JP2004227952A - X線発生装置及び発生方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ある時間間隔で、第1のパルス状電子ビームと第2のパルス状電子ビームとを出射する電子ビーム源と、電子ビーム源から出射された第1のパルス状電子ビームに、第1の位置において、第1の角度で衝突するように、パルス状レーザビームを出射するレーザ光源と、第1のパルス状電子ビームに衝突したパルス状レーザビームが、第2のパルス状電子ビームに、第2の位置において、第1の角度とは異なる第2の角度で衝突するように、パルス状レーザビームの光路を制御する光路制御光学系と、第1及び第2のパルス状電子ビームの出射と、パルス状レーザビームの出射とが同期するように、電子ビーム源とレーザ光源とを同期させる同期手段とを有するX線発生装置を提供する。
【選択図】 図1
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、レーザビームと電子ビームとを衝突させ、X線を発生させる、X線発生装置及び発生方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
動解析手法として一般に用いられているポンプ−プローブ法は、電子線(ポンプ)−レーザ(プローブ)、または、レーザ(ポンプ)−X線(プローブ)という光源の組み合わせで行われていた。(例えば、特許文献1、特許文献2及び特許文献3参照。)異なった波長のX線(ポンプ)−X線(プローブ)光源はなかった。
【0003】
【特許文献1】
特開平11−264899号公報
【特許文献2】
特開2002−333500号公報
【特許文献3】
特許2528622号公報
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、複数のパルス状電子ビームに1つのパルス状レーザビームを衝突させて、時間差をおいてX線を発生させる、X線発生装置を提供することである。
【0005】
【課題を解決するための手段】
本発明の一観点によれば、ある時間間隔で、第1のパルス状電子ビームと第2のパルス状電子ビームとを出射する電子ビーム源と、前記電子ビーム源から出射された前記第1のパルス状電子ビームに、第1の位置において、第1の角度で衝突するように、パルス状レーザビームを出射するレーザ光源と、第1のパルス状電子ビームに衝突したパルス状レーザビームが、前記第2のパルス状電子ビームに、第2の位置において、前記第1の角度とは異なる第2の角度で衝突するように、パルス状レーザビームの光路を制御する光路制御光学系と、前記電子ビーム源と前記レーザ光源とを同期させる同期手段とを有するX線発生装置が提供される。
【0006】
電子ビーム源から、第1のパルス状電子ビームが出射される。電子ビーム源と同期したレーザ光源からは、第1のパルス状電子ビームに衝突するように、パルス状レーザビームが出射される。第1のパルス状電子ビームとパルス状レーザビームとが第1の角度で衝突する。衝突位置においてX線が発生する。
【0007】
第1のパルス状電子ビームが出射された後、ある時間間隔をおいて、電子ビーム源からは、第2のパルス状電子ビームが出射される。第1のパルス状電子ビームと衝突したパルス状レーザビームは、光路制御光学系によって、第2のパルス状電子ビームと衝突するように光路を調整され、第2の角度で、第2のパルス状電子ビームと衝突する。衝突位置においてX線が発生する。
【0008】
光路制御光学系によって、第1の角度と第2の角度とが異なる角度となるようにパルス状レーザビームの光路を調整することにより、それぞれの衝突で発生するX線の波長を変えることができる。
【0009】
【発明の実施の形態】
図1は、本発明の実施例によるX線発生装置の概略図である。同期装置1は、2856MHzのマイクロ波を出力するマイクロ波発生源2、及びマイクロ波発生源2の出力するマイクロ波に同期して、契機信号を発生する契機信号発生器3を含んで構成される。電子ビーム源4は、契機信号発生器3から与えられる契機信号に同期して、パルス状の電子ビームを出射する。
【0010】
電子ビーム源4として、たとえばフォトカソード付き高周波光電子銃(RFガン)を用いることができる。この場合、契機信号発生器3として、パルスレーザ発振器が用いられる。契機信号発生器3は、マイクロ波発生源2から出力される周波数2856MHzのマイクロ波に同期して、高周波光電子銃(RFガン)のフォトカソードに短パルスレーザビームを入射させる。
【0011】
フォトカソードに、ある時間間隔をおいて、2パルスの短パルスレーザビームが入射すると、電子ビーム源4の同一箇所から、ある時間間隔をおいて2パルスの電子ビームが、同一方向に出射される。電子ビーム源4から出射されるパルス状の電子ビームは、たとえば同一方向に進行する複数の電子が集群された電子群である。電子ビームは、直線加速器5に入射する。
【0012】
直線加速器5には、マイクロ波発生源2から出力される周波数2856MHzのマイクロ波が、導波管を経由して導入されている。直線加速器5は、マイクロ波が発生する高周波電界により、入射した電子ビームをほぼ光速まで加速し、出射する。このとき電子ビームのエネルギは、たとえば約14MeVである。出射された電子ビームは、収束用電磁石6によって収束される。収束位置をKとする。
【0013】
なお、直線加速器5から出射する電子ビームのパルス間隔は、直線加速器5に入力されるマイクロ波周期の整数倍に限られる。したがって、たとえば周波数2856MHzのマイクロ波発生源2を用いている本実施例によるX線発生装置の場合、約350psの整数倍のパルス間隔で、電子ビームを出射することができる。ここでは、350psのパルス間隔で、直線加速器5から2パルスの電子ビームを出射する。
【0014】
レーザ光源7は、電子ビーム源4から出射され直線加速器5で加速された2パルスのパルス状電子ビームのうち、先に出射された電子ビームと衝突するように、パルスレーザビームを1ショット出射する。レーザ光源7は、たとえばTi:サファイアレーザ発振器であり、パルスエネルギは、たとえば100mJである。
【0015】
電子ビーム源4から出射するパルス状の電子ビーム、レーザ光源7から出射するパルスレーザビーム、直線加速器5に印加されるマイクロ波が、すべてマイクロ波発生源2から出力する周波数2856MHzのマイクロ波に同期しているため、高確率で電子ビームとパルスレーザビームとを衝突させることができる。
【0016】
レーザ光源7から出射したパルスレーザビームは、集光レンズ8により集光される。集光位置は、電子ビームが収束用電磁石6によって収束される位置Kと同一の点である。パルス状の電子ビームとパルスレーザビームとは、互いにビーム径が最小となった位置Kで、衝突する。逆コンプトン散乱過程により、衝突位置KにおいてX線が発生する。発生したX線は、電子ビームの進行方向に伝搬する。ビーム径が最小となる位置Kにおいて衝突させるため、高強度のX線を発生させることができる。
【0017】
レーザビームと衝突した電子ビームは、そのエネルギをわずかに低下させ、ほぼそのまま直進し、偏向用電磁石13で進行方向を変えられて、ダンパ14に入射し、エネルギを失う。
【0018】
電子ビームと衝突したレーザビームは、そのエネルギをわずかに低下させ、ほぼそのまま直進し、光路制御光学系9に入射する。なお、パルスエネルギ100mJのパルスレーザビーム(1パルス)中には、約1018個のフォトンが含まれている。このうち電子ビームと衝突してX線に変換されるフォトンは、約108個である。
【0019】
光路制御光学系9は、位置Kでパルス状電子ビームと衝突した後のパルスレーザビームの光路を制御する。光路制御光学系9は、反射ミラー10a、10b、集光レンズ11及びコントローラ12を含んで構成される。光路制御光学系9に入射したレーザビームは、反射ミラー10a及び10bで反射し、集光レンズ11に入射する。集光レンズ11は、レーザビームを、位置Kにおけるビーム径が最小となるように、集光する。コントローラ12は、350ps後に、レーザビームが再び位置Kに入射するように、反射ミラー10a、10b及び集光レンズ11を制御する。また、レーザビームの位置Kへの入射角度を、調整することができる。
【0020】
電子ビーム源4から出射し、直線加速器5で加速された2パルスのパルス状電子ビームのうち、後の電子ビームが、350ps後、位置Kに収束される。光路制御光学系9から出射したレーザビームは、位置Kにおいて、この電子ビームと衝突する。衝突位置Kで、X線が発生する。X線が伝搬する方向は、電子ビームの進行方向と同一である。衝突角度を先の電子ビームとの衝突角度と異ならせると、発生するX線の波長を異ならせることができる。
【0021】
X線の発生間隔は、電子ビームの出射間隔を変え、それに応じて、光路制御光学系9により、1回目の衝突から2回目の衝突までのレーザビームの光路を調整することで、任意に(350psの整数倍という離散的な値の中で)変更することができる。
【0022】
2パルス目の電子ビームも、レーザビームと衝突した後、偏向用電磁石13によって進行方向を変えられ、ダンパ14に入射してエネルギを失う。2パルス目の電子ビームと衝突したパルスレーザビームは、ダンパ15に入射する。
【0023】
実施例においては、電子ビームを2パルス出射し、その出射間隔を、X線のパルス間隔とした。3パルス以上の電子ビームを一定間隔で出射し、レーザビームと衝突させない電子ビームパルスをつくり、たとえば1つおきに、レーザビームと衝突させることによって、X線の発生間隔を調整してもよい。また、1つのパルスレーザビームが3つ以上のパルス状電子ビームと衝突するように、光路制御光学系9を設計することにより、1ショットのパルスレーザビームで3パルス以上のX線を発生させることができる。これらのX線の波長も、相互に異ならせることができる。
【0024】
実施例によるX線発生装置は、電子ビーム源、レーザ光源ともに1台で構成することができる。このX線発生装置は、電子ビームとレーザビームとの衝突角度を変えることにより、発生するX線の波長を、電子ビームのエネルギとレーザビームのエネルギ(波長)で定まる範囲において、任意に変えることができる。したがって、異なる波長のX線(ポンプ)−X線(プローブ)光源によるポンプ−プローブ法にも適用することができる。
【0025】
以上、実施例に沿って本発明を説明したが、本発明はこれらに限定されるものではない。例えば、種々の変更、改良、組み合わせ等が可能なことは当業者には自明であろう。
【0026】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、複数のパルス状電子ビームに1つのパルスレーザビームを衝突させて、時間差をおいてX線を発生させることができる。また、発生するX線の波長を異ならせることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例によるX線発生装置の概略図である。
【符号の説明】
1 同期装置
2 マイクロ波発生源
3 契機信号発生器
4 電子ビーム源
5 直線加速器
6 収束用電磁石
7 レーザ光源
8 集光レンズ
9 光路制御光学系
10a、b 反射ミラー
11 集光レンズ
12 コントローラ
13 偏向用電磁石
14、15 ダンパ
Claims (7)
- ある時間間隔で、第1のパルス状電子ビームと第2のパルス状電子ビームとを出射する電子ビーム源と、
前記電子ビーム源から出射された前記第1のパルス状電子ビームに、第1の位置において、第1の角度で衝突するように、パルス状レーザビームを出射するレーザ光源と、
第1のパルス状電子ビームに衝突したパルス状レーザビームが、前記第2のパルス状電子ビームに、第2の位置において、前記第1の角度とは異なる第2の角度で衝突するように、パルス状レーザビームの光路を制御する光路制御光学系と、
前記第1及び第2のパルス状電子ビームの出射と、前記パルス状レーザビームの出射とが同期するように、前記電子ビーム源と前記レーザ光源とを同期制御する同期手段と
を有するX線発生装置。 - 前記電子ビーム源が、前記第1のパルス状電子ビームと前記第2のパルス状電子ビームとを、同一箇所から同一方向に出射する請求項1に記載のX線発生装置。
- 前記第1の位置と前記第2の位置とを同じ位置とする請求項1または2に記載のX線発生装置。
- 更に、前記電子ビーム源から出射された前記第1及び第2のパルス状電子ビームを、それぞれ前記第1及び第2の位置に収束させる収束手段を有する請求項3に記載のX線発生装置。
- 第1のパルス状電子ビームを出射した後、ある時間間隔で、第2のパルス状電子ビームを出射する工程と、
前記第1のパルス状電子ビームに、第1の位置において第1の角度でパルス状レーザビームを衝突させ、第1のX線を発生させる工程と、
衝突した前記パルスレーザビームの光路を制御して、前記第2のパルス状電子ビームに、第2の位置において、前記第1の角度とは異なる第2の角度で前記パルス状レーザビームを衝突させ、第2のX線を発生させる工程と、
を有するX線発生方法。 - 前記第1の位置と前記第2の位置とを同じ位置とする請求項5に記載のX線発生方法。
- 更に、前記出射する工程において、前記第1及び第2のパルス状電子ビームは、それぞれ、前記第1のX線を発生させる工程の前記第1の位置、及び前記第2のX線を発生させる工程の前記第2の位置で、ビーム径が最小になるように収束される請求項6に記載のX線発生方法。
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