JP2004225046A - 3,4−アルキレンジオキシチオフェン、その使用、ポリチオフェン、これらの製造方法およびこれらの使用 - Google Patents

3,4−アルキレンジオキシチオフェン、その使用、ポリチオフェン、これらの製造方法およびこれらの使用 Download PDF

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Abstract

【課題】3,4−アルキレンジオキシチオフェン、その使用、ポリチオフェン、これらの製造方法およびこれらの使用を提供する。
【解決手段】3,4−アルキレンジオキシチオフェンにおいて、3,4−アルキレンジオキシチオフェンが所望の場合には橋かけ基Bを介してメソゲン基により置換されている。
【選択図】図1

Description

本発明はメソゲン基により置換されている新規の3,4−アルキレンジオキシチオフェンおよび該3,4−アルキレンジオキシチオフェンの重合した誘導体(ポリ(3,4−アルキレンジオキシチオフェン))に関する。
π−共役ポリマーは主鎖に沿ってπ電子が著しく非局在化するために、興味深い(非線形の)光学的性質を示す。酸化または還元後、該ポリマーは良好な導電体であり、かつ荷電していない形で同様に良好な半導電性を有する。従って該ポリマーはデータ記憶、光学信号処理、電磁障害(EMI)の防止および太陽エネルギーの変換のような分野で、およびまた蓄電池、発光ダイオード、電界効果トランジスタ、プリント回路、センサーおよび帯電防止材料において使用するために興味深いものである。
ポリ(3,4−アルキレンジオキシチオフェン)およびその誘導体、特にポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)およびその誘導体は、その高い導電性、特にカチオン(酸化)形での導電性および良好な加工性に基づいて特に興味深い(EP−A339340およびL. Groenendaal, F. Jonas, D. Freitag, H. Pielartzik & J. R. Reynolds, Adv. Mater. 12, (2000)、第481〜494頁)。
導電性および加工性に関するポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)の良好な特性にもかかわらず、さらに改善する必要がある。導電性および半導電性の材料はたとえばモレキュラーエレクトロニクス、太陽エネルギー技術または半導体技術における使用にとって極めて多くの要求を満足しなくてはならない。特に秩序化現象は重要である。
導電性または半導電性ポリマーは主として液相から、たとえば溶液、懸濁液または分散液から製造することができるので、これまでは固相における高度なプレ配向(preorientation)によって影響を受けることはなかった。
しかしこのようなプレ配向は、近距離秩序のための構造的な前提条件を生み出すことによって重合の際にモノマーが自己編成(self-organization))することによって達成されうることが想像される。
置換基としてメソゲン基、つまり中間相の形成を促進する基を有するπ共役ポリマーを製造するための数多くの試みが文献に記載されている。
メソゲン置換基を有するチオフェンまたはその重合下流生成物を製造するための試みもいくつかの刊行物に記載されている。たとえばJ. Roncali等(Adv. Mater. 1994, 6(2)、第138〜142頁)は4−シアノ−4′−(8−(3−チエニル)オキシ)ビフェニルの合成、その液晶挙動および相応するポリチオフェンからのその電気化学的な重合を記載している。その導電性は0.01〜0.1S/cmであると記載されている。Synthetic Metals 1999, 102、第1291頁には、Akagi等が置換基としてキラルなメソゲン基を有する液晶ポリチオフェンを報告しているが、しかし電気的な性質に関してはそれ以上の情報は与えられていない。Kijima等はバイオロゲン置換されたカチオン性液晶ポリチオフェンを報告しており、かつそのレドックス挙動およびI−ドープされた状態で3.5〜10−3S/cmの導電性を記載しているが、しかしこれは上記の適用の観点では極めて低い(Chem. Letters 2000、第936〜937頁)。Yagci等は液晶コレステリル3−チオフェンアセテートの製造を記載しており、該化合物は化学的および電気化学的な手段によって酸化重合され、0.05S/cmの導電性を有するポリチオフェンが得られている(J. Master. Sci. 2002、37、第1767〜1775頁)。
上記の参考文献に記載された全てのポリチオフェンはこれらの構造に起因する2つの欠点を有する。第一に3位のみでのチオフェン単位の置換は重合における第二の反応につながる。というのも、反応性のHが4位に置換基として存在しているからである。特にα,β′−カップリングは構造的な欠陥、つまりポリマー中の共役の中断および短縮された共役の長さ、ひいては不十分な導電性につながりうる。第二に、上記の刊行物中の3位でのみC置換されたチオフェンは常にポリチオフェンの導電性の高いカチオン状態の中程度の安定性を生じるにすぎない(たとえばヨウ素ドープの後)。このような不利な効果は液晶ではない類似のポリチオフェンに関して周知である(たとえばLeclerc等、Macromolecules 1991, 24、第455〜459頁を参照のこと)。
Synthetic Metals 2001、124、第471〜475頁ではKumar等がかさ高な置換基を有する3,4−エチレンジオキシチオフェン、および相応する置換されたポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)を形成するためのその電気化学的な重合、および改善された透明性に関するこれらのポリマーの調査を記載している。かさ高な置換基は潜在的なメソゲン基であると見なすことができる一方で、モノマーもしくはポリマーの液晶挙動については指摘されておらず、かつこの問題に関する研究も報告されていない。
従って、置換基としてメソゲン基を有する3,4−アルキレンジオキシチオフェンに対する必要性はなお存在する。
EP−A339340 L. Groenendaal, F. Jonas, D. Freitag, H. Pielartzik & J. R. Reynolds, Adv. Mater. 12, (2000)、第481〜494頁 J. Roncali等、Adv. Mater. 1994, 6(2)、第138〜142頁 Akagi等、Synthetic Metals 1999, 102、第1291頁 Kijima等、Chem. Letters 2000、第936〜937頁 Yagci等、J. Master. Sci. 2002、37、第1767〜1775頁 Leclerc等、Macromolecules 1991, 24、第455〜459頁 Kumar等、Synthetic Metals 2001、124、第471〜475頁
従って本発明は、所望の場合には橋かけ基Bを介してメソゲン基Mにより置換されていることを特徴とする3,4−アルキレンジオキシチオフェンを提供することであるが、ただしその際、式(i)
Figure 2004225046
の3,4−アルキレンジオキシチオフェンを除外する。
「メソゲン基」という用語は当業者に公知である。この用語は特定の温度範囲で中間相、つまり等方性流体よりも高度であるが、しかし結晶よりも低い度合いの秩序を有する相を形成することができる全ての基および物質を含む。このような相は(なお)結晶の光学的異方性および(また)完全に等方性流体の移動度を有する。中間相はまた、液晶相または異方性流体ともよばれる。
本発明の目的のために、メソゲン基はスメクチック、ネマチックもしくはコレステリック液晶相を形成することができる基であってよい。これらはたとえば柱状、円盤状(ディスコティック)またはコレステリックなメソゲン基であってよい。
本発明により有利な3,4−アルキレンジオキシチオフェンは式(I)
Figure 2004225046
[式中、
AはリンカーLにより任意の箇所で置換されており、かつさらに置換基を有していてもよいC〜C−アルキレン基であり、
Lはメチレン基であり、
pは0であるか、または1〜6の整数、有利には0または1であり、
Mはn官能性のメソゲン基であり、
nは1〜8の整数であり、かつ
Bは式(B)
Figure 2004225046
の橋かけ基であり、その際、
qは0または1であり、
r、sはそれぞれ0または1であるが、ただしその際、rが1である場合、sは0であり、かつrが0である場合にはsは1であるか、またはrおよびsの両方が0であってもよく、
tは0または1であり、
Spは置換されているか、もしくは非置換の直鎖状もしくは環式C〜C20−アルキレン基、C〜C20−アリーレン基、有利にはC〜C20−アリーレン基、N、OおよびSから選択される1〜3つのヘテロ原子がさらにヘテロ芳香族環または環構造中に存在していてもよいC〜C20−ヘテロアリーレン基、C〜C20−アルアルキレン基、有利にはC〜C20−アルアルキレン基およびC〜C200−オリゴエーテルおよび−ポリエーテル基、有利にはC〜C80−オリゴエーテルおよび−ポリエーテル基から選択されるスペーサであり、
mは0または1であり、
QはO、SまたはNHである]の3,4−アルキレンジオキシチオフェンである。
式(I)の両方の純粋な3,4−アルキレンジオキシチオフェンおよびこれらの混合物は本発明に含まれる。
特に有利であるのは、式(I−a)および/または(I−b)
Figure 2004225046
[式中、BおよびMは式(I)に関して上記および以下で定義されるものを表す]の構造を有する3,4−アルキレンジオキシチオフェンまたは3,4−アルキレンジオキシチオフェンの混合物である。
問題のチオフェンが式(I−a)および(I−b)の3,4−アルキレンジオキシチオフェンの混合物である場合、本発明によれば式(I−a)および(I−b)の3,4−アルキレンジオキシチオフェンに関してこの混合物中で任意のモル比で存在していてよい。式(I−a)の3,4−アルキレンジオキシチオフェンがチオフェンの合計モル量に対して65〜99.9%の量で、特に有利には75〜99.5%の量で存在し、かつ式(I−b)の3,4−アルキレンジオキシチオフェンがチオフェンの合計モル量に対して0.1〜35%の量で、特に有利には0.5〜25%の量で存在し、ただしその際、両方の量の合計は100%であると有利である。
本発明の目的のために次のものが有利である:
Mは式(II−a)または(II−b)のn官能性の基であり、
Figure 2004225046
その際、X、X、Xは相互に無関係に、
Figure 2004225046
Figure 2004225046
から選択される置換もしくは非置換の構造であり、
、Zは相互に無関係に
Figure 2004225046
から選択される構造であり、その際、
およびRは相互に無関係にH、置換もしくは非置換のC〜C22−アルキル、C〜C22−ハロアルキル、C〜C22−アルケニル、C〜C22−アルコキシ、C〜C22−チオアルキル、C〜C22−イミノアルキル、C〜C22−アルコキシカルボニル、C〜C22−アルコキシカルボニルオキシ、脂肪族C〜C22−アルカンカルボン酸またはアクリル酸の基、ハロゲン、擬ハロゲン、NO、カルボキシル基またはヒドロキシル基、
hは1〜10の整数、
wは1〜5の整数、有利には1〜3、
x、y、zはそれぞれ相互に無関係に0または1であり、かつ
nは1または2であり、その際、
nが1の場合には、式(II−a)または(II−b)の基は*により示される結合箇所に末端基Fを有しており、その際、
FはH、置換もしくは非置換のC〜C22−アルキル、C〜C22−ハロアルキル、C〜C22−アルケニル、C〜C22−アルコキシ、C〜C22−チオアルキル、C〜C22−イミノアルキル、C〜C22−アルコキシカルボニル、C〜C22−アルコキシカルボニルオキシ、脂肪族C〜C22−アルカンカルボン酸またはアクリル酸の基、ハロゲン、擬ハロゲン、ニトロ(NO)基、カルボキシル基、スルホン酸基またはスルホネート基またはヒドロキシル基である。
Mが式(II−a)のn官能性の基である本発明の有利な実施態様では、wは2〜5の整数であり、かつX、nおよびFは上記のものを表してもよい。
式(II−a)中のwが1である場合には、特殊なケースが存在する。この場合、Xは末端基F、たとえばカルボキシル基−COOHまたはアクリル酸基、たとえば−CH=CH−COOHを、*により表される結合箇所の1つに有していてもよく、従ってメソゲン基は三量化により形成される。
従ってMが式(II−a)のn官能性の基である本発明のもう1つの有利な実施態様では、特にXがXに関して上で記載したものの中から選択される単環式の構造である場合、wが1であり、nが1であり、かつFがカルボキシル基−COOHであるか、またはアクリル酸基−CH=CH−COOHである。
、XおよびXに存在していてもよい置換基の例は、直鎖状、分枝鎖状または環式のC〜C22−アルキル、C〜C22−ハロアルキル、C〜C22−アルケニル、C〜C22−アルコキシ、C〜C22−チオアルキル、C〜C22−イミノアルキル、C〜C22−アルコキシカルボニル、C〜C22−アルコキシカルボニルオキシ、脂肪族C〜C22−アルカンカルボン酸またはアクリル酸の基、ハロゲン、擬ハロゲン、NO、カルボキシル基およびヒドロキシル基である。
本発明の有利な実施態様では、X、XおよびXは非置換である。
本発明の目的のために、次のものが有利である:
Mは式(II−c−1)〜(II−c−6)
Figure 2004225046
から選択されるn官能性の基であり、その際、
nは1〜8の整数であり、かつ
nが8より小さい整数である場合、式(II−c−1)〜(II−c−6)から選択される基は*により示される残りの8−n個の結合箇所に末端基Fを有しており、その際、
FはH、置換もしくは非置換のC〜C22−アルキル、C〜C22−ハロアルキル、C〜C22−アルケニル、C〜C22−アルコキシ、C〜C22−チオアルキル、C〜C22−イミノアルキル、C〜C22−アルコキシカルボニル、C〜C22−アルコキシカルボニルオキシ、脂肪族C〜C22−アルカンカルボン酸またはアクリル酸の基、ハロゲン、擬ハロゲン、NO、カルボキシル基、スルホン酸基またはスルホネート基またはヒドロキシル基である。
本発明の目的のために、同様に次のものが有利である:
Mは式(III−a)
Figure 2004225046
のステロイド基またはステロイド基の誘導体、特に有利にはコレステリル基またはコレステリル基の誘導体であり、この場合、
RはH、置換もしくは非置換のC〜C22−アルキル、C〜C22−ハロアルキル、C〜C22−アルケニル、C〜C22−アルコキシ、C〜C22−チオアルキル、C〜C22−イミノアルキル、C〜C22−アルコキシカルボニル、C〜C22−アルコキシカルボニルオキシ、脂肪族C〜C22−アルカンカルボン酸またはアクリル酸の基、ハロゲン、擬ハロゲン、NO、カルボキシル基、スルホン酸基またはスルホネート基またはヒドロキシル基である。
ステロイド基またはその誘導体は有利には基本的なゴナン骨格
Figure 2004225046
中のA環のC(3)原子を介して結合している。
ステロイド基またはステロイド基の誘導体は、コレステリル基およびその誘導体を除いて、式(III−b)〜(III−e)
Figure 2004225046
Figure 2004225046
[式中、R、R、R、RおよびRは相互に無関係に、上記でRに関して記載したものを表す]の基であってよい。しかしこれらの列挙は単なる例であり、包括的なものであることを意図していない。
式(III−a)〜(III−e)中で、個々のステレオ中心の配位は記載されていない。本発明は原則として全ての公知の立体異性体およびその混合物を含むが、しかし自然に生じる立体異性体およびその混合物が有利である。
本発明の3,4−アルキレンジオキシチオフェンは少なくとも1つのキラルな炭素原子をアルキレン基A中に有していてもよい。この場合、「本発明の3,4−アルキレンジオキシチオフェン」とは、純粋な立体異性体、エナンチオマーまたはジアステレオマーおよびこれらの任意の混合物を含有する。
液晶相中にキラルな化合物が存在することにより、らせんに類似した超構造を形成することが可能になる。このような相は強誘電性の特性を有していてもよい。
本発明の3,4−アルキレンジオキシチオフェンは式(V)
Figure 2004225046
[式中、A、Lおよびpは上記のものであってよい]のヒドロキシ化合物から、公知の方法を使用してBおよびMの表すものに依存して適切な反応体と反応させることにより製造することができる。原則として、式(V)中のヒドロキシル基と反応してエーテル基(−O−)またはオキシカルボニル基(−O−CO−)と結合する全ての反応体を使用する全ての方法が適切である。公知の方法は、Bの表すものに依存してたとえばエステル化またはエーテル化反応であってよいが、しかしその他の種類の反応もまた可能である。式(V)中のヒドロキシル基に対して反応性である官能基として、反応体は、たとえばカルボキシル基またはその誘導体、アルデヒド基、ハロゲンまたはその他の基を有していてもよい。ここで挙げることができる例は、コレステリルクロロホルメート、[(4′−シアノ−1,1′−ビフェニル−4−イル)オキシ]カルボン酸または[(4′−ブロモ−1,1′−ビフェニル−4−イル)オキシ]カルボン酸である。市販されていない適切な反応体は式(V)の化合物に結合する前に、基BまたはMを有する原料から製造するか、または基BおよびMを形成する原料からこれらを結合した後に製造することができる。BおよびMを段階的に、まず式(V)のヒドロキシ化合物をたとえば基Bを有する二官能性の反応体と反応させ、かつ次いで中間体を単離した後で、またはインサイチューで、たとえば基Mを有する反応体とさらに反応させて本発明の3,4−アルキレンジオキシチオフェンが形成される。このような方法は同様に当業者に公知である。二官能性の反応体の例はα,ω−二ハロゲン化合物、たとえば1,6−ジブロモヘキサンであり、基Mを有する反応体の例は4−(4−アルコキシフェニル)フェノールおよび4−(4−ブロモフェニル)フェノールである。
式(V)のヒドロキシ化合物はアルカントリオールと3,4−ジアルコキシチオフェンとから酸触媒によるエーテル交換反応で製造することができる。この目的のために適切な3,4−ジアルコキシチオフェンは特に、短鎖のn−アルコキシ基、有利にはメトキシ、エトキシおよびn−プロポキシ基を有するものである。この手順は原則としてAdv. Mater. 11(1999)、第1379〜1381頁に記載されている。有利な原料化合物であるEDT−メタノールおよびヒドロキシ−PDTもまた、US−A5,111,327に記載されているとおりに混合物として製造することができる。しかし、US−A5,111,327に記載されているとおりに、たとえばクロマトグラフィーによる分離により得られる純粋な化合物を使用することも可能である。EDT−メタノールはReynolds等のPolym. Prepr. (Am. Chem. Soc., Div. Polym. Chem.) 38(2)、(1997)、第320頁の方法により2,3−ジブロモプロピルアセテートを使用して製造することもできる。
3,4−アルキレンジオキシチオフェンはポリチオフェンを製造するために好適である。
この理由によって、本発明は同様にポリチオフェンを製造するための、本発明の3,4−アルキレンジオキシチオフェンまたはその混合物の使用を提供する。
本発明はさらに、式(IV)
Figure 2004225046
[式中、A、L、p、MおよびBは上記のものを表す]の反復単位を有することを特徴とするポリチオフェンを提供するが、ただしこの場合、式(ii)
Figure 2004225046
の反復単位からなるポリチオフェンを除外する。
本発明の目的にとって、これらは式(IV)の同一もしくは異なった反復単位を有するポリチオフェンであってよい;式(IV)の異なった反復単位の場合、ポリチオフェンはコポリマーである。種々の反復単位(IV)の配置に依存して、これらはランダムコポリマー、交番(alternating)コポリマー、傾斜(graded)コポリマーまたはブロックコポリマーであってよい。
本発明の有利なポリチオフェンは、式(IV−a)および/または(IV−b)
Figure 2004225046
[式中、MおよびBは上記のものを表す]の反復単位を有することを特徴とする。
本発明によるこれらの有利なポリチオフェン中で、式(IV−a)および(IV−b)の反復単位は、本発明の目的のために、任意のモル比で存在していてよい。特に式(IV−a)の反復単位を、反復単位の合計モル量に対して65〜99.9%の量で、特に有利には75〜99.5%の量で含有し、かつ式(IV−b)の反復単位を反復単位の合計モル量に対して0.1〜35%の量で、特に有利には0.1〜25%の量で含有し、その際、両者の合計は100%である本発明によるポリチオフェンが有利である。
本発明の目的のために、ポリチオフェンという用語は有利には少なくとも2および200未満、有利には少なくとも2および50未満の式(IV)の反復単位を有する全ての化合物を含む。
本発明のポリチオフェンは有利には電荷を有しておらず、かつ半導体であるか、またはカチオン性および導電性である。カチオン性ポリチオフェンの場合、ポリチオフェンポリカチオンの正電荷は式(IV)、(IV−a)、(IV−b)中には現れない。というのも、これらの正確な数およびその位置を正確に確立することができないからである。しかし、正電荷の数は少なくとも1であり、かつポリチオフェン中の全ての反復単位の合計の数を超えることはない。
正電荷を補償するためにポリチオフェンのカチオン形はアニオン、有利にはポリアニオンを対イオンとして有する。
存在するポリアニオンは有利にはポリマーのカルボン酸、たとえばポリアクリル酸、ポリメタクリル酸またはポリマレイン酸およびポリマーのスルホン酸、たとえばポリスチレンスルホン酸およびポリビニルスルホン酸のアニオンである。これらのポリカルボン酸およびポリスルホン酸はビニルカルボン酸およびビニルスルホン酸とその他の重合性モノマー、たとえばアクリル酸エステルおよびスチレンとのコポリマーであってもよい。
ポリスチレンスルホン酸のアニオンは特に対イオンとして有利である。
ポリアニオンが誘導されるポリ酸の分子量は有利には1000〜2000000、特に有利には2000〜500000である。ポリ酸またはそのアルカリ金属塩は市販されており、たとえばポリスチレンスルホン酸およびポリアクリル酸である。
式(IV)の反復単位を有するポリチオフェンは本発明の3,4−アルキレンジオキシチオフェンを化学的もしくは電気化学的に酸化重合することにより製造することができる。
従って本発明はさらに式(I)
Figure 2004225046
[式中、A、L、p、MおよびBは上記のものを表す]の化合物を電気化学的な手段により酸化重合することを特徴とする、式(IV)の反復単位を有するポリチオフェンを製造するための方法に関するが、ただしこの場合、式(ii)の反復単位を有するポリチオフェンは除外する。
本発明の3,4−アルキレンジオキシチオフェンの電気化学的な酸化重合は−78℃から使用される溶剤または本発明による3,4−アルキレンジオキシチオフェンの沸点までの温度で実施することができる。電気分解を−20℃〜60℃の温度で実施することが有利である。
反応時間は使用されるモノマー、使用される電解質、選択される電気分解温度および使用される電流密度に依存し、かつ1分〜24時間の範囲である。
本発明による3,4−アルキレンジオキシチオフェンが電気分解条件下で液状である場合、電解重合は、電気分解の条件下で不活性である溶剤の存在下でも非存在下でも実施することができる;電気分解の条件下で固体である本発明による3,4−アルキレンジオキシチオフェンの電解重合は、電気分解条件下で不活性である溶剤の存在下で実施する。特定の場合には、溶剤混合物を使用するか、かつ/または可溶化剤(界面活性剤)を溶剤に添加することが有利でありうる。
電解条件下で不活性である溶剤の例は次のものである:水;アルコール、たとえばメタノールおよびエタノール;ケトン、たとえばアセトフェノン;ハロゲン化炭化水素、たとえば塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素およびフッ化炭化水素;エステル、たとえば酢酸エチルおよび酢酸ブチル;カルボン酸エステル、たとえばプロピレンカーボネート;芳香族炭化水素、たとえばベンゼン、トルエン、キシレン;脂肪族炭化水素、たとえばペンタン、ヘキサン、ヘプタンおよびシクロヘキサン;ニトリル、たとえばアセトニトリルおよびベンゾニトリル;スルホキシド、たとえばジメチルスルホキシド;スルホン、たとえばジメチルスルホン、フェニルメチルスルホンおよびスルホラン;液状の脂肪族アミド、たとえばメチルアセトアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、ピロリドン、N−メチルピロリドン、N−メチルカプロラクタム;脂肪族、混合された脂肪族−芳香族および環式のエーテル、たとえばジエチルエーテル、テトラヒドロフランおよびアニソール;液状ウレア、たとえばテトラメチルウレアまたはN,N−ジメチルイミダゾリジノンである。重合はリオトロピック液晶相から実施することもできる。
電解重合を実施するために、新規の3,4−アルキレンジオキシチオフェンまたはその溶液を電解質添加剤と混合する。使用される電解質添加剤は有利には遊離の酸であるか、または使用される溶剤中で顕著な可溶性を有する通例の電解塩である。有用であることが判明している電解質添加剤はたとえば次のものである:遊離酸、たとえばp−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、またアルカンスルホネート、芳香族スルホネート、テトラフルオロボレート、ヘキサフルオロホスフェート、過塩素酸塩、ヘキサフルオロアンチモネート、ヘキサフルオロアルシネートおよびヘクサクロロアンチモネートアニオンおよび、アルカリ金属、アルカリ土類金属またはアルキル化されているか、もしくはアルキル化されていないアンモニウム、ホスホニウム、スルホニルおよびオキソニウムのカチオンを有する塩である。上記のポリマー対イオンは適切である場合には、電解質添加剤として、または電解塩として電気化学的な重合において電解質溶液または本発明の3,4−アルキレンジオキシチオフェンに添加することができる。
本発明による3,4−アルキレンジオキシチオフェンの濃度は、0.01〜100質量%(液状のチオフェンの場合にのみ100質量%)の範囲であってよく、この濃度は有利には0.1〜5質量%である。
電解重合はバッチ式でも連続式でも実施することができる。
電解重合のための電流密度は広い範囲で変化してよい;0.0001〜100mA/cm、有利には0.01〜40mA/cmの範囲の電流密度を使用することができる。この電流密度において、約0.1〜50Vの電圧が生じる。
本発明は同様に、式(I)
Figure 2004225046
[式中、A、L、p、MおよびBは上記のものを表す]の化合物を化学的な手段により酸化重合することを特徴とする、式(IV)の反復単位を有するポリチオフェンを製造するための方法を提供する。
本発明による3,4−アルキレンジオキシチオフェンの酸化化学的な重合は一般に、使用される酸化剤および所望の反応時間に依存して−10℃〜250℃の温度で、有利には20℃〜200℃の温度で実施する。
本発明の3,4−アルキレンジオキシチオフェンのために適切な溶剤および/または酸化剤は特に反応条件下で不活性である以下に記載する有機溶剤である:脂肪族アルコール、たとえばメタノール、エタノール、i−プロパノールおよびブタノール;脂肪族ケトン、たとえばアセトンおよびメチルエチルケトン;脂肪族カルボン酸エステル、たとえば酢酸エチルおよび酢酸ブチル;芳香族炭化水素、たとえばトルエンおよびキシレン;脂肪族炭化水素、たとえばヘキサン、ヘプタンおよびシクロヘキサン;塩素化炭化水素、たとえばジクロロメタン、クロロホルムおよびジクロロエタン;脂肪族ニトリル、たとえばアセトニトリル、脂肪族スルホキシドおよびスルホン、たとえばジメチルスルホキシドおよびスルホラン;脂肪族カルボキサミド、たとえばメチルアセトアミドおよびジメチルホルムアミド;脂肪族、芳香族脂肪族および環式エーテル、たとえばジエチルエーテル、テトラヒドロフランおよびアニソール。水または水と上記の有機溶剤との混合物を溶剤として使用することも可能である。重合はリオトロピック液晶相から実施することもできる。
使用される酸化剤はチオフェンを酸化重合するために適切であることが当業者に公知である酸化剤である;これらはたとえばG. Kossmehl. Makromol. Chem. Macromol. Symp. 4、第45〜64頁(1986)に記載されている。実用的な理由から、安価でかつ取り扱いが容易な酸化剤、たとえば無機酸の鉄(III)塩、たとえばFeCl、Fe(ClOまたはFe(SOおよび有機酸ならびに有機基を有する無機酸の鉄(III)塩、またH、K、KCr、アルカリ金属およびアンモニウムペルオキシドジスルフェート、アルカリ金属の過ホウ酸塩、過マンガン酸カリウム、銅塩、たとえばテトラフルオロホウ酸銅またはセリウム(IV)塩またはCeO。触媒量の金属イオン、たとえば鉄、コバルト、ニッケル、銅、モリブデンまたはバナジウムイオンの存在は有用な場合がある。
本発明の3,4−アルキレンジオキシチオフェンの酸化重合およびポリ−3,4−アルキレンジオキシチオフェンの可能なその後の酸化は理論的にはチオフェン1モルあたり約2.25当量の酸化剤を必要とする(たとえばJ. Polym. Sc. Part A Polymer Chemistry、第26巻、第1287頁(1988年)を参照のこと)。しかし酸化剤はこれより多くてもまたは少なくても使用することができる。本発明の目的のために、チオフェン1モルあたり、1当量以上、特に有利には2当量以上の酸化剤を使用することが有利である。
有機基を有する無機酸の鉄(III)塩の例は、C〜C20−アルカノールの硫酸モノエステルの鉄(III)塩、たとえばラウリルスルフェートのFe(III)塩である。
有機酸の鉄(III)塩の例は次のものである:C〜C20−アルカンスルホン酸のFe(III)塩、たとえばメタンスルホン酸またはドデカンスルホン酸、脂肪族C〜C20−カルボン酸、たとえば2−エチルヘキシルカルボン酸、脂肪族ペルフルオロカルボン酸、たとえばトリフルオロ酢酸およびペルフルオロオクタン酸、脂肪族ジカルボン酸、たとえばシュウ酸および特にC〜C20−アルキル基により置換されていてもよい芳香族スルホン酸、たとえばベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸およびドデシルベンゼンスルホン酸、およびシクロアルカンスルホン酸、たとえば樟脳スルホン酸である。
有機酸のこれらのFe(III)塩の混合物を使用することも可能である。
さらに、カチオン性ポリチオフェンの場合、使用される酸化剤の任意のアニオンが本発明によるポリチオフェンに対する対イオンとして使用されうるので、化学的酸化重合の場合、付加的な対イオンの添加は全く必要ない。
本発明の方法の有利な実施態様では、使用される式(I)の化合物またはその混合物は式(I−a)および/または(I−b)
Figure 2004225046
[式中、BおよびMは上記のものを表す]に相応する構造を有する化合物である。
本発明の方法の特に有利な実施態様では、BおよびMが上記のものを表す式(I−a)および(I−b)の3,4−アルキレンジオキシチオフェンの混合物を使用する。
本発明の目的のために、式(I−a)および(I−b)の3,4−アルキレンジオキシチオフェンは任意のモル比でこれらの混合物中に存在していてよい。式(I−a)の3,4−アルキレンジオキシチオフェンは有利にはチオフェンの合計モル量に対して65〜99.9%の量で、特に有利には75〜99.5%の量で存在し、かつ式(I−b)の3,4−アルキレンジオキシチオフェンはチオフェンの合計モル量に対して有利には0.1〜35%の量で、特に有利には0.1〜25%の量で存在するが、ただしその際、両方の量の合計は100%である。本発明によるポリチオフェンを得るための、式(I−a)および(I−b)の3,4−アルキレンジオキシチオフェンのモル比は式(VI−a)および(VI−b)の反復単位のモル比に相応してもよいが、この比とは異なっていてもよい。
本発明の目的のために、C〜C−アルキレン基はメチレン、エチレン、n−プロピレン、n−ブチレンまたはn−ペンチレンであってよく;直鎖状もしくは環状のC〜C20−アルキレン基は、上記の基に加えて、n−ヘキシレン、n−ヘプチレン、n−オクチレン、n−ノニレン、n−デシレン、n−ウンデシレン、n−ドデシレン、n−トリデシレンまたはn−テトラデシレン、n−ヘキサデシレン、n−オクタデシレンまたはn−エイコシレン、シクロペンチレン、シクロヘキシレン、シクロヘプチレン、シクロオクチレン、シクロノニレンまたはシクロデシレンである。直鎖状、分枝鎖状または環式のC〜C22−アルキル基は本発明の目的のためにたとえばメチル、エチル、n−プロピルまたはイソプロピル、n−ブチル、イソブチル、s−ブチルまたはt−ブチル、n−ペンチル、1−メチルブチル、2−メチルブチル、3−メチルブチル、1−エチルプロピル、1,1−ジメチルプロピル、1,2−ジメチルプロピル、2,2−ジメチルプロピル、n−ヘキシル、n−ヘプチル、n−オクチル、2−エチルヘキシル、n−ノニル、n−デシル、n−ウンデシル、n−ドデシル、n−トリデシルまたはn−テトラデシル、n−ヘキサデシル、n−オクタデシルまたはn−エイコシル、n−ドコシル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニルまたはシクロドデシルであってよく、その際、環式アルキル基は少なくともC−シクロアルキル基に存在する。C〜C20−アリーレン基はたとえば、フェニレン、ナフチレン、ビフェニレン、フルオレニレン、インデニレン、シクロペンタジエニレンまたはアントラセニレンであり、かつC〜C20−アルアルキレン基はたとえばo−、m−、p−トルイレン、ベンジレン、2,3−、2,4−、2,5−、2,6−、3,4−、3,5−キシリレンまたはメシチレンである。C〜C20−ヘテロアリーレン基は炭素原子に加えてN、OおよびSから選択される1〜3つのヘテロ原子をヘテロ芳香族環または環構造中に有する全てのヘテロ芳香族環構造をベースにしていてよく、たとえばピロール、チオフェン、フラン、ピリジン、インドール、カルバゾール、ピラゾール、イミダゾールまたはチアゾールである。本発明の目的のために、C〜C200−オリゴエーテルまたは−ポリエーテル基は1〜50個のO原子をオリゴエーテルまたはポリエーテル鎖中に有していてもよく、かつC〜C80−オリゴエーテルまたは−ポリエーテル基は1〜20個のO原子を有していてもよく、その際、炭素原子を2つ有する最も小さいオリゴエーテル基はジメチレンエーテル基(−CH−O−CH−)である。C〜C22−ハロアルキル、C〜C22−アルケニル、C〜C22−アルコキシ、C〜C22−チオアルキル、C〜C22−イミノアルキル、C〜C22−アルコキシカルボニル、C〜C22−アルコキシカルボニルオキシおよび脂肪族C〜C22−アルカンカルボン酸の基は、上記のC〜C22−アルキル基から、H原子を官能基により適切に置換することによって誘導することができる。ハロゲンはたとえばフッ素、塩素、臭素およびヨウ素であってよい。擬ハロゲンはたとえばシアノ、チオシアノ、イソシアノまたはイソチオシアノ基であってよい。上記の列挙は単に本発明を例により説明するためのものであり、かつ包括的なものであると理解すべきではない。
たとえばC〜C22−アルキルに存在していてもよい置換基はたとえばハロゲン、擬ハロゲンまたはケト、アルデヒド、アミノ、ヒドロキシ、ニトロ、チオヒドロキシ(メルカプト)、カルボキシル、カルボキシレート、スルホン酸またはスルホネート基である。
メソゲン基の成分が、本発明の場合のように、ポリマーと組み合わされている場合、液晶ポリマーが得られてもよい。しかし、分子秩序の度合いに依存して改善された特性、たとえば高い導電性を有するが、しかし液晶の特性を有していないポリマーを形成することも可能である。
本発明のポリチオフェンは電気部材または電子部材、発光部材、特に有機的な電気もしくは電子部材または発光部材、たとえば発光素子、光電池または有機トランジスタの成分として適切である。さらに該ポリチオフェンは帯電防止塗料のため、たとえば電子部材を包装するためおよびクリーンルームパッケージのためのプラスチックフィルムの処理のため、陰極線管を帯電防止加工するため、または写真フィルムを帯電防止処理するため、オプトエレクトロニクス中で、たとえば透明な加熱装置として、透明な電極として、回路板として、または電気化学的な窓のため、または太陽エネルギー技術において使用することができる。
従って本発明は、電気部材または電子部材、発光部材における成分として、帯電防止塗料のため成分として、オプトエレクトロニクスにおける、または太陽エネルギー技術におけるの本発明のポリチオフェンの使用を提供する。
たとえば電気部材または電子部材、発光部材または帯電防止塗料中での本発明によるポリチオフェンを含有する成分の導電性はさらに、熱処理により向上することができる。このことは液晶相の中間体の形成とかかわる。熱処理は有利には80℃〜300℃の温度で、特に有利には100℃〜250℃の温度で、15分〜6時間の時間にわたって、特に有利には30分〜4時間にわたって実施する。化学的な酸化重合により製造された本発明によるポリチオフェンの場合、熱処理は有利には過剰の反応体、たとえば酸化剤または過剰のモノマーを適切な溶剤、有利には水またはアルコールを用いて洗浄することにより実施する。
本発明のポリチオフェンは有利には導電層または電気もしくは電子部材、発光部材中の被覆の形で、帯電防止被覆のために、オプトエレクトロニクス中で、または太陽エネルギー技術で使用する。これらの導電層は有利には本発明による相応する3,4−アルキレンジオキシチオフェンおよび1種もしくは数種の酸化防止剤を、付加的な対イオンの存在下または非存在下でをインサイチューで重合することにより製造される。「インサイチューで重合」という用語は、当業者に公知である。
有利な実施態様では、導電性の層を熱処理して導電性を向上する。導電層はたとえば本発明による3,4−アルキレンジオキシチオフェン、酸化剤および所望の場合には、対イオンを一緒に、または連続的に、適切である場合には溶液の形で被覆すべき支持体上に適用し、かつ化学的な手段によって酸化重合して新規のポリチオフェンが得られ、かつ存在する溶剤は重合の前に、重合中に、または重合の後に除去する。
被覆すべき支持体への溶液の適用は公知の方法により、たとえば浸漬、流し塗り、滴下、噴霧、吹き付け、ドクターナイフ塗布、刷毛塗りまたは印刷により実施することができる。
Figure 2004225046
以下で使用するEDT−メタノール/ヒドロキシ−PDT混合物はUS−A5,111,327に記載されているようにして製造した。コレステリルクロロホルメートは市販されている;[(4′−シアノ−1,1′−ビフェニル−4−イル)オキシ]酢酸、[(4′−シアノ−1,1′−ビフェニル−4−イル)オキシ]酪酸および[(4′−シアノ−1,1′−ビフェニル−4−イル)オキシ]吉草酸および[(4′−ブロモ−1,1′−ビフェニル−4−イル)オキシ]吉草酸をJ. Am. Chem. Soc. 119(1997)、第5825〜5826頁に記載されているとおりに製造した。
例1:
EDT−メタノール80%およびヒドロキシ−PDT20%の混合物(EDT−メタノール11.5ミリモルに相応)2.46gを無水塩化メチレン中に溶解し、かつ氷中で冷却した。無水塩化メチレン中のコレステリルクロロホルメート5.68g(12.6ミリモル)をこの冷却した溶液に添加した。次いでトリエチルアミン1.40g(13.8ミリモル)を徐々に滴加し、かつ氷浴を除去した。反応混合物を室温(23℃)で30時間撹拌し、かつさらにコレステリルクロロホルメート2.64g(5.9ミリモル)および塩化メチレン中のトリエチルアミン0.63g(6.2ミリモル)を徐々に添加した。さらに72時間反応させた後、該溶液を1M(モル濃度)のHClで3回および飽和NaHCO溶液で3回洗浄した。有機相をMgSOにより乾燥させ、かつ溶剤を回転蒸発器により20ミリバールで除去した。
粗生成物をクロマトグラフィーによりカラムで2回精製した(溶離剤:CHCl:石油エーテル1:2、CHClで溶離)。生成物をアセトンから再結晶させ、(I−a1)((I−b1)を2%含有する混合物として;その他の記載がない限り、パーセント表示はモル%である)0.93gが無色の粉末として得られた。
Figure 2004225046
Figure 2004225046
相転移(偏光顕微鏡により測定):
融点131.9℃、透明点137.5℃(第一の加熱の際)
C131.9LC137.5I(C=結晶質、LC=液晶、I=等方性流体;相を表示する記号の間の数値は転移温度を℃で示している。たとえばC131.9LC=結晶相から液晶相への転移が131.9℃である)。
例2:
Figure 2004225046
EDT−メタノール80%およびヒドロキシ−PDT20%の混合物1.73g(EDT−メタノール8.08ミリモルに相応)、N,N′−ジシクロヘキシルカルボジイミド1.64gおよび4−(ジメチルアミノ)ピリジン0.13gをCHCl100ml中に溶解し、かつ氷浴中で約0℃に冷却した。ここに[(4′−シアノ−1,1′−ビフェニル−4−イル)オキシ]酢酸2.00gを少量ずつ、撹拌し、かつ氷浴中で冷却しながら1時間かけて添加した。次いで反応は23℃で42.5時間続いた。形成されるN,N′−ジシクロヘキシルウレアを引き続き濾別した。濾液を1MのHCl200mlで2回、飽和NaHCO溶液200mlで2回および飽和NaCl溶液200mlで2回連続的に洗浄した。有機相をMgSOにより乾燥させ、かつ硫酸マグネシウムを濾別した後、溶剤を回転蒸発器で除去した。このことにより粗生成物3.71gが得られ、これをn−ヘキサン/酢酸エチル3:2を使用してカラムクロマトグラフィーにより精製してEDT−メタノールの純粋なエステル(I−a2)0.39gが無色の結晶として得られた。
Figure 2004225046
融点範囲:125.2〜127.7℃(偏光顕微鏡下で観察)。
例3:
Figure 2004225046
EDT−メタノール80%およびヒドロキシ−PDT20%(6.19ミリモルに相応;主成分であるEDT−メタノールに対して4.95ミリモル)の混合物1.06g、N,N′−ジシクロヘキシルカルボジイミド1.04g(5.04ミリモル)および4−(ジメチルアミノ)ピリジン0.15g(1.22ミリモル)をCHCl 50ml中に溶解し、かつ氷浴中で冷却した。[(4′−シアノ−1,1′−ビフェニル−4−イル)オキシ]−酪酸(式を参照のこと)1.42g(5.05ミリモル)を少量ずつ、撹拌しながら氷冷される溶液に添加した。1時間後、反応を室温で継続した。さらに64時間後、形成された無色の沈殿物(N,N′−ジシクロヘキシルウレア)を濾別した。清澄な無色の溶液を1NのHCl75mlで2回、飽和NaHCO溶液75mlで2回およびNaCl溶液75mlで2回、連続的に洗浄した。清澄な有機相をMgSOにより乾燥させ、乾燥剤を濾別し、かつ溶剤を回転蒸発器で除去した。このことにより粗生成物2.38gが得られた。
カラムクロマトグラフィーにより精製を実施した。溶離剤:n−ヘキサン/酢酸エチル3:2。
(I−a3)/(I−b3)の収率:無色の粉末1.25g(理論値の56.8%)、2つの異性体:(I−a3)約95%および(I−b3)5%。
Figure 2004225046
Figure 2004225046
相転移(偏光顕微鏡を使用して測定)
融点範囲:119.8〜121.9℃(第一の加熱の際)、第二の加熱の際に118.8℃で等方性、C116.9LC117.0I(第三の加熱の際)。
例4:
Figure 2004225046
EDT−メタノール80%およびヒドロキシ−PDT20%(12.9ミリモルに相応;主成分であるEDT−メタノールに対して10.3ミリモル)の混合物2.20g、N,N′−ジシクロヘキシルカルボジイミド2.10g(10.2ミリモル)およびスパチュラの先端1回分の4−(ジメチルアミノ)ピリジンをCHCl 80ml中に溶解し、かつ氷浴中で冷却した。[(4′−シアノ−1,1′−ビフェニル−4−イル)オキシ]吉草酸(式を参照のこと)3.00g(10.2ミリモル)を冷たい(0℃)溶液に撹拌下にスパチュラで一度に添加した。残りの[(4′−シアノ−1,1′−ビフェニル−4−イル)オキシ]吉草酸をCHCl 20ml中に溶解し、かつ反応に添加した。1時間後、反応を室温で継続した。さらに48時間後、形成された無色の沈殿物(N,N′−ジシクロヘキシルウレア)を濾別した。清澄な、無色の溶液をHCl75mlで3回、飽和NaHCO溶液75mlで3回および飽和NaCl溶液75mlで3回、連続的に洗浄した。有機相をMgSOにより乾燥させ、乾燥剤を濾別し、かつ溶剤を回転蒸発器で除去した。このことにより粗生成物4.70gが得られた。
カラムクロマトグラフィーにより精製を実施した。溶離剤:n−ヘキサン/酢酸エチル3:2。
純粋な生成物の収率(2つの異性体:(I−a4)約97%および(I−b4)3%):無色の粉末1.40g(理論値の30.7%)。
Figure 2004225046
Figure 2004225046
相転移(偏光顕微鏡を使用して測定):
C103.0LC105.8I(第一の加熱の際、95℃で開始、加熱速度<1℃/分)。
Figure 2004225046
例5:
Figure 2004225046
EDT−メタノール80%およびヒドロキシ−PDT20%(18.9ミリモルに相応;主成分であるEDT−メタノールに対して15.1ミリモル)の混合物3.26g、N,N′−ジシクロヘキシルカルボジイミド3.14g(15.2ミリモル)および4−(ジメチルアミノ)ピリジン0.3g(2.45ミリモル)をCHCl 100ml中に溶解し、かつ氷浴中で冷却した。[(4′−ブロモ−1,1′−ビフェニル−4−イル)オキシ]吉草酸5.25g(15.0ミリモル)を氷冷される溶液に撹拌下にスパチュラで一度に添加した。1時間後、反応を室温で継続した。さらに65時間後、形成された無色の沈殿物(N,N′−ジシクロヘキシルウレア)を濾別した。清澄な無色の溶液を1NのHCl250mlで3回、飽和NaHCO溶液150mlで3回および飽和NaCl溶液150mlで1回および100mlで2回、連続的に洗浄した。有機相をMgSOにより乾燥させ、乾燥剤を濾別し、かつ溶剤を回転蒸発器で除去した。このことにより粗生成物7.98gが得られた。
カラムクロマトグラフィーにより精製を実施した。溶離剤:n−ヘキサン/酢酸エチル4:1。
(I−a5)の収率(異性体(I−b5)約5%含有):
無色の粉末3.06g(6.08ミリモル=理論値の40.5%)。
Figure 2004225046
Figure 2004225046
相転移:
液晶相が偏光顕微鏡下で観察された。
DSC:
第一の加熱:開始:98.50℃、最大:100.68℃、終了:103.63℃、
加熱速度:5℃/分、130℃で5分間維持、
第一の冷却:
第一のピーク:開始:82.41℃、最小:82.39℃、終了:81.58℃、
第二のピーク:開始:81.01℃、最小:81.00℃、終了:80.75℃、
加熱速度:−1℃/分、
第二の加熱:
第一のピーク:開始:82.43℃、最大:84.00℃、終了:85.35℃、
第二のピーク:開始:92.75℃、最大:94.57℃、終了:96.00℃、
加熱速度:2℃/分。
Figure 2004225046
例6:(I−a5)および(I−b5)から製造される帯電していないポリチオフェン
例5(I−a5/I−b5、モル比=95:5)に記載されているとおりに製造したチオフェン混合物0.3g(0.6ミリモル)をクロロホルム12ml中に溶解した。微粉状の炭酸カルシウム0.15g(1.5ミリモル)をこの溶液中に懸濁させた。塩化鉄(III)(無水)0.24g(1.48ミリモル)を2等分し、23℃で撹拌下にそれぞれを1時間隔ててこの混合物に添加した。該混合物を23℃でさらに4時間撹拌した。次いで塩化メチレン12mlを添加した。アンモニア水溶液(26%)6mlを添加した後、該混合物を2時間還流させた。引き続き固体を濾別した。該固体をクロロホルムで洗浄し、かつ合した有機相を再度、26%のアンモニア水溶液6mlと共に強力に撹拌しながら1時間還流させた。有機相をEDTA(エチレンジアミン四酢酸Na)溶液0.05モルにより洗浄し、かつ引き続き水で洗浄し、硫酸ナトリウムにより乾燥させ、かつ蒸発させた。固体の残留物をメタノール中で30分間沸騰させ、かつ熱時に濾別した。このことにより反復単位(IV−a5)および(IV−b5)を有するポリチオフェン0.13g(理論値の43.3%)が得られた。
Figure 2004225046
例7:(I−a5)および(I−b5)から製造される帯電していないポリチオフェン
例5に記載されているとおりに製造したチオフェン(I−a5/I−b5、モル比=95:5)0.6g(1.19ミリモル)をクロロホルム24ml中に溶解した。微粉状の炭酸カルシウム0.475g(4.75ミリモル)をこの溶液中に懸濁させた。塩化鉄(III)(無水)0.77g(4.75ミリモル)を3等分し、23℃で撹拌下にそれぞれを1時間隔ててこの混合物に添加した。該混合物を23℃でさらに4時間撹拌した。次いで塩化メチレン24mlを添加した。アンモニア水溶液(26%)12mlを添加した後、該混合物を2時間還流させた。引き続き固体を濾別した。該固体をクロロホルムで洗浄し、かつ合した有機相を再度、26%のアンモニア水溶液12mlと共に強力に撹拌しながら1時間還流させた。有機相を0.05モルのEDTA(エチレンジアミン四酢酸Na)溶液により洗浄し、かつ引き続き水で洗浄し、硫酸ナトリウムにより乾燥させ、かつ蒸発させた。固体の残留物をメタノール中で30分間沸騰させ、かつ熱時に濾別した。このことにより反復単位(IV−a5)および(IV−b5)を有するポリチオフェン0.2g(理論値の33.3%)が得られた。
ゲル透過クロマトグラフィーによる特性決定(THF中、ポリスチレン標準、RI検出):M=2300;M=9900。
例8:インサイチュー重合による被覆としての(I−a5)および(I−b5)からのカチオン性の導電性の高いポリチオフェン
例5に記載したとおりに製造したチオフェン(I−a5/I−b5、モル比=95:5)0.22gを沸騰しているn−ブタノール6.625g中に溶解した。n−ブタノール中の鉄(III)トシレートの40%溶液(Baytron (R) CB40;製造元:H.C.Starck社)1.562gを熱い溶液に迅速に添加し、かつ該混合物をドクターナイフ塗布により約100℃に予熱したガラス板上に適用した(湿潤膜厚24μm)。100℃で10分間乾燥させ、かつ室温(23℃)に冷却した後、該被覆を脱イオン水で洗浄し、かつ熱風乾燥器により乾燥させた。表面抵抗率(2点法(two-point method))は461Ω/スクエアとして測定された。該板を再度、150℃で30分間熱処理し、かつ表面抵抗率は23℃に冷却した後に211Ω/スクエアとして測定された。
例9:粉末としての(I−a5)および(I−b5)からのカチオン性ポリチオフェン(テトラクロロフェレート)
例5に記載したとおりに製造したチオフェン(I−a5/I−b5、モル比=95:5)1.0g(1.99ミリモル)をN下でアセトニトリル7.7ml中に溶解させ、かつ該溶液を加熱して還流させた。アセトニトリル19ml中の塩化鉄(III)(無水)1.875g(11.56ミリモル)をこの溶液に30分間で還流下に滴加した。該溶液をさらに16時間還流させた。カチオン性ポリチオフェンの不溶性の沈殿物を引き続き吸引濾過し、かつ数回、アセトニトリルで洗浄した。収量:対イオンとしてテトラクロロフェレートを有するカチオン性のポリチオフェン0.89g。
例10:
a)EDT−メタノール/ヒドロキシ−PDT混合物と1,6−ジブロモヘキサンとの反応(基Bを含有する反応体):
Figure 2004225046
反応を保護Ar雰囲気下で実施した。水素ナトリウム(鉱油中60%、75.8ミリモル)3.03gを無水トルエンで2回洗浄し、かつ次いでトルエン100ml中に懸濁させた。該懸濁液を80℃に加熱し、かつトルエン80ml中に溶解したEDT−メタノール/ヒドロキシ−PDT(80:20、58.1ミリモル(混合物に対する))10gを40分間にわたって徐々に滴加した。無色の懸濁液は黄褐色に変化した。さらに1時間後、1,6−ジブロモヘキサン70.9g(290.5ミリモル)を添加した。該溶液を80℃で100分間撹拌し、かつ次いで加熱を切り、かつ該溶液を室温(23℃)でさらに20時間撹拌した。アセトン15mlを添加し、かつ30分後、水8mlを添加した。このことにより無色の沈殿物が溶解し、かつ2相が形成された。反応混合物をそのつど1モル(M)のHCl90mlで2回洗浄した。トルエン相を1MのHCl180mlで抽出した。回収したHCl相をクロロホルム90mlで3回抽出した。回収したクロロホルム相を排出し、かつHCl相をトルエン50mlで3回抽出した。次いでHCl相を排出した。回収したトルエン相をそのつど飽和NaCl水溶液120mlで3回洗浄した。トルエン相をMgSOにより乾燥させ、乾燥剤を濾別し、かつ溶剤を回転蒸発器で除去した。この方法で得られた褐色の液体をカラムクロマトグラフィーにより精製した(酢酸エチル:ヘキサン、当初1:19、後に1:4)。
収量:帯黄色の結晶12.95g(38.6ミリモル(混合物に対する)=理論値の66.5%)。PDT誘導体の含有率:16%。
b)a)からの生成物混合物と4−(4−ブロモフェニル)フェノール(基Mを有する反応体)との反応
4−(4−ブロモフェニル)フェノール1.13g(4.54ミリモル)、a)からの生成物混合物(PDT誘導体16%、EDT誘導体84%)1.69g(5.04ミリモル)およびCsCO 1.81g(5.56ミリモル)をDMF30ml中に懸濁させ、かつ室温で70時間撹拌した。pH7の緩衝液(Aldrich)90mlを該懸濁液に添加し、かつ該溶液をそのつどジエチルエーテル100mlで2回抽出した。回収したエーテル相をMgSOにより乾燥させ、乾燥剤を濾別し、かつ溶剤を回転蒸発器で除去した。粗生成物をメタノール/塩化メチレンから再結晶させた。得られた無色の結晶を濾別し、メタノールで洗浄し、かつ減圧下にPにより乾燥させた。
収量:第一のフラクション:(I−b6)14%との混合物として(I−a6)の無色の結晶1.57g(3.12ミリモル=理論値の68.7%)
第二のフラクション:(I−b6)15モル%との混合物として(I−a6)の、結晶板に類似した無色の結晶0.33g(0.66ミリモル=理論値の14.4%)。
Figure 2004225046
相転移(偏光顕微鏡を使用して測定):
C86.2LC87.7I(第一の加熱の際)
C86.2LC88.1I(第二の加熱の際)。
Figure 2004225046
例11:
a)基Mを有する反応体の製造
Figure 2004225046
4,4′−ジヒドロキシビフェニル3.22g(17.3ミリモル)、1−ブロモ−ペンタン2.62g(17.3ミリモル)およびKCO 2.53g(18.3ミリモル)をアセトン150ml中に懸濁させ、かつ26時間還流させ、その後、該混合物を室温でさらに24時間撹拌する。沈殿物を濾別し、排出し、かつ回転蒸発器により濾液からアセトンを完全に除去した。形成された帯黄色の沈殿物をカラムクロマトグラフィーにより精製した(ヘキサン4部:酢酸エチル1部)。
収量:クリーム色の結晶2.07g(8.08ミリモル=理論値の46.7%)。
b)例10a)からの生成物混合物と例11a)からの反応体との反応
例11a)からの反応体0.50g(1.95ミリモル)、例10a)からの精製物混合物(PDT誘導体16%、EDT誘導体84%)0.75g(2.24ミリモル)およびCsCO 0.76g(2.33ミリモル)をDMF15ml中に懸濁させ、かつ室温で5日間撹拌した。飽和NaHCO水溶液50mlを該懸濁液に添加し、かつ該混合物をそのつどクロロホルム50mlで2回抽出した。回収したクロロホルム相を飽和NaHCO水溶液50mlで再度洗浄した;次いでクロロホルム相をそのつど飽和NaCl水溶液50mlで2回洗浄した。クロロホルム相をMgSOにより乾燥させ、乾燥剤を濾別し、かつ溶剤を回転蒸発器により除去した。粗生成物をメタノール/塩化メチレンから再結晶させた。得られたベージュ色の結晶を濾別し、メタノールで洗浄し、かつPにより減圧下で乾燥させた。
収量:(I−b7)15.5%との混合物として(I−a7)0.87g(1.7ミリモル=理論値の87.4%(混合物に対する))。
Figure 2004225046
相転移(偏光顕微鏡を使用して測定):
C101.1LC103.1I(第一の加熱の際、開始92℃、<1℃/分)。
Figure 2004225046
例12:
a)EDT−メタノール/ヒドロキシ−PDT混合物と1,5−ジブロモペンタンとの反応(基Bを有する反応体):
Figure 2004225046
反応を窒素下で実施した。水素化ナトリウム(鉱油中60%、0.2モル)8gを無水トルエンで2回洗浄し、かつ次いでトルエン200ml中に懸濁させた。該懸濁液を80℃に加熱し、かつトルエン160ml中に溶解したEDT−メタノール/ヒドロキシ−PDT(80:20、116.2ミリモル、混合物に対する)20gを1.5時間で滴加した。無色の懸濁液は褐色に変化した。さらに1時間後、1,5−ジブロモペンタン134g(581ミリモル)を添加した。該溶液を80℃で2時間撹拌し、かつ次いで加熱を切り、かつ該溶液を室温でさらに12時間撹拌した。水16mlを慎重に反応に添加した。反応混合物をそのつど1NのHCl180mlで2回洗浄した。トルエン相を再度、1NのHCl360mlで洗浄した。回収したHCl相をクロロホルム180mlで3回抽出した。回収したクロロホルム相を排出し、かつHCl相をトルエン100mlで3回抽出した。次いでHCl相を排出した。回収したトルエン相をそのつど飽和NaCl水溶液240mlで3回洗浄した。トルエン相をMgSOにより乾燥させ、乾燥剤を濾別し、かつ溶剤を回転蒸発器で除去した。過剰の1,5−ジブロモペンタンを高真空下に60℃で除去した。粗生成物をカラムクロマトグラフィーにより精製した(酢酸エチル:ヘキサン1:4)。
収量:緑色がかった油状物19.49g(60.7ミリモル=理論値の52.1%)、PDT誘導体の含有率:7%。
b)a)からの精製物混合物と4−(4−ブロモフェニル)フェノール(基Mを有する反応体)との反応
Figure 2004225046
4−(4−ブロモフェニル)フェノール1.43g(5.74ミリモル)、a)からの生成物混合物(PDT誘導体7%、EDT誘導体93%)1.93g(6.01ミリモル)およびCsCO2.56g(7.86ミリモル)をDMF50ml中に懸濁させ、かつ室温で4日間撹拌した。後処理は例10b)と同様に実施した。
粗生成物をメタノール/塩化メチレンから再結晶させた。無色の沈殿物を濾別し、メタノールで洗浄し、かつ減圧下で乾燥させた。
収量:第一のフラクション:(I−b8)5%との混合物としての(I−a8)1.87g(3.82ミリモル=理論値の66.6%)、
第二のフラクション:(I−b8)9%との混合物としての(I−a8)0.57g(1.17ミリモル=理論値の20.3%)、
第三のフラクション:(I−b8)31%との混合物としての(I−a8)0.17g(0.35ミリモル=理論値の6.1%)。
Figure 2004225046
相転移(偏光顕微鏡を使用して測定):
C109.1℃LC約120℃I(第一の加熱)、
C107.7℃LC約126℃I(第二の加熱)。
元素分析:
計算値:C58.90%、H5.15%、
測定値:C59.11%、H5.11%。
Figure 2004225046
例13:インサイチュー重合による被覆としての(I−a8)および(I−b8)からのカチオン性の導電性の高いポリチオフェン
例12に記載されているとおりに製造したチオフェン(I−a8)/(I−b8)(モル比=95:5)0.21gを熱いn−ブタノール6.625g中に溶解した。n−ブタノール中の鉄(III)トシレートの40%溶液(Baytron (R) CB40;製造元H.C. Starck社)1.562gを熱い溶液に迅速に添加し、かつ該混合物をドクターナイフ塗布により約80℃に予熱したガラス板上に適用した(湿潤膜厚:24μm)。80℃で10分間乾燥させ、かつ室温(23℃)に冷却した後、該被覆を脱イオン水で洗浄し、かつ熱風乾燥器により乾燥させた。表面抵抗率(2点法)は601Ω/スクエアとして測定された。該板を再度、150℃で30分間、アニーリングし、かつ表面抵抗率は23℃に冷却した後で190Ω/スクエアとして測定された。
例14:
a)EDT−メタノール/ヒドロキシ−PDT混合物と1,6−ジブロモヘキサン(基Bを有する反応体)との反応:
Figure 2004225046
反応を例10a)に相応する方法で実施した。
b)a)からの生成物混合物と4−(4−プロピルフェニル)安息香酸(基Mを有する反応体)との反応
4−(4−プロピルフェニル)安息香酸1.00g(4.16ミリモル)、a)からの生成物混合物(PDT誘導体16%、EDT誘導体84%)1.57g(4.68ミリモル)およびCsCO 1.67g(5.13ミリモル)をDMF46ml中に懸濁させ、かつ室温で5日間撹拌した。飽和NaHCO水溶液50mlを該懸濁液に添加し、かつ該溶液をそのつどクロロホルム50mlで2回抽出した。相分離を改善するために水50mlを添加した。回収した有機相を再度、NaHCO水溶液75mlで洗浄し、かつ次いでそのつど飽和NaCl水溶液50mlで2回洗浄した。クロロホルム相をMgSOにより乾燥させ、乾燥剤を濾別し、かつ溶剤を回転蒸発器によりオイルポンプ真空下で除去した。
ベージュ色の粗生成物をカラムクロマトグラフィーにより精製した(溶離剤:ヘキサン/酢酸エチル4:1)。このことにより清澄な溶液が得られ、該溶液は凍結器で結晶化して、無色の沈殿物が得られた。
Figure 2004225046
Figure 2004225046
相転移(偏光顕微鏡を使用して測定):
C49.1℃LC56.4℃I(第一の加熱、<1℃/分)、
C53.1℃LC58.1℃I(第二の加熱、<1℃/分)。
相転移(DSCにより測定):
第一の加熱:開始:50.58℃、最大:53.19℃、終了:57.38℃、
第二の加熱:開始:46.88℃、最大:49.35℃、終了:52.77℃、
第三の加熱:開始:45.25℃、最大:49.44℃、終了:52.82℃。
加熱速度は常に1℃/分であった。
元素分析:
計算値:C70.42%、H6.93%、
測定値:C70.49%、H6.91%。
Figure 2004225046
例15:インサイチュー重合による被覆としての(I−a9)および(I−b9)からのカチオン性の導電性の高いポリチオフェン
例14に記載されているとおりに製造したチオフェン(I−a9)/(I−b9)(モル比=85:15)0.215gを温かいn−ブタノール6.625g中に溶解した。n−ブタノール中の鉄(III)トシレートの40%溶液(Baytron (R) CB40;製造元H.C. Starck社)1.562gを該溶液に迅速に添加し、かつ該混合物をドクターナイフ塗布により約80℃に予熱したガラス板上に適用した(湿潤膜厚:24μm)。80℃で10分間乾燥させ、かつ室温(23℃)に冷却した後、該被覆を脱イオン水で洗浄し、かつ熱風乾燥器により乾燥させた。表面抵抗率(2点法)は473Ω/スクエアとして測定された。該板を再度、150℃で30分間、アニーリングし、かつ表面抵抗率は23℃に冷却した後で110Ω/スクエアとして測定された。
例16:
a)EDT−メタノール/ヒドロキシ−PDT混合物と1,4−ジブロモブタン(基Bを有する反応体)との反応
Figure 2004225046
反応を窒素下で実施した。水素化ナトリウム4g(鉱油中60%、0.1モル)を無水トルエンで2回洗浄し、かつ次いでトルエン100ml中に懸濁させた。該懸濁液を80℃に加熱し、かつトルエン80ml中に溶解したEDT−メタノール/ヒドロキシ−PDT(約80:20、58.1ミリモル、混合物に対する)10gを35分で滴加した。無色の懸濁液は褐色に変化した。さらに1時間後、1,4−ジブロモブタン45ml(82.35g=0.381モル)を添加した。該溶液を80℃で5時間撹拌し、かつ次いで加熱を切り、かつ該溶液を室温でさらに12時間撹拌した。水8mlを慎重に添加して反応を停止した。反応混合物をそのつど1NのHCl90mlで2回洗浄した。トルエン相を再度、1NのHCl180mlで洗浄した。回収したHCl相をクロロホルム90mlで3回抽出した。回収したクロロホルム相を排出し、かつHCl相をトルエン50mlで3回抽出した。次いでHCl相を排出した。回収したトルエン相をそのつど飽和NaCl水溶液120mlで3回洗浄した。トルエン相をMgSOにより乾燥させ、乾燥剤を濾別し、かつ溶剤を回転蒸発器で除去した。過剰の1,4−ジブロモブタンを60℃でオイルポンプ真空下で除去した。粗生成物をカラムクロマトグラフィーにより精製した(溶離剤:酢酸エチル:ヘキサン1:4)。
収量:PDT誘導体の含有率12%を有する緑褐色の液体8.15g(26.5ミリモル=理論値の45.7%)。
Figure 2004225046
b)a)からの生成物混合物とメチル4−ヒドロキシベンゾエート(基Mを有する反応体)との反応
Figure 2004225046
メチル4−ヒドロキシベンゾエート0.54g(3.55ミリモル)、a)からの生成物混合物(EDT誘導体88%、PDT誘導体12%)1.23g(4.00ミリモル)およびCsCO 3.39g(10.4ミリモル)をDMF30ml中に懸濁させ、かつ室温で4日間撹拌した。後処理は例14b)と同様に実施した。粗生成物をカラムクロマトグラフィーにより精製した(溶離剤:ヘキサン/酢酸エチル4:1)。このことにより帯黄色の粘性油状物が得られた。
収量:PDT誘導体16%の含有率を有する(I−a10)1.15g(3.04ミリモル=理論値の85.6%)。
Figure 2004225046
相転移(偏光顕微鏡を使用して測定):
C40.8℃LC48.7℃I(第一の加熱、<1℃/分)
相転移(DSCにより測定):
第一の加熱:開始:39.57℃、最大:44.88℃、終了:50.06℃。
元素分析:
計算値:C60.00%、H5.86%、
測定値:C60.20%、H6.01%。
Figure 2004225046
例17:インサイチュー重合による被覆としての(I−a10)および(I−b10)からのカチオン性の導電性の高いポリチオフェン
例16に記載されているとおりに製造したチオフェン(I−a10)/(I−b10)(モル比=84:16)0.165gを温かいn−ブタノール6.625g中に溶解した。n−ブタノール中の鉄(III)トシレートの40%溶液(Baytron (R) CB40;製造元H.C. Starck社)1.562gを該溶液に迅速に添加し、かつ該混合物をドクターナイフ塗布により約80℃に予熱したガラス板上に適用した(湿潤膜厚:24μm)。100℃で10分間乾燥させ、かつ室温(23℃)に冷却した後、該被覆を脱イオン水で洗浄し、かつ熱風乾燥器により乾燥させた。表面抵抗率(2点法)は276Ω/スクエアとして測定された。該板を再度、150℃で30分間、アニーリングし、かつ表面抵抗率は23℃に冷却した後で66Ω/スクエアとして測定された。
例18:
a)EDT−メタノール/ヒドロキシ−PDT混合物と1,5−ジブロモペンタン(基Bを有する反応体)との反応
反応は例12a)に相応する。
b)a)からの生成物混合物とエチル4′−ヒドロキシビフェニル−4−カルボキシレート(基Mを有する反応体)との反応
Figure 2004225046
4′−ヒドロキシビフェニル−4−カルボキシレート1.08g(4.46ミリモル)、a)からの生成物混合物(PDT誘導体7%、EDT誘導体93%)1.50g(4.67ミリモル)およびCsCO 1.55g(4.76ミリモル)をDMF40ml中に懸濁させ、かつ室温で4日間撹拌した。後処理を例12b)と同様に実施した。
粗生成物をメタノール/塩化メチレンから再結晶させた。無色の沈殿物を濾別し、メタノールで洗浄し、かつ減圧下で乾燥させた。
収量:フラクション1:PDT誘導体(I−b11)3%との混合物としての(I−a11)1.08g(2.24ミリモル=理論値の50.2%)、
フラクション2:PDT誘導体(I−b11)6%との混合物としての(I−a11)0.77g(1.60ミリモル=理論値の35.8%)
フラクション3:PDT誘導体(I−b11)30%との混合物としての(I−a11)0.18g(0.37ミリモル=理論値の8.4%)。
Figure 2004225046
相転移(偏光顕微鏡を使用して測定):
C87.7℃LC91.6℃I(第一の加熱、<1℃/分)、
C87.8℃LC94.0℃I(第二の加熱、<1℃/分)、70.8℃の時点でLC、しかし再結晶は加熱後。
相転移(DSCにより測定):
第一の加熱:開始:84.45℃、最大:86.63℃、最終:90.08℃
加熱速度:10℃/分。
元素分析:
計算値:C67.20%、H6.27%、
測定値:C67.28%、H6.23%。
Figure 2004225046
例19:インサイチュー重合による被覆としての(I−a11)および(I−b11)からのカチオン性の導電性の高いポリチオフェン
例18に記載されているとおりに製造したチオフェン(I−a11)/(I−b11)(フラクション1、モル比=97:3)0.2111gをn−ブタノール6.625g中に溶解した。n−ブタノール中の鉄(III)トシレートの40%溶液(Baytron (R) CB40;製造元H.C. Starck社)1.562gを該溶液に迅速に添加し、かつ該混合物をドクターナイフ塗布により約80℃に予熱したガラス板上に適用した(湿潤膜厚:24μm)。80℃で10分間乾燥させ、かつ室温(23℃)に冷却した後、該被覆を脱イオン水で洗浄し、かつ熱風乾燥器により乾燥させた。表面抵抗率(2点法)は170Ω/スクエアとして測定された。該板を再度、150℃で30分間、アニーリングし、かつ表面抵抗率は23℃に冷却した後で58Ω/スクエアとして測定された。
質量分析による本発明の化合物の特性決定を示すグラフの図

Claims (12)

  1. 3,4−アルキレンジオキシチオフェンにおいて、3,4−アルキレンジオキシチオフェンが所望の場合には橋かけ基Bを介してメソゲン基により置換されていることを特徴とする3,4−アルキレンジオキシチオフェン、ただし、式(i)
    Figure 2004225046
    の3,4−アルキレンジオキシチオフェンを除外する。
  2. 式(I)
    Figure 2004225046
    [式中、
    AはリンカーLにより任意の箇所で置換されており、かつさらに置換基を有していてもよいC〜C−アルキレン基であり、
    Lはメチレン基であり、
    qは0であるか、または1〜6の整数であり、
    Mはn官能性のメソゲン基であり、
    nは1〜8の整数であり、かつ
    Bは式(B)
    Figure 2004225046
    の橋かけ基であり、その際、
    qは0または1であり、
    r、sはそれぞれ0または1であるが、ただしその際、rが1である場合、sは0であり、かつrが0である場合にはsは1であるか、またはrおよびsの両方が0であってもよく、
    tは0または1であり、
    Spは置換されているか、もしくは非置換の直鎖状もしくは環式C〜C20−アルキレン基、C〜C20−アリーレン基、N、OおよびSから選択される1〜3つのヘテロ原子がさらにヘテロ芳香族環または環構造中に存在していてもよいC〜C20−ヘテロアリーレン基、C〜C20−アルアルキレン基、C〜C200−オリゴエーテルおよび−ポリエーテル基から選択されるスペーサであり、
    mは0または1であり、
    QはO、SまたはNHである]の化合物である、請求項1記載の3,4−アルキレンジオキシチオフェン。
  3. Mが式(II−a)または(II−b)
    Figure 2004225046
    のn官能性の基であり、その際、
    、X、Xが相互に無関係に
    Figure 2004225046
    Figure 2004225046
    から選択される置換されているか、もしくは非置換の構造であり、
    、Zが相互に無関係に
    Figure 2004225046
    から選択される構造であり、その際、
    およびRは相互に無関係に、H、置換されているか、もしくは非置換のC〜C22−アルキル、C〜C22−ハロアルキル、C〜C22−アルケニル、C〜C22−アルコキシ、C〜C22−チオアルキル、C〜C22−イミノアルキル、C〜C22−アルコキシカルボニル、C〜C22−アルコキシカルボニルオキシ、脂肪族C〜C22−アルカンカルボン酸またはアクリル酸の基、ハロゲン、擬ハロゲン、NO、カルボキシル基またはヒドロキシル基であり、
    hは1〜10の整数であり、
    wは1〜5の整数であり、
    x、y、zは相互に無関係に0または1であり、かつ
    nは1または2であり、その際、
    nが1である場合には式(II−a)または(II−b)の基は*により表される結合箇所に末端基Fを有し、その際、
    FはH、置換されているか、もしくは非置換のC〜C22−アルキル、C〜C22−ハロアルキル、C〜C22−アルケニル、C〜C22−アルコキシ、C〜C22−チオアルキル、C〜C22−イミノアルキル、C〜C22−アルコキシカルボニル、C〜C22−アルコキシカルボニルオキシ、脂肪族C〜C22−アルカンカルボン酸またはアクリル酸の基、ハロゲン、擬ハロゲン、ニトロ(NO)基、カルボキシル基、スルホン酸基またはスルホネート基またはヒドロキシ基である、請求項1または2記載の3,4−アルキレンジオキシチオフェン。
  4. Mは式(II−c−1)〜(II−c−6)
    Figure 2004225046
    から選択されるn官能性の基であり、その際、
    nは1〜8の整数であり、その際、
    nが8より小さい整数である場合、式(II−c−1)〜(II−c−6)から選択される基は*より表される残りの8−n個の結合箇所に末端基Fを有しており、その際、
    FはH、置換されているか、もしくは非置換のC〜C22−アルキル、C〜C22−ハロアルキル、C〜C22−アルケニル、C〜C22−アルコキシ、C〜C22−チオアルキル、C〜C22−イミノアルキル、C〜C22−アルコキシカルボニル、C〜C22−アルコキシカルボニルオキシ、脂肪族C〜C22−アルカンカルボン酸またはアクリル酸の基、ハロゲン、擬ハロゲン、ニトロ(NO)基、カルボキシル基、スルホン酸基またはスルホネート基またはヒドロキシ基である、請求項1または2記載の3,4−アルキレンジオキシチオフェン。
  5. Mがステロイド基であるか、またはステロイド基の誘導体である、請求項1または2記載の3,4−アルキレンジオキシチオフェン。
  6. ポリチオフェンを製造するための請求項1から5までのいずれか1項記載の3,4−アルキレンジオキシチオフェンまたは3,4−アルキレンジオキシチオフェンの混合物の使用。
  7. ポリチオフェンにおいて式(IV)
    Figure 2004225046
    [式中、A、L、p、MおよびBは請求項2から5までのいずれか1項の記載において定義されているものを表す]の反復単位を有することを特徴とするポリチオフェン、ただしその際、式(ii)
    Figure 2004225046
    の反復単位を有するポリチオフェンを除外する。
  8. 請求項7記載のポリチオフェンの製造方法において、式(I)
    Figure 2004225046
    [式中、A、L、p、MおよびBは請求項2から5までのいずれか1項の記載において定義されているものを表す]の化合物を電気化学的な手段によって酸化重合することを特徴とする、請求項7記載のポリチオフェンの製造方法。
  9. ポリチオフェンの製造方法において、式(I)
    Figure 2004225046
    [式中、
    AはリンカーLにより任意の箇所で置換されており、かつさらに置換基を有していてもよいC〜C−アルキレン基であり、
    Lはメチレン基であり、
    pは0であるか、または1〜6の整数であり、
    nは1〜8の整数であり、かつ
    Bは式(B)
    Figure 2004225046
    の橋かけ基であり、その際、
    qは0または1であり、
    r、sはそれぞれ0または1であるが、ただしその際、rが1である場合、sは0であり、かつrが0である場合にはsは1であるか、またはrおよびsの両方が0であってもよく、
    tは0または1であり、
    Spは置換されているか、もしくは非置換の直鎖状もしくは環式C〜C20−アルキレン基、C〜C20−アリーレン基、N、OおよびSから選択される1〜3つのヘテロ原子がさらにヘテロ芳香族環または環構造中に存在していてもよいC〜C20−ヘテロアリーレン基、C〜C20−アルアルキレン基、C〜C200−オリゴエーテルおよび−ポリエーテル基から選択されるスペーサであり、
    mは0または1であり、
    QはO、SまたはNHであり、かつ
    Mは請求項2から5までのいずれか1項の記載において定義されているものを表す]の化合物を化学的な手段によって酸化重合することを特徴とする、ポリチオフェンの製造方法。
  10. 請求項9記載の方法により得られるポリチオフェンにおいて、式(IV)
    Figure 2004225046
    [式中、
    A、L、pおよびBは請求項9で定義したものであり、かつ
    Mは請求項2から5までのいずれか1項に定義したものを表す]の反復単位を有することを特徴とするポリチオフェン。
  11. 電気部材または電子部材、発光部材の成分として、帯電防止塗料のため、オプトエレクトロニクスまたは太陽エネルギー技術における請求項7から10までのいずれか1項記載のポリチオフェンの使用。
  12. 導電性の層を製造するための請求項7から10までのいずれか1項記載のポリチオフェンの使用。
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