CN101622696B - 基板清洗装置 - Google Patents

Abstract

一种基板清洗装置，通过药液供给部(27)使从药液筒(29)供给的药液与纯水混合生成处理液，通过供给管使处理液供给至处理槽。无需从补充管线等向药液筒(29)补充药液，而使药液不会被污染，因而能够维持药液的高清洁度。因此，能够高清洁度地清洗基板。另外，因为药液筒(29)具有余量显示部(39)，所以能够容易得知药液筒(29)内的药液余量和药液筒(29)的定期更换时间。另外，因为药液筒(29)构成为能够通过喷嘴部(47)调整流量，所以能够直接将药液筒(29)安装在供给管上而简化结构。因此，能够降低装置成本。

Description

基板清洗装置

技术领域

本发明涉及一种利用处理液对半导体晶片以及用于液晶显示装置的玻璃基板(以下简称为基板)进行清洗处理的基板清洗装置。 

背景技术

以往，作为这种装置，可列举出如下的装置，即，其具有：处理部，其用于存积处理液；供给管，其向处理部供给纯水；混合阀，其使药液与在供给管内流通的纯水混合；支管，其向混合阀供给药液；药液槽，其与支管连通并连接(例如参照专利文献1)。在具有这样的结构的基板清洗装置中，使存积于药液槽中的药液(例如氢氟酸)从混合阀与纯水混合，对容纳于处理部中的基板进行清洗处理。 

专利文献1：JP特开平11-67707号公报。 

发明内容

发明所要解决的问题 

但是，在具有这种结构的以往的例子中，存在如下问题。 

即，纯水的清洁度极高，为ppt级别，由纯水导致基板受污染的情况极少，而药液与纯水相比清洁度低，存在由药液导致基板受污染的情况。具体来讲，从药液供给管线向药液槽补充药液，但是从该补充管线等会混入颗粒或者溶析出金属离子而混入药液中，使药液的清洁度下降。其结果，存在即便使用清洁度高的纯水也无法高清洁度地处理基板这样的问题。 

本发明是鉴于这样的情况而提出的，其目的在于提供一种通过提高药液的清洁度，能够高清洁度地清洗基板的基板清洗装置。 

为达到这样的目的，本发明采取如下结构。 

即，本发明的基板清洗装置利用含有药液的处理液来清洗基板，其特征在于，具有：处理部，其用于利用处理液对基板进行处理；供给管，其向所述处理部供给纯水；药液供给部，其具有安装部，该安装部具有形成在所述供给管上的凹部，在所述凹部上具有与所述供给管的内部连通的注入口，从所述注入口向所述供给管供给药液；药液筒，其相对于药液供给部的安装部能够自由装卸，药液筒具有药液筒主体，该药液筒主体存积药液；所述药液筒主体具有：插入部，该插入部用 于插入到所述凹部；喷嘴部，该喷嘴部形成在与所述注入口对应的位置，并形成有多个喷出口，通过适当地开闭所述多个喷出口，能够控制药液的供给量。 

根据本发明，通过药液供给部使药液从药液筒与纯水混合生成处理液，通过供给管向处理部供给处理液。因为无需从补充管线等向药液筒补充药液，这样药液不会被污染，所以能够高清洁度地维持处理液。因此，能够高清洁度地清洗基板。 

另外，在本发明中，优选的是，所述药液筒具有用于调整药液供给流量的调整部，并且，所述药液供给部具有用于安装所述药液筒的安装部。 

根据本发明，将利用调整部能够调整流量的药液筒安装在安装部上，由此能够直接将药液筒安装在供给管上，从而简化结构。因此，能够降低装置成本。 

另外，在本发明中，优选的是，所述药液供给部具有用于混合药液的混合阀，所述混合阀具有用于供给药液的支管，并且，所述支管具有用于安装所述药液筒的安装部。 

根据本发明，通过安装部安装药液筒，且通过支管向混合阀供给药液，由此能够利用混合阀将期望流量的药液供给至纯水中。另外，因为仅在以往的装置所具备的混合阀的支管上设置安装部即可，所以能够容易地使药液筒方式适用于以往的装置。 

另外，在本发明中，优选所述药液筒具有用于检测内部所存积的药液的量的余量检测传感器。 

根据本发明，容易得知药液筒的更换时间。 

另外，在本发明中，优选所述药液筒预先填充有使氯化氢气体溶于纯水而生成的盐酸溶液。 

根据本发明，通过使氯化氢气体溶于纯水中，能够生成高清洁度的盐酸溶液，所以在使用过程中药液清洁度不会降低。 

另外，在本发明中，优选所述药液筒预先填充有使氨气溶于纯水而生成的氨水溶液。根据本发明，通过使氨气溶于纯水中，能够生成高清洁度的氨水溶液，所以不会在使用过程中发生药液清洁度降低的情况。 

另外，在本发明中，优选所述药液筒预先填充有使氟化氢气体溶于纯水而生成的氢氟酸溶液。 

根据本发明，因为通过使氟化氢溶于纯水中，能够生成高清洁度的氢氟酸溶液，所以在使用过程中药液清洁度不会降低。 

发明效果 

根据本发明的基板清洗装置，通过药液供给部使药液从药液筒与纯水混合而生成处理液，通过供给管向处理部供给处理液。因为无需从补充管线等向药液筒补充药液，药液不会被污染，所以能够维持药液的高清洁度。因此，能够高清洁度地清洗基板。 

附图说明

图1是实施例1的基板清洗装置的概略结构图。 

图2是表示药液筒(cartridge)的概略结构的纵向剖视图。 

图3是实施例2的基板清洗装置的概略结构图。 

其中，附图标记说明如下： 

W…基板 

1…处理槽 

7…内槽 

9…外槽 

11…注入管 

17…供给管 

19…纯水供给源 

21…臭氧水供给源 

27…药液供给部 

29…药液筒 

37…筒主体 

39…余量显示部 

41…外容器 

43…内容器 

45…插入部 

47…喷嘴部 

53…安装部 

57…注入口 

具体实施方式

【实施例1】 

下面，参照附图对本发明的实施例1进行说明。 

图1是实施例1的基板清洗装置的概略结构图。 

本实施例的基板清洗装置例如为一种用于对基板W实施清洗处理的装置，并具有相当于本发明中的处理部的处理槽1。该处理槽1具有内槽7和外槽9，所述内槽7用于存积处理液并容纳基板W。内槽7在其底面两侧设置有一对用于供给处理液的注入管11。外槽9以包围内槽7上部开口的侧面的方式设置，回收从内槽7溢出的处理液并将其排出。 

供给管17的一端侧与处理槽1的注入管11连通并连接。在供给管17的另一端侧上通过三通阀23连通并连接有纯水供给源19和臭氧水供给源21。位于注入管11与三通阀23之间的供给管17上安装有控制阀25和药液供给部27。药液部供给部27构成为能够装卸多种药液筒29，根据处理向供给管17注入适当的药液。 

基板保持机构31具有背板33和基板保持引导部(guide)35。背板33具有板状部件，以悬垂姿势安装在未图示的搬送机构上，并能够沿内槽7的内壁面自由升降。在背板33的下端部正面一侧以使长度方向为水平的方式安装有基板保持引导部35，该基板保持引导部35用于将多个基板W保持为立起姿势。基板保持机构31能够通过未图示的升降机构在位于内槽7内部的“处理位置”与位于内槽7上方的“待机位置”之间移动。 

下面，参照图2。图2是表示药液筒的概略结构的纵向剖视图。 

药液筒29具有筒主体37和余量显示部39。筒主体37具有外容器41、内容器43、插入部45和喷嘴部47。 

外容器41构成为，底部49形成向着喷嘴部47向下倾斜的倾斜面，使得药液难以残存。内容器43使用对存积的药液具有耐药性的材料构成。作为材料可举出例如氟树脂、聚丙烯、聚乙烯、偏二氯乙烯(vinylidene chloride)等。 

相当于本发明的调整部的喷嘴部47形成有多个喷出口，通过适当地开闭这些喷出口，能够控制药液的供给量。这些控制由未图示的控制部执行。 

在外容器41的底部49附近埋设有液面传感器51。该液面传感器51检 测内容器43内的液面水平，并向余量显示部39输出该信号。余量显示部39根据该信号显示存积的药液的量。并且，余量显示部39与液面传感器51相当于本发明的余量检测传感器。 

药液供给部27在上部具有安装药液筒29的安装部53。安装部53形成在药液供给部27的上部，具有：凹部55，其外形比药液筒29的插入部45的外形大一些；注入口57，其形成在凹部55的底面，并形成于与喷嘴部47相对应的位置上。 

在安装部53中插入上述药液筒29的插入部45以作为使用状态。 

并且，上述药液筒29例如预先在清洁的环境下填充使氯化氢气体溶于纯水而生成的盐酸溶液，或者预先在清洁的环境下填充使氨气溶于纯水而生成的氨水溶液，或者预先在清洁的环境下填充使氟化氢气体溶于纯水而生成的氢氟酸溶液。因此，由于能够生成清洁度高的处理液，所以在使用过程中，处理液清洁度不会降低。 

接着，对上述基板清洗装置的清洗处理进行说明。并且，在此，设定将填充了氢氟酸溶液的药液筒29和填充了盐酸溶液的药液筒29安装在药液供给部27的安装部53上。 

以规定的流量从纯水供给源19向供给管17供给纯水，在这样的状态下，使从药液筒29供给的氢氟酸溶液与纯水混合，以作为处理液供给至内槽7。然后，在处理液从内槽7溢出的状态下，使基板W下降至处理位置。接着，在规定时间保持该状态。接下来，停止从药液筒29供给氢氟酸溶液，进行纯水清洗。经过规定时间后，停止从纯水供给源19供给纯水，并以规定流量从臭氧水供给源21供给臭氧水。臭氧水的供给维持规定时间后，再次仅从纯水供给源19供给纯水进行纯水清洗。进而，从存积有盐酸溶液的药液筒29以规定流量供给盐酸溶液，并维持供给规定时间。之后，停止从药液筒29供给盐酸溶液，仅从纯水供给源19供给纯水进行纯水清洗。在最终的纯水清洗完成后，从内槽7拉起位于处理位置的基板W，使其向待机位置移动。 

如上所述，根据本实施例的装置，通过药液供给部27使从药液筒29供给的药液与纯水混合而生成处理液，并通过供给管17向处理槽1供给处理液。由此，无需从补充管线等向药液筒补充药液，药液不会被污染，所以能够维持药液的高清洁度。因此，能够高清洁度地清洗基板。 

另外，因为药液筒29具有余量显示部39，所以能够容易得知药液筒29内的药液余量和药液筒29的定期更换时间。另外，因为药液筒29构成为能够通过喷嘴部47调整流量，所以能够直接将药液筒29安装在供给管17上而简化结构。因此，这样能够降低装置的成本。 

【实施例2】 

下面，参照附图对本发明的实施例2进行说明。 

图3为实施例2的基板清洗装置的概略结构图。并且，对与上述实施例1相同的结构标以相同附图标记，并省略详细说明。 

供给管17具有混合阀61。混合阀61具有用于供给药液的多根支管63，各支管63具有用于调整流量的控制阀65。在各支管63的端部具有安装部53，药液筒29相对于该安装部53能够自由装卸。 

在本实施例2的结构中，因为流量由控制阀65控制，所以在喷嘴部47完全打开的状态下将药液筒29安装在安装部53上即可。因此，虽然在本实施例2中，与上述实施例1同样地对基板W进行处理，但是药液的流量调整通过控制阀65进行。 

另外，根据本实施例的装置，因为仅在以往装置所具备的混合阀61的支管63上设置安装部53即可，所以本发明的药液筒方式能够容易适用于以往的装置。 

本发明并不仅限于上述实施方式，还能够如下所述地变形实施。 

(1)在上述各实施例中，以将本发明应用于所谓批处理式装置为例进行了说明，关于批处理式装置，作为处理部具有处理槽1，使基板W浸渍来进行处理，但是本发明也能够适用对基板W一个一个进行处理的所谓的单张处理式装置。具体来讲，可举出如下的装置，即，作为处理部具有旋转构件，从设置于旋转构件上方的喷嘴供给处理液，对基板一个一个进行清洗处理，其中所述旋转部件用于将基板保持为水平姿势，并能够在水平面内旋转。 

(2)本发明不限于上述各实施例中的药液筒29的结构，只要是构成为能够相对于药液供给部自由装卸，并在清洁的环境下填充药液的装置，无论具有何种形状和结构都可以。 

(3)虽然在上述各实施例中，举出了以氢氟酸溶液、纯水、臭氧水、纯水、盐酸溶液、纯水这样的顺序进行清洗处理，但是本发明也能够适用于这 样的清洗处理以外的处理。 

(4)虽然在上述各实施例中，对具有3个药液筒29的情况进行了说明，但是本发明也能够适用于药液筒29为1个或4个以上的情况。 

Claims (5)

1.一种基板清洗装置，利用含有药液的处理液对基板进行清洗，其特征在于，具有：

处理部，其用于利用处理液对基板进行处理，

供给管，其向所述处理部供给纯水，

药液供给部，其具有安装部，该安装部具有形成在所述供给管上的凹部，在所述凹部上具有与所述供给管的内部连通的注入口，从所述注入口向所述供给管供给药液，

药液筒，其相对于所述药液供给部的安装部能够自由装卸；

所述药液筒具有药液筒主体，该药液筒主体存积药液，

所述药液筒主体具有：插入部，该插入部用于插入到所述凹部；喷嘴部，该喷嘴部形成在与所述注入口对应的位置，并形成有多个喷出口，通过适当地开闭所述多个喷出口，能够控制药液的供给量。

2.如权利要求1所述的基板清洗装置，其特征在于，

所述药液筒具有用于检测存积于内部的药液的量的余量检测传感器。

3.如权利要求1或2所述的基板清洗装置，其特征在于，

所述药液筒预先填充有使氯化氢气体溶于纯水而生成的盐酸溶液。

4.如权利要求1或2所述的基板清洗装置，其特征在于，

所述药液筒预先填充有使氨气溶于纯水而生成的氨水溶液。

5.如权利要求1或2所述的基板清洗装置，其特征在于，

所述药液筒预先填充有使氟化氢气体溶于纯水而生成的氢氟酸溶液。

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