JP2004230293A - 混合装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】本発明は機器からの供給要求信号が入力されてから貯留槽の流体を供給開始するまでの時間的な遅れを解消することを課題とする。
【解決手段】混合装置１０では、半導体製造装置５４から供給要求信号が入力される前に薬液を貯留槽２２に所定量に供給し、且つ貯留槽２２の上部空間に窒素ガスを所定圧力に加圧した状態に保つ。そのため、半導体製造装置５４からの供給要求信号が入力された時点で直ちに貯留槽２２の薬液を供給開始することが可能になり、供給開始までの時間的な遅れを解消することができる。また、半導体製造装置５４からの供給要求信号が停止されている間に、貯留槽２２に所定量の薬液及び所定圧力の窒素ガスを充填して次回の供給要求信号に備える。これにより、次回の供給要求信号に備えて貯留槽２２に対して薬液を直ちに供給し、次回の供給開始までの時間的な遅れを解消することができる。
【選択図】 図１
【解決手段】混合装置１０では、半導体製造装置５４から供給要求信号が入力される前に薬液を貯留槽２２に所定量に供給し、且つ貯留槽２２の上部空間に窒素ガスを所定圧力に加圧した状態に保つ。そのため、半導体製造装置５４からの供給要求信号が入力された時点で直ちに貯留槽２２の薬液を供給開始することが可能になり、供給開始までの時間的な遅れを解消することができる。また、半導体製造装置５４からの供給要求信号が停止されている間に、貯留槽２２に所定量の薬液及び所定圧力の窒素ガスを充填して次回の供給要求信号に備える。これにより、次回の供給要求信号に備えて貯留槽２２に対して薬液を直ちに供給し、次回の供給開始までの時間的な遅れを解消することができる。
【選択図】 図１
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば成分の異なる複数の薬液（流体）を任意の割合で混合することで半導体や液晶などフラットパネルディスプレイ製造プロセスに使用される混合液を供給する混合装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
以下、２種類の液体を混合するための混合装置として純水と薬液とを混合する混合装置を例に挙げて説明する。
【０００３】
従来、成分の異なる２種類の薬液を混合する混合装置としては、例えば、薬液の原液を計量槽で一定量にはかり採り、その後、計量した薬液を調合槽へ投下して混合した後、純水で所定濃度まで希釈し、その後調合・希釈した薬液を貯留槽へ投下し、所定の温度まで加熱して半導体製造装置へ供給されるように構成されたものがある（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
また、上記混合装置では、貯留槽に薬液と純水とを夫々供給する供給管路に夫々の流量を測定する流量計を設け、流量計によって測定された流量値から薬液の消費量を算出している。
【０００５】
【特許文献１】
特開２０００−７４７１８号公報
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記のような構成とされた混合装置では、薬液と純水との混合比が例えば１：９９の場合、生成される混合液の液量が２０Ｌ（リットル）とすると、薬液の供給量が２００ｍＬ（ミリリットル）であるのに対し、純水の供給量が１９８００ｍＬとなる。このように２液の混合比が大きく相違する場合には、例えば、流量計を用いて流量を計測しながら流量調整弁の弁開度を制御して薬液を微少流量で供給されるように流量調整することが難しく、一定の比率に混合された液の混合比が安定しなかった。
【０００７】
また、薬液の流量を微少流量に調整しながら純水に混合する場合、濃厚な薬液（原液）を供給タンクへ投下すると、予め供給タンク内に貯溜されていた薬液と十分に混合せず、濃厚な原液が拡散しないまま供給タンク内の薬液へ落下してしまうため、できるだけ薬液を少量ずつ供給しなければならないが、純水の供給量に対して薬液の供給が早くなると、一定の濃度が得られず、高濃度の薬液が供給されてしまうおそれがある。
【０００８】
このような問題を解消するため、純水の供給経路に所定流量の薬液を注入するインライン薬液混合装置の開発が進められている（例えば、特願２００２−８９３１０参照）。
【０００９】
このインライン薬液混合装置では、薬液供給経路を介して供給された５０％フッ化水素酸（薬液）と、純水供給経路を介して供給された純水とを混合ノズルで混合するように構成されている。また、エア供給回路により圧縮空気が空気管路を介して開閉弁に供給されるときは、流量安定部にも圧縮空気が供給される。また、エア供給回路により空気管路への圧縮空気の供給が停止されると、同時に流量安定部への圧縮空気の供給も停止される。このように、開閉弁と流量安定部とは、連動して動作するように圧縮空気の供給・停止が行われており、流量安定部は、開閉弁の閉弁動作に伴う流量変化を吸収して混合ノズルに供給される薬液の供給量を安定化させる。
【００１０】
しかしながら、上記インライン薬液混合方式の混合装置では、混合された液が供給される下流の機器（例えば、半導体製造装置等）から供給要求信号があると、貯留槽に所定量の薬液を注入し、薬液の注入が終了すると貯留層に窒素ガスを供給して加圧状態にしてから混合ノズルへ薬液を供給するように構成されている。
【００１１】
このように、下流の機器（例えば、半導体製造装置等）から供給要求信号があってから薬液を貯留槽に注入するため、供給要求信号が入力されてから薬液を供給開始するまでに時間がかかり、機器への薬液供給開始が遅れるという問題があった。
【００１２】
そこで、本発明は上記課題を解決した混合装置を提供することを目的とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するため、本発明は以下のような特徴を有する。
上記請求項１の本発明は、異なる流体を個別に供給する複数の流体供給経路と、異なる流体のうち流量の少ない流体が一時的に貯留される貯留槽と、貯留槽を加圧する加圧手段と、貯留槽及び流体供給経路から供給された複数の流体を混合させる混合手段と、下流に配置された機器からの供給要求信号により混合手段によって混合された液を機器へ吐出する吐出経路と、機器からの供給要求信号が入力される前に、貯留槽の圧力を任意の所定圧力に保つように制御する制御手段と、を備えたものであり、機器からの供給要求信号が入力された時点で貯留槽の流体を供給開始することが可能になり、供給開始までの時間的な遅れを解消することが可能である。
【００１４】
請求項２の本発明は、貯留槽の圧力を他の流体供給経路の圧力測定値以上となるように加圧手段による圧力を制御するものであり、混合手段で安定的に複数の流体を混合させて濃度ムラを防止することが可能になる。
【００１５】
請求項３の本発明は、機器からの供給要求信号の入力が停止されたとき、貯留槽に流体を供給するものであり、次回の供給要求信号に備えて貯留槽に流体を直ちに供給して吐出されて減少した流体を補充することが可能になり、供給開始までの時間的な遅れを解消することが可能である。
【００１６】
【発明の実施の形態】
以下、図面と共に本発明の実施の形態について説明する。
図１は本発明になる混合装置の一実施例の概略構成を示す構成図である。
図１に示されるように、混合装置１０は、例えば、薬液供給経路１２を介して供給された５０％フッ化水素酸（薬液）と、純水供給経路１４を介して供給された純水とを混合ユニット（混合手段）１６で混合して半導体製造ラインのウエハ（図示せず）を処理する半導体製造装置（請求項１記載の機器に相当）５４に供給するように構成されている。尚、フッ化水素酸は、フッ化水素（ｈｙｄｒｏｇｅｎ ｆｌｕｏｒｉｄｅ）の水溶液であり、以下「薬液（ＨＦ液）」と記す。
【００１７】
薬液供給経路１２には、薬液を一時的に貯留し、且つ貯留された薬液を窒素ガスの圧力（加圧手段）で供給する貯留槽２２が設けられている。この貯留槽２２には、薬液供給管路１８と、窒素ガス供給管路２０とが連通されている。貯留槽２２の底部より引き出された薬液吐出管路２４は、薬液の流量を微小流量に絞る絞り管２５を介して混合ユニット１６に連通されている。また、薬液吐出管路２４には、エア駆動式の開閉弁４３と、開閉弁４３の上流に設けられたチェック弁（逆流防止弁）４４が配設されている。
【００１８】
また、窒素ガス供給管路２０には、薬液供給圧力を所定圧力に減圧する減圧弁２６、窒素ガスの質量流量を計測する質量流量計２７、窒素ガス中の微粒子を除去するガスフィルタ２８、窒素ガスの流量を調整するエア駆動式の流量調整弁３０が配設されている。また、薬液供給管路１８には、薬液の流量を計測する超音波式渦流量計３２、チェック弁（逆流防止弁）３３、薬液の供給量を制御するエア駆動式の開閉弁３４が配設されている。
【００１９】
質量流量計２７は、窒素ガス供給管路２０から供給された窒素ガスの流量を計測しており、流量に比例した周期のアナログ信号を制御回路４０に発信している。そして、制御回路４０は、このアナログ信号が設定された値で安定するように流量調整弁３０の弁開度を制御する。
【００２０】
貯留槽２２は、薬液供給管路１８から供給された薬液（ＨＦ液）を一時的に貯留することで薬液（ＨＦ液）を安定供給するものである。また、貯留槽２２の上部には、ガス抜き管路３５と、圧力を測定する液面センサ３８とが設けられている。さらに、ガス抜き管路３５には、貯留槽２２に充填された窒素ガスの圧力を測定するための第１の圧力センサ２９が取り付けられている。また、圧力センサ２９は、貯留槽２２に充填された窒素ガスの圧力を測定し、圧力測定値の信号を制御回路４０に発信している。
【００２１】
そして、ガス抜き管路３５には、チェック弁（逆流防止弁）３６と、エア駆動式の逃がし弁３７とが設けられている。尚、逃がし弁３７は、薬液の注入時に開弁されて貯留槽２２の内部に残留した窒素ガスを外部へ排気することで薬液注入時の負荷を軽減する。
【００２２】
液面センサ３８からの検出信号は、制御回路４０に入力されており、制御回路４０によって貯留槽２２の液位（液面高さ）が管理されている。
【００２３】
また、純水供給経路１４は、純水供給管路４５に純水を送液するポンプ（流体供給手段）４６と、純水の流量を計測する超音波式渦流量計４８と、純水の供給量を調整する流量調整弁５０と、純水の供給圧力を測定するための第２の圧力センサ５１とが配設されている。超音波式渦流量計４８は、純水供給経路１４から供給された純水の流量を計測しており、流量に比例した周期のアナログ信号を発信器４８ａから制御回路４０に発信している。また、圧力センサ５１は、純水供給経路１４の圧力測定値の信号を制御回路４０に発信している。
【００２４】
そして、制御回路４０は、このアナログ信号から得られた流量計測値に基づいて電空レギュレータ４９に制御信号を出力する。電空レギュレータ４９は、流量調整弁５０のアクチュエータ部５０ａに連通された空気圧供給管路４９ａに設けられており、制御回路４０からの制御信号に基づいて流量調整弁５０のアクチュエータ部５０ａに供給される空気圧を調整する。これにより、流量調整弁５０は、電空レギュレータ４９から供給された空気圧によってアクチュエータ部５０ａが駆動され、アクチュエータ部５０ａの駆動により弁開度を制御して流量を調整する。
【００２５】
上記開閉弁３４，４３及び逃がし弁３７は、エア駆動式のノーマルクローズ弁構造で構成されており、エア供給回路３９から供給されるエア（圧縮空気）により開弁動作する。また、エア供給回路３９は、流量調整弁３０、開閉弁３４，４３、逃がし弁３７に連通された空気管路３０ａ，３４ａ，４３ａ，３７ａに対して空気源（コンプレッサ等）４１からの圧縮空気を選択的に供給する電磁弁（図示せず）が設けられている。
【００２６】
そのため、エア供給回路３９では、制御回路４０からの制御信号に基づいて空気管路３０ａ，３４ａ，４３ａ，３７ａへ供給する圧縮空気をオンまたはオフにして流量調整弁３０の弁開度を調整し、開閉弁３４，４３または逃がし弁３７を開弁または閉弁させる。
【００２７】
また、上記薬液供給管路１８及び純水供給管路４５は、パーフロロアルコキシ共重合体（ＰＦＡ樹脂）、あるいはポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ樹脂）などの不純物の溶出や微粒子の発生が極めて少ない材質により形成されている。
【００２８】
また、制御回路４０のメモリには、流体供給開始時、薬液吐出管路２４に配された開閉弁４３及び窒素ガス供給管路２０に配された流量調整弁３０及び開閉弁４３及び、純水供給管路４５に配された流量調整弁５０を開弁させる制御プログラム（制御手段）が格納されている。
【００２９】
また、制御回路４０のメモリには、機器からの供給要求信号が入力される前に、貯留槽の圧力を任意の所定圧力に保つように制御する制御プログラム（制御手段）と、機器からの供給要求信号の入力が停止されたとき、貯留槽２２に流体を供給する制御プログラム（制御手段）が格納されている。
【００３０】
図２は混合ユニット１６の構成を拡大して示す縦断面図である。図３は図２中Ａ−Ａ線に沿う縦断面図である。
図２及び図３に示されるように、混合ユニット１６は、耐薬品性に優れた四フッ化エチレン樹脂（ＰＴＦＥ樹脂）からなるユニット本体６０と、ユニット本体６０の一端に開口する第１の混合室６２と、ユニット本体６０の他端に開口する第２の混合室６４と、第１の混合室６２と第２の混合室６４との間を連通する小径な絞り孔６６と、第１の混合室６２の開口に圧入（または接着）された流入管６８と、第２の混合室６４の開口に圧入（または接着）された流出管７０と、第１の混合室６２に上方から挿入された絞り管２５とより構成されている。
【００３１】
第１の混合室６２、第２の混合室６４、絞り孔６６は、同一軸線上に直列に配置されており、流入管６８の流入路６８ａ，絞り孔６６，流出管７０の流出路７０ａもユニット本体６０の中心線上に配置されている。
【００３２】
流入路６８ａは、純水供給管路４５が連通され、流出路７０ａには混合ユニット１６の下流に連通された吐出管路５２が連通されている。また、絞り管２５は、針のように小径な孔２５ａが貫通しており、薬液吐出管路２４から供給された薬液を第１の混合室６２に供給する。
【００３３】
さらに、絞り管２５の先端は、第１の混合室６２の中心まで突出しており、孔２５ａから吐出された微小流量の薬液は、貯留槽２２内の窒素ガス圧によって所定圧力に加圧されており、流入路６８ａから流入された純水の流れの中心（流速の高い領域）に窒素ガス圧で押し出されて混合される。
【００３４】
そのため、流入路６８ａから第１の混合室６２の中心に吐出された純水の流れは、ポンプ４６によって所定圧力に加圧されており、高流速で絞り管２５の先端に衝突して乱流状態になりながら絞り管２５から吐出された薬液と混合される。
【００３５】
絞り孔６６の入口及び出口には、円錐状に傾斜したテーパ部７２，７４が形成されている。従って、第１の混合室６２で混合された流体は、テーパ部７２にガイドされて小径な絞り孔６６に流入し、流速を加速される。
【００３６】
また、絞り孔６６を通過した流体は、テーパ部７４にガイドされて第２の混合室６４に拡散して薬液と純水を均一の混合比となるように混合される。
【００３７】
このように、絞り孔６６で加速された流体は、第２の混合室６４において流速が減速されて流出管７０の端部によって流れが変化するため、流路面積の大きい第２の混合室６４の内部空間内を乱流状態で通過して小径な流出路７０ａから吐出管路５２へ吐出される。
【００３８】
従って、第１の混合室６２で混合された薬液と純水は、第１の混合室６２、絞り孔６６、第２の混合室６４を通過する過程で均一な一定の濃度に混合されて吐出管路５２を介して半導体製造装置５４へ安定供給される。
【００３９】
ここで、制御回路４０が実行する制御処理について説明する。
図４は制御回路４０が実行する制御処理を説明するためのフローチャートである。
【００４０】
図４に示されるように、制御回路４０は、ステップＳ１１（以下「ステップ」を省略する）において、混合装置１０の起動スイッチ（図示せず）がオンに操作されると、Ｓ１２に進み、薬液供給管路１８の開閉弁３４を開弁させると共に、貯留槽２２の逃がし弁３７を開弁させる。これにより、貯留槽２２の上部空間が減圧されると共に、薬液（原液）が薬液供給管路１８を介して貯留槽２２の底部から貯留槽２２の内部に供給される。
【００４１】
次のＳ１３では、貯留槽２２の上部に取り付けられた液面センサ３８が液面を検出したかどうかをチェックする。Ｓ１３において、液面センサ３８がオンになって液面検出信号を出力すると、貯留槽２２内に所定量の薬液が注入されたものと判断してＳ１４に進み、薬液供給管路１８の開閉弁３４を閉弁させると共に、貯留槽２２の逃がし弁３７を閉弁させる。これにより、貯留槽２２に対する薬液（原液）の供給が停止される。
【００４２】
次のＳ１５では、窒素ガス供給管路２０の流量調整弁３０を全開にして貯留槽２２に窒素ガスを供給する。これにより、貯留槽２２の上部空間に窒素ガスが充填され、貯留槽２２内部に注入された薬液を加圧させる。
【００４３】
続いて、Ｓ１６に進み、貯留槽２２の圧力を圧力センサ２９が測定し、その測定値を読み込み、圧力測定値が予め設定された所定値に達したかどうかをチェックする。
【００４４】
尚、上記所定値は、例えば、純水の供給圧力より高い圧力に設定されている。すなわち、貯留槽２２から吐出される薬液の圧力は、純水の供給圧力以上であり、混合ユニット１６において、薬液を吐出管路５２から第１の混合室６２へ安定的に吐出させて純水と混合させることが可能になり、混合ユニット１６で純水と薬液とを安定的に混合させて濃度ムラの発生を防止することが可能になる。
【００４５】
上記Ｓ１６において、圧力センサ２９の測定値が所定値に達したとき、Ｓ１７に進み、窒素ガス供給管路２０の流量調整弁３０を全閉にして貯留槽２２への窒素ガス供給を停止する。これにより、貯留槽２２においては、半導体製造装置５４から供給要求信号が入力される前に薬液が所定量に供給され、且つ窒素ガスが所定圧力に加圧された状態に保たれる。
【００４６】
そのため、半導体製造装置５４からの供給要求信号が入力された時点で直ちに貯留槽２２の薬液を供給開始することが可能になり、供給開始までの時間的な遅れを解消することができる。尚、本実施例の半導体製造装置５４では、例えば、ウエハ（図示せず）の洗浄工程を行う間だけ薬液の供給要求信号を混合装置１０に出力するように設定されている。
【００４７】
次のＳ１８では、準備完了信号を半導体製造装置５４に出力する。そして、Ｓ１９では、準備完了ランプ（図示せず）を点灯させて作業者に報知する。
【００４８】
次のＳ２０では、半導体製造装置５４から供給要求信号が入力されたかどうかをチェックする。Ｓ２０において、半導体製造装置５４から供給要求信号が入力されたときは、Ｓ２１に進み、純水供給経路１４の流量調整弁５０を開弁させると共に、薬液吐出管路２４の開閉弁４３を開弁させて混合ユニット１６に純水及び薬液を供給して混合させる。
【００４９】
これにより、混合ユニット１６では、薬液と純水との混合比が例えば１：９９となるよう流量制御されながら混合される。この場合、混合ユニット１６で生成される混合液の液量が２０Ｌ（リットル）とすると、薬液の供給量が２００ｍＬ（ミリリットル）であるのに対し、純水の供給量が１９８００ｍＬとなる。
【００５０】
次のＳ２２では、薬液の供給開始と共に、一定流量の薬液が貯留槽２２から吐出されるように窒素ガス供給管路２０の流量調整弁３０の弁開度を調整する。続いて、Ｓ２３に進み、半導体製造装置５４から入力された供給要求信号が停止されたかどうかをチェックする。
【００５１】
Ｓ２３において、半導体製造装置５４から入力された供給要求信号が出力されているときは、上記Ｓ２２に戻り、一定流量の薬液が貯留槽２２から吐出されるように窒素ガス供給管路２０の流量調整弁３０の弁開度を調整する。
【００５２】
また、Ｓ２３において、半導体製造装置５４から入力された供給要求信号が停止されたときは、Ｓ２４に進み、半導体製造装置５４に出力していた準備完了信号を停止させる。続いて、Ｓ２５では、準備完了ランプ（図示せず）を消灯させる。
【００５３】
次のＳ２６では、純水供給経路１４の流量調整弁５０を閉弁させると共に、薬液吐出管路２４の開閉弁４３を閉弁させて混合ユニット１６に対する純水及び薬液の供給を停止させる。これにより、半導体製造装置５４への薬液供給が停止する。
【００５４】
次のＳ２７では、貯留槽２２の逃がし弁３７を開弁させる。これにより、貯留槽２２の上部空間に充填された窒素ガスが外部に排出される。そして、Ｓ２８では、予め設定された所定時間が経過したことを確認する。これにより、貯留槽２２の上部空間は、略大気圧に減圧され、薬液の供給がスムーズに行える。
【００５５】
次のＳ２９では、貯留槽２２の逃がし弁３７を開弁させる。その後は、前述したＳ１２に戻り、Ｓ１２〜Ｓ１９の処理を実行する。従って、半導体製造装置５４からの供給要求信号が停止されている間に、Ｓ１２〜Ｓ１９の処理を実行して貯留槽２２に所定量の薬液及び所定圧力の窒素ガスを充填して次回の供給要求信号に備える。これにより、次回の供給要求信号に備えて貯留槽２２に対して薬液を直ちに供給して吐出されて減少した薬液を補充することが可能になり、次回の供給開始までの時間的な遅れを解消することができる。
【００５６】
また、前述したＳ２０において、半導体製造装置５４から供給要求信号が入力されないときは、Ｓ３０に進み、起動スイッチ（図示せず）がオフかどうかをチェックする。Ｓ３０において、起動スイッチ（図示せず）がオンのときは、上記Ｓ２０に戻り、Ｓ２０，Ｓ３０の処理を繰り返す。しかし、Ｓ３０において、起動スイッチ（図示せず）がオフのときは、Ｓ３１に進み、半導体製造装置５４に出力していた準備完了信号を停止させる。続いて、Ｓ３２では、準備完了ランプ（図示せず）を消灯させる。
【００５７】
次のＳ３３では、窒素ガス供給管路２０の流量調整弁３０を閉弁させて窒素ガスの供給を停止させる。続いて、Ｓ３４に進み、貯留槽２２の逃がし弁３７を開弁させる。これにより、貯留槽２２の上部空間に充填された窒素ガスが外部に排出される。その後は、Ｓ３５において、予め設定された所定時間が経過したかどうかをチェックする。
【００５８】
Ｓ３５において、予め設定された所定時間が経過したときは、Ｓ３６に進み、貯留槽２２の逃がし弁３７を閉弁させる。これで、一連の混合制御が終了する。
【００５９】
尚、本実施の形態では、２種類の流体を上記のような混合ユニット１６で混合するよう構成された装置を一例として挙げたが、これに限らず、他の構造とされたノズルなどで混合するように構成された混合装置にも本発明が適用できるのは勿論である。
【００６０】
また、本実施の形態では、フッ化水素酸と純水とを所定の割合で混合させる場合を一例として挙げたが、他の薬液を混合する場合にも本発明が適用できるのは勿論である。
【００６１】
また、本実施の形態では、フッ化水素酸と純水との２種類の液体を混合する場合を一例として説明したが、成分が異なる２種以上の流体を混合させる場合にも本発明が適用できるのは勿論である。
【００６２】
また、本実施例において、純水の供給手段としてポンプを用いたが、これに限らず、例えば、高低差を利用した方法を流体供給手段として用いる方法を用いても良い。
【００６３】
【発明の効果】
上述の如く、請求項１の本発明によれば、異なる流体を個別に供給する複数の流体供給経路と、異なる流体のうち流量の少ない流体が一時的に貯留される貯留槽と、貯留槽を加圧する加圧手段と、貯留槽及び流体供給経路から供給された複数の流体を混合させる混合手段と、下流に配置された機器からの供給要求信号により混合手段によって混合された液を機器へ吐出する吐出経路と、機器からの供給要求信号が入力される前に、貯留槽の圧力を任意の所定圧力に保つように制御する制御手段と、を備えたため、機器からの供給要求信号が入力された時点で貯留槽の流体を供給開始することが可能になり、供給開始までの時間的な遅れを解消することができる。
【００６４】
請求項２の本発明によれば、貯留槽の圧力を他の流体供給経路の圧力測定値以上となるように加圧手段による圧力を制御するため、混合手段で安定的に複数の流体を混合させて濃度ムラを防止することができる。
【００６５】
請求項３の本発明によれば、機器からの供給要求信号の入力が停止されたとき、貯留槽に流体を供給するため、次回の供給要求信号に備えて貯留槽に流体を直ちに供給して吐出されて減少した流体を補充することが可能になり、次回の供給開始までの時間的な遅れを解消することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明になる混合装置の一実施例の概略構成を示す構成図である。
【図２】混合ユニット１６の構成を拡大して示す縦断面図である。
【図３】図２中Ａ−Ａ線に沿う縦断面図である。
【図４】制御回路４０が実行する制御処理を説明するためのフローチャートである。
【符号の説明】
１０ 混合装置
１２ 薬液供給経路
１４ 純水供給経路
１６ 混合ユニット
１８ 薬液供給管路
２０ 窒素ガス供給管路
２２ 貯留槽
２４ 薬液吐出管路
２７ 質量流量計
２９ 第１の圧力センサ
３０ 第１の流量調整弁
３４，３７，４３ 開閉弁
３２，４８ 超音波式渦流量計
３７ 逃がし弁
３８ 液面センサ
３９ エア供給回路
４０ 制御回路
４１ 空気源
４４ 流量安定部
４５ 純水供給管路
４６ ポンプ
５０ 第２の流量調整弁
５１ 第２の圧力センサ
５２ 吐出管路
６０ ユニット本体
６２ 第１の混合室
６４ 第２の混合室
６６ 絞り孔
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば成分の異なる複数の薬液（流体）を任意の割合で混合することで半導体や液晶などフラットパネルディスプレイ製造プロセスに使用される混合液を供給する混合装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
以下、２種類の液体を混合するための混合装置として純水と薬液とを混合する混合装置を例に挙げて説明する。
【０００３】
従来、成分の異なる２種類の薬液を混合する混合装置としては、例えば、薬液の原液を計量槽で一定量にはかり採り、その後、計量した薬液を調合槽へ投下して混合した後、純水で所定濃度まで希釈し、その後調合・希釈した薬液を貯留槽へ投下し、所定の温度まで加熱して半導体製造装置へ供給されるように構成されたものがある（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
また、上記混合装置では、貯留槽に薬液と純水とを夫々供給する供給管路に夫々の流量を測定する流量計を設け、流量計によって測定された流量値から薬液の消費量を算出している。
【０００５】
【特許文献１】
特開２０００−７４７１８号公報
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記のような構成とされた混合装置では、薬液と純水との混合比が例えば１：９９の場合、生成される混合液の液量が２０Ｌ（リットル）とすると、薬液の供給量が２００ｍＬ（ミリリットル）であるのに対し、純水の供給量が１９８００ｍＬとなる。このように２液の混合比が大きく相違する場合には、例えば、流量計を用いて流量を計測しながら流量調整弁の弁開度を制御して薬液を微少流量で供給されるように流量調整することが難しく、一定の比率に混合された液の混合比が安定しなかった。
【０００７】
また、薬液の流量を微少流量に調整しながら純水に混合する場合、濃厚な薬液（原液）を供給タンクへ投下すると、予め供給タンク内に貯溜されていた薬液と十分に混合せず、濃厚な原液が拡散しないまま供給タンク内の薬液へ落下してしまうため、できるだけ薬液を少量ずつ供給しなければならないが、純水の供給量に対して薬液の供給が早くなると、一定の濃度が得られず、高濃度の薬液が供給されてしまうおそれがある。
【０００８】
このような問題を解消するため、純水の供給経路に所定流量の薬液を注入するインライン薬液混合装置の開発が進められている（例えば、特願２００２−８９３１０参照）。
【０００９】
このインライン薬液混合装置では、薬液供給経路を介して供給された５０％フッ化水素酸（薬液）と、純水供給経路を介して供給された純水とを混合ノズルで混合するように構成されている。また、エア供給回路により圧縮空気が空気管路を介して開閉弁に供給されるときは、流量安定部にも圧縮空気が供給される。また、エア供給回路により空気管路への圧縮空気の供給が停止されると、同時に流量安定部への圧縮空気の供給も停止される。このように、開閉弁と流量安定部とは、連動して動作するように圧縮空気の供給・停止が行われており、流量安定部は、開閉弁の閉弁動作に伴う流量変化を吸収して混合ノズルに供給される薬液の供給量を安定化させる。
【００１０】
しかしながら、上記インライン薬液混合方式の混合装置では、混合された液が供給される下流の機器（例えば、半導体製造装置等）から供給要求信号があると、貯留槽に所定量の薬液を注入し、薬液の注入が終了すると貯留層に窒素ガスを供給して加圧状態にしてから混合ノズルへ薬液を供給するように構成されている。
【００１１】
このように、下流の機器（例えば、半導体製造装置等）から供給要求信号があってから薬液を貯留槽に注入するため、供給要求信号が入力されてから薬液を供給開始するまでに時間がかかり、機器への薬液供給開始が遅れるという問題があった。
【００１２】
そこで、本発明は上記課題を解決した混合装置を提供することを目的とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するため、本発明は以下のような特徴を有する。
上記請求項１の本発明は、異なる流体を個別に供給する複数の流体供給経路と、異なる流体のうち流量の少ない流体が一時的に貯留される貯留槽と、貯留槽を加圧する加圧手段と、貯留槽及び流体供給経路から供給された複数の流体を混合させる混合手段と、下流に配置された機器からの供給要求信号により混合手段によって混合された液を機器へ吐出する吐出経路と、機器からの供給要求信号が入力される前に、貯留槽の圧力を任意の所定圧力に保つように制御する制御手段と、を備えたものであり、機器からの供給要求信号が入力された時点で貯留槽の流体を供給開始することが可能になり、供給開始までの時間的な遅れを解消することが可能である。
【００１４】
請求項２の本発明は、貯留槽の圧力を他の流体供給経路の圧力測定値以上となるように加圧手段による圧力を制御するものであり、混合手段で安定的に複数の流体を混合させて濃度ムラを防止することが可能になる。
【００１５】
請求項３の本発明は、機器からの供給要求信号の入力が停止されたとき、貯留槽に流体を供給するものであり、次回の供給要求信号に備えて貯留槽に流体を直ちに供給して吐出されて減少した流体を補充することが可能になり、供給開始までの時間的な遅れを解消することが可能である。
【００１６】
【発明の実施の形態】
以下、図面と共に本発明の実施の形態について説明する。
図１は本発明になる混合装置の一実施例の概略構成を示す構成図である。
図１に示されるように、混合装置１０は、例えば、薬液供給経路１２を介して供給された５０％フッ化水素酸（薬液）と、純水供給経路１４を介して供給された純水とを混合ユニット（混合手段）１６で混合して半導体製造ラインのウエハ（図示せず）を処理する半導体製造装置（請求項１記載の機器に相当）５４に供給するように構成されている。尚、フッ化水素酸は、フッ化水素（ｈｙｄｒｏｇｅｎ ｆｌｕｏｒｉｄｅ）の水溶液であり、以下「薬液（ＨＦ液）」と記す。
【００１７】
薬液供給経路１２には、薬液を一時的に貯留し、且つ貯留された薬液を窒素ガスの圧力（加圧手段）で供給する貯留槽２２が設けられている。この貯留槽２２には、薬液供給管路１８と、窒素ガス供給管路２０とが連通されている。貯留槽２２の底部より引き出された薬液吐出管路２４は、薬液の流量を微小流量に絞る絞り管２５を介して混合ユニット１６に連通されている。また、薬液吐出管路２４には、エア駆動式の開閉弁４３と、開閉弁４３の上流に設けられたチェック弁（逆流防止弁）４４が配設されている。
【００１８】
また、窒素ガス供給管路２０には、薬液供給圧力を所定圧力に減圧する減圧弁２６、窒素ガスの質量流量を計測する質量流量計２７、窒素ガス中の微粒子を除去するガスフィルタ２８、窒素ガスの流量を調整するエア駆動式の流量調整弁３０が配設されている。また、薬液供給管路１８には、薬液の流量を計測する超音波式渦流量計３２、チェック弁（逆流防止弁）３３、薬液の供給量を制御するエア駆動式の開閉弁３４が配設されている。
【００１９】
質量流量計２７は、窒素ガス供給管路２０から供給された窒素ガスの流量を計測しており、流量に比例した周期のアナログ信号を制御回路４０に発信している。そして、制御回路４０は、このアナログ信号が設定された値で安定するように流量調整弁３０の弁開度を制御する。
【００２０】
貯留槽２２は、薬液供給管路１８から供給された薬液（ＨＦ液）を一時的に貯留することで薬液（ＨＦ液）を安定供給するものである。また、貯留槽２２の上部には、ガス抜き管路３５と、圧力を測定する液面センサ３８とが設けられている。さらに、ガス抜き管路３５には、貯留槽２２に充填された窒素ガスの圧力を測定するための第１の圧力センサ２９が取り付けられている。また、圧力センサ２９は、貯留槽２２に充填された窒素ガスの圧力を測定し、圧力測定値の信号を制御回路４０に発信している。
【００２１】
そして、ガス抜き管路３５には、チェック弁（逆流防止弁）３６と、エア駆動式の逃がし弁３７とが設けられている。尚、逃がし弁３７は、薬液の注入時に開弁されて貯留槽２２の内部に残留した窒素ガスを外部へ排気することで薬液注入時の負荷を軽減する。
【００２２】
液面センサ３８からの検出信号は、制御回路４０に入力されており、制御回路４０によって貯留槽２２の液位（液面高さ）が管理されている。
【００２３】
また、純水供給経路１４は、純水供給管路４５に純水を送液するポンプ（流体供給手段）４６と、純水の流量を計測する超音波式渦流量計４８と、純水の供給量を調整する流量調整弁５０と、純水の供給圧力を測定するための第２の圧力センサ５１とが配設されている。超音波式渦流量計４８は、純水供給経路１４から供給された純水の流量を計測しており、流量に比例した周期のアナログ信号を発信器４８ａから制御回路４０に発信している。また、圧力センサ５１は、純水供給経路１４の圧力測定値の信号を制御回路４０に発信している。
【００２４】
そして、制御回路４０は、このアナログ信号から得られた流量計測値に基づいて電空レギュレータ４９に制御信号を出力する。電空レギュレータ４９は、流量調整弁５０のアクチュエータ部５０ａに連通された空気圧供給管路４９ａに設けられており、制御回路４０からの制御信号に基づいて流量調整弁５０のアクチュエータ部５０ａに供給される空気圧を調整する。これにより、流量調整弁５０は、電空レギュレータ４９から供給された空気圧によってアクチュエータ部５０ａが駆動され、アクチュエータ部５０ａの駆動により弁開度を制御して流量を調整する。
【００２５】
上記開閉弁３４，４３及び逃がし弁３７は、エア駆動式のノーマルクローズ弁構造で構成されており、エア供給回路３９から供給されるエア（圧縮空気）により開弁動作する。また、エア供給回路３９は、流量調整弁３０、開閉弁３４，４３、逃がし弁３７に連通された空気管路３０ａ，３４ａ，４３ａ，３７ａに対して空気源（コンプレッサ等）４１からの圧縮空気を選択的に供給する電磁弁（図示せず）が設けられている。
【００２６】
そのため、エア供給回路３９では、制御回路４０からの制御信号に基づいて空気管路３０ａ，３４ａ，４３ａ，３７ａへ供給する圧縮空気をオンまたはオフにして流量調整弁３０の弁開度を調整し、開閉弁３４，４３または逃がし弁３７を開弁または閉弁させる。
【００２７】
また、上記薬液供給管路１８及び純水供給管路４５は、パーフロロアルコキシ共重合体（ＰＦＡ樹脂）、あるいはポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ樹脂）などの不純物の溶出や微粒子の発生が極めて少ない材質により形成されている。
【００２８】
また、制御回路４０のメモリには、流体供給開始時、薬液吐出管路２４に配された開閉弁４３及び窒素ガス供給管路２０に配された流量調整弁３０及び開閉弁４３及び、純水供給管路４５に配された流量調整弁５０を開弁させる制御プログラム（制御手段）が格納されている。
【００２９】
また、制御回路４０のメモリには、機器からの供給要求信号が入力される前に、貯留槽の圧力を任意の所定圧力に保つように制御する制御プログラム（制御手段）と、機器からの供給要求信号の入力が停止されたとき、貯留槽２２に流体を供給する制御プログラム（制御手段）が格納されている。
【００３０】
図２は混合ユニット１６の構成を拡大して示す縦断面図である。図３は図２中Ａ−Ａ線に沿う縦断面図である。
図２及び図３に示されるように、混合ユニット１６は、耐薬品性に優れた四フッ化エチレン樹脂（ＰＴＦＥ樹脂）からなるユニット本体６０と、ユニット本体６０の一端に開口する第１の混合室６２と、ユニット本体６０の他端に開口する第２の混合室６４と、第１の混合室６２と第２の混合室６４との間を連通する小径な絞り孔６６と、第１の混合室６２の開口に圧入（または接着）された流入管６８と、第２の混合室６４の開口に圧入（または接着）された流出管７０と、第１の混合室６２に上方から挿入された絞り管２５とより構成されている。
【００３１】
第１の混合室６２、第２の混合室６４、絞り孔６６は、同一軸線上に直列に配置されており、流入管６８の流入路６８ａ，絞り孔６６，流出管７０の流出路７０ａもユニット本体６０の中心線上に配置されている。
【００３２】
流入路６８ａは、純水供給管路４５が連通され、流出路７０ａには混合ユニット１６の下流に連通された吐出管路５２が連通されている。また、絞り管２５は、針のように小径な孔２５ａが貫通しており、薬液吐出管路２４から供給された薬液を第１の混合室６２に供給する。
【００３３】
さらに、絞り管２５の先端は、第１の混合室６２の中心まで突出しており、孔２５ａから吐出された微小流量の薬液は、貯留槽２２内の窒素ガス圧によって所定圧力に加圧されており、流入路６８ａから流入された純水の流れの中心（流速の高い領域）に窒素ガス圧で押し出されて混合される。
【００３４】
そのため、流入路６８ａから第１の混合室６２の中心に吐出された純水の流れは、ポンプ４６によって所定圧力に加圧されており、高流速で絞り管２５の先端に衝突して乱流状態になりながら絞り管２５から吐出された薬液と混合される。
【００３５】
絞り孔６６の入口及び出口には、円錐状に傾斜したテーパ部７２，７４が形成されている。従って、第１の混合室６２で混合された流体は、テーパ部７２にガイドされて小径な絞り孔６６に流入し、流速を加速される。
【００３６】
また、絞り孔６６を通過した流体は、テーパ部７４にガイドされて第２の混合室６４に拡散して薬液と純水を均一の混合比となるように混合される。
【００３７】
このように、絞り孔６６で加速された流体は、第２の混合室６４において流速が減速されて流出管７０の端部によって流れが変化するため、流路面積の大きい第２の混合室６４の内部空間内を乱流状態で通過して小径な流出路７０ａから吐出管路５２へ吐出される。
【００３８】
従って、第１の混合室６２で混合された薬液と純水は、第１の混合室６２、絞り孔６６、第２の混合室６４を通過する過程で均一な一定の濃度に混合されて吐出管路５２を介して半導体製造装置５４へ安定供給される。
【００３９】
ここで、制御回路４０が実行する制御処理について説明する。
図４は制御回路４０が実行する制御処理を説明するためのフローチャートである。
【００４０】
図４に示されるように、制御回路４０は、ステップＳ１１（以下「ステップ」を省略する）において、混合装置１０の起動スイッチ（図示せず）がオンに操作されると、Ｓ１２に進み、薬液供給管路１８の開閉弁３４を開弁させると共に、貯留槽２２の逃がし弁３７を開弁させる。これにより、貯留槽２２の上部空間が減圧されると共に、薬液（原液）が薬液供給管路１８を介して貯留槽２２の底部から貯留槽２２の内部に供給される。
【００４１】
次のＳ１３では、貯留槽２２の上部に取り付けられた液面センサ３８が液面を検出したかどうかをチェックする。Ｓ１３において、液面センサ３８がオンになって液面検出信号を出力すると、貯留槽２２内に所定量の薬液が注入されたものと判断してＳ１４に進み、薬液供給管路１８の開閉弁３４を閉弁させると共に、貯留槽２２の逃がし弁３７を閉弁させる。これにより、貯留槽２２に対する薬液（原液）の供給が停止される。
【００４２】
次のＳ１５では、窒素ガス供給管路２０の流量調整弁３０を全開にして貯留槽２２に窒素ガスを供給する。これにより、貯留槽２２の上部空間に窒素ガスが充填され、貯留槽２２内部に注入された薬液を加圧させる。
【００４３】
続いて、Ｓ１６に進み、貯留槽２２の圧力を圧力センサ２９が測定し、その測定値を読み込み、圧力測定値が予め設定された所定値に達したかどうかをチェックする。
【００４４】
尚、上記所定値は、例えば、純水の供給圧力より高い圧力に設定されている。すなわち、貯留槽２２から吐出される薬液の圧力は、純水の供給圧力以上であり、混合ユニット１６において、薬液を吐出管路５２から第１の混合室６２へ安定的に吐出させて純水と混合させることが可能になり、混合ユニット１６で純水と薬液とを安定的に混合させて濃度ムラの発生を防止することが可能になる。
【００４５】
上記Ｓ１６において、圧力センサ２９の測定値が所定値に達したとき、Ｓ１７に進み、窒素ガス供給管路２０の流量調整弁３０を全閉にして貯留槽２２への窒素ガス供給を停止する。これにより、貯留槽２２においては、半導体製造装置５４から供給要求信号が入力される前に薬液が所定量に供給され、且つ窒素ガスが所定圧力に加圧された状態に保たれる。
【００４６】
そのため、半導体製造装置５４からの供給要求信号が入力された時点で直ちに貯留槽２２の薬液を供給開始することが可能になり、供給開始までの時間的な遅れを解消することができる。尚、本実施例の半導体製造装置５４では、例えば、ウエハ（図示せず）の洗浄工程を行う間だけ薬液の供給要求信号を混合装置１０に出力するように設定されている。
【００４７】
次のＳ１８では、準備完了信号を半導体製造装置５４に出力する。そして、Ｓ１９では、準備完了ランプ（図示せず）を点灯させて作業者に報知する。
【００４８】
次のＳ２０では、半導体製造装置５４から供給要求信号が入力されたかどうかをチェックする。Ｓ２０において、半導体製造装置５４から供給要求信号が入力されたときは、Ｓ２１に進み、純水供給経路１４の流量調整弁５０を開弁させると共に、薬液吐出管路２４の開閉弁４３を開弁させて混合ユニット１６に純水及び薬液を供給して混合させる。
【００４９】
これにより、混合ユニット１６では、薬液と純水との混合比が例えば１：９９となるよう流量制御されながら混合される。この場合、混合ユニット１６で生成される混合液の液量が２０Ｌ（リットル）とすると、薬液の供給量が２００ｍＬ（ミリリットル）であるのに対し、純水の供給量が１９８００ｍＬとなる。
【００５０】
次のＳ２２では、薬液の供給開始と共に、一定流量の薬液が貯留槽２２から吐出されるように窒素ガス供給管路２０の流量調整弁３０の弁開度を調整する。続いて、Ｓ２３に進み、半導体製造装置５４から入力された供給要求信号が停止されたかどうかをチェックする。
【００５１】
Ｓ２３において、半導体製造装置５４から入力された供給要求信号が出力されているときは、上記Ｓ２２に戻り、一定流量の薬液が貯留槽２２から吐出されるように窒素ガス供給管路２０の流量調整弁３０の弁開度を調整する。
【００５２】
また、Ｓ２３において、半導体製造装置５４から入力された供給要求信号が停止されたときは、Ｓ２４に進み、半導体製造装置５４に出力していた準備完了信号を停止させる。続いて、Ｓ２５では、準備完了ランプ（図示せず）を消灯させる。
【００５３】
次のＳ２６では、純水供給経路１４の流量調整弁５０を閉弁させると共に、薬液吐出管路２４の開閉弁４３を閉弁させて混合ユニット１６に対する純水及び薬液の供給を停止させる。これにより、半導体製造装置５４への薬液供給が停止する。
【００５４】
次のＳ２７では、貯留槽２２の逃がし弁３７を開弁させる。これにより、貯留槽２２の上部空間に充填された窒素ガスが外部に排出される。そして、Ｓ２８では、予め設定された所定時間が経過したことを確認する。これにより、貯留槽２２の上部空間は、略大気圧に減圧され、薬液の供給がスムーズに行える。
【００５５】
次のＳ２９では、貯留槽２２の逃がし弁３７を開弁させる。その後は、前述したＳ１２に戻り、Ｓ１２〜Ｓ１９の処理を実行する。従って、半導体製造装置５４からの供給要求信号が停止されている間に、Ｓ１２〜Ｓ１９の処理を実行して貯留槽２２に所定量の薬液及び所定圧力の窒素ガスを充填して次回の供給要求信号に備える。これにより、次回の供給要求信号に備えて貯留槽２２に対して薬液を直ちに供給して吐出されて減少した薬液を補充することが可能になり、次回の供給開始までの時間的な遅れを解消することができる。
【００５６】
また、前述したＳ２０において、半導体製造装置５４から供給要求信号が入力されないときは、Ｓ３０に進み、起動スイッチ（図示せず）がオフかどうかをチェックする。Ｓ３０において、起動スイッチ（図示せず）がオンのときは、上記Ｓ２０に戻り、Ｓ２０，Ｓ３０の処理を繰り返す。しかし、Ｓ３０において、起動スイッチ（図示せず）がオフのときは、Ｓ３１に進み、半導体製造装置５４に出力していた準備完了信号を停止させる。続いて、Ｓ３２では、準備完了ランプ（図示せず）を消灯させる。
【００５７】
次のＳ３３では、窒素ガス供給管路２０の流量調整弁３０を閉弁させて窒素ガスの供給を停止させる。続いて、Ｓ３４に進み、貯留槽２２の逃がし弁３７を開弁させる。これにより、貯留槽２２の上部空間に充填された窒素ガスが外部に排出される。その後は、Ｓ３５において、予め設定された所定時間が経過したかどうかをチェックする。
【００５８】
Ｓ３５において、予め設定された所定時間が経過したときは、Ｓ３６に進み、貯留槽２２の逃がし弁３７を閉弁させる。これで、一連の混合制御が終了する。
【００５９】
尚、本実施の形態では、２種類の流体を上記のような混合ユニット１６で混合するよう構成された装置を一例として挙げたが、これに限らず、他の構造とされたノズルなどで混合するように構成された混合装置にも本発明が適用できるのは勿論である。
【００６０】
また、本実施の形態では、フッ化水素酸と純水とを所定の割合で混合させる場合を一例として挙げたが、他の薬液を混合する場合にも本発明が適用できるのは勿論である。
【００６１】
また、本実施の形態では、フッ化水素酸と純水との２種類の液体を混合する場合を一例として説明したが、成分が異なる２種以上の流体を混合させる場合にも本発明が適用できるのは勿論である。
【００６２】
また、本実施例において、純水の供給手段としてポンプを用いたが、これに限らず、例えば、高低差を利用した方法を流体供給手段として用いる方法を用いても良い。
【００６３】
【発明の効果】
上述の如く、請求項１の本発明によれば、異なる流体を個別に供給する複数の流体供給経路と、異なる流体のうち流量の少ない流体が一時的に貯留される貯留槽と、貯留槽を加圧する加圧手段と、貯留槽及び流体供給経路から供給された複数の流体を混合させる混合手段と、下流に配置された機器からの供給要求信号により混合手段によって混合された液を機器へ吐出する吐出経路と、機器からの供給要求信号が入力される前に、貯留槽の圧力を任意の所定圧力に保つように制御する制御手段と、を備えたため、機器からの供給要求信号が入力された時点で貯留槽の流体を供給開始することが可能になり、供給開始までの時間的な遅れを解消することができる。
【００６４】
請求項２の本発明によれば、貯留槽の圧力を他の流体供給経路の圧力測定値以上となるように加圧手段による圧力を制御するため、混合手段で安定的に複数の流体を混合させて濃度ムラを防止することができる。
【００６５】
請求項３の本発明によれば、機器からの供給要求信号の入力が停止されたとき、貯留槽に流体を供給するため、次回の供給要求信号に備えて貯留槽に流体を直ちに供給して吐出されて減少した流体を補充することが可能になり、次回の供給開始までの時間的な遅れを解消することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明になる混合装置の一実施例の概略構成を示す構成図である。
【図２】混合ユニット１６の構成を拡大して示す縦断面図である。
【図３】図２中Ａ−Ａ線に沿う縦断面図である。
【図４】制御回路４０が実行する制御処理を説明するためのフローチャートである。
【符号の説明】
１０ 混合装置
１２ 薬液供給経路
１４ 純水供給経路
１６ 混合ユニット
１８ 薬液供給管路
２０ 窒素ガス供給管路
２２ 貯留槽
２４ 薬液吐出管路
２７ 質量流量計
２９ 第１の圧力センサ
３０ 第１の流量調整弁
３４，３７，４３ 開閉弁
３２，４８ 超音波式渦流量計
３７ 逃がし弁
３８ 液面センサ
３９ エア供給回路
４０ 制御回路
４１ 空気源
４４ 流量安定部
４５ 純水供給管路
４６ ポンプ
５０ 第２の流量調整弁
５１ 第２の圧力センサ
５２ 吐出管路
６０ ユニット本体
６２ 第１の混合室
６４ 第２の混合室
６６ 絞り孔
Claims (3)
- 異なる流体を個別に供給する複数の流体供給経路と、
前記異なる流体のうち流量の少ない流体が一時的に貯留される貯留槽と、
該貯留槽を加圧する加圧手段と、
該貯留槽及び前記流体供給経路から供給された複数の流体を混合させる混合手段と、
下流に配置された機器からの供給要求信号により前記混合手段によって混合された液を前記機器へ吐出する吐出経路と、
前記機器からの供給要求信号が入力される前に、前記貯留槽の圧力を任意の所定圧力に保つように制御する制御手段と、
を備えたことを特徴とする混合装置。 - 前記制御手段は、前記貯留槽の圧力を他の流体供給経路の圧力測定値以上となるように前記加圧手段による圧力を制御することを特徴とする請求項１記載の混合装置。
- 前記制御手段は、前記機器からの供給要求信号の入力が停止されたとき、前記貯留槽に流体を供給することを特徴とする請求項１記載の混合装置。
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