JP2004204145A - 置換ベンゼン、オレフィン重合用触媒およびオレフィン重合体の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】遷移金属錯体を提供すること。
【解決手段】一般式（１）

（式中、Ａは第１６族の元素を示し、Ｂ¹は窒素以外の第１５族の元素を示し、Ｂ²及びＢ³は第１５族の元素を示し、Ｒ¹〜Ｒ¹²は水素、ハロゲン、アルキル、アラルキル、アリール、炭化水素置換シリル、アルコキシ、アラルキルオキシ、アリールオキシ又は炭化水素２置換アミノを示す。）で示される置換ベンゼンと一般式（２）

（式中、Ｍは遷移金属を示し、Ｘ^１、Ｘ^２及びＸ^３は水素、ハロゲン、アルキル、アラルキル、アリール、炭化水素置換シリル、アルコキシ、アラルキルオキシ、アリールオキシ又は炭化水素２置換アミノを示し、Ｌはエーテル、スルフィド、アミン、ホスフィン及びオレフィンのいずれかで示される中性配位子を示し、ｌ、ｍ及びｎは独立に０から２の整数を示す。）
で示される遷移金属化合物とを反応させてなる遷移金属錯体。
【選択図】 なし

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、置換ベンゼン、オレフィン重合用触媒およびオレフィン重合体の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
既に、メタロセン錯体を用いるオレフィン重合体の製造法については多くの報告がなされている。例えば、特許文献１において、メタロセン錯体とアルミノキサンを用いたオレフィン重合体の製造方法に関して報告されている。また、最近、シクロペンタジエン骨格を有さない錯体を用いるオレフィン重合体の製造法が報告されている。例えば、特許文献２において、２，２'−チオビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノキシ）チタンジクロライド、特許文献３において、ジイミン‐ニッケル錯体、特許文献４において、ピリジン架橋ジイミン‐鉄錯体、特許文献５において、フェノキシイミン‐ジルコニウム錯体が報告されている。製造されるポリマーの利便性から、重合触媒はエチレンの重合性能と同時にα−オレフィンの共重合性が高いことが要求されるが、これらの触媒においてはこの二つの触媒機能を同時に有することはなく、さらなる高機能な触媒の創製が望まれていた。
【０００３】
【特許文献１】
特開昭５８−１９３０９号公報
【特許文献２】
ＷＯ８７／０２３７０号公報
【特許文献３】
ＷＯ９６／２３０１０号公報
【特許文献４】
ＷＯ９８／２７１２４号公報
【特許文献５】
特開平１１−３１５１０９号公報
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、メタロセン骨格を有さない新規な遷移金属錯体、およびこれを用いるオレフィン重合体の製造方法を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは上記の目的を達成するために、配位子、遷移金属錯体およびオレフィン重合用触媒について鋭意研究を続けてきた。その結果、新規な遷移金属錯体を見出し、本発明に至った。
すなわち、本発明は、一般式（１）

（式中、Ａは元素の周期律表の第１６族の原子を示し、Ｂ¹は窒素原子以外の元素の周期律表の第１５族の原子を示し、Ｂ²、Ｂ³はそれぞれ独立に元素の周期律表の第１５族の原子を示し、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸、Ｒ⁹、Ｒ¹⁰、Ｒ¹¹、Ｒ¹²はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、置換されていてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、置換されていてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、置換されていてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、置換されていてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素置換シリル基、置換されていてもよい炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、置換されていてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基、置換されていてもよい炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基又は炭素原子数２〜２０の炭化水素２置換アミノ基を示し、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸、Ｒ⁹、Ｒ¹⁰において、隣接する基は任意に結合して環を形成していてもよい。）
で示される置換ベンゼンと一般式（２）

（式中、Ｍは遷移金属原子を示し、Ｘ^１、Ｘ^２、Ｘ^３はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、置換されていてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、置換されていてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、置換されていてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、置換されていてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素置換シリル基、置換されていてもよい炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、置換されていてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基、置換されていてもよい炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基又は炭素原子数２〜２０の炭化水素２置換アミノ基を示し、Ｌはエーテル、スルフィド、アミン、ホスフィン、オレフィンのいずれかで示される中性配位子を示し、ｌ、ｍ、ｎは独立に０から２の整数を示す。）
で示される遷移金属化合物とを反応させてなる遷移金属錯体と、下記化合物（Ａ）を組合わせてなるオレフィン重合用触媒；
上記遷移金属錯体、下記化合物（Ａ）及び下記化合物（Ｂ）を組合わせてなるオレフィン重合用触媒ならびにオレフィン重合体の製造方法を提供するものである。
化合物（Ａ）： 下記化合物（Ａ１）〜（Ａ３）のいずれか、あるいはそれらの２種以上の混合物
（Ａ１）： 一般式 Ｅ1 a Ａｌ（Ｚ）3-a で示される有機アルミニウム化合物
（Ａ２）: 一般式 ｛−Ａｌ（Ｅ2 ）−Ｏ−｝b で示される構造を有する環状のアルミノキサン
（Ａ３）： 一般式 Ｅ3 ｛−Ａｌ（Ｅ3 ）−Ｏ−｝c Ａｌ（Ｅ3） 2 で示される構造を有する線状のアルミノキサン
（式中、Ｅ1 〜Ｅ3 は同一又は相異なり、炭素原子数１〜８の炭化水素基であり、Ｚは同一又は相異なり、水素原子又はハロゲン原子を表し、ａは１、２又は３で、ｂは２以上の整数を、ｃは１以上の整数を表す。）
化合物（Ｂ）: 下記化合物（Ｂ１）〜（Ｂ３）のいずれか、あるいはそれらの２種以上の混合物
（Ｂ１）： 一般式 ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 で表されるホウ素化合物、
（Ｂ２）： 一般式 Ｚ+ （ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 Ｑ4 ）- で表されるホウ素化合物、
（Ｂ３）： 一般式（Ｌ−Ｈ）+ （ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 Ｑ4 ）- で表されるホウ素化合物
（式中、Ｂは３価の原子価状態のホウ素原子であり、Ｑ1 〜Ｑ4 は同一又は相異なり、ハロゲン原子、炭素原子数１〜２０の炭化水素基、炭素原子数１〜２０のハロゲン化炭化水素基、炭素原子数１〜２０の炭化水素置換シリル基、炭素原子数１〜２０のアルコキシ基又は炭素原子数２〜２０の炭化水素２置換アミノ基を示す。）
【０００６】
【発明の実施の形態】
以下、本発明について詳細に説明する。
一般式（１）で示される置換ベンゼンにおいて、Ａで示される元素の周期律表の第１６族の原子としては、例えば酸素原子、硫黄原子、セレン原子が挙げられ、好ましくは酸素原子が挙げられる。
【０００７】
Ｂ^１で示される元素の周期律表の第１５族の原子としては、リン原子、ヒ素原子などが挙げられ、Ｂ²、Ｂ³で示される元素の周期律表の第１５族の原子としては、窒素原子、リン原子、ヒ素原子などが挙げられる。Ｂ^１の好ましいものとしてリン原子が、Ｂ^２、Ｂ³の好ましいものとして窒素原子が挙げられる。
【０００８】
置換基Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸、Ｒ⁹、Ｒ¹⁰、Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ^３におけるハロゲン原子としてはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが例示される。
【０００９】
置換基Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸、Ｒ⁹、Ｒ¹⁰、Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ^３における置換されていてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基における置換基としては、ハロゲン原子等が挙げられ、具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ネオペンチル基、アミル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−ペンタデシル基、ｎ−エイコシル基、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、クロロメチル基、ジクロロメチル基、トリクロロメチル基、ブロモメチル基、ジブロモメチル基、トリブロモメチル基、ヨードメチル基、ジヨードメチル基、トリヨードメチル基、フルオロエチル基、ジフルオロエチル基、トリフルオロエチル基、テトラフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、クロロエチル基、ジクロロエチル基、トリクロロエチル基、テトラクロロエチル基、ペンタクロロエチル基、ブロモエチル基、ジブロモエチル基、トリブロモエチル基、テトラブロモエチル基、ペンタブロモエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロペンチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロオクチル基、パーフルオロドデシル基、パーフルオロペンタデシル基、パーフルオロエイコシル基、パークロロプロピル基、パークロロブチル基、パークロロペンチル基、パークロロヘキシル基、パークロロクチル基、パークロロドデシル基、パークロロペンタデシル基、パークロロエイコシル基、パーブロモプロピル基、パーブロモブチル基、パーブロモペンチル基、パーブロモヘキシル基、パーブロモクチル基、パーブロモドデシル基、パーブロモペンタデシル基、パーブロモエイコシル基などが挙げられ、好ましくはメチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、アミル基が挙げられる。
【００１０】
置換基Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸、Ｒ⁹、Ｒ¹⁰、Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ^３における置換されていてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基のアリールとしてはフェニル、ナフチル、アントラセニル等が挙げられ、置換基としては、アルキル基、ハロゲン原子等が挙げられ、具体例としては、例えばベンジル基、（２−メチルフェニル）メチル基、（３−メチルフェニル）メチル基、（４−メチルフェニル）メチル基、（２，３−ジメチルフェニル）メチル基、（２，４−ジメチルフェニル）メチル基、（２，５−ジメチルフェニル）メチル基、（２，６−ジメチルフェニル）メチル基、（３，４−ジメチルフェニル）メチル基、（４，６−ジメチルフェニル）メチル基、（２，３，４−トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，５−トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，６−トリメチルフェニル）メチル基、（３，４，５−トリメチルフェニル）メチル基、（２，４，６−トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，４，５−テトラメチルフェニル）メチル基、（２，３，４，６−テトラメチルフェニル）メチル基、（２，３，５，６−テトラメチルフェニル）メチル基、（ペンタメチルフェニル）メチル基、（エチルフェニル）メチル基、（ｎ−プロピルフェニル）メチル基、（イソプロピルフェニル）メチル基、（ｎ−ブチルフェニル）メチル基、（ｓｅｃ−ブチルフェニル）メチル基、（ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）メチル基、（ｎ−ペンチルフェニル）メチル基、（ネオペンチルフェニル）メチル基、（ｎ−ヘキシルフェニル）メチル基、（ｎ−オクチルフェニル）メチル基、（ｎ−デシルフェニル）メチル基、（ｎ−デシルフェニル）メチル基、（ｎ−テトラデシルフェニル）メチル基、ナフチルメチル基、アントラセニルメチル基などが挙げられ、好ましくはベンジル基である。これらのアラルキル基はいずれもフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子で置換されていてもよい。
【００１１】
置換基Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸、Ｒ⁹、Ｒ¹⁰、Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ^３における置換されていてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基のアリールとしてはフェニル、ナフチル、アントラセニル等が挙げられ、置換基としては、アルキル基、ハロゲン原子等が挙げられ、具体例としては、フェニル基、２−トリル基、３−トリル基、４−トリル基、２，３−キシリル基、２，４−キシリル基、２，５−キシリル基、２，６−キシリル基、３，４−キシリル基、３，５−キシリル基、２，３，４−トリメチルフェニル基、２，３，５−トリメチルフェニル基、２，３，６−トリメチルフェニル基、２，４，６−トリメチルフェニル基、３，４，５−トリメチルフェニル基、２，３，４，５−テトラメチルフェニル基、２，３，４，６−テトラメチルフェニル基、２，３，５，６−テトラメチルフェニル基、ペンタメチルフェニル基、エチルフェニル基、ｎ−プロピルフェニル基、イソプロピルフェニル基、ｎ−ブチルフェニル基、ｓｅｃ−ブチルフェニル基、ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、ｎ−ペンチルフェニル基、ネオペンチルフェニル基、ｎ−ヘキシルフェニル基、ｎ−オクチルフェニル基、ｎ−デシルフェニル基、ｎ−ドデシルフェニル基、ｎ−テトラデシルフェニル基、ナフチル基、アントラセニル基などが挙げられ、好ましはフェニル基である。これらのアリール基はいずれもフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子で置換されていてもよい。
【００１２】
置換基Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸、Ｒ⁹、Ｒ¹⁰、Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ^３における置換シリル基とは炭化水素基で置換されたシリル基であって、ここで炭化水素基としては、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基などの炭素原子数１〜１０のアルキル基、フェニル基などのアリール基などが挙げられる。
かかる炭素原子数１〜２０の炭化水素置換シリル基の具体例としては、メチルシリル基、エチルシリル基、フェニルシリル基などの炭素原子数１〜２０の１置換シリル基、ジメチルシリル基、ジエチルシリル基、ジフェニルシリル基などの炭素原子数２〜２０の２置換シリル基、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリ−ｎ−プロピルシリル基、トリイソプロピルシリル基、トリ−ｎ−ブチルシリル基、トリ−ｓｅｃ−ブチルシリル基、トリ−ｔｅｒｔ−ブチルシリル基、トリ−イソブチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチル−ジメチルシリル基、トリ−ｎ−ペンチルシリル基、トリ−ｎ−ヘキシルシリル基、トリシクロヘキシルシリル基、トリフェニルシリル基などの炭素原子数３〜２０の３置換シリル基などが挙げられ、好ましくはトリメチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、トリフェニルシリル基である。これらの置換シリル基はいずれもその炭化水素基がフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子で置換されていてもよい。
【００１３】
置換基Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸、Ｒ⁹、Ｒ¹⁰、Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ^３における置換されていてもよい炭素原子数１〜２０のアルコキシ基における置換基としては、ハロゲン原子等が挙げられ、具体例としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−ペントキシ基、ネオペントキシ基、ｎ−ヘキソキシ基、ｎ−オクトキシ基、ｎ−ドデソキシ基、ｎ−ペンタデソキシ基、ｎ−イコソキシ基などが挙げられ、好ましくはメトキシ基、エトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基が挙げられる。これらのアルコキシ基はいずれもフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子で置換されていてもよい。
【００１４】
置換基Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸、Ｒ⁹、Ｒ¹⁰、Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ^３における置換されていてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基のアリールとしてはフェニル、ナフチル、アントラセニル等が挙げられ、置換基としては、アルキル基、ハロゲン原子等が挙げられ、具体例としては、ベンジルオキシ基、（２−メチルフェニル）メトキシ基、（３−メチルフェニル）メトキシ基、（４−メチルフェニル）メトキシ基、（２，３−ジメチルフェニル）メトキシ基、（２，４−ジメチルフェニル）メトキシ基、（２，５−ジメチルフェニル）メトキシ基、（２，６−ジメチルフェニル）メトキシ基、（３，４−ジメチルフェニル）メトキシ基、（３，５−ジメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，４−トリメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，５−トリメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，６−トリメチルフェニル）メトキシ基、（２，４，５−トリメチルフェニル）メトキシ基、（２，４，６−トリメチルフェニル）メトキシ基、（３，４，５−トリメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，４，５−テトラメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，４，６−テトラメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，５，６−テトラメチルフェニル）メトキシ基、（ペンタメチルフェニル）メトキシ基、（エチルフェニル）メトキシ基、（ｎ−プロピルフェニル）メトキシ基、（イソプロピルフェニル）メトキシ基、（ｎ−ブチルフェニル）メトキシ基、（ｓｅｃ−ブチルフェニル）メトキシ基、（ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）メトキシ基、（ｎ−ヘキシルフェニル）メトキシ基、（ｎ−オクチルフェニル）メトキシ基、（ｎ−デシルフェニル）メトキシ基、（ｎ−テトラデシルフェニル）メトキシ基、ナフチルメトキシ基、アントラセニルメトキシ基などが挙げられ、好ましくはベンジルオキシ基が挙げられる。これらのアラルキルオキシ基はいずれもフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子で置換されていてもよい。
【００１５】
置換基Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸、Ｒ⁹、Ｒ¹⁰、Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ^３における置換されていてもよい炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基のアリールとしてはフェニル、ナフチル、アントラセニル等が挙げられ、置換基としては、アルキル基、ハロゲン原子等が挙げられ、具体例としては、フェノキシ基、２−メチルフェノキシ基、３−メチルフェノキシ基、４−メチルフェノキシ基、２，３−ジメチルフェノキシ基、２，４−ジメチルフェノキシ基、２，５−ジメチルフェノキシ基、２，６−ジメチルフェノキシ基、３，４−ジメチルフェノキシ基、３，５−ジメチルフェノキシ基、２，３，４−トリメチルフェノキシ基、２，３，５−トリメチルフェノキシ基、２，３，６−トリメチルフェノキシ基、２，４，５−トリメチルフェノキシ基、２，４，６−トリメチルフェノキシ基、３，４，５−トリメチルフェノキシ基、２，３，４，５−テトラメチルフェノキシ基、２，３，４，６−テトラメチルフェノキシ基、２，３，５，６−テトラメチルフェノキシ基、ペンタメチルフェノキシ基、エチルフェノキシ基、ｎ−プロピルフェノキシ基、イソプロピルフェノキシ基、ｎ−ブチルフェノキシ基、ｓｅｃ−ブチルフェノキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ基、ｎ−ヘキシルフェノキシ基、ｎ−オクチルフェノキシ基、ｎ−デシルフェノキシ基、ｎ−テトラデシルフェノキシ基、ナフトキシ基、アントラセノキシ基などの炭素数６〜２０のアリールオキシ基などが挙げられる。これらのアリールオキシ基はいずれもフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子で置換されていてもよい。
【００１６】
置換基Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸、Ｒ⁹、Ｒ¹⁰、Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ^３における炭素原子数２〜２０の２置換アミノ基とは２つの炭化水素基で置換されたアミノ基であって、ここでの炭化水素基としては、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基などの炭素原子数２〜２０のアルキル基、フェニル基などのアリール基などが挙げられ、これらの置換基は互いに結合して環を形成していても良い。かかる炭素原子数２〜２０の炭化水素２置換アミノ基としては、例えばジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジ−ｎ−プロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ジ−ｎ−ブチルアミノ基、ジ−ｓｅｃ−ブチルアミノ基、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルアミノ基、ジ−イソブチルアミノ基、ｔｅｒｔ−ブチルイソプロピルアミノ基、ジ−ｎ−ヘキシルアミノ基、ジ−ｎ−オクチルアミノ基、ジ−ｎ−デシルアミノ基、ジフェニルアミノ基、ビストリメチルシリルアミノ基、ビス−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルアミノ基、ピロリル基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、カルバゾリル基、ジヒドロインドリル基、ジヒドロイソインドリル基などが挙げられ、好ましくはジメチルアミノ基、 ジエチルアミノ基、ピロリジニル基、ピペリジニル基である。
【００１７】
Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸、Ｒ⁹、Ｒ¹⁰の隣接する基は任意に結合して環を形成していてもよい。
【００１８】
一般式（２）で示される遷移金属化合物において、Ｍで示される遷移金属原子は、特に限定されないが、好ましくはチタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、タンタル、クロム、マンガン、鉄、ルテニウム、コバルト、ニッケル、パラジウム、銅、スカンジウム、希土類元素等が挙げられ、さらに好ましくはチタン、ジルコニウム、ハフニウム、ニッケル、パラジウムが挙げられる。
【００１９】
Ｌで示される中性配位子とは、エーテル、スルフィド、アミン、ホスフィン、オレフィンなどの中性官能基を有する分子を示し、分子内に複数箇所の配位官能基を有していてもよい。
【００２０】
かかる中性配位子としては、例えば、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、メチル ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、フラン、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、ジメトキシエタン、ジメチルスルフィド、ジエチルスルフィド、メチル ｔｅｒｔ−ブチルスルフィド、チオフェン、テトラヒドロチオフェン、エチレンジチオール ジメチルスルフィド、エチレンジチオール ジエチルスルフィド、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリフェニルアミン、トリシクロヘキシルアミン、ピリジン、２，２’−ビピリジン、テトラメチルエチレンジアミン、テトラエチルエチレンジアミン、トリフェニルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン、ビス（ジフェニルホスフィノ）メタン、ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン、ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパン、ビス（ジフェニルホスフィノ）ビナフチル、エチレン、プロピレン、ブテン、ブタジエン、オクテン、オクタジエン、シクロヘキセン、シクロヘキサジエン、ノルボルネン、ノルボルナジエン等が挙げられる。
【００２１】
ｌ、ｍ、ｎはそれぞれ０から２の整数を示す。
【００２２】
かかる一般式（１）で示される置換ベンゼンとしては、下記式に示す化合物などが例示される。
【００２３】

【００２４】

【００２５】

【００２６】

【００２７】
一般式（１）で示される置換ベンゼンは、例えば、一般式（３）

（式中、Ａ、Ｂ²、Ｂ³、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶は前記と同じ意味を表わし、Ｂ¹はリン原子を示す）で示される芳香族化合物と一般式（４）

（式中、Ｂ³、Ｒ⁷、Ｒ⁸、Ｒ⁹、Ｒ¹⁰、Ｒ¹¹、Ｒ¹²は前記と同じ意味を示し、Ｂ²は窒素原子を示す。）
で示されるアジド化合物とを反応させることにより合成される。
【００２８】
本反応は、例えば溶媒の存在下、一般式（３）で示される芳香族化合物に一般式（４）で示されるアジド化合物を加えることによって行うことができる。反応温度は通常−１００℃以上溶媒の沸点以下であり、好ましくは０℃〜溶媒の沸点の範囲である。
【００２９】
一般式（４）で示されるアジド化合物の使用量は一般式（３）で示される芳香族化合物に対して通常０．５〜１０モル倍、好ましくは０．８〜２モル倍の範囲である。
【００３０】
反応に用いられる溶媒としては、例えばベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素系溶媒、ヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサンなどのエーテル系溶媒、ヘキサメチルホスホリックアミド、ジメチルホルムアミドなどのアミド系溶媒、アセトニトリル、プロピオニトリル、アセトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどの極性溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンなどのハロゲン系溶媒といった非プロトン性溶媒などが挙げられる。これらの溶媒はそれぞれ単独もしくは２種以上を混合して用いられ、その使用量は一般式（３）で示される芳香族化合物に対して通常１〜２００重量倍、好ましくは５〜３０重量倍の範囲である。
【００３１】
一般式（１）で示される置換ベンゼンは、このようにして得られた溶液からの晶析、蒸留、カラムクロマトグラフ処理などの方法によって精製される。
【００３２】
また、一般式（２）で示される遷移金属化合物としては、テトラベンジルチタン、テトラネオペンチルチタン、四塩化チタン、テトライソプロポキシチタン、ジイソプロポキシチタニウム ジクロライド、テトラキス（ジメチルアミノ）チタン、テトラキス（ジエチルアミノ）チタン、ビス（ジメチルアミノ）チタニウムジクロライド、ビス（ジエチルアミノ）チタニウム ジクロライド、テトラキス（トリフルオロアセトキシ）チタニウム、ビス（トリフルオロアセトキシ）チタニウム ジクロライド、三塩化チタン−３テトラヒドロフラン錯体、四塩化チタン−２テトラヒドロフラン錯体、
【００３３】
テトラベンジルジルコニウム、テトラネオペンチルジルコニウム、四塩化ジルコニウム、テトライソプロポキシジルコニウム、ジイソプロポキシジルコニウム ジクロライド、テトラキス（ジメチルアミノ）ジルコニウム、テトラキス（ジエチルアミノ）ジルコニウム、ビス（ジメチルアミノ）ジルコニウム ジクロライド、ビス（ジエチルアミノ）ジルコニウム ジクロライド、テトラキス（トリフルオロアセトキシ）ジルコニウム、ビス（トリフルオロアセトキシ）ジルコニウム ジクロライド、三塩化ジルコニウム−３テトラヒドロフラン錯体、四塩化ジルコニウム−２テトラヒドロフラン錯体、
【００３４】
テトラベンジルハフニウム、テトラネオペンチルハフニウム、四塩化ハフニウム、テトライソプロポキシハフニウム、ジイソプロポキシハフニウム ジクロライド、テトラキス（ジメチルアミノ）ハフニウム、テトラキス（ジエチルアミノ）ハフニウム、ビス（ジメチルアミノ）ハフニウム ジクロライド、ビス（ジエチルアミノ）ハフニウム ジクロライド、テトラキス（トリフルオロアセトキシ）ハフニウム、ビス（トリフルオロアセトキシ）ハフニウム ジクロライド、三塩化ハフニウム−３テトラヒドロフラン錯体、四塩化ハフニウム−２テトラヒドロフラン錯体、
【００３５】
トリメシチルバナジウム テトラヒドロフラン錯体、三塩化バナジウム、三塩化バナジウム テトラヒドロフラン錯体、バナジウム（III） アセチルアセトナート、オキソバナジウム（Ｖ） アセチルアセトナート、トリス（トリメチルシリルメチル）バナジウム、トリス（トリメチルシリルメチル）バナジウム テトラヒドロフラン錯体、トリス（２，６−ジイソプロピルフェノキシ）バナジウム
【００３６】
ジメチルニオブジクロライド、５塩化タンタル、トリメチルタンタル ジクロライド、トリス（ジメチルアミノ）タンタル ジクロライド、ペンタキス（ジメチルアミノ）タンタル、ビス（ネオペンチル）タンタル トリクロライド、ペンタフェニルタンタル、
【００３７】
三塩化クロム、三塩化クロム−３テトラヒドロフラン錯体、トリス（ビス[トリメチルシリル]メチル）クロム、ジメシチルクロム テトラヒドロフラン錯体、ジメシチルクロム ３テトラヒドロフラン錯体、トリメシチルクロム テトラヒドロフラン錯体、クロム（II） アセチルアセトナート、ビス（トリフルオロアセトキシ）クロム、トリス（トリフルオロアセトキシ）クロム、
【００３８】
ジメシチルマンガン、マンガン（II） アセチルアセトナート、ビス（トリフルオロアセトキシ）マンガン、ビス（トリス[トリメチルシリル]メチル）マンガン
【００３９】
二塩化鉄、三塩化鉄、ジメシチル鉄、鉄（II） アセチルアセトナート、鉄（III） アセチルアセトナート、ビス（トリフルオロアセトキシ）鉄、トリス（トリフルオロアセトキシ）鉄、
【００４０】
二塩化ルテニウム、三塩化ルテニウム、テトラキス（トリフェニルホスフィン）ルテニウム ジヒドリド、ルテニウム（III） アセチルアセトナート、
【００４１】
二塩化コバルト、ジメシチルコバルト、トリメシチルコバルト、コバルト（II）アセチルアセトナート、コバルト（III） アセチルアセトナート、ビス（トリフルオロアセトキシ）コバルト、トリス（トリフルオロアセトキシ）コバルトビス（トリス[トリメチルシリル]メチル）コバルト、トリス（トリフェニルホスフィン）コバルト メチル、
【００４２】
ニッケル（II） アセチルアセトナート、アリルニッケルクロライド、ニッケル（０） ジシクロオクタジエン、テトラキス（トリフェニルホスフィン） ニッケル、ビス（トリフェニルホスフィン）フェニルニッケルクロライド、ビス（トリメチルシリルメチル）ニッケル ジピリジン、ジメチルニッケル テトラメチルエチレンジアミン、ジブロモニッケル ジメトキシエタン、ビス（トリフルオロアセトキシ）ニッケル、
【００４３】
パラジウム（II） アセチルアセトナート、（シクロオクタジエン）メチルパラジウム クロライド、（シクロオクテン）メチルパラジウム クロライド、（シクロオクタジエン）メチルパラジウム トリフラート、アリルパラジウム クロライド、ジメチルパラジウム テトラメチルエチレンジアミン、
【００４４】
銅（II） アセチルアセトナート、酢酸銅（Ｉ）、酢酸銅（II）、塩化銅（Ｉ）、塩化銅（II）、
【００４５】
トリス（ビス[トリメチルシリル]メチル）スカンジウム、トリス（ビス[トリメチルシリル]メチル）イットリウム、トリス（ビス[トリメチルシリル]メチル）ランタン、トリス（ビス[トリメチルシリル]メチル）セリウム、トリス（ビス[トリメチルシリル]メチル）プラセオジウム、トリス（ビス[トリメチルシリル]メチル）サマリウム、トリス（ビス[トリメチルシリル]メチル）ユーロピウム、トリス（ビス[トリメチルシリル]メチル）ガドリニウム、トリス（ビス[トリメチルシリル]メチル）テルビウム、トリス（ビス[トリメチルシリル]メチル）ディスプロシウム、トリス（ビス[トリメチルシリル]メチル）ホルミウム、トリス（ビス[トリメチルシリル]メチル）エルビウム、トリス（ビス[トリメチルシリル]メチル）ツリウム、トリス（ビス[トリメチルシリル]メチル）イッテルビウム、トリス（ビス[トリメチルシリル]メチル）ルテチウム、
【００４６】
トリス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）スカンジウム、トリス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）イットリウム、トリス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）ランタン、トリス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）セリウム、トリス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）プラセオジウム、トリス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）サマリウム、トリス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）ユーロピウム、トリス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）ガドリニウム、トリス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）テルビウム、トリス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）ディスプロシウム、トリス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）ホルミウム、トリス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）エルビウム、トリス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）ツリウム、トリス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）イッテルビウム、トリス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）ルテチウム、
【００４７】
トリス（ビス[トリメチルシリル]アミド）スカンジウム、トリス（ビス[トリメチルシリル]アミド）イットリウム、トリス（ビス[トリメチルシリル]アミド）ランタン、トリス（ビス[トリメチルシリル]アミド）セリウム、トリス（ビス[トリメチルシリル]アミド）プラセオジウム、トリス（ビス[トリメチルシリル]アミド）サマリウム、トリス（ビス[トリメチルシリル]アミド）ユーロピウム、トリス（ビス[トリメチルシリル]アミド）ガドリニウム、トリス（ビス[トリメチルシリル]アミド）テルビウム、トリス（ビス[トリメチルシリル]アミド）ディスプロシウム、トリス（ビス[トリメチルシリル]アミド）ホルミウム、トリス（ビス[トリメチルシリル]アミド）エルビウム、トリス（ビス[トリメチルシリル]アミド）ツリウム、トリス（ビス[トリメチルシリル]アミド）イッテルビウム、トリス（ビス[トリメチルシリル]アミド）ルテチウム
などが挙げられる。
【００４８】
一般式（１）で示される置換ベンゼンと一般式（２）で示される遷移金属化合物との反応により、遷移金属錯体が調製される。一般式（１）で示される置換ベンゼンと一般式（２）で示される遷移金属化合物のモル比は特に限定されないが、１：０．１から１：１０の範囲が好ましく、さらに好ましくは１：０．５から１：２の範囲である。
【００４９】
反応に際しては、必要により塩基が用いられる。かかる塩基としては、例えばメチルリチウム、エチルリチウム、ｎ−ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、ｔｅｒｔ−ブチルリチウム、リチウムトリメチルシリルアセチリド、リチウムアセチリド、トリメチルシリルメチルリチウム、ビニルリチウム、フェニルリチウム、アリルリチウムなどの有機リチウム化合物といった有機アルカリ金属化合物などが挙げられ、その使用量は一般式（１）で示される置換ベンゼンに対して通常０．５〜５モル倍の範囲である。
【００５０】
また、塩基と共にアミン化合物を用いることもできる。かかるアミン化合物としては、例えばメチルアミン、エチルアミン、ｎ−プロピルアミン、イソプロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、ｔｅｒｔ−ブチルアミン、ｎ−オクチルアミン、ｎ−デシルアミン、アニリン、エチレンジアミンなどの第１級アミン化合物、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジ−ｎ−プロピルアミン、ジ−ｎ−プロピルアミン、ジ−ｎ−ブチルアミン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルアミン、ジ−ｎ−オクチルアミン、ジ−ｎ−デシルアミン、ピロリジン、ヘキサメチルジシラザン、ジフェニルアミンなどの第２級アミン化合物、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−プロピルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、トリ−ｎ−オクチルアミン、トリ−ｎ−デシルアミン、トリフェニルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ，Ｎ'，Ｎ'−テトラメチルエチレンジアミン、Ｎ−メチルピロリジン、４−ジメチルアミノピリジンなどの第３級アミン化合物が挙げられる。かかるアミン化合物の使用量は塩基に対して通常１０モル倍以下、好ましくは０．５〜１０モル倍、さらに好ましくは１〜３モル倍の範囲である。
【００５１】
反応は通常、反応に対して不活性な溶媒中で行われる。かかる溶媒としては、例えばベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水素系溶媒、ヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサンなどのエーテル系溶媒、ヘキサメチルホスホリックアミド、ジメチルホルムアミドなどのアミド系溶媒、アセトニトリル、プロピオニトリル、アセトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどの極性溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンなどのハロゲン系溶媒といった非プロトン性溶媒などが挙げられる。かかる溶媒はそれぞれ単独もしくは２種以上を混合して用いられ、その使用量は一般式（１）で示される置換ベンゼンに対して通常１〜２００重量倍、好ましくは３〜５０重量倍の範囲である。
【００５２】
上記反応は通常、溶媒に一般式（１）で示される置換ベンゼン、必要に応じて塩基を加えたのち一般式（２）で示される遷移金属化合物を加えることによって行うことができる。反応温度は通常−１００℃以上溶媒の沸点以下、好ましくは−８０〜１００℃の範囲である。
【００５３】
得られた反応混合物から通常の方法、例えば生成した沈殿を濾別後、濾液を濃縮して固形物を析出させるなどの手法により、遷移金属錯体を取得することができる。
【００５４】
一般式（１）で示される置換ベンゼンと一般式（２）で示される遷移金属化合物との反応により得られる遷移金属錯体は、反応溶液から精製することなく重合に用いることもできる。
【００５５】
かくして製造される遷移金属錯体は、化合物（Ａ）、あるいはさらに化合物（Ｂ）を、重合時に任意の順序で投入し使用することができるが、またそれらの任意の化合物の組合せを予め接触させて得られた反応物を用いることもできる。
【００５６】
〔化合物（Ａ）〕
本発明において用いられる化合物（Ａ）としては、公知の有機アルミニウム化合物が使用できる。好ましくは、化合物（Ａ）としては、公知の有機アルミニウム化合物が使用でき、好ましくは、下記化合物（Ａ１）〜（Ａ３）のいずれか、あるいはそれらの２種以上の混合物が挙げられる。
（Ａ１）： 一般式 （Ｅ1） a Ａｌ（Ｚ）3-a で示される有機アルミニウム化合物
（Ａ２）: 一般式 ｛−Ａｌ（Ｅ2 ）−Ｏ−｝b で示される構造を有する環状のアルミノキサン
（Ａ３）： 一般式 Ｅ3 ｛−Ａｌ（Ｅ3 ）−Ｏ−｝c Ａｌ（Ｅ3） 2 で示される構造を有する線状のアルミノキサン
（式中、Ｅ1 〜Ｅ3 は同一又は相異なり、炭素原子数１〜８の炭化水素基であり、Ｚは同一又は相異なり、水素原子又はハロゲン原子を表し、ａは１、２又は３で、ｂは２以上の整数を、ｃは１以上の整数を表す。）
【００５７】
一般式 Ｅ1 a Ａｌ（Ｚ）3-a で示される有機アルミニウム化合物（Ａ１）の具体例としては、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリプロピルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリヘキシルアルミニウム等のトリアルキルアルミニウム；ジメチルアルミニウムクロライド、ジエチルアルミニウムクロライド、ジプロピルアルミニウムクロライド、ジイソブチルアルミニウムクロライド、ジヘキシルアルミニウムクロライド等のジアルキルアルミニウムクロライド；メチルアルミニウムジクロライド、エチルアルミニウムジクロライド、プロピルアルミニウムジクロライド、イソブチルアルミニウムジクロライド、ヘキシルアルミニウムジクロライド等のアルキルアルミニウムジクロライド；ジメチルアルミニウムハイドライド、ジエチルアルミニウムハイドライド、ジプロピルアルミニウムハイドライド、ジイソブチルアルミニウムハイドライド、ジヘキシルアルミニウムハイドライド等のジアルキルアルミニウムハイドライド等を例示することができる。好ましくは、トリアルキルアルミニウムであり、より好ましくは、トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウムが挙げられる。
【００５８】
一般式 ｛−Ａｌ（Ｅ2 ）−Ｏ−｝b で示される構造を有する環状のアルミノキサン（Ａ２）、一般式 Ｅ3 ｛−Ａｌ（Ｅ3 ）−Ｏ−｝c Ａｌ（Ｅ3） 2 で示される構造を有する線状のアルミノキサン（Ａ３）における、Ｅ2 、Ｅ3 の具体例としては、メチル基、エチル基、ノルマルプロピル基、イソプロピル基、ノルマルブチル基、イソブチル基、ノルマルペンチル基、ネオペンチル基等のアルキル基を例示することができる。ｂは２以上の整数であり、ｃは１以上の整数である。好ましくは、Ｅ2 及びＥ3 はメチル基、イソブチル基であり、ｂは２〜４０、ｃは１〜４０である。
【００５９】
上記のアルミノキサンは各種の方法で造られる。その方法については特に制限はなく、公知の方法に準じて造ればよい。例えば、トリアルキルアルミニウム（例えば、トリメチルアルミニウムなど）を適当な有機溶剤（ベンゼン、脂肪族炭化水素など）に溶かした溶液を水と接触させて造る。また、トリアルキルアルミニウム（例えば、トリメチルアルミニウムなど）を結晶水を含んでいる金属塩（例えば、硫酸銅水和物など）に接触させて造る方法が例示できる。
【００６０】
〔化合物Ｂ〕
本発明において化合物（Ｂ）としては、（Ｂ１）一般式ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 で表されるホウ素化合物、（Ｂ２）一般式Ｚ+ （ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 Ｑ4 ）- で表されるホウ素化合物、（Ｂ３）一般式（Ｌ−Ｈ）+ （ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 Ｑ4 ）- で表されるホウ素化合物のいずれか、あるいはそれらの２種以上の混合物を用いる。
【００６１】
一般式 ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 で表されるホウ素化合物（Ｂ１）において、Ｂは３価の原子価状態のホウ素原子であり、Ｑ1 〜Ｑ3 はハロゲン原子、１〜２０個の炭素原子を含む炭化水素基、１〜２０個の炭素原子を含むハロゲン化炭化水素基、１〜２０個の炭素原子を有する炭化水素置換シリル基、１〜２０個の炭素原子を有するアルコキシ基又は２〜２０個の炭素原子を有する２置換アミノ基であり、それらは同じであっても異なっていても良い。好ましいＱ1 〜Ｑ3 はハロゲン原子、１〜２０個の炭素原子を有する炭化水素基、１〜２０個の炭素原子を有するハロゲン化炭化水素基である。
【００６２】
（Ｂ１）の具体例としては、トリス（ペンタフルオロフェニル）ボラン、トリス（２，３，５，６−テトラフルオロフェニル）ボラン、トリス（２，３，４，５−テトラフルオロフェニル）ボラン、トリス（３，４，５−トリフルオロフェニル）ボラン、トリス（２，３，４−トリフルオロフェニル）ボラン、フェニルビス（ペンタフルオロフェニル）ボラン等が挙げられるが、好ましくは、トリス（ペンタフルオロフェニル）ボランが挙げられる。
【００６３】
一般式Ｚ+ （ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 Ｑ4 ）- で表されるホウ素化合物（Ｂ２）において、Ｚ+ は無機又は有機のカチオンであり、Ｂは３価の原子価状態のホウ素原子であり、Ｑ1 〜Ｑ4 は上記の（Ｂ１）におけるＱ1 〜Ｑ3 と同様である。
【００６４】
一般式 Ｚ+ （ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 Ｑ4 ）- で表される化合物の具体例としては、無機のカチオンであるＺ+ には、フェロセニウムカチオン、アルキル置換フェロセニウムカチオン、銀陽イオンなどが挙げられ、有機のカチオンであるＺ+ には、トリフェニルメチルカチオンなどが挙げられる。（ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 Ｑ4 ）- には、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、テトラキス（２，３，５，６−テトラフルオロフェニル）ボレート、テトラキス（２，３，４，５−テトラフルオロフェニル）ボレート、テトラキス（３，４，５−トリフルオロフェニル）ボレート、テトラキス（２，２，４ートリフルオロフェニル）ボレート、フェニルビス（ペンタフルオロフェニル）ボレ−ト、テトラキス（３，５−ビストリフルオロメチルフェニル）ボレートなどが挙げられる。
【００６５】
これらの具体的な組み合わせとしては、フェロセニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、１，１'−ジメチルフェロセニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、銀テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリフェニルメチルテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリフェニルメチルテトラキス（３，５−ビストリフルオロメチルフェニル）ボレートなどを挙げることができるが、好ましくは、トリフェニルメチルテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートが挙げられる。
【００６６】
また、一般式（Ｌ−Ｈ）+ （ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 Ｑ4 ）- で表されるホウ素化合物（Ｂ３）においては、Ｌは中性ルイス塩基であり、（Ｌ−Ｈ）+ はブレンステッド酸であり、Ｂは３価の原子価状態のホウ素原子であり、Ｑ1 〜Ｑ4 は上記の（Ｂ１）におけるＱ1 〜Ｑ3 と同様である。
【００６７】
一般式（Ｌ−Ｈ）+ （ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 Ｑ4 ）- で表される化合物の具体例としては、ブレンステッド酸である（Ｌ−Ｈ）+ には、トリアルキル置換アンモニウム、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアニリニウム、ジアルキルアンモニウム、トリアリールホスホニウムなどが挙げられ、（ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 Ｑ4 ）- には、前述と同様のものが挙げられる。
【００６８】
これらの具体的な組み合わせとしては、トリエチルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリプロピルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリ（ノルマルブチル）アンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリ（ノルマルブチル）アンモニウムテトラキス（３，５−ビストリフルオロメチルフェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ−２，４，６−ペンタメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウムテトラキス（３，５−ビストリフルオロメチルフェニル）ボレート、ジイソプロピルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジシクロヘキシルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリフェニルホスホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリ（メチルフェニル）ホスホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリ（ジメチルフェニル）ホスホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートなどを挙げることができるが、好ましくは、トリ（ノルマルブチル）アンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートが挙げられる。
【００６９】
各触媒成分の使用量は、化合物（Ａ）／遷移金属錯体のモル比が０．１〜１００００で、好ましくは５〜２０００、化合物（Ｂ）／遷移金属錯体のモル比が０．０１〜１００で、好ましくは０．５〜１０の範囲にあるように、各成分を用いることが望ましい。
各触媒成分を溶液状態で使う場合の濃度については、遷移金属錯体が、０．０００１〜５ミリモル／リットルで、好ましくは、０．００１〜１ミリモル／リットル、化合物（Ａ）が、Ａｌ原子換算で、０．０１〜５００ミリモル／リットルで、好ましくは、０．１〜１００ミリモル／リットル、化合物（Ｂ）は、０．０００１〜５ミリモル／リットルで、好ましくは、０．００１〜１ミリモル／リットルの範囲にあるように、各成分を用いることが望ましい。
【００７０】
本発明において、重合に使用するモノマーは、炭素原子数２〜２０個からなるオレフィン、ジオレフィン等のいずれをも用いることができ、同時に２種類以上のモノマーを用いることもできる。かかるモノマーを以下に例示するが、本発明は下記化合物に限定されるものではない。かかるオレフィンの具体例としては、エチレン、プロピレン、ブテン−１、ペンテン−１、ヘキセン−１、ヘプテン−１、オクテン−１、ノネン−１、デセン−１、５−メチル−２−ペンテン−１、ビニルシクロヘキセン等が例示される。ジオレフィン化合物としては、炭化水素化合物の共役ジエン、非共役ジエンが挙げられ、かかる化合物の具体例としては、非共役ジエン化合物の具体例として、１，５−ヘキサジエン、１，４−ヘキサジエン、１，４−ペンタジエン、１，７−オクタジエン、１，８−ノナジエン、１，９−デカジエン、４−メチル−１，４−ヘキサジエン、５−メチル−１，４−ヘキサジエン、７−メチル−１，６−オクタジエン、５−エチリデン−２−ノルボルネン、ジシクロペンタジエン、５−ビニル−２−ノルボルネン、５−メチル−２−ノルボルネン、ノルボルナジエン、５−メチレン−２−ノルボルネン、１，５−シクロオクタジエン、５，８−エンドメチレンヘキサヒドロナフタレン等が例示され、共役ジエン化合物の具体例としては、１，３−ブタジエン、イソプレン、１，３−ヘキサジエン、１，３−オクタジエン、１，３−シクロオクタジエン、１，３−シクロヘキサジエン等を例示することができる。
共重合体を構成するモノマーの具体例としては、エチレンとプロピレン、エチレンとブテン−１、エチレンとヘキセン−１、プロピレンとブテン−１等、及びそれらにさらに５−エチリデン−２−ノルボルネンを使用する組み合わせ等が例示されるが、本発明は、上記化合物に限定されるものではない。
【００７１】
本発明では、モノマーとして芳香族ビニル化合物も用いることができる。芳香族ビニル化合物の具体例としては、スチレン、ｏ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ｏ，ｐ−ジメチルスチレン、ｏ−エチルスチレン、ｍ−エチルスチレン、ｐ−エチルスチレン、ｏ−クロロスチレン、ｐ−クロロスチレン、α−メチルスチレン、ジビニルベンゼン等が挙げられる。
【００７２】
重合方法も、特に限定されるべきものではないが、例えば、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素、又はメチレンジクロライド等のハロゲン化炭化水素を溶媒として用いる溶媒重合、又はスラリー重合、ガス状のモノマー中での気相重合等が可能であり、また、連続重合、回分式重合のどちらでも可能である。
【００７３】
重合温度は、−５０℃〜２００℃の範囲をとり得るが、特に、−２０℃〜１００℃程度の範囲が好ましく、重合圧力は、常圧〜６ＭＰａ（６０ｋｇ／ｃｍ２ Ｇ）が好ましい。重合時間は、一般的に、目的とするポリマーの種類、反応装置により適宜選択されるが、１分間〜２０時間の範囲をとることができる。また、本発明は共重合体の分子量を調節するために水素等の連鎖移動剤を添加することもできる。
【００７４】
【発明の効果】
本発明により得られる遷移金属錯体を、触媒成分として用いることにより、高い触媒活性でポリオレフィンを製造することができる。
【００７５】
【実施例】
以下、実施例により、本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
実施例１
化合物１の合成
【００７６】
Ｎ−（２−アジド−フェニル）メチレン−Ｎ−（２，４，６−トリメチルフェニル）アミンの合成
２−アジド−ベンズアルデヒド（２．９４ｇ、２０ｍｍｏｌ）のエタノール３０ｍｌ溶液に、２，４，６−トリメチルアニリン（２．８４ｇ、２１ｍｍｏｌ）を２５℃で加え、混合物を７２時間攪拌した。反応後、溶媒を減圧下に留去し、Ｎ−（２−アジド−フェニル）メチレン−Ｎ−（２，４，６−トリメチルフェニル）アミンを定量的に褐色油状物質として取得した（５．２９ｇ）。
^１H NMR(CDCl₃) δ２．１１（６H）、２．２８（３H）、６．８８（２H）、７．２３（２H）、７．４９（１H）、８．２４（１H）、８．５３（１H）
マススペクトル（ＥＩ）２３６（Ｍ−Ｎ２）、２２１、２０６
【００７７】
（２−ヒドロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェニル）ジフェニルホスフィン（２．４３ｇ、７．０ｍｍｏｌ）のトルエン２２．５ｍｌ溶液を６０℃に加熱し、Ｎ−（２−アジド−フェニル）メチレン−Ｎ−（２，４，６−トリメチルフェニル）アミン（２．４０ｇ、９．１ｍｍｏｌ）のトルエン５．５ｍｌ溶液を１時間で滴下した。５時間保温の後に、溶媒を減圧下で留去し、残渣にヘキサン、ジエチルエーテルを添加する事で結晶を析出させた。これをろ取し［化合物１］を黄白色結晶として取得した（２．５９ｇ、６３.５％）。

［化合物１］
^１H NMR(CDCl₃) δ１．３１（９H）、２．１０（３H）、２．１５（６H）、２．２５（６H）、６．４７-６．５０（１H）、６．５４-６．５９（１H）、６．７９-６．８４（３H）、６．９５-６．９８（１H）、７．１４（１H）、７．４７−７．５０（４H）、７．５８−７．５９（２H）、７．７５−７．７９（４H）、８．０６−８．１０（１H）、８．８７（１H）
【００７８】
実施例２
［遷移金属錯体の調製（配位子：金属＝１：１）］
窒素下で、化合物１の０．００２Ｍトルエン溶液とテトラベンジルジルコニウム０．００２Ｍトルエン溶液を１：１の体積比で混合し、遷移金属錯体を調製した。重合に際しては、ジルコニウム０．００１Ｍ溶液として使用した。
【００７９】
［重合］
オートクレーブに窒素下で、トルエン５．０mLを仕込み、４０℃で安定させた後、エチレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。ここに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、前記で調製したジルコニウム錯体（０．１０μmol）、ペンタフルオロフェニルボラン（０．３０μｍｏｌ）を加え、重合を実施した。重合の結果、ポリマーをジルコニウム１mol当たり、1時間当たり、６．６×１０^６ｇ製造した。
【００８０】
実施例３
ペンタフルオロフェニルボラン（０．３０μｍｏｌ）の代わりに、トリフェニルメチルテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例２と同様に重合を行った。重合の結果、ポリマーをジルコニウム１mol当たり、1時間当たり、１．６×１０^７ｇ製造した。
【００８１】
実施例４
オートクレーブに窒素下で、ヘキセン５０μL、トルエン５．０mLを仕込み、７０℃で安定させた後、エチレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。ここに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、前記で調製したジルコニウム錯体（０．１０μmol）、ペンタフルオロフェニルボラン（０．３０μｍｏｌ）を加え、重合を実施した。重合の結果、分子量（Ｍｗ）＝２．１ｘ１０⁵分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）＝６４．２、Ｍｅ分岐（1／１０００炭素）＝２０であるポリマーをジルコニウム１mol当たり、1時間当たり、５．３×１０^６ｇ製造した。
【００８２】
実施例５
ペンタフルオロフェニルボラン（０．３０μｍｏｌ）の代わりに、トリフェニルメチルテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例４と同様に重合を行った。重合の結果、分子量（Ｍｗ）＝２．４ｘ１０^３、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）＝１．２、Ｍｅ分岐（1／１０００炭素）＝４５であるポリマーをジルコニウム１mol当たり、1時間当たり、１．７×１０^７ｇ製造した。
【００８３】
実施例６
［遷移金属錯体の調製（配位子：金属＝１：２）］
窒素下で、化合物１の０．００２Ｍトルエン溶液とテトラベンジルジルコニウム０．００２Ｍトルエン溶液を２：１の体積比で混合し、遷移金属錯体を調製した。重合に際しては、ジルコニウム０．０００６７Ｍ溶液として使用した。
【００８４】
［重合］
オートクレーブに窒素下で、トルエン５．０mLを仕込み、４０℃で安定させた後、エチレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。ここに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、前記で調製したジルコニウム錯体（０．１０μmol）、ペンタフルオロフェニルボラン（０．３０μｍｏｌ）を加え、重合を実施した。重合の結果、ポリマーをジルコニウム１mol当たり、1時間当たり、６．４×１０^６ｇ製造した。
【００８５】
実施例７
ペンタフルオロフェニルボラン（０．３０μｍｏｌ）の代わりに、トリフェニルメチルテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例３と同様に重合を行った。重合の結果、ポリマーをジルコニウム１mol当たり、1時間当たり、３．５×１０^７ｇ製造した。
【００８６】
実施例８
オートクレーブに窒素下で、ヘキセン５０μｌ、トルエン５．０mLを仕込み、７０℃で安定させた後、エチレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。ここに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、前記で調製したジルコニウム錯体（０．１０μmol）、ペンタフルオロフェニルボラン（０．３０μｍｏｌ）を加え、重合を実施した。重合の結果、分子量（Ｍｗ）＝４．０ｘ１０^５、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）＝５６．５、Ｍｅ分岐（1／１０００炭素）＝１５であるポリマーをジルコニウム１mol当たり、1時間当たり、２．８×１０^６ｇ製造した。
【００８７】
実施例９
ペンタフルオロフェニルボラン（０．３０μｍｏｌ）の代わりに、トリフェニルメチルテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例８と同様に重合を行った。重合の結果、分子量（Ｍｗ）＝２．３ｘ１０^３、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）＝１．２、Ｍｅ分岐（1／１０００炭素）＝３０であるポリマーをジルコニウム１mol当たり、1時間当たり、１．７×１０^７ｇ製造した。

Claims (10)

1. 一般式（１）
   

   

   （式中、Ａは元素の周期律表の第１６族の原子を示し、Ｂ¹は窒素原子以外の元素の周期律表の第１５族の原子を示し、Ｂ²、Ｂ³はそれぞれ独立に元素の周期律表の第１５族の原子を示し、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸、Ｒ⁹、Ｒ¹⁰、Ｒ¹¹、Ｒ¹²はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、置換されていてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、置換されていてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、置換されていてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、置換されていてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素置換シリル基、置換されていてもよい炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、置換されていてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基、置換されていてもよい炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基又は炭素原子数２〜２０の炭化水素２置換アミノ基を示し、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸、Ｒ⁹、Ｒ¹⁰において、隣接する基は任意に結合して環を形成していてもよい。）
   で示される置換ベンゼンと一般式（２）
   

   

   （式中、Ｍは遷移金属原子を示し、Ｘ^１、Ｘ^２、Ｘ^３はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、置換されていてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、置換されていてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、置換されていてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、置換されていてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素置換シリル基、置換されていてもよい炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、置換されていてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基、置換されていてもよい炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基又は炭素原子数２〜２０の炭化水素２置換アミノ基を示し、Ｌはエーテル、スルフィド、アミン、ホスフィン、オレフィンのいずれかで示される中性配位子を示し、ｌ、ｍ、ｎは独立に０から２の整数を示す。）
   で示される遷移金属化合物とを反応させてなる遷移金属錯体と、下記化合物（Ａ）とを組合わせてなることを特徴とするオレフィン重合用触媒。
   化合物（Ａ）： 下記化合物（Ａ１）〜（Ａ３）のいずれか、あるいはそれらの２種以上の混合物
   （Ａ１）： 一般式 Ｅ1 a Ａｌ（Ｚ）3-a で示される有機アルミニウム化合物
   （Ａ２）: 一般式 ｛−Ａｌ（Ｅ2 ）−Ｏ−｝b で示される構造を有する環状のアルミノキサン
   （Ａ３）： 一般式 Ｅ3 ｛−Ａｌ（Ｅ3 ）−Ｏ−｝c Ａｌ（Ｅ3） 2 で示される構造を有する線状のアルミノキサン
   （式中、Ｅ1 〜Ｅ3 は同一又は相異なり、炭素原子数１〜８の炭化水素基であり、Ｚは同一又は相異なり、水素原子又はハロゲン原子を表し、ａは１、２又は３で、ｂは２以上の整数を、ｃは１以上の整数を表す。）
2. 請求項１に記載の遷移金属錯体と上記化合物（Ａ）及び下記化合物（Ｂ）とを組合わせてなることを特徴とするオレフィン重合用触媒。
   化合物（Ｂ）: 下記化合物（Ｂ１）〜（Ｂ３）のいずれか、あるいはそれらの２種以上の混合物
   （Ｂ１）： 一般式 ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 で表されるホウ素化合物、
   （Ｂ２）： 一般式 Ｚ+ （ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 Ｑ4 ）- で表されるホウ素化合物、
   （Ｂ３）： 一般式（Ｌ−Ｈ）+ （ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 Ｑ4 ）- で表されるホウ素化合物
   （式中、Ｂは３価の原子価状態のホウ素原子であり、Ｑ1 〜Ｑ4 は同一又は相異なり、ハロゲン原子、炭素原子数１〜２０の炭化水素基、炭素原子数１〜２０のハロゲン化炭化水素基、炭素原子数１〜２０の炭化水素置換シリル基、炭素原子数１〜２０のアルコキシ基又は炭素原子数２〜２０の炭化水素２置換アミノ基を示す。）
3. Ｍが、チタン、ジルコニウム、ニッケル、パラジウムのいずれかである請求項１又は２に記載のオレフィン重合用触媒。
4. 置換ベンゼンと遷移金属化合物のモル比が、１：０．１から１：１０の範囲である請求項１から３のいずれかに記載のオレフィン重合用触媒。
5. 請求項１から４のいずれかに記載のオレフィン重合用触媒を用いることを特徴とするオレフィン重合体の製造方法。
6. 一般式（１）で示される置換ベンゼン。
7. Ａが酸素原子である請求項６に記載の置換ベンゼン。
8. Ｂ¹がリン原子である請求項６又は７に記載の置換ベンゼン。
9. Ｂ²及びＢ³が窒素原子である請求項６、７又は８に記載の置換ベンゼン。
10. Ｒ^１が置換されていてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、置換されていてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基である請求項６から９のいずれかに記載の置換ベンゼン。