JP2008218701A - 基板洗浄装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】薬液カートリッジ29から薬液供給部27を介して純水に薬液を混合させて処理液を生成させ、供給管を介して処理槽に処理液を供給させる。薬液カートリッジ29には、補充ラインなどから薬液が補充されることがなく、薬液が汚染されることがないので、薬液の清浄度を高く維持することができる。したがって、清浄度高く基板を洗浄することができる。
【選択図】図2
Description
すなわち、純水の清浄度は極めて高く、pptレベルであり、純水が原因で基板が汚染されることは極めて稀であるが、薬液は純水に比較して清浄度が低く、薬液に起因して基板が汚染されることがあるという問題がある。具体的には、薬液供給ラインから薬液タンクに薬液が補充されるが、その補充ラインなどからパーティクルが混入したり、金属イオンが溶出して薬液に混入したりして、薬液の清浄度が低下する。その結果、いくら清浄度が高い純水を使って洗浄しても、基板を清浄度高く処理することができないという問題がある。
すなわち、請求項1に記載の発明は、薬液を含む処理液で基板を洗浄する基板洗浄装置において、基板を処理液で処理するための処理部と、前記処理部に純水を供給する供給管と、前記供給管に対して薬液を供給する薬液供給部と、薬液を貯留し、前記薬液供給部に対して着脱自在に構成された薬液カートリッジと、を備えていることを特徴とするものである。
図1は、実施例1に係る基板洗浄装置の概略構成図である。
図3は、実施例2に係る基板洗浄装置の概略構成図である。なお、上述した実施例1と同様の構成について同符号を付すことで、詳細な説明については省略する。
1 … 処理槽
7 … 内槽
9 … 外槽
11 … 注入管
17 … 供給管
19 … 純水供給源
21 … オゾン水供給源
27 … 薬液供給部
29 … 薬液カートリッジ
37 … カートリッジ本体
39 … 残量表示部
41 … 外容器
43 … 内容器
45 … 差込部
47 … ノズル部
53 … 取り付け部
57 … 注入口
Claims (7)
- 薬液を含む処理液で基板を洗浄する基板洗浄装置において、
基板を処理液で処理するための処理部と、
前記処理部に純水を供給する供給管と、
前記供給管に対して薬液を供給する薬液供給部と、
薬液を貯留し、前記薬液供給部に対して着脱自在に構成された薬液カートリッジと、
を備えていることを特徴とする基板洗浄装置。 - 請求項1に記載の基板洗浄装置において、
前記薬液カートリッジは、薬液の供給流量を調整するための調整部を備えているとともに、
前記薬液供給部は、前記薬液カートリッジが取り付けられる取り付け部を備えていることを特徴とする基板洗浄装置。 - 請求項1に記載の基板洗浄装置において、
前記薬液供給部は、薬液を混合するためのミキシングバルブを備え、
前記ミキシングバルブは、薬液を供給される分岐管を備えているとともに、前記分岐管は、前記薬液カートリッジが取り付けられる取り付け部を備えていることを特徴とする基板洗浄装置。 - 請求項1から3のいずれかに記載の基板洗浄装置において、
前記薬液カートリッジは、内部に貯留している薬液の量を検出する残量検知センサを備えていることを特徴とする基板洗浄装置。 - 請求項1から4のいずれかに記載の基板洗浄装置において、
前記薬液カートリッジは、塩化水素ガスを純水に溶存させて生成された塩酸溶液を予め充填されていることを特徴とする基板洗浄装置。 - 請求項1から4のいずれかに記載の基板洗浄装置において、
前記薬液カートリッジは、アンモニアガスを純水に溶存させて生成されたアンモニア溶液を予め充填されていることを特徴とする基板洗浄装置。 - 請求項1から4のいずれかに記載の基板洗浄装置において、
前記薬液カートリッジは、フッ化水素ガスを純水に溶存させて生成されたフッ化水素酸溶液を予め充填されていることを特徴とする基板洗浄装置。
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