JP2003284936A - 混合装置 - Google Patents

混合装置

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JP2003284936A
JP2003284936A JP2002089311A JP2002089311A JP2003284936A JP 2003284936 A JP2003284936 A JP 2003284936A JP 2002089311 A JP2002089311 A JP 2002089311A JP 2002089311 A JP2002089311 A JP 2002089311A JP 2003284936 A JP2003284936 A JP 2003284936A
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Japan
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pressure
flow rate
pure water
storage tank
nitrogen gas
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JP2002089311A
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English (en)
Inventor
Yasuhiro Tsunokake
泰洋 角掛
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Tokico System Solutions Co Ltd
Original Assignee
Tokico Technology Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明は異なる流体を一定濃度に混合して安
定供給することを課題とする。 【解決手段】 混合装置10は、薬液供給経路12を介
して供給された薬液と、純水供給経路14を介して供給
された純水とを混合ノズル16で混合するように構成さ
れている。制御回路40は、圧力センサ49により測定
された純水の供給圧力と圧力センサ39により測定され
た貯留槽22内の窒素ガスの圧力との差圧が予め設定さ
れた所定値を保つように窒素ガスの供給圧力を調整す
る。混合装置10では、貯留槽22内に供給される窒素
ガスの圧力を調整することで混合ノズル16に供給され
る薬液の微小流量を高精度に制御する。そして、混合ノ
ズル16に供給される純水の流量が変化した場合には、
圧力制御弁26により貯留槽22内の窒素ガスの圧力を
調整して純水に対する薬液の流量を制御して混合された
液の濃度を一定に保つ。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば成分の異な
る複数の薬液を混合することで半導体や液晶などフラッ
トパネルディスプレイ製造プロセスに使用される混合液
を供給する混合装置に関する。
【0002】
【従来の技術】以下、2種類の液体を混合するための混
合装置として純水と薬液とを混合する混合装置を例に挙
げて説明する。
【0003】従来、成分の異なる2種類の薬液を混合す
る混合装置では、一定流速、一定圧力に制御された純水
に窒素ガス等により圧送された薬液を一定流量で注入す
ることで所定濃度の薬液を得るように構成されている。
【0004】このように構成された混合装置では、薬液
貯留タンク内に所定量の薬液を貯留すると、エア駆動式
の開閉弁を開弁して窒素ガスの圧力で薬液を微小流量で
純水に混合する。例えば、薬液と純水との混合比が例え
ば1:99の場合、生成される混合液の液量が20L
(リットル)とすると、薬液の供給量が200mL(ミ
リリットル)であるのに対し、純水の供給量が1980
0mLとなる。そのため、純水の供給量に対して薬液の
供給量が僅かであり、その分薬液の流量制御が難しく、
且つ薬液の流量を制御する制御システムにより高い精度
が要求されている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ような構成とされた従来の混合装置では、薬液と純水と
の混合比が1:99と流量差が大きいので、薬液の供給
圧力または純水の供給圧力が変動すると、混合経路に供
給される流量が変化して混合された液の濃度にばらつき
が生じてしまい、濃度ムラが生じて所定の比率で混合さ
れた液を安定供給できないという問題があった。
【0006】そこで、本発明は上記課題を解決した混合
装置を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明は以下のような特徴を有する。上記請求項1
記載の発明は、異なる種類の流体を個別に供給する複数
の流体供給経路と、流体供給経路から供給された所定量
の流体が貯留される貯留槽と、貯留槽に圧縮気体を供給
して加圧する加圧手段と、貯留槽の流体を加圧手段の加
圧により生じた差圧を利用して流体供給経路からの流体
が合流し、複数種の流体が混合される混合経路と、流体
供給経路の流体供給圧力を測定する第1の圧力測定手段
と、貯留槽の圧力を測定する第2の圧力測定手段と、第
1の圧力測定手段により測定された第1の圧力と第2の
圧力測定手段により測定された第2の圧力との差圧が予
め設定された所定値を保つように加圧手段による圧縮気
体の圧力を調整する圧力調整手段と、を備えたものであ
り、第1の圧力測定手段により測定された第1の圧力と
第2の圧力測定手段により測定された第2の圧力との差
圧が予め設定された所定値を保つように加圧手段による
圧縮気体の圧力を調整することで微小流量に安定するよ
うに制御することが可能になり、流量差の大きい複数の
流体を高精度に混合することができる。
【0008】上記請求項2記載の発明は、異なる種類の
流体を個別に供給する複数の流体供給経路と、流体供給
経路から供給された所定量の流体が貯留される貯留槽
と、貯留槽に圧縮気体を供給して加圧する加圧手段と、
貯留槽の流体を加圧手段の加圧により生じた差圧を利用
して流体供給経路からの流体が合流し、複数種の流体が
混合される混合経路と、流体供給経路の流量を測定する
流量測定手段と、流量測定手段により測定された流量に
応じた圧縮気体の圧力値を保つように加圧手段による圧
縮気体の圧力を調整する圧力調整手段と、を備えたもの
であり、流量測定手段により測定された流量に応じた圧
縮気体の圧力を演算し、演算された圧力値を保つように
加圧手段による圧縮気体の圧力を調整することで微小流
量に安定するように制御することが可能になり、流量差
の大きい複数の流体を高精度に混合することができる。
【0009】
【発明の実施の形態】以下、図面と共に本発明の実施の
形態について説明する。図1は本発明になる混合装置の
一実施例の概略構成を示す構成図である。図1に示され
るように、混合装置10は、例えば、薬液供給経路12
を介して供給された50%フッ化水素酸(薬液)と、純
水供給経路14を介して供給された純水とを混合ノズル
16で混合して半導体製造ラインのウエハ(図示せず)
に供給するように構成されている。尚、フッ化水素酸
は、フッ化水素(hydrogen fluoride)の水溶液であ
り、以下「薬液(HF液)」と記す。
【0010】薬液供給経路12は、薬液供給管路18
と、窒素ガス供給管路20とが貯留槽(計量タンク)2
2の上部に接続され、貯留槽22の底部より引き出され
た薬液吐出管路24が混合ノズル16に連通されてい
る。従って、貯留槽22には、薬液供給管路18から所
定量の薬液が注入された後、窒素ガス供給管路20から
窒素ガスが供給されて加圧される。そして、貯留槽22
内の薬液は、窒素ガスの圧力で薬液吐出管路24へ吐出
される。
【0011】また、窒素ガス供給管路20には、薬液供
給圧力を純水の流量に応じた所定圧力に制御する圧力制
御弁(加圧手段)26と、窒素ガスの供給または停止を
切り替えるエア駆動式の開閉弁27と、窒素ガス中の微
粒子を除去するガスフィルタ28とが配設されている。
圧力制御弁26は、純水供給経路14を介して供給され
る純水の流量に応じて貯留槽22内に供給される窒素ガ
スの圧力を調整することで混合ノズル16に供給される
薬液の微小流量を高精度に制御する。
【0012】また、薬液供給管路18には、薬液の供給
量を制御するエア駆動式の開閉弁32と、薬液の逆流を
防止するチェック弁34とが配設されている。
【0013】貯留槽22は、薬液供給管路18から供給
された薬液(HF液)を一時的に貯留することで薬液
(HF液)を安定供給するものである。また、貯留槽2
2の上部には、薬液が注入された際の液面が所定高さ
(所定量)に達したことを測定するための液面センサ3
5と、ガス抜きのためのガス抜き管路36とが設けられ
ている。
【0014】このガス抜き管路36には、エア駆動式の
逃がし弁37と、逆流を防止するチェック弁38と、圧
力を測定する第2の圧力センサ(第2の圧力測定手段)
39とが設けられている。尚、逃がし弁37は、薬液の
注入時に開弁されて貯留槽22の内部に残留した窒素ガ
スを外部へ排気することで薬液注入時の負荷を軽減して
薬液注入時間を短縮する。
【0015】圧力センサ39からの検出信号は、制御回
路40に入力されており、制御回路40によって貯留槽
22の圧力が管理されている。また、薬液吐出管路24
には、逆流を防止するチェック弁42と、エア駆動式の
開閉弁43と、オリフィスを有する絞り44とが配され
ており、開閉弁43は制御回路40により開弁または閉
弁制御される。
【0016】また、純水供給経路14は、混合ノズル1
6に連通された純水供給管路45に、純水の供給量を調
整するエア駆動式の流量調整弁46と、純水の流量を計
測する流量計48と、純水の供給圧力を測定する第1の
圧力センサ(第1の圧力測定手段)49とが配設されて
いる。流量計48は、純水供給管路45を流れる流量に
比例した周期のアナログ信号を発信器48aから出力す
る。そして、制御回路40では、発信器48aから出力
されたアナログ信号からそのときの瞬時流量を演算す
る。
【0017】また、流量調整弁46は、圧力制御弁50
から供給された圧縮空気の圧力に応じた弁開度に調整さ
れて純水の流量を調整するように構成されている。圧力
制御弁50は、制御回路40からの制御信号により空気
管路47から供給された圧縮空気を任意の圧力に制御す
る。
【0018】上記開閉弁27,32,43及び逃がし弁
37は、エア駆動式のノーマルクローズ弁構造で構成さ
れており、エア供給回路52から供給されるエア(圧縮
空気)により開弁動作する。エア供給回路52は、開閉
弁27,32,43及び逃がし弁37に接続された空気
管路27a,32a,43a,37aにコンプレッサ等
からなる空気源54からの圧縮空気を選択的に供給する
電磁弁(図示せず)が設けられている。
【0019】そのため、エア供給回路50では、制御回
路40からの制御信号に基づいて空気管路27a,32
a,43a,37aへ供給する圧縮空気をオンまたはオ
フにして開閉弁27,32,43及び逃がし弁37を開
弁または閉弁させる。
【0020】また、上記薬液供給管路18及び純水供給
管路45は、ハーフロロアルコキシ共重合体(PFA樹
脂)、あるいはポリフッ化ビニリデン(PVDF樹脂)
などの不純物の溶出や微粒子の発生が極めて少ない材質
により形成されている。
【0021】また、制御回路40のメモリには、流体供
給開始時、純水供給管路45に配された流量調整弁46
及び、薬液を供給する開閉弁32及び43を開弁させ、
且つ、流体供給停止時、開閉弁32及び43、流量調整
弁46を閉弁させる制御プログラムが格納されている。
【0022】さらに、上記メモリには、圧力センサ49
により測定された純水の供給圧力(第1の圧力)と圧力
センサ39により測定された貯留槽22内の窒素ガスの
圧力(第2の圧力)との差圧を演算する制御プログラム
(演算手段)と、演算された差圧が予め設定された所定
値を保つように圧力制御弁26により窒素ガス(圧縮気
体)の圧力を調整する制御プログラム(圧力調整手段)
とが格納されている。
【0023】このように構成された混合装置10では、
貯留槽22内に供給される窒素ガスの圧力を調整するこ
とで混合ノズル16に供給される薬液の微小流量を高精
度に制御する構成であるので、混合ノズル16に供給さ
れる純水の流量が変化した場合には、貯留槽22内の窒
素ガスの圧力を調整して純水に対する薬液の流量を制御
する。
【0024】図2は純水の供給圧力と窒素ガスの圧力と
の差圧が混合ノズル16で混合された液体の濃度と比例
関係にあることを示すグラフである。図2に示されるよ
うに、純水の供給圧力P1と貯留槽22内の窒素ガスの
圧力P2との差圧ΔP(=P2−P1)は、混合ノズル
16で混合された液体の濃度Cに比例していることが実
験結果から分かっている。
【0025】そのため、混合ノズル16から吐出される
混合液の濃度Cは、純水の供給圧力P1と貯留槽22内
の窒素ガスの圧力P2との関係で制御することが可能に
なる。すなわち、混合ノズル16で混合された液体の濃
度Cを一定に保つには、純水の供給圧力P1が変化して
も、上記差圧ΔPが常に一定値を保持するように窒素ガ
スの圧力P2を圧力制御弁26により制御する方法が有
効であることが分かる。
【0026】例えば、混合ノズル16で混合された液体
の濃度をC=0.1%に保つには、差圧をΔP=10k
Paになるように圧力制御弁26を制御すれば良い。
【0027】本実施例では、メモリ(図示せず)に図2
に示す濃度Cと差圧ΔPとの関係を示すデータが登録さ
れたデータベースが格納されている。そのため、制御回
路40は、濃度Cと純水の供給圧力P1が入力されるこ
とでそのときに必要とされる窒素ガスの圧力P2を求め
ることが可能になる。
【0028】図3は制御回路40が実行する制御処理を
示すフローチャートである。図3に示されるように、制
御回路40は、電源スイッチ(図示せず)がオンに操作
されると、ステップS11(以下「ステップ」を省略す
る)において、薬液供給管路18の開閉弁32を開弁さ
せると共に、貯留槽22の逃がし弁37を開弁させて貯
留槽22に薬液の注入を開始する。
【0029】次のS12では、貯留槽22の液面センサ
35が薬液の液面が所定高さに達したことを検知してオ
ンになったかどうかをチェックする。S12において、
貯留槽22内に注入された薬液の液面が上昇し、液面が
所定高さに達した時点で液面センサ35がオンになる
と、S13に進み、薬液供給管路18の開閉弁32を閉
弁させると共に、貯留槽22の逃がし弁37を閉弁させ
て薬液の注入を停止させる。
【0030】続いて、S14に進み、上位機器(図示せ
ず)からの供給要求信号を受信すると、S15に進み、
純水供給管路45の流量調整弁46を開いて混合ノズル
16へ純水を供給する。次のS16では、純水供給管路
45を流れる純水の流量を1.5L/minとなるよう
に流量調整弁46の弁開度を調整する。
【0031】S17では、純水供給管路45の流量計4
8により計測された流量値が予め設定された所定値であ
ることを確認する。尚、S17において、純水供給管路
45の流量計48により計測された流量値が予め設定さ
れた所定値になっていないときは、S16に戻り、流量
調整弁46の弁開度を調整する。
【0032】S17において、純水供給管路45の流量
計48により計測された流量値が予め設定された所定値
であるときは、S18に進み、窒素ガス供給管路20の
開閉弁27を開弁させて窒素ガスを貯留槽22に充填す
る。
【0033】次のS19では、純水供給管路45を流れ
る純水の供給圧力を圧力センサ49から読み取る。続い
て、S20に進み、圧力センサ49により計測された純
水の供給圧力に応じて窒素ガス供給管路20の圧力制御
弁26の弁開度を調整する。
【0034】次のS21では、貯留槽22の圧力センサ
39により計測された圧力値(窒素ガス圧力値P2)が
純水供給管路45の圧力センサ49により計測された圧
力値(純水供給圧力値P1)と比較し、差圧ΔPが混合
された液の濃度に応じて予め設定された設定値(例え
ば、濃度C=0.1%の場合、差圧ΔP=10kPaと
する)かどうかをチェックする。
【0035】S21において、差圧ΔPが設定値(10
kPa)でないときは、S20に戻り、差圧ΔPが設定
値(10kPa)となるように圧力制御弁26の弁開度
を調整する。その際、メモリ(図示せず)から図2に示
す濃度Cと差圧ΔPとの関係が登録されたデータベース
を読み出し、濃度Cと純水の供給圧力P1に対応する窒
素ガスの圧力P2を求める。そして、圧力制御弁26
は、窒素ガスの圧力が上記データベースから演算された
圧力値P2となるように弁開度が制御される。
【0036】また、上記S21において、差圧ΔPが設
定値(10kPa)になったときは、S22に進み、薬
液吐出管路24の開閉弁43を開弁させて混合ノズル1
6に薬液を供給する。このとき、貯留槽22の薬液は、
圧力制御弁26により調整された窒素ガスの圧力で押し
出され、絞り44で流量を絞られた後、混合ノズル16
に供給される。
【0037】これで、混合ノズル16においては、窒素
ガス圧により貯留槽22から供給された微小流量の薬液
と、流量調整弁46により流量調整された純水とが混合
されて下流に設置された半導体製造装置などに供給され
る。
【0038】次のS23では、上記S21と同様に、貯
留槽22の圧力センサ39により計測された圧力値(窒
素ガス圧力値P2)が純水供給管路45の圧力センサ4
9により計測された圧力値(純水供給圧力値P1)と比
較し、差圧ΔPが混合された液の濃度に応じて予め設定
された設定値(例えば、濃度C=0.1%の場合、差圧
ΔP=10kPaとする)かどうかをチェックする。
【0039】S23において、差圧ΔPが設定値(10
kPa)でないときは、S24に進み、差圧ΔPが設定
値(10kPa)となるように圧力制御弁26の弁開度
を調整する(圧力調整手段)。
【0040】その際、メモリ(図示せず)から図2に示
す濃度Cと差圧ΔPとの関係が登録されたデータベース
を読み出し、濃度Cと純水の供給圧力P1に対応する窒
素ガスの圧力P2を求める。そして、圧力制御弁26
は、窒素ガスの圧力が上記データベースから演算された
圧力値P2となるように弁開度が制御される。
【0041】また、上記S23において、差圧ΔPが設
定値(10kPa)になったときは、S25に進み、上
位機器(図示せず)からの供給要求信号を受信したかど
うかをチェックする。S25において、上位機器(図示
せず)からの供給要求信号を受信したときは、上記S2
3,S24の処理を繰り返す。
【0042】また、S25において、上位機器(図示せ
ず)からの供給要求信号を受信しないときは、S26に
進み、薬液吐出管路24の開閉弁43及び窒素ガス供給
管路20の開閉弁27を閉弁させて薬液の供給を停止さ
せる。S27では、純水供給管路45の流量調整弁46
を閉弁させて純水の供給を停止させる。
【0043】本実施例では、上記S11〜S27の処理
が1サイクルとして繰り返し実行されることで、貯留槽
22に貯留された所定量の薬液と純水とを一定の割合で
混合して所定濃度の液を安定供給することが可能にな
る。
【0044】このように、本実施例では、圧力センサ4
9により測定された純水の供給圧力と圧力センサ39に
より測定された貯留槽22内の窒素ガスの圧力との差圧
が予め設定された所定値を保つように圧力制御弁26に
よる圧縮気体の圧力を調整することで微小流量に安定す
るように制御することが可能になり、流量差の大きい複
数の流体を高精度に混合することができる。
【0045】ここで、変形例について説明する。
【0046】図4は各濃度に応じた窒素ガスの圧力と純
水の供給流量との関係を示すグラフである。図4に示さ
れるように、純水と薬液を混合した液の濃度をC=0.
05%、0.15%、0.25%、0.35%に設定し
た場合の窒素ガスの圧力P2と純水の供給流量Qとが比
例関係にあることが分かる。
【0047】このグラフから混合ノズル16から吐出さ
れる混合液の濃度Cは、窒素ガスの供給圧力P1と純水
の供給流量Qとの関係で制御することが可能になる。す
なわち、混合ノズル16で混合された液体の濃度Cを一
定に保つには、純水の供給流量Qが変化しても、窒素ガ
スの圧力P2を圧力制御弁26により制御する方法が有
効であることが分かる。
【0048】本変形例では、メモリ(図示せず)に図4
に示す各濃度C毎の窒素ガスの供給圧力P1と純水の供
給流量Qとの関係を示すデータが登録されたデータベー
スが格納されている。そのため、制御回路40は、濃度
Cと純水の供給流量Qが入力されることでそのときに必
要とされる窒素ガスの圧力P2を求めることが可能にな
る。
【0049】また、本変形例においては、流量計(流量
測定手段)48は、純水供給経路14から供給された純
水の流量を計測しており、流量に比例した周期のアナロ
グ信号を発信器48aから制御回路40に発信してい
る。そして、制御回路40は、このアナログ信号の周波
数から得られた流量計測値に基づいて流量調整弁50の
弁開度を制御して流量調整弁46の弁開度を調整する。
そのため、本変形例では、圧力センサ49が不要にな
る。
【0050】図5は制御回路40が実行する変形例の制
御処理を示すフローチャートである。図5に示されるよ
うに、制御回路40は、電源スイッチ(図示せず)がオ
ンに操作されると、S31〜S38の処理を実行する。
尚、S31〜S38の処理は、前述のS11〜S18と
同様な処理であるので、ここではその説明を省略する。
【0051】次のS39では、流量計48により計測さ
れた純水の供給流量Qに比例したアナログ信号の周波数
から瞬時流量を読み込む。
【0052】続いて、S40に進み、流量計48により
計測された流量に基づいて窒素ガス供給管路20の圧力
制御弁26の弁開度を調整する。
【0053】次のS41では、貯留槽22の圧力センサ
39により計測された圧力値(窒素ガス圧力値P2)が
所定値かどうかをチェックする。ここでは、データベー
スに登録された図4に示す各濃度毎の窒素ガスの圧力P
2と純水の供給流量Qとの関係が登録されたデータベー
スを読み出し、このデータベースから供給流量Qに対応
する窒素ガスの圧力P2を求める。そして、圧力制御弁
26は、窒素ガスの圧力が上記データベースから演算さ
れた圧力値P2となるように弁開度が制御される。
【0054】また、上記S41において、圧力センサ3
9の計測値が設定値(P2)になったときは、S42に
進み、薬液吐出管路24の開閉弁43を開弁させて混合
ノズル16に薬液を供給する。このとき、貯留槽22の
薬液は、圧力制御弁26により調整された窒素ガスの圧
力で押し出され、絞り44で流量を絞られた後、混合ノ
ズル16に供給される。
【0055】これで、混合ノズル16においては、窒素
ガス圧により貯留槽22から供給された微小流量の薬液
と、流量調整弁46により流量調整された純水とが混合
されて下流に設置された半導体製造装置などに供給され
る。
【0056】次のS43では、上記S41と同様に、貯
留槽22の圧力センサ39により計測された圧力値(窒
素ガス圧力値P2)が所定値かどうかをチェックする。
そして、S43において、貯留槽22の圧力センサ39
により計測された圧力値(窒素ガス圧力値P2)が所定
値でないときは、S44に進み、窒素ガスの圧力が上記
データベースから演算された圧力値P2となるように圧
力制御弁26の弁開度を調整する(圧力調整手段)。
【0057】尚、S44では、上記S40と同様に、デ
ータベースに登録された図4に示す各濃度毎の窒素ガス
の圧力P2と純水の供給流量Qとの関係が登録されたデ
ータベースを読み出し、このデータベースから供給流量
Qに対応する窒素ガスの圧力P2を求め、窒素ガスの圧
力が上記データベースから演算された圧力値P2となる
ように圧力制御弁26の弁開度を調整する。
【0058】また、S45〜S47の処理は、前述のS
25〜S27と同様な処理であるので、ここではその説
明を省略する。
【0059】本変形例では、上記S31〜S47の処理
が1サイクルとして繰り返し実行されることで、貯留槽
22に貯留された所定量の薬液と純水とを一定の割合で
混合して所定濃度の液を安定供給することが可能にな
る。
【0060】このように、本変形例では、流量計48に
より測定された流量に応じた圧縮気体の圧力を演算し、
演算された圧力値を保つように圧力制御弁26による圧
縮気体の圧力を調整することで微小流量に安定するよう
に制御することが可能になり、流量差の大きい複数の流
体を高精度に混合することができる。
【0061】尚、本実施の形態では、2種類の流体を混
合ノズル16で混合するよう構成された装置を一例とし
て挙げたが、これに限らず、例えば、2種類の流体をタ
ンク内で混合し、撹拌して供給するように構成された混
合装置にも本発明が適用できるのは勿論である。
【0062】また、本実施の形態では、フッ化水素酸と
純水とを所定の割合で混合させる場合を一例として挙げ
たが、他の薬液を混合する場合にも本発明が適用できる
のは勿論である。
【0063】また、本実施の形態では、フッ化水素酸と
純水との2種類の液体を混合する場合を一例として説明
したが、成分が異なる2種以上の流体を混合させる場合
にも本発明が適用できるのは勿論である。
【0064】
【発明の効果】上述の如く、請求項1記載の発明によれ
ば、異なる種類の流体を個別に供給する複数の流体供給
経路と、流体供給経路から供給された所定量の流体が貯
留される貯留槽と、貯留槽に圧縮気体を供給して加圧す
る加圧手段と、貯留槽の流体を加圧手段の加圧により生
じた差圧を利用して流体供給経路からの流体が合流し、
複数種の流体が混合される混合経路と、流体供給経路の
流体供給圧力を測定する第1の圧力測定手段と、貯留槽
の圧力を測定する第2の圧力測定手段と、第1の圧力測
定手段により測定された第1の圧力と第2の圧力測定手
段により測定された第2の圧力との差圧が予め設定され
た所定値を保つように加圧手段による圧縮気体の圧力を
調整する圧力調整手段と、を備えたため、第1の圧力測
定手段により測定された第1の圧力と第2の圧力測定手
段により測定された第2の圧力との差圧が予め設定され
た所定値を保つように加圧手段による圧縮気体の圧力を
調整することで微小流量に安定するように制御すること
が可能になり、流量差の大きい複数の流体を高精度に混
合することができる。
【0065】また、請求項2記載の発明によれば、異な
る種類の流体を個別に供給する複数の流体供給経路と、
流体供給経路から供給された所定量の流体が貯留される
貯留槽と、貯留槽に圧縮気体を供給して加圧する加圧手
段と、貯留槽の流体を加圧手段の加圧により生じた差圧
を利用して流体供給経路からの流体が合流し、複数種の
流体が混合される混合経路と、流体供給経路の流量を測
定する流量測定手段と、流量測定手段により測定された
流量に応じた圧縮気体の圧力値を保つように加圧手段に
よる圧縮気体の圧力を調整する圧力調整手段と、を備え
たため、流量測定手段により測定された流量に応じた圧
縮気体の圧力を演算し、演算された圧力値を保つように
加圧手段による圧縮気体の圧力を調整することで微小流
量に安定するように制御することが可能になり、流量差
の大きい複数の流体を高精度に混合することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明になる混合装置の一実施例の概略構成を
示す構成図である。
【図2】純水の供給圧力と窒素ガスの圧力との差圧が混
合ノズル16で混合された液体の濃度と比例関係にある
ことを示すグラフである。
【図3】制御回路40が実行する制御処理を示すフロー
チャートである。
【図4】各濃度に応じた窒素ガスの圧力と純水の供給流
量との関係を示すグラフである。
【図5】制御回路40が実行する変形例の制御処理を示
すフローチャートである。
【符号の説明】
10 混合装置 12 薬液供給経路 14 純水供給経路 16 混合ノズル 18 薬液供給管路 20 窒素ガス供給管路 22 貯留槽 24 薬液吐出管路 26 圧力制御弁 27 質量流量計 27,32,43 開閉弁 27a,32a,37a,43a 空気管路 35 液面センサ 37 逃がし弁 39 第2の圧力センサ 40 制御回路 44 絞り 45 純水供給管路 46 流量調整弁 48 流量計 49 第1の圧力センサ 50 圧力制御弁 52 エア供給回路 54 空気源

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 異なる種類の流体を個別に供給する複数
    の流体供給経路と、 該流体供給経路から供給された所定量の流体が貯留され
    る貯留槽と、 該貯留槽に圧縮気体を供給して加圧する加圧手段と、 前記貯留槽の流体を前記加圧手段の加圧により生じた差
    圧を利用して前記流体供給経路からの流体が合流し、前
    記複数種の流体が混合される混合経路と、 前記流体供給経路の流体供給圧力を測定する第1の圧力
    測定手段と、 前記貯留槽の圧力を測定する第2の圧力測定手段と、 前記第1の圧力測定手段により測定された第1の圧力と
    前記第2の圧力測定手段により測定された第2の圧力と
    の差圧が予め設定された所定値を保つように前記加圧手
    段による圧縮気体の圧力を調整する圧力調整手段と、 を備えたことを特徴とする混合装置。
  2. 【請求項2】 異なる種類の流体を個別に供給する複数
    の流体供給経路と、 該流体供給経路から供給された所定量の流体が貯留され
    る貯留槽と、 該貯留槽に圧縮気体を供給して加圧する加圧手段と、 前記貯留槽の流体を前記加圧手段の加圧により生じた差
    圧を利用して前記流体供給経路からの流体が合流し、前
    記複数種の流体が混合される混合経路と、 前記流体供給経路の流量を測定する流量測定手段と、 前記流量測定手段により測定された流量に応じた前記圧
    縮気体の圧力値を保つように前記加圧手段による圧縮気
    体の圧力を調整する圧力調整手段と、 を備えたことを特徴とする混合装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103962051A (zh) * 2013-01-30 2014-08-06 韩明海 一种混合液的调配系统及调配方法
JP2018079446A (ja) * 2016-11-18 2018-05-24 三菱重工機械システム株式会社 液体混合装置および液体混合方法
CN112399883A (zh) * 2018-07-13 2021-02-23 先技高科技有限公司 液体混合供给装置
JP2022535905A (ja) * 2019-06-06 2022-08-10 ローゼンバウアー インターナショナル アクチェンゲゼルシャフト 液体混合物を提供するための方法並びに液体混合システム
JP7398666B2 (ja) 2020-03-04 2023-12-15 パナソニックIpマネジメント株式会社 噴霧装置及び方法

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