를 배기하고,
    상기 유통 공간 내의 기압과 상기 챔버의 외기의 기압의 차압 및 상기 기체의 유통 방향에 있어서 상기 배기구보다 하류의 배기 경로 내의 기압과 외기의 기압의 차압을 검출하고,
    상기 유통 공간 내의 기압과 상기 챔버의 외기의 기압의 차압의 검출의 결과에 기초하여, 상기 차압이 저감되도록, 상기 급기구로부터의 급기량과 상기 배기구로부터의 배기량의 적어도 일방을 제어하고, 상기 챔버 내가 외기보다 고압일 때 상기 배기량을 증가시키거나 또는 상기 급기량을 감소시키고, 상기 챔버 내가 외기보다 저압일 때 상기 배기량을 감소시키거나 또는 상기 급기량을 증가시키고, 상기 배기구보다 하류의 배기 경로 내의 기압과 외기의 기압의 차압의 검출의 결과에 기초하여, 상기 급기량 및 상기 배기량 중 어느 것을 변화시킬지를 판단하는,
    기판 처리 방법.
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