JP2001099691A - 混合装置 - Google Patents
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- JP2001099691A JP2001099691A JP27734199A JP27734199A JP2001099691A JP 2001099691 A JP2001099691 A JP 2001099691A JP 27734199 A JP27734199 A JP 27734199A JP 27734199 A JP27734199 A JP 27734199A JP 2001099691 A JP2001099691 A JP 2001099691A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明は成分の異なる薬液を一定の比率で混
合して供給タンクに補充することを課題とする。 【解決手段】 混合装置10は、HFタンク11に貯留
された50%フッ化水素酸と、純水製造装置21により
生成された純水とを供給タンク13に供給して所定の割
合で混合し、供給タンク13において混合された混合液
を供給タンク13の下流側に設置された半導体製造装置
45に供給する。供給タンク13には、HF液と純水を
拡散して混合する混合容器30が取り付けられている。
この混合容器30は、後述するようにHF補充用管路1
2b及び純水補充用管路22bから吐出されたHF液と
純水とを混合させると共に、供給タンク13の内部に混
合液を拡散させる。これにより、供給タンク13の内部
の混合液は、混合容器30により一定の比率で混合され
て補充される。
合して供給タンクに補充することを課題とする。 【解決手段】 混合装置10は、HFタンク11に貯留
された50%フッ化水素酸と、純水製造装置21により
生成された純水とを供給タンク13に供給して所定の割
合で混合し、供給タンク13において混合された混合液
を供給タンク13の下流側に設置された半導体製造装置
45に供給する。供給タンク13には、HF液と純水を
拡散して混合する混合容器30が取り付けられている。
この混合容器30は、後述するようにHF補充用管路1
2b及び純水補充用管路22bから吐出されたHF液と
純水とを混合させると共に、供給タンク13の内部に混
合液を拡散させる。これにより、供給タンク13の内部
の混合液は、混合容器30により一定の比率で混合され
て補充される。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、成分の異なる複数
の薬液を混合することで半導体や液晶などフラットパネ
ルディスプレイ製造プロセスに使用される混合液を供給
する混合装置に関する。
の薬液を混合することで半導体や液晶などフラットパネ
ルディスプレイ製造プロセスに使用される混合液を供給
する混合装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、成分の異なる薬液を混合する混合
装置では、薬液の原液及び純水を超音波渦流量計とエア
駆動バルブとが組み込まれた構成であり、超音波渦流量
計から出力されるパルスに応じて薬液の補充量を計量し
て薬液貯溜槽(供給タンク)へ送液し、薬液貯溜槽にお
いて薬液の原液及び純水を混合している。その後、薬液
貯溜槽の混合液は、半導体製造装置へと供給される。
装置では、薬液の原液及び純水を超音波渦流量計とエア
駆動バルブとが組み込まれた構成であり、超音波渦流量
計から出力されるパルスに応じて薬液の補充量を計量し
て薬液貯溜槽(供給タンク)へ送液し、薬液貯溜槽にお
いて薬液の原液及び純水を混合している。その後、薬液
貯溜槽の混合液は、半導体製造装置へと供給される。
【0003】また、従来の混合装置においては、薬液貯
溜槽内の薬液の濃度むらを均一にするため、半導体製造
装置へ送液される薬液のうち一部を薬液貯溜槽へ還流さ
せていた。
溜槽内の薬液の濃度むらを均一にするため、半導体製造
装置へ送液される薬液のうち一部を薬液貯溜槽へ還流さ
せていた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ような構成とされた従来の混合装置では、次のような問
題点があった。 濃厚な原液を薬液貯溜槽へ投下すると、予め薬液貯
溜槽内に貯溜されていた薬液と十分に混合せず、濃厚な
液が拡散しないまま薬液貯溜槽内の薬液へ落下してしま
う。そのため、薬液貯溜槽に投下された薬液が純水と混
合されずに薬液貯溜槽に設けられた薬液出口から流出し
てしまうため、半導体製造装置に供給される混合液の薬
液濃度が安定しなかった。 調合薬液濃度の変動が大きいため、例えば厳密な薬
液濃度管理が求められている半導体製造装置で使用され
るエッチング液の調合用としては劣る点があった。
ような構成とされた従来の混合装置では、次のような問
題点があった。 濃厚な原液を薬液貯溜槽へ投下すると、予め薬液貯
溜槽内に貯溜されていた薬液と十分に混合せず、濃厚な
液が拡散しないまま薬液貯溜槽内の薬液へ落下してしま
う。そのため、薬液貯溜槽に投下された薬液が純水と混
合されずに薬液貯溜槽に設けられた薬液出口から流出し
てしまうため、半導体製造装置に供給される混合液の薬
液濃度が安定しなかった。 調合薬液濃度の変動が大きいため、例えば厳密な薬
液濃度管理が求められている半導体製造装置で使用され
るエッチング液の調合用としては劣る点があった。
【0005】そこで、本発明は上記課題を解決した混合
装置を提供することを目的とする。
装置を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明は以下のような特徴を有する。上記請求項1
記載の発明は、成分の異なる液体毎に設けられ計量手段
及び弁手段を有して前記液体を供給タンクに補充する複
数の補充ラインと、前記各液体を所定の比率で前記供給
タンクにて混合させるために前記各補充ラインから所定
量の液体を補充させるべく、前記計量手段からの信号に
基づき前記各弁手段を制御する制御手段と、を有する混
合装置において、前記各補充ラインから吐出される液体
を混合して前記供給タンク内に拡散落下させる液拡散手
段を備えてなることを特徴とするものである。
め、本発明は以下のような特徴を有する。上記請求項1
記載の発明は、成分の異なる液体毎に設けられ計量手段
及び弁手段を有して前記液体を供給タンクに補充する複
数の補充ラインと、前記各液体を所定の比率で前記供給
タンクにて混合させるために前記各補充ラインから所定
量の液体を補充させるべく、前記計量手段からの信号に
基づき前記各弁手段を制御する制御手段と、を有する混
合装置において、前記各補充ラインから吐出される液体
を混合して前記供給タンク内に拡散落下させる液拡散手
段を備えてなることを特徴とするものである。
【0007】従って、請求項1記載の発明によれば、各
補充ラインから吐出される液体を混合して供給タンク内
に拡散落下させる液拡散手段を備えてなるため、各補充
ラインから供給タンク内に吐出される過程で各液を拡散
でき、供給タンク内で均一に混合しやすい状態となるよ
うに各液を分散して補充することができる。また、請求
項2記載の発明は、成分の異なる液体毎に設けられ計量
手段及び弁手段を有して前記液体を供給タンクに補充す
る複数の補充ラインと、前記各液体を所定の比率で前記
供給タンクにて混合させるために前記各補充ラインから
所定量の液体を補充させるべく、前記計量手段からの信
号に基づき前記各弁手段を制御する制御手段と、前記供
給タンク内の混合液を外部へ送液する送液ラインと、該
送液ラインから外部へ送液された混合液を前記供給タン
クに回収する回収ラインと、を有する混合装置におい
て、前記回収ラインから吐出される混合液を前記供給タ
ンク内に拡散吐出させる液拡散手段を備えてなることを
特徴とするものである。
補充ラインから吐出される液体を混合して供給タンク内
に拡散落下させる液拡散手段を備えてなるため、各補充
ラインから供給タンク内に吐出される過程で各液を拡散
でき、供給タンク内で均一に混合しやすい状態となるよ
うに各液を分散して補充することができる。また、請求
項2記載の発明は、成分の異なる液体毎に設けられ計量
手段及び弁手段を有して前記液体を供給タンクに補充す
る複数の補充ラインと、前記各液体を所定の比率で前記
供給タンクにて混合させるために前記各補充ラインから
所定量の液体を補充させるべく、前記計量手段からの信
号に基づき前記各弁手段を制御する制御手段と、前記供
給タンク内の混合液を外部へ送液する送液ラインと、該
送液ラインから外部へ送液された混合液を前記供給タン
クに回収する回収ラインと、を有する混合装置におい
て、前記回収ラインから吐出される混合液を前記供給タ
ンク内に拡散吐出させる液拡散手段を備えてなることを
特徴とするものである。
【0008】従って、請求項2記載の発明によれば、回
収ラインから吐出される混合液を供給タンク内に拡散吐
出させる液拡散手段を備えてなるため、回収ラインから
供給タンク内に吐出される過程で各液を拡散でき、供給
タンク内で均一に混合しやすい状態となるように各液を
分散して還流することができる。また、請求項3記載の
発明は、成分の異なる液体毎に設けられ計量手段及び弁
手段を有して前記液体を供給タンクに補充する複数の補
充ラインと、前記各液体を所定の比率で前記供給タンク
にて混合させるために前記各補充ラインから所定量の液
体を補充させるべく、前記計量手段からの信号に基づき
前記各弁手段を制御する制御手段と、を有する混合装置
において、前記各補充ラインから吐出される成分の異な
る各液体が略同時に補充開始及び補充完了するように各
液体の吐出流量を調整する流量調整手段を備えてなるこ
とを特徴とするものである。
収ラインから吐出される混合液を供給タンク内に拡散吐
出させる液拡散手段を備えてなるため、回収ラインから
供給タンク内に吐出される過程で各液を拡散でき、供給
タンク内で均一に混合しやすい状態となるように各液を
分散して還流することができる。また、請求項3記載の
発明は、成分の異なる液体毎に設けられ計量手段及び弁
手段を有して前記液体を供給タンクに補充する複数の補
充ラインと、前記各液体を所定の比率で前記供給タンク
にて混合させるために前記各補充ラインから所定量の液
体を補充させるべく、前記計量手段からの信号に基づき
前記各弁手段を制御する制御手段と、を有する混合装置
において、前記各補充ラインから吐出される成分の異な
る各液体が略同時に補充開始及び補充完了するように各
液体の吐出流量を調整する流量調整手段を備えてなるこ
とを特徴とするものである。
【0009】従って、請求項3記載の発明によれば、各
補充ラインから吐出される成分の異なる各液体が略同時
に補充開始及び補充完了するように各液体の吐出流量を
調整する流量調整手段を備えてなるため、各液体を供給
タンクに補充する間、各液体を一定の割合で供給タンク
へ補充することができ、これにより、各液が混合される
過程で混合液の濃度を一定に保つことができる。
補充ラインから吐出される成分の異なる各液体が略同時
に補充開始及び補充完了するように各液体の吐出流量を
調整する流量調整手段を備えてなるため、各液体を供給
タンクに補充する間、各液体を一定の割合で供給タンク
へ補充することができ、これにより、各液が混合される
過程で混合液の濃度を一定に保つことができる。
【0010】
【発明の実施の形態】以下、図面と共に本発明の実施の
形態について説明する。図1は本発明になる混合装置の
一実施例の概略構成を示すブロック図である。図1に示
されるように、混合装置10は、HFタンク11に貯留
された50%フッ化水素酸と、純水製造装置21により
生成された純水とを供給タンク13に補充して所定の割
合で混合し、供給タンク13において混合された混合液
を供給タンク13の下流側に設置された半導体製造装置
45に供給するように構成されている。尚、フッ化水素
酸は、フッ化水素(hydrogen fluoride )の水溶液であ
り、以下「HF液」と記す。
形態について説明する。図1は本発明になる混合装置の
一実施例の概略構成を示すブロック図である。図1に示
されるように、混合装置10は、HFタンク11に貯留
された50%フッ化水素酸と、純水製造装置21により
生成された純水とを供給タンク13に補充して所定の割
合で混合し、供給タンク13において混合された混合液
を供給タンク13の下流側に設置された半導体製造装置
45に供給するように構成されている。尚、フッ化水素
酸は、フッ化水素(hydrogen fluoride )の水溶液であ
り、以下「HF液」と記す。
【0011】HFタンク11に貯留されたHF液は、H
F補充路12を介して供給タンク13に補充される。こ
のHF補充路12の接液部の材質は、耐薬品性に優れ、
極めて不純物の溶出の少ないフッ素樹脂、例えばPFA
(バーフロロアルコキシ共重合体)などにより構成され
る。14はHF計量用超音波渦流量計であり、HF補充
路12を送液されるHF液の流量を計測する。また、H
F計量用超音波渦流量計14の接液部は、上記PFAに
より形成されている。
F補充路12を介して供給タンク13に補充される。こ
のHF補充路12の接液部の材質は、耐薬品性に優れ、
極めて不純物の溶出の少ないフッ素樹脂、例えばPFA
(バーフロロアルコキシ共重合体)などにより構成され
る。14はHF計量用超音波渦流量計であり、HF補充
路12を送液されるHF液の流量を計測する。また、H
F計量用超音波渦流量計14の接液部は、上記PFAに
より形成されている。
【0012】HF計量用超音波渦流量計14の下流側に
は、流量調整機構付のHF補充用エア駆動弁15が設け
られている。このHF補充用エア駆動弁15を駆動する
圧縮空気は、エア供給路25から分岐したエア供給路1
6より約0.5〜0.7MPa範囲内の圧力で流入し、
減圧弁17により0.3〜0.5MPaまで減圧され
る。
は、流量調整機構付のHF補充用エア駆動弁15が設け
られている。このHF補充用エア駆動弁15を駆動する
圧縮空気は、エア供給路25から分岐したエア供給路1
6より約0.5〜0.7MPa範囲内の圧力で流入し、
減圧弁17により0.3〜0.5MPaまで減圧され
る。
【0013】また、エア供給路16から供給される圧縮
空気は、三方電磁弁18の切替え動作によりHF補充用
エア駆動弁15へ供給される。制御部19は、HF計量
用超音波渦流量計14及び三方電磁弁18と接続されて
おり、HF計量用超音波渦流量計14から出力される流
量パルスを計数し、そのパルス数に応じて三方電磁弁1
8の吐出側流路を排気路20側または管路16c側に切
替え制御を行っている。
空気は、三方電磁弁18の切替え動作によりHF補充用
エア駆動弁15へ供給される。制御部19は、HF計量
用超音波渦流量計14及び三方電磁弁18と接続されて
おり、HF計量用超音波渦流量計14から出力される流
量パルスを計数し、そのパルス数に応じて三方電磁弁1
8の吐出側流路を排気路20側または管路16c側に切
替え制御を行っている。
【0014】また、三方電磁弁18の吐出側流路が管路
16c側に切替えられると、HF補充用エア駆動弁15
は開弁し、三方電磁弁18の吐出側流路が排気路20側
に切替えられると、HF補充用エア駆動弁15は閉弁す
る。そして、HF補充用エア駆動弁15は、HF補充用
管路12bを介して供給タンク13と連通されている。
16c側に切替えられると、HF補充用エア駆動弁15
は開弁し、三方電磁弁18の吐出側流路が排気路20側
に切替えられると、HF補充用エア駆動弁15は閉弁す
る。そして、HF補充用エア駆動弁15は、HF補充用
管路12bを介して供給タンク13と連通されている。
【0015】純水製造装置21により生成された純水
は、純水補充路22を介して供給タンク13に補充され
る。また、純水補充路22には、純水計量用超音波渦流
量計23と流量調整機構付の純水補充用エア駆動弁24
が配設されている。この純水補充用エア駆動弁24を駆
動する圧縮空気は、エア供給路25より約0.5〜0.
7MPa範囲内の圧力で流入し、減圧弁17により0.
3〜0.5MPaまで減圧される。
は、純水補充路22を介して供給タンク13に補充され
る。また、純水補充路22には、純水計量用超音波渦流
量計23と流量調整機構付の純水補充用エア駆動弁24
が配設されている。この純水補充用エア駆動弁24を駆
動する圧縮空気は、エア供給路25より約0.5〜0.
7MPa範囲内の圧力で流入し、減圧弁17により0.
3〜0.5MPaまで減圧される。
【0016】また、エア供給路25から供給される圧縮
空気は、三方電磁弁27の切替え動作により純水補充用
エア駆動弁24へ供給される。制御部19は、純水計量
用超音波渦流量計23及び三方電磁弁27と接続されて
おり、純水計量用超音波渦流量計23から出力される流
量パルスを計数し、そのパルス数に応じて三方電磁弁2
7の吐出側流路を排気路28側または管路25b側に切
替え制御を行っている。
空気は、三方電磁弁27の切替え動作により純水補充用
エア駆動弁24へ供給される。制御部19は、純水計量
用超音波渦流量計23及び三方電磁弁27と接続されて
おり、純水計量用超音波渦流量計23から出力される流
量パルスを計数し、そのパルス数に応じて三方電磁弁2
7の吐出側流路を排気路28側または管路25b側に切
替え制御を行っている。
【0017】また、三方電磁弁27の吐出側流路が管路
25b側に切替えられると、純水補充用エア駆動弁24
は開弁し、三方電磁弁27の吐出側流路が排気路28側
に切替えられると、純水補充用エア駆動弁24は閉弁す
る。そして、純水補充用エア駆動弁24は、純水補充用
管路22bを介して供給タンク13と連通されている。
25b側に切替えられると、純水補充用エア駆動弁24
は開弁し、三方電磁弁27の吐出側流路が排気路28側
に切替えられると、純水補充用エア駆動弁24は閉弁す
る。そして、純水補充用エア駆動弁24は、純水補充用
管路22bを介して供給タンク13と連通されている。
【0018】供給タンク13では、上記HF補充用エア
駆動弁15の開弁によりHF液が補充されると共に、上
記純水補充用エア駆動弁24の開弁により純水が補充さ
れ、HF液と純水が所定の割合で混合された混合液が生
成される。このように、HF液及び純水が補充される供
給タンク13の天板には、HF液と純水を拡散して混合
する混合容器(液拡散手段)30が取り付けられてい
る。この混合容器30は、後述するようにHF補充用管
路12b及び純水補充用管路22bから吐出されたHF
液と純水とを混合させると共に、供給タンク13の内部
に混合液を拡散させる。これにより、供給タンク13の
内部の混合液は、混合容器30によりHF液と純水とが
混合されながら拡散されると、一定の比率で混合され
る。
駆動弁15の開弁によりHF液が補充されると共に、上
記純水補充用エア駆動弁24の開弁により純水が補充さ
れ、HF液と純水が所定の割合で混合された混合液が生
成される。このように、HF液及び純水が補充される供
給タンク13の天板には、HF液と純水を拡散して混合
する混合容器(液拡散手段)30が取り付けられてい
る。この混合容器30は、後述するようにHF補充用管
路12b及び純水補充用管路22bから吐出されたHF
液と純水とを混合させると共に、供給タンク13の内部
に混合液を拡散させる。これにより、供給タンク13の
内部の混合液は、混合容器30によりHF液と純水とが
混合されながら拡散されると、一定の比率で混合され
る。
【0019】また、供給タンク13には、混合液の液面
を監視する第1、第2液面センサ36,37が挿入され
ている。第1液面センサ36は、混合液の上限位置を検
知するレベルゲージであり、第2液面センサ37は、混
合液の下限位置を検知するレベルゲージである。供給タ
ンク13内で混合された混合液(薬液)は、薬液供給ポ
ンプ33により圧送されて供給管路34を介して半導体
製造装置45へ送液される。また、薬液供給ポンプ33
の下流側には、流量調整機構付きの薬液供給用エア駆動
弁35が設けられている。また、薬液供給ポンプ33と
薬液供給用エア駆動弁35との間の管路34からは攪拌
用リターン管路52が分岐し、薬液供給ポンプ33から
吐出された混合液(薬液)の一部を供給タンク13へ還
流させることにより供給タンク13内の混合液を攪拌し
て濃度を均一にしている。
を監視する第1、第2液面センサ36,37が挿入され
ている。第1液面センサ36は、混合液の上限位置を検
知するレベルゲージであり、第2液面センサ37は、混
合液の下限位置を検知するレベルゲージである。供給タ
ンク13内で混合された混合液(薬液)は、薬液供給ポ
ンプ33により圧送されて供給管路34を介して半導体
製造装置45へ送液される。また、薬液供給ポンプ33
の下流側には、流量調整機構付きの薬液供給用エア駆動
弁35が設けられている。また、薬液供給ポンプ33と
薬液供給用エア駆動弁35との間の管路34からは攪拌
用リターン管路52が分岐し、薬液供給ポンプ33から
吐出された混合液(薬液)の一部を供給タンク13へ還
流させることにより供給タンク13内の混合液を攪拌し
て濃度を均一にしている。
【0020】攪拌用リターン管路52が連通される供給
タンク13の内壁には、攪拌用リターン管路52から吐
出された混合液を拡散するための多孔部材(液拡散手
段)53が取り付けられている。この多孔部材53は、
後述するように攪拌用リターン管路52から還流される
混合液を拡散して供給タンク13の内部全体の濃度の均
一化を促進できる。
タンク13の内壁には、攪拌用リターン管路52から吐
出された混合液を拡散するための多孔部材(液拡散手
段)53が取り付けられている。この多孔部材53は、
後述するように攪拌用リターン管路52から還流される
混合液を拡散して供給タンク13の内部全体の濃度の均
一化を促進できる。
【0021】また、供給タンク13と半導体製造装置4
5との間には、半導体製造装置45で余った余剰混合液
を供給タンク13へ戻す回収管路59が連通されてい
る。そのため、供給タンク13では、HF補充用管路1
2cから補充されるHF液と、純水補充用管路22bか
ら補充される純水と、攪拌用リターン管路52から還流
された混合液と、回収管路59から回収された混合液と
が混合される。
5との間には、半導体製造装置45で余った余剰混合液
を供給タンク13へ戻す回収管路59が連通されてい
る。そのため、供給タンク13では、HF補充用管路1
2cから補充されるHF液と、純水補充用管路22bか
ら補充される純水と、攪拌用リターン管路52から還流
された混合液と、回収管路59から回収された混合液と
が混合される。
【0022】また、制御部19は、LED表示付きの係
数設定器(図示せず)が付随しており、薬液の混合比等
の諸条件の設定や装置の運転状態等の表示を行うように
なっている。次に上記のように構成された混合装置11
の薬液混合処理について説明する。尚、本実施の形態で
は、供給タンク13の容量が20L(リットル)の場合
で、HF:H2 O=1:99の比率で混合する場合につ
いて説明する。このとき、HF計量用超音波渦流量計1
4及び純水計量用超音波渦流量計23からは0.28m
Lあたり1パルス出力されるものとする。その場合、H
F液と純水の混合比が1:99であるから、供給タンク
13内にはHF液を200mL(714パルスに相当す
る)補充し、純水を19800mL(70714パルス
に相当する)補充しなければならない。
数設定器(図示せず)が付随しており、薬液の混合比等
の諸条件の設定や装置の運転状態等の表示を行うように
なっている。次に上記のように構成された混合装置11
の薬液混合処理について説明する。尚、本実施の形態で
は、供給タンク13の容量が20L(リットル)の場合
で、HF:H2 O=1:99の比率で混合する場合につ
いて説明する。このとき、HF計量用超音波渦流量計1
4及び純水計量用超音波渦流量計23からは0.28m
Lあたり1パルス出力されるものとする。その場合、H
F液と純水の混合比が1:99であるから、供給タンク
13内にはHF液を200mL(714パルスに相当す
る)補充し、純水を19800mL(70714パルス
に相当する)補充しなければならない。
【0023】ここで、上記混合容器30の構成について
説明する。図2は混合容器30の構成を説明するための
斜視図である。また、図3は混合容器30の平面図であ
る。図2及び図3に示されるように、混合容器30は、
上部が開口とされた箱型の容器からなり、底板30aの
中央には円柱部材31が突出している。この円柱部材3
1は、HF補充用管路12b及び純水補充用管路22b
から補充されたHF液及び純水が底板30aの中央で停
滞せずに円柱部材31の周囲を周方向に旋回する旋回流
となるように液体の流れ方向を規制している。
説明する。図2は混合容器30の構成を説明するための
斜視図である。また、図3は混合容器30の平面図であ
る。図2及び図3に示されるように、混合容器30は、
上部が開口とされた箱型の容器からなり、底板30aの
中央には円柱部材31が突出している。この円柱部材3
1は、HF補充用管路12b及び純水補充用管路22b
から補充されたHF液及び純水が底板30aの中央で停
滞せずに円柱部材31の周囲を周方向に旋回する旋回流
となるように液体の流れ方向を規制している。
【0024】また、混合容器30の底板30aの対角位
置に例えば直径2〜3mm程度の複数の小孔30bと3
0cが規則的に設けられている。本実施例では、9個の
小孔30b,30cが3×3の配列で設けられている。
そして、HF補充用管路12bの開口12c及び純水補
充用管路22bの開口22cは、底板30aの小孔30
b,30cが設けられていない部分に対向するように供
給タンク13の上部に連通されている。
置に例えば直径2〜3mm程度の複数の小孔30bと3
0cが規則的に設けられている。本実施例では、9個の
小孔30b,30cが3×3の配列で設けられている。
そして、HF補充用管路12bの開口12c及び純水補
充用管路22bの開口22cは、底板30aの小孔30
b,30cが設けられていない部分に対向するように供
給タンク13の上部に連通されている。
【0025】そのため、HF補充用管路12b及び純水
補充用管路22bから吐出されたHF液及び純水は、一
旦底板30aに衝突し、円柱部材31の周囲を周方向に
旋回する旋回流(図3中、矢印A,Bで示す)となって
底板30aの小孔30b,30cに向かう。そして、H
F液と純水は、混合容器30の内部を移動する過程で混
合された後、底板30aの小孔30b,30cから供給
タンク13内に滴下される。
補充用管路22bから吐出されたHF液及び純水は、一
旦底板30aに衝突し、円柱部材31の周囲を周方向に
旋回する旋回流(図3中、矢印A,Bで示す)となって
底板30aの小孔30b,30cに向かう。そして、H
F液と純水は、混合容器30の内部を移動する過程で混
合された後、底板30aの小孔30b,30cから供給
タンク13内に滴下される。
【0026】また、底板30aの4方向を囲む混合容器
30の側壁30dには、例えば直径3mm程度の小孔3
0fが設けられている。従って、混合容器30の内部に
補充されたHF液及び純水の液面高さが小孔30fが設
けられた高さ位置を越えると、側壁30dに設けられた
小孔30fからも混合液が供給タンク13内に滴下され
る。
30の側壁30dには、例えば直径3mm程度の小孔3
0fが設けられている。従って、混合容器30の内部に
補充されたHF液及び純水の液面高さが小孔30fが設
けられた高さ位置を越えると、側壁30dに設けられた
小孔30fからも混合液が供給タンク13内に滴下され
る。
【0027】このように、HF補充用管路12b及び純
水補充用管路22bから混合容器30の内部に吐出され
たHF液及び純水は、円柱部材31の周囲を周方向に旋
回する間に混合されて濃度の均一化が図れると共に、底
板30aに設けられた複数の小孔30b,30cから拡
散されながら供給タンク13内に補充される。そのた
め、混合容器30を介して混合液を供給タンク13内に
補充することにより、薬液の拡散速度が向上すると共
に、混合する過程で混合液の濃度を均一化を図ることに
より短時間で濃度ムラを無くして安定した混合液を生成
することができる。
水補充用管路22bから混合容器30の内部に吐出され
たHF液及び純水は、円柱部材31の周囲を周方向に旋
回する間に混合されて濃度の均一化が図れると共に、底
板30aに設けられた複数の小孔30b,30cから拡
散されながら供給タンク13内に補充される。そのた
め、混合容器30を介して混合液を供給タンク13内に
補充することにより、薬液の拡散速度が向上すると共
に、混合する過程で混合液の濃度を均一化を図ることに
より短時間で濃度ムラを無くして安定した混合液を生成
することができる。
【0028】尚、混合容器30の小孔30b,30c,
30fの数、大きさ及び配列は一例であり、これに限る
ものではなく、混合液の種類や比率等により適宜設定し
得るものである。次に多孔部材53の構成について説明
する。図4は多孔部材53の構成を説明するための斜視
図である。また、図5は多孔部材53の正面図である。
30fの数、大きさ及び配列は一例であり、これに限る
ものではなく、混合液の種類や比率等により適宜設定し
得るものである。次に多孔部材53の構成について説明
する。図4は多孔部材53の構成を説明するための斜視
図である。また、図5は多孔部材53の正面図である。
【0029】図4及び図5に示されるように、多孔部材
53は、供給タンク13の側壁に連通された攪拌用リタ
ーン管路52の開口52aと対向するように取り付けら
れる。そして、多孔部材53は、攪拌用リターン管路5
2が連通する側を除く部分を囲むように箱型に形成され
ており、攪拌用リターン管路52の開口52aが対向す
る側壁53aと、側壁53aの下部、左右、上部を囲む
壁部53b〜53eとからなる。
53は、供給タンク13の側壁に連通された攪拌用リタ
ーン管路52の開口52aと対向するように取り付けら
れる。そして、多孔部材53は、攪拌用リターン管路5
2が連通する側を除く部分を囲むように箱型に形成され
ており、攪拌用リターン管路52の開口52aが対向す
る側壁53aと、側壁53aの下部、左右、上部を囲む
壁部53b〜53eとからなる。
【0030】側壁53aには、攪拌用リターン管路52
の開口52aが対向する部分の周囲に例えば直径0.5
〜1.5mm程度の小孔54が設けられている。また、
壁部53b〜53eにも、直径0.5〜1.5mm程度
の小孔55が設けられている。そのため、攪拌用リター
ン管路52から吐出された混合液は、一旦、側壁53a
に衝突して放射状に分散した流れとなり、小孔54,5
5を通過して供給タンク13の内部に拡散される。
の開口52aが対向する部分の周囲に例えば直径0.5
〜1.5mm程度の小孔54が設けられている。また、
壁部53b〜53eにも、直径0.5〜1.5mm程度
の小孔55が設けられている。そのため、攪拌用リター
ン管路52から吐出された混合液は、一旦、側壁53a
に衝突して放射状に分散した流れとなり、小孔54,5
5を通過して供給タンク13の内部に拡散される。
【0031】このように、多孔部材53により攪拌用リ
ターン管路52からの混合液が拡散されて供給タンク1
3内に戻されるため、供給タンク13内の混合液の濃度
が均一になるように対流させることができる。尚、多孔
部材53の小孔54,55の数、大きさ及び配列は一例
であり、これに限るものではなく、混合液の種類や比率
等により適宜設定し得るものである。
ターン管路52からの混合液が拡散されて供給タンク1
3内に戻されるため、供給タンク13内の混合液の濃度
が均一になるように対流させることができる。尚、多孔
部材53の小孔54,55の数、大きさ及び配列は一例
であり、これに限るものではなく、混合液の種類や比率
等により適宜設定し得るものである。
【0032】図6及び図7は制御部19で実行される薬
液混合制御処理の手順を説明するためのフローチャート
である。図6に示されるように、制御部19は、ステッ
プS11(以下「ステップ」を省略する)でHF補充用
エア駆動弁15及び純水補充用エア駆動弁24を開弁さ
せるように三方電磁弁18,27の吐出側流路を管路1
6c,25c側に切替える。これにより、HFタンク1
1に貯留された50%フッ化水素酸及び純水製造装置2
1により生成された純水が供給タンク13に補充され
る。この際、HF補充用管路12b及び純水補充用管路
22bから混合容器30の内部に吐出されたHF液及び
純水は、円柱部材31の周囲を周方向に旋回する間に混
合されて濃度の均一化が図れると共に、底板30aに設
けられた複数の小孔30b,30cから拡散されながら
供給タンク13内に補充される。
液混合制御処理の手順を説明するためのフローチャート
である。図6に示されるように、制御部19は、ステッ
プS11(以下「ステップ」を省略する)でHF補充用
エア駆動弁15及び純水補充用エア駆動弁24を開弁さ
せるように三方電磁弁18,27の吐出側流路を管路1
6c,25c側に切替える。これにより、HFタンク1
1に貯留された50%フッ化水素酸及び純水製造装置2
1により生成された純水が供給タンク13に補充され
る。この際、HF補充用管路12b及び純水補充用管路
22bから混合容器30の内部に吐出されたHF液及び
純水は、円柱部材31の周囲を周方向に旋回する間に混
合されて濃度の均一化が図れると共に、底板30aに設
けられた複数の小孔30b,30cから拡散されながら
供給タンク13内に補充される。
【0033】次のS12では、HF計量用超音波渦流量
計14から出力された流量パルスのカウント値が714
かどうかをチェックする。このS12において、HF計
量用超音波渦流量計14から出力された流量パルスのカ
ウント値が714に達したときは、S13に進み、三方
電磁弁18の吐出側流路を排気管路20側へ切り換えて
HF補充用エア駆動弁15を閉弁させる。これにより、
供給タンク13へのHF液の補充が停止する。
計14から出力された流量パルスのカウント値が714
かどうかをチェックする。このS12において、HF計
量用超音波渦流量計14から出力された流量パルスのカ
ウント値が714に達したときは、S13に進み、三方
電磁弁18の吐出側流路を排気管路20側へ切り換えて
HF補充用エア駆動弁15を閉弁させる。これにより、
供給タンク13へのHF液の補充が停止する。
【0034】また、S12において、HF計量用超音波
渦流量計14から出力された流量パルスのカウント値が
714に達していないときは、S14に進み、純水計量
用超音波渦流量計23から出力された流量パルスのカウ
ント値が70714かどうかをチェックする。このS1
4において、純水計量用超音波渦流量計23から出力さ
れた流量パルスのカウント値が70714に達していな
いときは、上記S12に戻り、HF計量用超音波渦流量
計14から出力された流量パルス数を監視する。このよ
うに、S12でHF計量用超音波渦流量計14から出力
された流量パルスのカウント値を監視するとともに、S
14で純水計量用超音波渦流量計23から出力された流
量パルスのカウント値を監視している。
渦流量計14から出力された流量パルスのカウント値が
714に達していないときは、S14に進み、純水計量
用超音波渦流量計23から出力された流量パルスのカウ
ント値が70714かどうかをチェックする。このS1
4において、純水計量用超音波渦流量計23から出力さ
れた流量パルスのカウント値が70714に達していな
いときは、上記S12に戻り、HF計量用超音波渦流量
計14から出力された流量パルス数を監視する。このよ
うに、S12でHF計量用超音波渦流量計14から出力
された流量パルスのカウント値を監視するとともに、S
14で純水計量用超音波渦流量計23から出力された流
量パルスのカウント値を監視している。
【0035】本実施の形態では、HF:H2 O=1:9
9の比率で混合するため、供給タンク13へのHF液の
補充時間が純水の補充時間よりも短い。そのため、上記
S13でHF液の補充が停止された後も純水の補充が継
続される。そして、S14において、純水計量用超音波
渦流量計23から出力された流量パルスのカウント値が
70714に達したときは、S15に進み、三方電磁弁
27の吐出側流路を排気管路28側へ切り換えて純水補
充用エア駆動弁24を閉弁させる。これにより、供給タ
ンク13への純水の補充が停止する。そして、供給タン
ク13には、HF:H2 O=1:99の比率で混合され
た混合液が貯留される。
9の比率で混合するため、供給タンク13へのHF液の
補充時間が純水の補充時間よりも短い。そのため、上記
S13でHF液の補充が停止された後も純水の補充が継
続される。そして、S14において、純水計量用超音波
渦流量計23から出力された流量パルスのカウント値が
70714に達したときは、S15に進み、三方電磁弁
27の吐出側流路を排気管路28側へ切り換えて純水補
充用エア駆動弁24を閉弁させる。これにより、供給タ
ンク13への純水の補充が停止する。そして、供給タン
ク13には、HF:H2 O=1:99の比率で混合され
た混合液が貯留される。
【0036】続いて、S16に進み、タイマをスタート
させると共に、薬液供給ポンプ33を起動させる。次の
S17では、タイマスタートから5分経過したかどうか
をチェックする。タイマスタートから5分経過する間に
供給タンク13に貯留された混合液の全量が薬液供給ポ
ンプ33により吸引され、薬液供給ポンプ33から吐出
された混合液は、攪拌用リターン管路52を介して供給
タンク13へ戻されて供給タンク13全体の濃度を均一
にする。この際、攪拌用リターン管路52から吐出され
た混合液は、前述した多孔部材53により放射状に拡散
されながら供給タンク13内に還流されて供給タンク1
3内の混合液を対流させる。
させると共に、薬液供給ポンプ33を起動させる。次の
S17では、タイマスタートから5分経過したかどうか
をチェックする。タイマスタートから5分経過する間に
供給タンク13に貯留された混合液の全量が薬液供給ポ
ンプ33により吸引され、薬液供給ポンプ33から吐出
された混合液は、攪拌用リターン管路52を介して供給
タンク13へ戻されて供給タンク13全体の濃度を均一
にする。この際、攪拌用リターン管路52から吐出され
た混合液は、前述した多孔部材53により放射状に拡散
されながら供給タンク13内に還流されて供給タンク1
3内の混合液を対流させる。
【0037】このS17において、タイマスタートから
5分経過すると、薬液供給用エア駆動弁35が開弁さ
れ、薬液供給ポンプ33により吐出された混合液が半導
体製造装置45に供給される。これにより、供給タンク
13内で混合された混合液が半導体製造装置45に供給
されるにつれて供給タンク13内の液位が次第に低下す
る。次のS19では、混合液の下限位置を検知する第2
液面センサ37からの出力信号があることを確認する。
5分経過すると、薬液供給用エア駆動弁35が開弁さ
れ、薬液供給ポンプ33により吐出された混合液が半導
体製造装置45に供給される。これにより、供給タンク
13内で混合された混合液が半導体製造装置45に供給
されるにつれて供給タンク13内の液位が次第に低下す
る。次のS19では、混合液の下限位置を検知する第2
液面センサ37からの出力信号があることを確認する。
【0038】S19で第2液面センサ37からの出力信
号があると、供給タンク13に貯留された混合液の液面
が下限位置まで低下したものと判断し、図7に示すS2
0に進み、薬液の補充処理が行われる。尚、供給タンク
13への補充量が5Lに設定されているものとする。こ
の場合、供給タンク13内には50mL(178パルス
に相当する)のHF液が補充され、4950mL(17
678パルスに相当する)の純水が補充される。
号があると、供給タンク13に貯留された混合液の液面
が下限位置まで低下したものと判断し、図7に示すS2
0に進み、薬液の補充処理が行われる。尚、供給タンク
13への補充量が5Lに設定されているものとする。こ
の場合、供給タンク13内には50mL(178パルス
に相当する)のHF液が補充され、4950mL(17
678パルスに相当する)の純水が補充される。
【0039】S20では、HF補充用エア駆動弁15及
び純水補充用エア駆動弁24を開弁させるように三方電
磁弁18,27の吐出側流路を管路16c,25c側に
切替える。これにより、HFタンク11に貯留された5
0%フッ化水素酸及び純水製造装置21により生成され
た純水が再度供給タンク13に補充される。次のS21
では、HF計量用超音波渦流量計14から出力された流
量パルスのカウント値が178かどうかをチェックす
る。このS21において、HF計量用超音波渦流量計1
4から出力された流量パルスのカウント値が178に達
したときは、S22に進み、三方電磁弁18の吐出側流
路を排気管路20側へ切り換えてHF補充用エア駆動弁
15を閉弁させる。これにより、供給タンク13へのH
F液の補充が停止する。
び純水補充用エア駆動弁24を開弁させるように三方電
磁弁18,27の吐出側流路を管路16c,25c側に
切替える。これにより、HFタンク11に貯留された5
0%フッ化水素酸及び純水製造装置21により生成され
た純水が再度供給タンク13に補充される。次のS21
では、HF計量用超音波渦流量計14から出力された流
量パルスのカウント値が178かどうかをチェックす
る。このS21において、HF計量用超音波渦流量計1
4から出力された流量パルスのカウント値が178に達
したときは、S22に進み、三方電磁弁18の吐出側流
路を排気管路20側へ切り換えてHF補充用エア駆動弁
15を閉弁させる。これにより、供給タンク13へのH
F液の補充が停止する。
【0040】また、S21において、HF計量用超音波
渦流量計14から出力された流量パルスのカウント値が
178に達していないときは、S23に進み、純水計量
用超音波渦流量計23から出力された流量パルスのカウ
ント値が17678かどうかをチェックする。このS2
3において、純水計量用超音波渦流量計23から出力さ
れた流量パルスのカウント値が17978に達していな
いときは、上記S21に戻り、HF計量用超音波渦流量
計14から出力された流量パルス数を監視する。このよ
うに、S21でHF計量用超音波渦流量計14から出力
された流量パルスのカウント値を監視するとともに、S
23で純水計量用超音波渦流量計23から出力された流
量パルスのカウント値を監視している。
渦流量計14から出力された流量パルスのカウント値が
178に達していないときは、S23に進み、純水計量
用超音波渦流量計23から出力された流量パルスのカウ
ント値が17678かどうかをチェックする。このS2
3において、純水計量用超音波渦流量計23から出力さ
れた流量パルスのカウント値が17978に達していな
いときは、上記S21に戻り、HF計量用超音波渦流量
計14から出力された流量パルス数を監視する。このよ
うに、S21でHF計量用超音波渦流量計14から出力
された流量パルスのカウント値を監視するとともに、S
23で純水計量用超音波渦流量計23から出力された流
量パルスのカウント値を監視している。
【0041】そして、S23において、純水計量用超音
波渦流量計23から出力された流量パルスのカウント値
が17678に達したときは、S24に進み、三方電磁
弁27の吐出側流路を排気管路28側へ切り換えて純水
補充用エア駆動弁24を閉弁させる。これにより、供給
タンク13への純水の補充が停止する。そして、供給タ
ンク13には、HF:H2 O=1:99の比率で補充さ
れた混合液が貯留される。
波渦流量計23から出力された流量パルスのカウント値
が17678に達したときは、S24に進み、三方電磁
弁27の吐出側流路を排気管路28側へ切り換えて純水
補充用エア駆動弁24を閉弁させる。これにより、供給
タンク13への純水の補充が停止する。そして、供給タ
ンク13には、HF:H2 O=1:99の比率で補充さ
れた混合液が貯留される。
【0042】その後、上記S19に戻り、S19以降の
薬液補充処理を繰り返す。尚、上記混合液の比率及び各
薬液の流量パルスのカウント値は、一例であり、任意に
設定可能であることは言うまでもない。図8は多孔部材
53の変形例を説明するための斜視図である。また、図
9は多孔部材53の変形例の側断面図である。
薬液補充処理を繰り返す。尚、上記混合液の比率及び各
薬液の流量パルスのカウント値は、一例であり、任意に
設定可能であることは言うまでもない。図8は多孔部材
53の変形例を説明するための斜視図である。また、図
9は多孔部材53の変形例の側断面図である。
【0043】図8及び図9に示されるように、多孔部材
56は、攪拌用リターン管路52の開口52aが対向す
る側壁56aが垂直方向より下方に向けて所定角度α傾
斜している。そして、多孔部材56の側壁56aと、側
壁56aの下部、左右、上部を囲む壁部56b〜56e
とからなる。側壁56aには、攪拌用リターン管路52
の開口52aが対向する部分の周囲に小孔57が設けら
れている。また、壁部56b〜56eにも、小孔58が
設けられている。
56は、攪拌用リターン管路52の開口52aが対向す
る側壁56aが垂直方向より下方に向けて所定角度α傾
斜している。そして、多孔部材56の側壁56aと、側
壁56aの下部、左右、上部を囲む壁部56b〜56e
とからなる。側壁56aには、攪拌用リターン管路52
の開口52aが対向する部分の周囲に小孔57が設けら
れている。また、壁部56b〜56eにも、小孔58が
設けられている。
【0044】そして、攪拌用リターン管路52から吐出
された混合液は、一旦、側壁56aに衝突して放射状に
分散した流れとなり、それから傾斜した側壁56aの小
孔57を通過して供給タンク13の底部に向けて吐出さ
れる。そのため、側壁56aの傾斜角度に応じて小孔5
7から噴出される流れが供給タンク13の底部の混合液
を攪拌して供給タンク13内の濃度を均一化することが
できる。
された混合液は、一旦、側壁56aに衝突して放射状に
分散した流れとなり、それから傾斜した側壁56aの小
孔57を通過して供給タンク13の底部に向けて吐出さ
れる。そのため、側壁56aの傾斜角度に応じて小孔5
7から噴出される流れが供給タンク13の底部の混合液
を攪拌して供給タンク13内の濃度を均一化することが
できる。
【0045】図10は混合装置の変形例の概略構成を説
明するためのブロック図である。尚、図10において、
前述した図1と同一部分には、同一符号を付してその説
明を省略する。図10に示されるように、HF補充用エ
ア駆動弁15の下流には、不活性ガス(例えば、窒素ガ
ス等)をHF補充用管路12bに注入するガス注入部6
0が設けられている。ガス注入部60は、不活性ガス流
路61から不活性ガスが供給されており、不活性ガス流
路61には、不活性ガスの圧力を0.04MPa程度の
ごく微圧まで減圧する減圧弁62と、流量調整弁63と
が配設されている。さらに、不活性ガス流路61の端部
は、逆止弁64を介してガス注入部60に接続されてい
る。従って、不活性ガスは、減圧弁62により設定され
た圧力、流量調整弁63による設定された流量でガス注
入部60に供給される。
明するためのブロック図である。尚、図10において、
前述した図1と同一部分には、同一符号を付してその説
明を省略する。図10に示されるように、HF補充用エ
ア駆動弁15の下流には、不活性ガス(例えば、窒素ガ
ス等)をHF補充用管路12bに注入するガス注入部6
0が設けられている。ガス注入部60は、不活性ガス流
路61から不活性ガスが供給されており、不活性ガス流
路61には、不活性ガスの圧力を0.04MPa程度の
ごく微圧まで減圧する減圧弁62と、流量調整弁63と
が配設されている。さらに、不活性ガス流路61の端部
は、逆止弁64を介してガス注入部60に接続されてい
る。従って、不活性ガスは、減圧弁62により設定され
た圧力、流量調整弁63による設定された流量でガス注
入部60に供給される。
【0046】尚、HF補充用管路12bの圧力が不活性
ガス流路61から供給される圧力より相対的に大きくな
ると、逆止弁64が閉弁して純水が不活性ガス流路61
に流入することを防止する。また、HF補充用管路12
bのガス注入部60より下流には、HF液を貯留する薬
液貯留容器65が配設されている。さらに、薬液貯留容
器65の下流には、流量調整弁66が配設されている。
従って、薬液貯留容器65には、不活性ガスが注入され
たHF液が貯留されているため、流量調整弁66が僅か
に弁開されると、薬液貯留容器65内に貯留された不活
性ガスの圧力により少量ずつHF液が供給タンク13へ
補充される。
ガス流路61から供給される圧力より相対的に大きくな
ると、逆止弁64が閉弁して純水が不活性ガス流路61
に流入することを防止する。また、HF補充用管路12
bのガス注入部60より下流には、HF液を貯留する薬
液貯留容器65が配設されている。さらに、薬液貯留容
器65の下流には、流量調整弁66が配設されている。
従って、薬液貯留容器65には、不活性ガスが注入され
たHF液が貯留されているため、流量調整弁66が僅か
に弁開されると、薬液貯留容器65内に貯留された不活
性ガスの圧力により少量ずつHF液が供給タンク13へ
補充される。
【0047】このように、HFタンク11から供給され
るHF液は、HF補充用管路12bを流れる過程で薬液
貯留容器65内に貯溜される。そして、流量調整弁66
の弁開度は、HF液が補充されるのに要する所要時間が
純水補充用管路22bを介して補充される純水の所要時
間と略同じになるように調整される。これで、供給タン
ク13へ補充される純水とHF液の補充開始及び補充完
了が略同時に行われるように各液体の吐出流量が調整さ
れる。
るHF液は、HF補充用管路12bを流れる過程で薬液
貯留容器65内に貯溜される。そして、流量調整弁66
の弁開度は、HF液が補充されるのに要する所要時間が
純水補充用管路22bを介して補充される純水の所要時
間と略同じになるように調整される。これで、供給タン
ク13へ補充される純水とHF液の補充開始及び補充完
了が略同時に行われるように各液体の吐出流量が調整さ
れる。
【0048】そのため、供給タンク13へ補充される純
水とHF液とは、補充開始から補充完了まで比率が一定
になり、供給タンク13においても純水とHF液との混
合液の濃度ムラを無くして混合液全体の濃度を均一に保
つことができる。そのため、混合する過程で混合液の濃
度を均一化を図ることにより、薬液の濃度変動を抑制す
ることができる。
水とHF液とは、補充開始から補充完了まで比率が一定
になり、供給タンク13においても純水とHF液との混
合液の濃度ムラを無くして混合液全体の濃度を均一に保
つことができる。そのため、混合する過程で混合液の濃
度を均一化を図ることにより、薬液の濃度変動を抑制す
ることができる。
【0049】尚、本実施の形態では、フッ化水素酸と純
水とを所定の割合で混合させる場合を一例として挙げた
が、他の薬液を混合する場合にも本発明が適用できるの
は勿論である。また、本実施の形態では、フッ化水素酸
と純水との2種類の液体を混合する場合を一例として説
明したが、成分が異なる2種以上の液体を混合させる場
合にも本発明が適用できるのは勿論である。
水とを所定の割合で混合させる場合を一例として挙げた
が、他の薬液を混合する場合にも本発明が適用できるの
は勿論である。また、本実施の形態では、フッ化水素酸
と純水との2種類の液体を混合する場合を一例として説
明したが、成分が異なる2種以上の液体を混合させる場
合にも本発明が適用できるのは勿論である。
【0050】
【発明の効果】上述の如く、請求項1記載の発明によれ
ば、各補充ラインから吐出される液体を混合して供給タ
ンク内に拡散落下させる液拡散手段を備えてなるため、
各補充ラインから供給タンク内に吐出される過程で各液
を混合でき、供給タンク内で均一に混合しやすい状態と
なるように各液を分散して補充することができる。その
ため、薬液の拡散速度が向上すると共に、混合する過程
で混合液の濃度を均一化を図ることにより短時間で濃度
ムラを無くして安定した比率の混合液を生成することが
できる。
ば、各補充ラインから吐出される液体を混合して供給タ
ンク内に拡散落下させる液拡散手段を備えてなるため、
各補充ラインから供給タンク内に吐出される過程で各液
を混合でき、供給タンク内で均一に混合しやすい状態と
なるように各液を分散して補充することができる。その
ため、薬液の拡散速度が向上すると共に、混合する過程
で混合液の濃度を均一化を図ることにより短時間で濃度
ムラを無くして安定した比率の混合液を生成することが
できる。
【0051】また、請求項2記載の発明によれば、回収
ラインから吐出される混合液を供給タンク内に拡散吐出
させる液拡散手段を備えてなるため、回収ラインから供
給タンク内に吐出される過程で各液を混合でき、供給タ
ンク内で均一に混合しやすい状態となるように各液を分
散して還流することができる。そのため、薬液の拡散速
度が向上すると共に、混合する過程で混合液の濃度を均
一化を図ることにより短時間で濃度ムラを無くして安定
した比率の混合液を生成することができる。
ラインから吐出される混合液を供給タンク内に拡散吐出
させる液拡散手段を備えてなるため、回収ラインから供
給タンク内に吐出される過程で各液を混合でき、供給タ
ンク内で均一に混合しやすい状態となるように各液を分
散して還流することができる。そのため、薬液の拡散速
度が向上すると共に、混合する過程で混合液の濃度を均
一化を図ることにより短時間で濃度ムラを無くして安定
した比率の混合液を生成することができる。
【0052】また、請求項3記載の発明によれば、各補
充ラインから吐出される成分の異なる各液体が略同時に
補充開始及び補充完了するように各液体の吐出流量を調
整する流量調整手段を備えてなるため、各液体を供給タ
ンクに補充する間、各液体を一定の割合で供給タンクへ
補充することができ、これにより、各液が混合される過
程で混合液の濃度を一定に保つことができる。そのた
め、混合する過程で混合液の濃度を均一化を図ることに
より、薬液の濃度変動を抑制することができる。
充ラインから吐出される成分の異なる各液体が略同時に
補充開始及び補充完了するように各液体の吐出流量を調
整する流量調整手段を備えてなるため、各液体を供給タ
ンクに補充する間、各液体を一定の割合で供給タンクへ
補充することができ、これにより、各液が混合される過
程で混合液の濃度を一定に保つことができる。そのた
め、混合する過程で混合液の濃度を均一化を図ることに
より、薬液の濃度変動を抑制することができる。
【図1】本発明になる混合装置の一実施例の概略構成を
示すブロック図である。
示すブロック図である。
【図2】混合容器30の構成を説明するための斜視図で
ある。
ある。
【図3】混合容器30の平面図である。
【図4】多孔部材53の構成を説明するための斜視図で
ある。
ある。
【図5】多孔部材53の正面図である。
【図6】制御部19で実行される薬液混合制御処理の手
順を説明するためのフローチャートである。
順を説明するためのフローチャートである。
【図7】図6に示す処理に続いて実行される薬液混合制
御処理の手順を説明するためのフローチャートである。
御処理の手順を説明するためのフローチャートである。
【図8】多孔部材53の変形例を説明するための斜視図
である。
である。
【図9】多孔部材53の変形例の側断面図である。
【図10】混合装置の変形例の概略構成を説明するため
のブロック図である。
のブロック図である。
10 混合装置 11 HFタンク 12 HF供給路 13 供給タンク 14 HF計量用超音波渦流量計 15 HF供給用エア駆動弁 19 制御部 21 純水製造装置 22 純水供給路 23 純水計量用超音波渦流量計 24 純水供給用エア駆動弁 33 薬液供給ポンプ 34 供給管路 36 第1液面センサ 37 第2液面センサ 35 薬液供給用エア駆動弁 45 半導体製造装置 52 攪拌用リターン管路 59 回収管路 60 ガス注入部 61 不活性ガス流路 62 減圧弁 63,66 流量調整弁 64 逆止弁 65 薬液貯留容器
フロントページの続き (72)発明者 土井 敏 神奈川県横浜市栄区笠間町1000−1 芝浦 メカトロニクス株式会社内 (72)発明者 角掛 泰洋 神奈川県川崎市川崎区富士見1丁目6番3 号 トキコ株式会社内 (72)発明者 舟橋 達也 神奈川県川崎市川崎区富士見1丁目6番3 号 トキコ株式会社内 Fターム(参考) 3E083 AC01 AH02
Claims (3)
- 【請求項1】 成分の異なる液体毎に設けられ計量手段
及び弁手段を有して前記液体を供給タンクに補充する複
数の補充ラインと、前記各液体を所定の比率で前記供給
タンクにて混合させるために前記各補充ラインから所定
量の液体を補充させるべく、前記計量手段からの信号に
基づき前記各弁手段を制御する制御手段と、を有する混
合装置において、 前記各補充ラインから吐出される液体を混合して前記供
給タンク内に拡散落下させる液拡散手段を備えてなるこ
とを特徴とする混合装置。 - 【請求項2】 成分の異なる液体毎に設けられ計量手段
及び弁手段を有して前記液体を供給タンクに補充する複
数の補充ラインと、前記各液体を所定の比率で前記供給
タンクにて混合させるために前記各補充ラインから所定
量の液体を補充させるべく、前記計量手段からの信号に
基づき前記各弁手段を制御する制御手段と、前記供給タ
ンク内の混合液を外部へ送液する送液ラインと、該送液
ラインから外部へ送液された混合液を前記供給タンクに
回収する回収ラインと、を有する混合装置において、 前記回収ラインから吐出される混合液を前記供給タンク
内に拡散吐出させる液拡散手段を備えてなることを特徴
とする混合装置。 - 【請求項3】 成分の異なる液体毎に設けられ計量手段
及び弁手段を有して前記液体を供給タンクに補充する複
数の補充ラインと、前記各液体を所定の比率で前記供給
タンクにて混合させるために前記各補充ラインから所定
量の液体を補充させるべく、前記計量手段からの信号に
基づき前記各弁手段を制御する制御手段と、を有する混
合装置において、 前記各補充ラインから吐出される成分の異なる各液体が
略同時に補充開始及び補充完了するように各液体の吐出
流量を調整する流量調整手段を備えてなることを特徴と
する混合装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27734199A JP2001099691A (ja) | 1999-09-29 | 1999-09-29 | 混合装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27734199A JP2001099691A (ja) | 1999-09-29 | 1999-09-29 | 混合装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001099691A true JP2001099691A (ja) | 2001-04-13 |
Family
ID=17582185
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP27734199A Pending JP2001099691A (ja) | 1999-09-29 | 1999-09-29 | 混合装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2001099691A (ja) |
-
1999
- 1999-09-29 JP JP27734199A patent/JP2001099691A/ja active Pending
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