JP2002282672A

JP2002282672A - 混合装置

Info

Publication number: JP2002282672A
Application number: JP2001091133A
Authority: JP
Inventors: Yasuhiro Tsunokake; 泰洋角掛; Tatsuya Funahashi; 達也舟橋
Original assignee: Tokico Ltd
Current assignee: Tokico Ltd
Priority date: 2001-03-27
Filing date: 2001-03-27
Publication date: 2002-10-02

Abstract

(57)【要約】【課題】本発明は成分の異なる液体を一定の比率で混
合して供給タンクに安定補充することを課題とする。【解決手段】混合装置１０は、ＨＦタンク１１に貯溜
された薬液（ＨＦ液）と、純水製造装置２１により生成
された純水とを供給タンク１３に供給して所定の割合で
混合し、この混合液を供給タンク１３の下流側に設置さ
れた半導体製造装置４５に供給する。制御部１９は、メ
モリ６５に記憶された供給タンク１３で薬液と純水を混
合する際に行われる薬液を間欠的に供給するための制御
データを読み込み、読み込まれた制御データに応じて薬
液を間欠的に供給するように薬液用電磁弁６４の開閉動
作を制御する。定量タンク６３に貯留された薬液は、窒
素ガスにより加圧されているので、薬液用電磁弁６４が
開弁したとき、瞬間的に一定量の薬液が供給タンク１３
に噴射される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば成分の異な
る複数の薬液を混合することで半導体や液晶などフラッ
トパネルディスプレイ製造プロセスに使用される混合液
を供給する混合装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、成分の異なる２種類の薬液を混合
する混合装置では、薬液の原液及び純水を供給する各補
充ラインに超音波渦流量計とエア駆動バルブとが組み込
まれた構成であり、超音波渦流量計から出力されるパル
スに応じて薬液の補充量を計量して供給タンク（薬液貯
溜槽）へ送液し、供給タンクにおいて薬液の原液及び純
水を混合している。その後、供給タンクで所定の比率に
混合された液は、半導体製造装置へと供給される。

【０００３】また、薬液と純水との混合比が例えば１：
９９の場合、生成される混合液の液量が２０Ｌ（リット
ル）とすると、薬液の供給量が２００ｍＬ（ミリリット
ル）であるのに対し、純水の供給量が１９８００ｍＬと
なる。このように２液の混合比が大きく相違する場合に
は、薬液を微少流量で供給されるように流量調整するこ
とが難しい。また、濃厚な薬液（原液）を供給タンクへ
投下すると、予め供給タンク内に貯溜されていた薬液と
十分に混合せず、濃厚な原液が拡散しないまま供給タン
ク内の薬液へ落下してしまうため、できるだけ薬液を少
量ずつ供給しなければならない。

【０００４】そのため、超音波渦流量計により計量され
た所定量の薬液（原液）は、エア駆動バルブのすぐ下流
に設けた予備貯留タンクへ一旦流入し、予備貯留タンク
の出口に設けられた手動絞り弁により薬液の供給時間が
純水の供給時間とが略一致するように流量調整されて供
給タンクへ供給する方法が検討されている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ような構成とされた従来の混合装置では、例えば混合比
を変更する場合、その都度、手動絞り弁の絞り開度を微
調整する必要があり、この調整操作が煩雑で時間がかか
るばかりか、目的の微少流量となるように、手動絞り弁
の絞り開度を正確に調整することが難しいといった問題
がある。

【０００６】また、絞り弁の調整不良による混合比のバ
ラツキを防止するため、所定の混合比に計測された薬液
の所定量と純水の所定量を供給タンクに一括供給し、そ
の後供給タンク内を攪拌して均一な濃度にする方法があ
る。

【０００７】しかしながら、所定量の薬液と純水を一括
投入する方法では、供給タンク内で攪拌しなければ均一
な濃度にならないため供給タンク内の液全体を一定濃度
にするのにかなりの時間を要する。そのため、例えば下
流側へ混合しながら連続供給することができず、供給タ
ンク内の攪拌が終了するまで、下流側の装置を待機させ
る必要がある。

【０００８】そこで、本発明は上記課題を解決した混合
装置を提供することを目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明は以下のような特徴を有する。上記請求項１
記載の発明は、第２の液体供給手段と前記供給タンクと
の間に設けられた開閉弁と、第２の液体供給手段の供給
量を供給タンクに供給するための所要時間が、第１の液
体の前記供給タンクへの供給量を第１の供給手段により
供給するための所要時間と一致するように開閉弁を所定
周期で開閉制御する弁制御手段と、を備えてなるもので
あり、供給タンクで混合された液の濃度ムラをできるだ
け小さくして均一に混合された液体を短時間で安定供給
することができる。

【００１０】また、請求項２記載の発明は、第２の液体
供給手段と開閉弁との間に設けられ、第２の液体を一定
量貯留する定量タンクと、定量タンク内に所定の圧力の
気体を供給する加圧手段と、を備えており、開閉弁が開
弁されたとき第２の液体を瞬間的に供給タンクへ供給す
ることができる。

【００１１】

【発明の実施の形態】以下、図面と共に本発明の実施の
形態について説明する。図１は本発明になる混合装置の
一実施例の概略構成を示すブロック図である。図１に示
されるように、混合装置１０は、ＨＦタンク１１に貯溜
された５０％フッ化水素酸（薬液）と、純水製造装置２
１により生成された純水とを供給タンク１３に補充して
所定の割合で混合し、供給タンク１３において混合され
た混合液を供給タンク１３の下流側に設置された半導体
製造装置４５に供給するように構成されている。尚、フ
ッ化水素酸は、フッ化水素（hydrogen fluoride）の水
溶液であり、以下「薬液（ＨＦ液）」と記す。

【００１２】ＨＦタンク１１に貯溜されたＨＦ液は、Ｈ
Ｆ補充路１２を介して供給タンク１３に補充される。こ
のＨＦ補充路１２の接液部の材質は、耐薬品性に優れ、
極めて不純物の溶出の少ないフッ素樹脂、例えばＰＦＡ
（バーフロロアルコキシ共重合体）などにより構成され
る。

【００１３】１４はＨＦ計量用超音波渦流量計であり、
ＨＦ補充路１２を送液されるＨＦ液の流量を計測する。
また、ＨＦ計量用超音波渦流量計１４の接液部は、上記
ＰＦＡにより形成されている。

【００１４】ＨＦ計量用超音波渦流量計１４の下流側に
は、流量調整機構付のＨＦ補充用エア駆動弁１５が設け
られている。このＨＦ補充用エア駆動弁１５を駆動する
圧縮空気は、エア供給路２５から分岐したエア供給路１
６より約０．５〜０．７ＭＰａ範囲内の圧力で流入し、
減圧弁１７により０．３〜０．５ＭＰａまで減圧され
る。

【００１５】また、エア供給路１６から供給される圧縮
空気は、三方電磁弁１８の切替え動作によりＨＦ補充用
エア駆動弁１５へ供給される。

【００１６】制御部１９は、ＨＦ計量用超音波渦流量計
１４及び三方電磁弁１８と接続されており、ＨＦ計量用
超音波渦流量計１４から出力される流量パルスを計数
し、そのパルス数に応じて三方電磁弁１８の吐出側流路
を排気路２０側または管路１６ｃ側に切替え制御を行っ
ている。

【００１７】また、制御部１９は、記憶手段としてのメ
モリ６５を有する。メモリ６５には、供給タンク１３で
薬液（ＨＦ液）と純水を混合する際に行われる薬液（Ｈ
Ｆ液）を間欠的に供給するための制御データが格納され
たデータベース６５ａ、及びデータベース６５ａから読
み込まれた制御データに応じて薬液（ＨＦ液）を間欠的
に供給するように弁制御を行う制御プログラム（弁制御
手段）６５ｂが格納されている。

【００１８】また、制御部１９は、ＬＣＤ表示付きの係
数設定器６６と接続されており、薬液（ＨＦ液）の混合
比率や容量等の諸条件の設定や装置の運転状態等の表示
を行うようになっている。

【００１９】また、三方電磁弁１８の吐出側流路が管路
１６ｃ側に切替えられると、ＨＦ補充用エア駆動弁１５
は開弁し、三方電磁弁１８の吐出側流路が排気路２０側
に切替えられると、ＨＦ補充用エア駆動弁１５は閉弁す
る。そして、ＨＦ補充用エア駆動弁１５は、ＨＦ補充用
管路１２ｂを介して供給タンク１３と連通されている。

【００２０】純水製造装置２１により生成された純水
は、純水補充路２２を介して供給タンク１３に補充され
る。また、純水補充路２２には、純水計量用超音波渦流
量計２３と流量調整機構付の純水補充用エア駆動弁２４
が配設されている。この純水補充用エア駆動弁２４を駆
動する圧縮空気は、エア供給路２５より約０．５〜０．
７ＭＰａ範囲内の圧力で流入し、減圧弁１７により０．
３〜０．５ＭＰａまで減圧される。

【００２１】また、ＨＦ補充路１２には、純水計量用超
音波渦流量計２３の上流で窒素ガス供給路６０が接続さ
れている。この窒素ガス供給路６０は、圧縮された窒素
ガスを生成するガス供給源（図示せず）に連通されてお
り、減圧弁６１と逆止弁６２が配設されている。この窒
素ガス供給路６０から供給された窒素ガスは、減圧弁６
１により所定圧に減圧されてＨＦ補充路１２に供給さ
れ、ＨＦ液を加圧する。

【００２２】さらに、ＨＦ補充路１２には、窒素ガスに
より加圧されたＨＦ液を一旦貯留するための定量タンク
６３と、定量タンク６３の吐出口を開閉する薬液用電磁
弁６４とが設けられている。定量タンク６３は、ＨＦ計
量用超音波渦流量計１４により計測された一定量（例え
ば、２０ｍＬ）を一時的に貯留させるための容器であ
り、内部に窒素ガス供給路６０から供給された窒素ガス
が充填されて加圧されている。薬液用電磁弁６４は、制
御部１９からの制御信号により所定時間間隔で開弁と閉
弁とを交互に行うことによりＨＦ液を微少量ずつ間欠的
に供給するための弁装置である。

【００２３】また、エア供給路２５から供給される圧縮
空気は、三方電磁弁２７の切替え動作により純水補充用
エア駆動弁２４へ供給される。

【００２４】制御部１９は、純水計量用超音波渦流量計
２３及び三方電磁弁２７と接続されており、純水計量用
超音波渦流量計２３から出力される流量パルスを計数
し、そのパルス数に応じて三方電磁弁２７の吐出側流路
を排気路２８側または管路２５ｂ側に切替え制御を行っ
ている。

【００２５】また、三方電磁弁２７の吐出側流路が管路
２５ｂ側に切替えられると、純水補充用エア駆動弁２４
は開弁し、三方電磁弁２７の吐出側流路が排気路２８側
に切替えられると、純水補充用エア駆動弁２４は閉弁す
る。そして、純水補充用エア駆動弁２４は、純水補充用
管路２２ｂを介して供給タンク１３と連通されている。

【００２６】供給タンク１３では、上記ＨＦ補充用エア
駆動弁１５の開弁によりＨＦ液が補充されると共に、上
記純水補充用エア駆動弁２４の開弁により純水が補充さ
れ、ＨＦ液と純水が所定の割合で混合された混合液が生
成される。

【００２７】また、供給タンク１３には、混合液の液面
を監視する第１、第２液面センサ３６，３７が挿入され
ている。第１液面センサ３６は、混合液の上限位置を検
知するレベルゲージであり、第２液面センサ３７は、混
合液の補充要求位置を検知するレベルゲージである。

【００２８】供給タンク１３内で混合された混合液は、
薬液供給ポンプ３３により圧送されて供給管路３４を介
して半導体製造装置４５へ送液される。また、薬液供給
ポンプ３３の下流側には、流量調整機構付きの薬液供給
用電磁弁３５が設けられている。

【００２９】また、薬液供給ポンプ３３と薬液供給用電
磁弁３５との間の管路３４からは攪拌用リターン管路５
２が分岐しており、後述するように供給タンク１３内へ
の薬液（ＨＦ液）の供給が終了した時点で薬液供給ポン
プ３３が起動され、供給タンク１３の底部から吐出され
た混合液が攪拌用リターン管路５２を介して供給タンク
１３の上部へ還流されることにより供給タンク１３内の
混合液を攪拌して濃度を均一化する。尚、攪拌用リター
ン管路５２には、供給タンク１３内の液体を循環させて
撹拌するときに手動操作で開弁される薬液循環用弁５３
が配設されている。

【００３０】また、供給タンク１３と半導体製造装置４
５との間には、半導体製造装置４５で余った余剰混合液
を供給タンク１３へ戻す回収管路５９が連通されてい
る。そのため、供給タンク１３では、ＨＦ補充用管路１
２ｃから補充されるＨＦ液と、純水補充用管路２２ｂか
ら補充される純水と、攪拌用リターン管路５２から還流
された混合液と、回収管路５９から回収された混合液と
が混合される。

【００３１】次に上記のように構成された混合装置１１
の薬液混合処理について説明する。尚、本実施の形態で
は、供給タンク１３の容量が２０Ｌ（リットル）の場合
で、ＨＦ：Ｈ_２Ｏ＝１：９９の比率で混合する場合につ
いて説明する。このとき、ＨＦ計量用超音波渦流量計１
４及び純水計量用超音波渦流量計２３からは０．２８ｍ
Ｌあたり１パルス出力されるものとする。その場合、Ｈ
Ｆ液と純水の混合比が１：９９であるから、供給タンク
１３内にはＨＦ液を２００ｍＬ（７１４パルスに相当す
る）補充し、純水を１９８００ｍＬ（７０７１４パルス
に相当する）補充しなければならない。

【００３２】図２はデータベース６５ａの一例を模式的
に示す図である。

【００３３】図２に示されるように、データベース６５
ａは、供給タンク１３の液供給可能容量とＨＦ液と純水
との比率に応じた時間間隔ｔ_１ａ〜ｔ_１ｎ，ｔ_２ａ〜ｔ
_２ｎ，ｔ_３ａ〜ｔ_３ｎ・・・が制御データとして予め登
録されている。従って、制御部１９は、ＨＦ液と純水と
の混合液の供給を開始する前にデータベース６５ａから
そのときの供給タンク１３の液供給可能容量とＨＦ液と
純水との比率に応じた時間間隔ｔを読み込んで純水供給
時間の開始から終了までの間をＨＦ液供給回数で等分し
た時間間隔（ＨＦ液間欠時間）を設定する。

【００３４】尚、本実施例では、データベース６５ａに
薬液用電磁弁６４を間欠的に開弁させる時間間隔が液供
給可能容量とＨＦ液と純水との比率に応じて登録されて
いる場合を一例として挙げたが、これに限らず、例えば
演算式に応じて時間間隔（ＨＦ液間欠時間）を演算する
ための他のパラメータを登録するようにしても良い。

【００３５】図３（Ａ）（Ｂ）は純水の供給時間とＨＦ
液の間欠供給の時間間隔を示すタイミングチャートであ
る。図３（Ａ）（Ｂ）に示されるように、例えば、１回
のＨＦ液供給量が１０ｍＬの場合、２００ｍＬのＨＦ液
を２０回間欠供給することになり、純水を１９８００ｍ
Ｌ供給するのに要する時間Ｔ（純水補充用エア駆動弁２
４の開弁時間）が５分間（３００秒）とした場合、ＨＦ
液間欠時間ｔは３００秒／２０回＝１５秒間隔となる。
このＨＦ液間欠時間ｔ（薬液用電磁弁６４の開弁間隔）
は、上記薬液用電磁弁６４を開弁させるための時間間隔
である。また、薬液用電磁弁６４の開弁時間ｔａは、例
えば、１回のＨＦ液供給量が１０ｍＬとなる時間に設定
されており、薬液用電磁弁６４は開弁時間ｔａが経過し
た時点で閉弁される。

【００３６】このように、ＨＦ液を微少量ずつ間欠供給
することにより、ＨＦ補充用管路１２ｃから補充される
ＨＦ液は、供給タンク１３に純水が供給開始されてから
供給終了するまでの間、一定時間毎に一定量ずつ供給さ
れるため、供給タンク１３においてＨＦ液の濃度むらを
減らすことができる。

【００３７】ここで、制御部１９が実行する制御処理に
ついて説明する。図４及び図５は制御部１９で実行され
る薬液混合制御処理の手順を説明するためのフローチャ
ートである。

【００３８】図４に示されるように、制御部１９は、混
合装置１０の電源スイッチ（図示せず）がオンに操作さ
れると、ステップＳ１１（以下「ステップ」を省略す
る）で係数設定器６６により設定されたプリセット値
（本実施例では容量、混合比率）を読み込む。

【００３９】Ｓ１２では、純水供給量と薬液供給量を演
算する。例えば、供給タンク１３の容量が２０Ｌ（リッ
トル）で、ＨＦ：Ｈ_２Ｏ＝１：９９の比率で混合する場
合、薬液供給量（ＨＦ液）が２００ｍＬ、純水供給量が
１９８００ｍＬとなる。

【００４０】次のＳ１３では、三方電磁弁１８，２７を
切替えてＨＦ補充用エア駆動弁１５及び純水補充用エア
駆動弁２４及び薬液用電磁弁６４を開弁させる。続い
て、Ｓ１４に進み、ＨＦ計量用超音波渦流量計１４及び
純水計量用超音波渦流量計２３から出力される流量パル
スを計数して供給タンク１３に供給されたＨＦ液の積算
流量及び純水の積算流量を測定する。

【００４１】次のＳ１５では、純水供給量が所定量（本
実施例では１９８００ｍＬ）に達したかどうかをチェッ
クする。Ｓ１５において、純水供給量が所定量に達して
いないときはＳ１６に進み、薬液供給量が所定量（本実
施例では２００ｍＬ）に達したかどうかをチェックす
る。Ｓ１６において、薬液供給量が所定量に達していな
いときはＳ１４に戻り、ＨＦ液及び純水の流量計測を行
う。

【００４２】また、Ｓ１５において、純水供給量が所定
量に達したときは、Ｓ１７に進み、三方電磁弁２７を切
替えて純水補充用エア駆動弁２４を閉弁させて純水の供
給を停止させる。次のＳ１８では、ＨＦ計量用超音波渦
流量計１４から出力される流量パルスを計数して定量タ
ンク６３に供給されたＨＦ液の積算流量を測定する。続
いて、Ｓ１９に進み、薬液供給量が所定量（本実施例で
は２００ｍＬ）に達したかどうかをチェックする。Ｓ１
９において、薬液供給量が所定量に達していないとき
は、Ｓ１８に戻り、ＨＦ液の流量計測を行う。

【００４３】また、Ｓ１９において、薬液供給量が所定
量に達したときは、Ｓ２０に進み、三方電磁弁１８を切
替えてＨＦ補充用エア駆動弁１５及び薬液用電磁弁６４
を閉弁させて薬液（ＨＦ液）の供給を停止させる。

【００４４】また、上記Ｓ１６において、薬液供給量が
所定量に達したときは、Ｓ２１に進み、三方電磁弁１８
を切替えてＨＦ補充用エア駆動弁１５及び薬液用電磁弁
６４を閉弁させて薬液（ＨＦ液）の供給を停止させる。
続いて、Ｓ２２に進み、純水計量用超音波渦流量計２３
から出力される流量パルスを計数して供給タンク１３に
供給された純水の積算流量を測定する。続いて、Ｓ２３
に進み、純水供給量が所定量（本実施例では１９８００
ｍＬ）に達したかどうかをチェックする。Ｓ２３におい
て、純水供給量が所定量に達していないときは、Ｓ２２
に戻り、純水の流量計測を行う。

【００４５】また、Ｓ２３において、純水供給量が所定
量に達したときは、Ｓ２４に進み、三方電磁弁２７を切
替えて純水補充用エア駆動弁２４を閉弁させて純水の供
給を停止させる。

【００４６】次のＳ２５では、三方電磁弁１８，２７を
作動停止状態にセットする。続いて、Ｓ２６に進み、薬
液供給ポンプ３３が起動され、供給タンク１３の底部か
ら吐出された混合液が攪拌用リターン管路５２を介して
供給タンク１３の上部へ還流されることにより供給タン
ク１３内の混合液を攪拌して濃度を均一化する。

【００４７】Ｓ２７では、薬液供給ポンプ３３による攪
拌が開始されてから予め設定された所定時間が経過する
と、Ｓ２８に進み、薬液供給用電磁弁３５を開弁させて
半導体製造装置４５への送液を開始する。このように、
混合装置１０を起動させた場合の初回の薬液生成処理
は、上記Ｓ１２で求められた薬液供給量（２００ｍ
Ｌ）、純水供給量（１９８００ｍＬ）を供給タンク１３
に一括供給して攪拌することにより、目的の混合比で混
合された純水と薬液（ＨＦ液）との混合液を短時間で生
成できる。

【００４８】次のＳ２９では、２回目以降の薬液生成処
理を行う場合、すなわち、第２液面センサ３７が供給タ
ンク１３内の薬液が補充要求位置まで低下したことを検
出すると、図５に示すＳ３０で、係数設定器６６により
設定されたプリセット値（本実施例では容量、混合比
率）を読み込む。

【００４９】Ｓ３１では、純水供給量と薬液供給量を演
算する。例えば、供給タンク１３の容量が２０Ｌ（リッ
トル）で、ＨＦ：Ｈ_２Ｏ＝１：９９の比率で混合する場
合、薬液供給量（ＨＦ液）が２００ｍＬ、純水供給量が
１９８００ｍＬとなる。

【００５０】次のＳ３２では、係数設定器６６により設
定されたプリセット値（本実施例では容量、混合比率）
に応じた薬液用電磁弁６４の作動周期（開弁時間間隔）
をメモリ６５に登録されたデータベース６５ａ（図２参
照）から読み込む。

【００５１】次のＳ３３では、三方電磁弁１８，２７を
切替えてＨＦ補充用エア駆動弁１５及び純水補充用エア
駆動弁２４を開弁させて薬液（ＨＦ液）を定量タンク６
３に供給すると共に、供給タンク１３へ純水を供給す
る。続いて、Ｓ３４では、薬液用電磁弁６４を上記Ｓ３
１で得られた作動周期（開弁時間間隔）で間欠的に開弁
させる（図３参照）。

【００５２】定量タンク６３に貯留された薬液（ＨＦ
液）は、窒素ガス供給路６０から供給された窒素ガスに
より加圧されているので、薬液用電磁弁６４が開弁した
とき、瞬間的に一定量（例えば、１０ｍＬ）の薬液（Ｈ
Ｆ液）が供給タンク１３に噴射される。

【００５３】そして、Ｓ３５に進み、ＨＦ計量用超音波
渦流量計１４から出力される流量パルスを計数して定量
タンク６３に供給されるＨＦ液の積算流量及び、純水計
量用超音波渦流量計２３から出力される流量パルスを計
数して供給タンク１３に供給される純水の積算流量を測
定する。

【００５４】次のＳ３６では、薬液供給量が所定量（本
実施例では２００ｍＬ）に達したかどうかをチェックす
る。Ｓ３６において、薬液供給量が所定量に達していな
いときはＳ３５に戻り、ＨＦ液及び純水の流量計測を行
う。

【００５５】また、Ｓ３６において、薬液供給量が所定
量に達したときは、Ｓ３７に進み、三方電磁弁１８を切
替えて薬液補充用エア駆動弁１５を閉弁させて純水の供
給を停止させる。これで、定量タンク６３には、所定量
（本実施例では２００ｍＬ）の薬液（ＨＦ液）が貯留さ
れる。

【００５６】次のＳ３８では、純水計量用超音波渦流量
計２３から出力される流量パルスを計数して供給タンク
１３に供給された純水の積算流量を測定する。続いて、
Ｓ３９に進み、純水供給量が所定量（本実施例では１９
８００ｍＬ）に達したかどうかをチェックする。Ｓ３９
において、純水供給量が所定量に達していないときは、
Ｓ３８に戻り、純水の流量計測を行う。

【００５７】また、Ｓ３９において、純水供給量が所定
量に達したときは、Ｓ４０に進み、三方電磁弁２７を切
替えて純水補充用エア駆動弁２４及び薬液用電磁弁６４
を同時に閉弁させて純水及び薬液（ＨＦ液）の供給を停
止させる。これにより、薬液用電磁弁６４の所定時間間
隔ｔ毎の開弁動作が終了して定量タンク６３に一時的に
貯留された所定量（本実施例では２００ｍＬ）の薬液
（ＨＦ液）が純水の供給時間Ｔに対して１０ｍＬずつ２
０回に分けた間欠供給が終了する。

【００５８】次のＳ４１では、連続運転を行うかどうか
をチェックする。Ｓ４１において、連続運転する場合に
は、上記Ｓ２９に戻り、Ｓ２９以降の処理を繰り返す。
また、Ｓ４１において、連続運転しない場合には、Ｓ４
２に進み、薬液供給ポンプ３３を停止させると共に、薬
液供給用電磁弁３５を閉弁させて今回の処理を中止す
る。

【００５９】このように、例えば、１：９９の比率で２
液を混合する場合に、一方の供給量が微少となる薬液を
他方の多量に供給される液が供給されている時間内に間
欠供給するため、供給タンク１３内の濃度むらをできる
だけ減らして均一な混合液を短時間で生成することが可
能になる。

【００６０】尚、本実施の形態では、フッ化水素酸と純
水とを所定の割合で混合させる場合を一例として挙げた
が、他の薬液を混合する場合にも本発明が適用できるの
は勿論である。

【００６１】また、本実施の形態では、フッ化水素酸と
純水との２種類の液体を混合する場合を一例として説明
したが、成分が異なる２種以上の液体を混合させる場合
にも本発明が適用できるのは勿論である。

【００６２】

【発明の効果】上述の如く、請求項１記載の発明によれ
ば、第２の液体供給手段と前記供給タンクとの間に設け
られた開閉弁と、第２の液体供給手段の供給量を供給タ
ンクに供給するための所要時間が、第１の液体の前記供
給タンクへの供給量を第１の供給手段により供給するた
めの所要時間と一致するように開閉弁を所定周期で開閉
制御する弁制御手段と、を備えてなるものであり、供給
タンクで混合された液の濃度ムラをできるだけ小さくし
て均一に混合された液体を短時間で安定供給することが
できる。

【００６３】また、請求項２記載の発明によれば、第２
の液体供給手段と開閉弁との間に設けられ、第２の液体
を一定量貯留する定量タンクと、定量タンク内に所定の
圧力の気体を供給する加圧手段と、を備えており、開閉
弁が開弁されたとき第２の液体を瞬間的に供給タンクへ
供給することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明になる混合装置の一実施例の概略構成を
示すブロック図である。

【図２】データベース６５ａの一例を模式的に示す図で
ある。

【図３】純水の供給時間とＨＦ液の間欠供給の時間間隔
を示すタイミングチャートである。

【図４】制御部１９で実行される薬液混合制御処理の手
順を説明するためのフローチャートである。

【図５】図４に示す処理に続いて実行される薬液混合制
御処理の手順を説明するためのフローチャートである。

【符号の説明】

１０混合装置１１ＨＦタンク１２ＨＦ供給路１３供給タンク１４ＨＦ計量用超音波渦流量計１５ＨＦ供給用エア駆動弁１９制御部２１純水製造装置２２純水供給路２３純水計量用超音波渦流量計２４純水供給用エア駆動弁３３薬液供給ポンプ３４供給管路３６第１液面センサ３７第２液面センサ３５薬液供給用電磁弁４５半導体製造装置５２攪拌用リターン管路５９回収管路６０窒素ガス供給路６１減圧弁６３定量タンク６４薬液用電磁弁６５メモリ６５ａデータベース６５ｂ制御プログラム

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続きＦターム(参考） 3E083 AE13 AH03 4G035 AB36 4G037 BA01 BB06 BC01 BD02 BE02

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】供給タンクと、前記供給タンクに第１の液体を供給する第１の液体供給
手段と、前記供給タンクに第２の液体を供給する第２の液体供給
手段と、からなる混合装置において、前記第２の液体供給手段と前記供給タンクとの間に設け
られた開閉弁と、前記第２の液体供給手段の供給量を前記供給タンクに供
給するための所要時間が、前記第１の液体の前記供給タ
ンクへの供給量を前記第１の供給手段により供給するた
めの所要時間と一致するように前記開閉弁を所定周期で
開閉制御する弁制御手段と、を備えてなることを特徴とする混合装置。
【請求項２】前記第２の液体供給手段と前記開閉弁と
の間に設けられ、前記第２の液体を一定量貯留する定量
タンクと、該定量タンク内に所定の圧力の気体を供給する加圧手段
と、を備えてなることを特徴とする請求項１記載の混合装
置。