JP2003252890A - 遷移金属錯体、配位子、オレフィン重合用触媒およびオレフィン重合体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 新規遷移金属錯体を提供すること。 【解決手段】 一般式（１） （式中、Ｍは元素の周期律表の第４族の遷移金属原子を
示し、ＡおよびＢはそれぞれ元素の周期律表の第１５族
の原子を示し、ｎは１または２を示し、ｍは０から２の
整数を示し、ｍとｎの和は２または３である。Ｒ¹、
Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｘ¹ およびＸ²はそれ
ぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜２
０のアルキル基、炭素原子数７〜２０のアラルキル基、
炭素原子数６〜２０のアリール基、炭素原子数１〜２０
の置換シリル基、炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、
炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基、炭素原子数
６〜２０のアリールオキシ基または炭素原子数２〜２０
の２置換アミノ基を示し、Ｒ¹とＲ²および、隣接するＲ
³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶は任意に結合して環を形成していても
よい。）で示される遷移金属錯体。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、遷移金属錯体、配
位子、オレフィン重合用触媒およびオレフィン重合体の
製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】既に、メタロセン錯体を用いるオレフィ
ン重合体の製造法については多くの報告がなされてい
る。例えば、特開昭５８−１９３０９号公報において、
メタロセン錯体とアルミノキサンを用いたオレフィン重
合体の製造方法に関して報告されている。また、最近、
シクロペンタジエン骨格を有さない錯体を用いるオレフ
ィン重合体の製造法が報告されている。例えば、ＷＯ８
７／０２３７０号公報において、２，２'−チオビス
（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノキシ）チタ
ンジクロライド、ＷＯ９６２３０１０号公報において、
ジイミン‐ニッケル錯体、ＷＯ９８２７１２４号公報に
おいて、ピリジン架橋ジイミン‐鉄錯体、特開平１１−
３１５１０９号公報において、フェノキシイミン‐ジル
コニウム錯体が報告されている。これらの錯体は、メタ
ロセン錯体に比べ、安価である、新規なポリマーの製造
の可能性がある、など次世代触媒としての可能性がある
とされているものの、活性、ポリマーの実用性、重合プ
ロセスへの適用性等の点で必ずしも充分なものとは言い
難く改良が望まれていた。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、メタロセン
骨格を有さない新規な遷移金属錯体、およびこれを触媒
成分とするオレフィン重合体の製造方法を提供すること
を目的とする。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明者らは上記の目的
を達成するために、遷移金属錯体およびオレフィン重合
用触媒について鋭意研究を続けてきた。その結果、新規
な遷移金属錯体を見出し、本発明を完成させるに至っ
た。すなわち本発明は、一般式（１） （式中、Ｍは元素の周期律表の第４族の遷移金属原子を
示し、ＡおよびＢはそれぞれ元素の周期律表の第１５族
の原子を示し、ｎは１または２を示し、ｍは０から２の
整数を示し、ｍとｎの和は２または３である。Ｒ¹、
Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｘ¹ およびＸ²はそれ
ぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、置換されていても
よい炭素原子数１〜２０のアルキル基、置換されていて
もよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、置換されて
いてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、置換され
ていてもよい炭素原子数１〜２０の置換シリル基、置換
されていてもよい炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、
置換されていてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル
オキシ基、置換されていてもよい炭素原子数６〜２０の
アリールオキシ基または炭素原子数２〜２０の２置換ア
ミノ基を示し、Ｒ¹とＲ²および、隣接するＲ³、Ｒ⁴、Ｒ
⁵、Ｒ⁶は任意に結合して環を形成していてもよい。）で
示される遷移金属錯体、これを触媒成分とする重合用触
媒およびオレフィン重合体の製造方法を提供するもので
ある。

【０００５】

【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。一般式（１）で示される遷移金属錯体において、
Ｍで示される遷移金属原子とは、元素の周期律表（ＩＵ
ＰＡＣ無機化学命名法改定版１９８９）の第４族の遷移
金属原子であり、例えばチタン原子、ジルコニウム原
子、ハフニウム原子などが挙げられる。

【０００６】ＡおよびＢで示される元素の周期律表の第
１５族の原子としては、例えば窒素原子、リン原子、ヒ
素原子などが挙げられ、好ましくは窒素原子、リン原子
である。

【０００７】置換基Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ
⁷、Ｘ¹ およびＸ²におけるハロゲン原子としてはフッ素
原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが例示され
る。

【０００８】置換基Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ
⁷、Ｘ¹ およびＸ²における置換されていてもよい炭素原
子数１〜２０のアルキル基における置換基としては、ハ
ロゲン原子等が挙げられ、具体例としては、メチル基、
エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチ
ル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペ
ンチル基、ネオペンチル基、アミル基、ｎ−ヘキシル
基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基、
ｎ−ペンタデシル基、ｎ−エイコシル基、フルオロメチ
ル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ク
ロロメチル基、ジクロロメチル基、トリクロロメチル
基、ブロモメチル基、ジブロモメチル基、トリブロモメ
チル基、ヨードメチル基、ジヨードメチル基、トリヨー
ドメチル基、フルオロエチル基、ジフルオロエチル基、
トリフルオロエチル基、テトラフルオロエチル基、ペン
タフルオロエチル基、クロロエチル基、ジクロロエチル
基、トリクロロエチル基、テトラクロロエチル基、ペン
タクロロエチル基、ブロモエチル基、ジブロモエチル
基、トリブロモエチル基、テトラブロモエチル基、ペン
タブロモエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフル
オロブチル基、パーフルオロペンチル基、パーフルオロ
ヘキシル基、パーフルオロオクチル基、パーフルオロド
デシル基、パーフルオロペンタデシル基、パーフルオロ
エイコシル基、パークロロプロピル基、パークロロブチ
ル基、パークロロペンチル基、パークロロヘキシル基、
パークロロクチル基、パークロロドデシル基、パークロ
ロペンタデシル基、パークロロエイコシル基、パーブロ
モプロピル基、パーブロモブチル基、パーブロモペンチ
ル基、パーブロモヘキシル基、パーブロモクチル基、パ
ーブロモドデシル基、パーブロモペンタデシル基、パー
ブロモエイコシル基などが挙げられ、好ましくはメチル
基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、
アミル基等が挙げられる。

【０００９】置換基Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ
⁷、Ｘ¹ およびＸ²における置換されていてもよい炭素原
子数７〜２０のアラルキル基における置換基としては、
アルキル基、ハロゲン原子等が挙げられ、具体例として
は、例えばベンジル基、（２−メチルフェニル）メチル
基、（３−メチルフェニル）メチル基、（４−メチルフ
ェニル）メチル基、（２，３−ジメチルフェニル）メチ
ル基、（２，４−ジメチルフェニル）メチル基、（２，
５−ジメチルフェニル）メチル基、（２，６−ジメチル
フェニル）メチル基、（３，４−ジメチルフェニル）メ
チル基、（４，６−ジメチルフェニル）メチル基、
（２，３，４−トリメチルフェニル）メチル基、（２，
３，５−トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，６
−トリメチルフェニル）メチル基、（３，４，５−トリ
メチルフェニル）メチル基、（２，４，６−トリメチル
フェニル）メチル基、（２，３，４，５−テトラメチル
フェニル）メチル基、（２，３，４，６−テトラメチル
フェニル）メチル基、（２，３，５，６−テトラメチル
フェニル）メチル基、（ペンタメチルフェニル）メチル
基、（エチルフェニル）メチル基、（ｎ−プロピルフェ
ニル）メチル基、（イソプロピルフェニル）メチル基、
（ｎ−ブチルフェニル）メチル基、（ｓｅｃ−ブチルフ
ェニル）メチル基、（ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）メチ
ル基、（ｎ−ペンチルフェニル）メチル基、（ネオペン
チルフェニル）メチル基、（ｎ−ヘキシルフェニル）メ
チル基、（ｎ−オクチルフェニル）メチル基、（ｎ−デ
シルフェニル）メチル基、（ｎ−デシルフェニル）メチ
ル基、（ｎ−テトラデシルフェニル）メチル基、ナフチ
ルメチル基、アントラセニルメチル基などが挙げら、好
ましくはベンジル基である。これらのアラルキル基はい
ずれもフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子な
どのハロゲン原子で置換されていてもよい。

【００１０】置換基Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ
⁷、Ｘ¹ およびＸ²における置換されていてもよい炭素原
子数６〜２０のアリール基における置換基としては、ア
ルキル基、ハロゲン原子等が挙げられ、具体例として
は、フェニル基、２−トリル基、３−トリル基、４−ト
リル基、２，３−キシリル基、２，４−キシリル基、
２，５−キシリル基、２，６−キシリル基、３，４−キ
シリル基、３，５−キシリル基、２，３，４−トリメチ
ルフェニル基、２，３，５−トリメチルフェニル基、
２，３，６−トリメチルフェニル基、２，４，６−トリ
メチルフェニル基、３，４，５−トリメチルフェニル
基、２，３，４，５−テトラメチルフェニル基、２，
３，４，６−テトラメチルフェニル基、２，３，５，６
−テトラメチルフェニル基、ペンタメチルフェニル基、
エチルフェニル基、ｎ−プロピルフェニル基、イソプロ
ピルフェニル基、ｎ−ブチルフェニル基、ｓｅｃ−ブチ
ルフェニル基、ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、ｎ−ペン
チルフェニル基、ネオペンチルフェニル基、ｎ−ヘキシ
ルフェニル基、ｎ−オクチルフェニル基、ｎ−デシルフ
ェニル基、ｎ−ドデシルフェニル基、ｎ−テトラデシル
フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基などが挙げ
られ、好ましはフェニル基である。これらのアリール基
はいずれもフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原
子などのハロゲン原子で置換されていてもよい。

【００１１】置換基Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ
⁷、Ｘ¹ およびＸ²における置換シリル基とは炭化水素基
で置換されたシリル基であって、ここで炭化水素基とし
ては、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イ
ソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅ
ｒｔ−ブチル基、イソブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−
ヘキシル基、シクロヘキシル基などの炭素原子数１〜１
０のアルキル基、フェニル基などのアリール基などが挙
げられる。かかる炭素原子数１〜２０の置換シリル基の
具体例としては、メチルシリル基、エチルシリル基、フ
ェニルシリル基などの炭素原子数１〜２０の１置換シリ
ル基、ジメチルシリル基、ジエチルシリル基、ジフェニ
ルシリル基などの炭素原子数２〜２０の２置換シリル
基、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリ−
ｎ−プロピルシリル基、トリイソプロピルシリル基、ト
リ−ｎ−ブチルシリル基、トリ−ｓｅｃ−ブチルシリル
基、トリ−ｔｅｒｔ−ブチルシリル基、トリ−イソブチ
ルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチル−ジメチルシリル基、ト
リ−ｎ−ペンチルシリル基、トリ−ｎ−ヘキシルシリル
基、トリシクロヘキシルシリル基、トリフェニルシリル
基などの炭素原子数３〜２０の３置換シリル基などが挙
げられ、好ましくはトリメチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブ
チルジメチルシリル基、トリフェニルシリル基等が挙げ
られる。これらの置換シリル基はいずれもその炭化水素
基がフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子など
のハロゲン原子で置換されていてもよい。

【００１２】置換基Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ
⁷、Ｘ¹ およびＸ²における置換されていてもよい炭素原
子数１〜２０のアルコキシ基における置換基としては、
ハロゲン原子等が挙げられ、具体例としては、例えばメ
トキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポ
キシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒ
ｔ−ブトキシ基、ｎ−ペントキシ基、ネオペントキシ
基、ｎ−ヘキソキシ基、ｎ−オクトキシ基、ｎ−ドデソ
キシ基、ｎ−ペンタデソキシ基、ｎ−イコソキシ基など
が挙げられ、好ましくはメトキシ基、エトキシ基、ｔｅ
ｒｔ−ブトキシ基等が挙げられる。これらのアルコキシ
基はいずれもフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素
原子などのハロゲン原子で置換されていてもよい。

【００１３】置換基Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ
⁷、Ｘ¹ およびＸ²における置換されていてもよい炭素原
子数７〜２０のアラルキルオキシ基における置換基とし
ては、アルキル基、ハロゲン原子等が挙げられ、具体例
としては、ベンジルオキシ基、（２−メチルフェニル）
メトキシ基、（３−メチルフェニル）メトキシ基、（４
−メチルフェニル）メトキシ基、（２，３−ジメチルフ
ェニル）メトキシ基、（２，４−ジメチルフェニル）メ
トキシ基、（２，５−ジメチルフェニル）メトキシ基、
（２，６−ジメチルフェニル）メトキシ基、（３，４−
ジメチルフェニル）メトキシ基、（３，５−ジメチルフ
ェニル）メトキシ基、（２，３，４−トリメチルフェニ
ル）メトキシ基、（２，３，５−トリメチルフェニル）
メトキシ基、（２，３，６−トリメチルフェニル）メト
キシ基、（２，４，５−トリメチルフェニル）メトキシ
基、（２，４，６−トリメチルフェニル）メトキシ基、
（３，４，５−トリメチルフェニル）メトキシ基、
（２，３，４，５−テトラメチルフェニル）メトキシ
基、（２，３，４，６−テトラメチルフェニル）メトキ
シ基、（２，３，５，６−テトラメチルフェニル）メト
キシ基、（ペンタメチルフェニル）メトキシ基、（エチ
ルフェニル）メトキシ基、（ｎ−プロピルフェニル）メ
トキシ基、（イソプロピルフェニル）メトキシ基、（ｎ
−ブチルフェニル）メトキシ基、（ｓｅｃ−ブチルフェ
ニル）メトキシ基、（ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）メト
キシ基、（ｎ−ヘキシルフェニル）メトキシ基、（ｎ−
オクチルフェニル）メトキシ基、（ｎ−デシルフェニ
ル）メトキシ基、（ｎ−テトラデシルフェニル）メトキ
シ基、ナフチルメトキシ基、アントラセニルメトキシ基
などが挙げられ、好ましくはベンジルオキシ基が挙げら
れる。これらのアラルキルオキシ基はいずれもフッ素原
子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原
子で置換されていてもよい。

【００１４】置換基Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ
⁷、Ｘ¹ およびＸ²における置換されていてもよい炭素原
子数６〜２０のアリールオキシ基における置換基として
は、アルキル基、ハロゲン原子等が挙げられ、具体例と
しては、フェノキシ基、２−メチルフェノキシ基、３−
メチルフェノキシ基、４−メチルフェノキシ基、２，３
−ジメチルフェノキシ基、２，４−ジメチルフェノキシ
基、２，５−ジメチルフェノキシ基、２，６−ジメチル
フェノキシ基、３，４−ジメチルフェノキシ基、３，５
−ジメチルフェノキシ基、２，３，４−トリメチルフェ
ノキシ基、２，３，５−トリメチルフェノキシ基、２，
３，６−トリメチルフェノキシ基、２，４，５−トリメ
チルフェノキシ基、２，４，６−トリメチルフェノキシ
基、３，４，５−トリメチルフェノキシ基、２，３，
４，５−テトラメチルフェノキシ基、２，３，４，６−
テトラメチルフェノキシ基、２，３，５，６−テトラメ
チルフェノキシ基、ペンタメチルフェノキシ基、エチル
フェノキシ基、ｎ−プロピルフェノキシ基、イソプロピ
ルフェノキシ基、ｎ−ブチルフェノキシ基、ｓｅｃ−ブ
チルフェノキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ基、ｎ
−ヘキシルフェノキシ基、ｎ−オクチルフェノキシ基、
ｎ−デシルフェノキシ基、ｎ−テトラデシルフェノキシ
基、ナフトキシ基、アントラセノキシ基などの炭素数６
〜２０のアリールオキシ基などが挙げられる。これらの
アリールオキシ基はいずれもフッ素原子、塩素原子、臭
素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子で置換されてい
てもよい。

【００１５】置換基Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ
⁷、Ｘ¹ およびＸ²における炭素原子数２〜２０の２置換
アミノ基とは２つの炭化水素基で置換されたアミノ基で
あって、ここでの炭化水素基としては、例えばメチル
基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−
ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イ
ソブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロ
ヘキシル基などの炭素原子数２〜２０のアルキル基、フ
ェニル基などのアリール基などが挙げられ、これらの置
換基は互いに結合して環を形成していても良い。かかる
炭素原子数２〜２０の２置換アミノ基としては、例えば
ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジ−ｎ−プロピ
ルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ジ−ｎ−ブチル
アミノ基、ジ−ｓｅｃ−ブチルアミノ基、ジ−ｔｅｒｔ
−ブチルアミノ基、ジ−イソブチルアミノ基、ｔｅｒｔ
−ブチルイソプロピルアミノ基、ジ−ｎ−ヘキシルアミ
ノ基、ジ−ｎ−オクチルアミノ基、ジ−ｎ−デシルアミ
ノ基、ジフェニルアミノ基、ビストリメチルシリルアミ
ノ基、ビス−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルアミノ
基、ピロリル基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、カ
ルバゾリル基、ジヒドロインドーリル基、ジヒドロイソ
インドーリル基などが挙げられ、好ましくはジメチルア
ミノ基、 ジエチルアミノ基、ピロリジニル基、ピペリ
ジニル基等が挙げられるる。

【００１６】Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁷の好ましいものとしては、
前記に例示の置換されていてもよい炭素原子数１〜２０
のアルキル基、置換されていてもよい炭素原子数７〜２
０のアラルキル基、置換されていてもよい炭素原子数６
〜２０のアリール基が挙げられるる。

【００１７】Ｒ¹とＲ²および、隣接するＲ³、Ｒ⁴、
Ｒ⁵、Ｒ⁶は任意に結合して環を形成していてもよい。

【００１８】一般式（１）で示される遷移金属錯体とし
ては、例えば、ビス（２−ジフェニルホスフィノ−α−
メチルベンゼンメタンイミド）チタニウムジクロライ
ド、ビス（２−ジフェニルホスフィノ−α−フェニルベ
ンゼンメタンイミド）チタニウムジクロライド、ビス
（２−ジフェニルホスフィノ−α−イソプロピルベンゼ
ンメタンイミド）チタニウムジクロライド、ビス（２−
ジフェニルホスフィノ−α−ｔeｒｔ−ブチルベンゼン
メタンイミド）チタニウムジクロライド、ビス（２−ジ
フェニルホスフィノ−α−sec−ブチルベンゼンメタン
イミド）チタニウムジクロライド、ビス[２−ジフェニ
ルホスフィノ−α−（２，４，６−トリメチルフェニ
ル）ベンゼンメタンイミド]チタニウムジクロライド

【００１９】ビス（２−ジシクロヘキシルホスフィノ−
α−メチルベンゼンメタンイミド）チタニウムジクロラ
イド、ビス（２−ジシクロヘキシルホスフィノ−α−フ
ェニルベンゼンメタンイミド）チタニウムジクロライ
ド、ビス（２−ジシクロヘキシルホスフィノ−α−イソ
プロピルベンゼンメタンイミド）チタニウムジクロライ
ド、ビス（２−ジシクロヘキシルホスフィノ−α−tert
−ブチルベンゼンメタンイミド）チタニウムジクロライ
ド、ビス（２−ジシクロヘキシルホスフィノ−α−sec
−ブチルベンゼンメタンイミド）チタニウムジクロライ
ド、ビス[２−ジシクロヘキシルホスフィノ−α−
（２，４，６−トリメチルフェニル）ベンゼンメタンイ
ミド]チタニウムジクロライド

【００２０】ビス[２−ジ（tert−ブチル）ホスフィノ
−α−メチルベンゼンメタンイミド]チタニウムジクロ
ライド、ビス[２−ジ（tert−ブチル）ホスフィノ−α
−フェニルベンゼンメタンイミド]チタニウムジクロラ
イド、ビス[２−ジ（tert−ブチル）ホスフィノ−α−
イソプロピルベンゼンメタンイミド]チタニウムジクロ
ライド、ビス[２−ジ（tert−ブチル）ホスフィノ−α
−tert−ブチルベンゼンメタンイミド]チタニウムジク
ロライド、ビス[２−ジ（tert−ブチル）ホスフィノ−
α−sec−ブチルベンゼンメタンイミド]チタニウムジク
ロライド、ビス[２−ジ（tert−ブチル）ホスフィノ−
α−（２，４，６−トリメチルフェニル）ベンゼンメタ
ンイミド]チタニウムジクロライド

【００２１】ビス[１−ジフェニルホスフィノ−α−メ
チル−（２−ナフタレン）メタンイミド]チタニウムジ
クロライド、ビス[１−ジフェニルホスフィノ−α−フ
ェニル−（２−ナフタレン）メタンイミド]チタニウム
ジクロライド、ビス[１−ジフェニルホスフィノ−α−
イソプロピル−（２−ナフタレン）メタンイミド]チタ
ニウムジクロライド、ビス[１−ジフェニルホスフィノ
−α−tert−ブチル−（２−ナフタレン）メタンイミ
ド]チタニウムジクロライド、ビス[１−ジフェニルホス
フィノ−α−sec−ブチル−（２−ナフタレン）メタン
イミド]チタニウムジクロライド、ビス[１−ジフェニル
ホスフィノ−α−（２，４，６−トリメチルフェニル）
−（２−ナフタレン）メタンイミド]チタニウムジクロ
ライド

【００２２】ビス[１−ジシクロヘキシルホスフィノ−
α−メチル−（２−ナフタレン）]タンイミド]チタニウ
ムジクロライド、ビス[１−ジシクロヘキシルホスフィ
ノ−α−フェニル−（２−ナフタレン）]メタンイミド]
チタニウムジクロライド、ビス[１−ジシクロヘキシル
ホスフィノ−α−イソプロピル−（２−ナフタレン）メ
タンイミド]チタニウムジクロライド、ビス[１−ジシク
ロヘキシルホスフィノ−α−tert−ブチル−（２−ナフ
タレン）メタンイミド]チタニウムジクロライド、ビス
[１−ジシクロヘキシルホスフィノ−α−sec−ブチル−
（２−ナフタレン）メタンイミド]チタニウムジクロラ
イド、ビス[１−ジシクロヘキシルホスフィノ−α−
（２，４，６−トリメチルフェニル）−（２−ナフタレ
ン）メタンイミド]チタニウムジクロライド

【００２３】ビス[１−ジ（tert−ブチル）ホスフィノ
−α−メチル−（２−ナフタレン）メタンイミド]チタ
ニウムジクロライド、ビス[１−ジ（tert−ブチル）ホ
スフィノ−α−フェニル−（２−ナフタレン）メタンイ
ミド]チタニウムジクロライド、ビス[１−ジ（tert−ブ
チル）ホスフィノ−α−イソプロピル−（２−ナフタレ
ン）メタンイミド]チタニウムジクロライド、ビス[１−
ジ（tert−ブチル）ホスフィノ−α−tert−ブチル−
（２−ナフタレン）メタンイミド]チタニウムジクロラ
イド、ビス[１−ジ（tert−ブチル）ホスフィノ−α−s
ec−ブチル−（２−ナフタレン）メタンイミド]チタニ
ウムジクロライド、ビス[１−ジ（tert−ブチル）ホス
フィノ−α−（２，４，６−トリメチルフェニル）−
（２−ナフタレン）メタンイミド]チタニウムジクロラ
イド

【００２４】２−ジフェニルホスフィノ−α−メチルベ
ンゼンメタンイミドチタニウムトリクロライド、２−ジ
フェニルホスフィノ−α−フェニルベンゼンメタンイミ
ドチタニウムトリクロライド、２−ジフェニルホスフィ
ノ−α−イソプロピルベンゼンメタンイミドチタニウム
トリクロライド、２−ジフェニルホスフィノ−α−tert
−ブチルベンゼンメタンイミドチタニウムトリクロライ
ド、２−ジフェニルホスフィノ−α−sec−ブチルベン
ゼンメタンイミドチタニウムトリクロライド、２−ジフ
ェニルホスフィノ−α−（２，４，６−トリメチルフェ
ニル）ベンゼンメタンイミドチタニウムトリクロライド

【００２５】２−ジシクロヘキシルホスフィノ−α−メ
チルベンゼンメタンイミドチタニウムトリクロライド、
２−ジシクロヘキシルホスフィノ−α−フェニルベンゼ
ンメタンイミドチタニウムトリクロライド、２−ジシク
ロヘキシルホスフィノ−α−イソプロピルベンゼンメタ
ンイミドチタニウムトリクロライド、２−ジシクロヘキ
シルホスフィノ−α−tert−ブチルベンゼンメタンイミ
ドチタニウムトリクロライド、２−ジシクロヘキシルホ
スフィノ−α−sec−ブチルベンゼンメタンイミドチタ
ニウムトリクロライド、２−ジシクロヘキシルホスフィ
ノ−α−（２，４，６−トリメチルフェニル）ベンゼン
メタンイミドチタニウムトリクロライド

【００２６】２−ジ（tert−ブチル）ホスフィノ−α−
メチルベンゼンメタンイミドチタニウムトリクロライ
ド、２−ジ（tert−ブチル）ホスフィノ−α−フェニル
ベンゼンメタンイミドチタニウムトリクロライド、２−
ジ（tert−ブチル）ホスフィノ−α−イソプロピルベン
ゼンメタンイミドチタニウムトリクロライド、２−ジ
（tert−ブチル）ホスフィノ−α−tert−ブチルベンゼ
ンメタンイミドチタニウムトリクロライド、２−ジ（te
rt−ブチル）ホスフィノ−α−sec−ブチルベンゼンメ
タンイミドチタニウムトリロライド、２−ジ（tert−ブ
チル）ホスフィノ−α−（２，４，６−トリメチルフェ
ニル）ベンゼンメタンイミドチタニウムトリクロライド

【００２７】１−ジフェニルホスフィノ−α−メチル−
（２−ナフタレン）メタンイミドチタニウムトリクロラ
イド、１−ジフェニルホスフィノ−α−フェニル−（２
−ナフタレン）メタンイミドチタニウムトリクロライ
ド、１−ジフェニルホスフィノ−α−イソプロピル−
（２−ナフタレン）メタンイミドチタニウムトリクロラ
イド、１−ジフェニルホスフィノ−α−tert−ブチル−
（２−ナフタレン）メタンイミドチタニウムトリクロラ
イド、１−ジフェニルホスフィノ−α−sec−ブチル−
（２−ナフタレン）メタンイミドチタニウムトリクロラ
イド、１−ジフェニルホスフィノ−α−（２，４，６−
トリメチルフェニル）−（２−ナフタレン）メタンイミ
ドチタニウムトリクロライド

【００２８】１−ジシクロヘキシルホスフィノ−α−メ
チル−（２−ナフタレン）メタンイミドチタニウムトリ
クロライド、１−ジシクロヘキシルホスフィノ−α−フ
ェニル−（２−ナフタレン）メタンイミドチタニウムト
リクロライド、１−ジシクロヘキシルホスフィノ−α−
イソプロピル−（２−ナフタレン）メタンイミドチタニ
ウムトリクロライド、１−ジシクロヘキシルホスフィノ
−α−tert−ブチル−（２−ナフタレン）メタンイミド
チタニウムトリクロライド、１−ジシクロヘキシルホス
フィノ−α−sec−ブチル−（２−ナフタレン）メタン
イミドチタニウムトリクロライド、１−ジシクロヘキシ
ルホスフィノ−α−（２，４，６−トリメチルフェニ
ル）−（２−ナフタレン）メタンイミドチタニウムトリ
クロライド

【００２９】１−ジ（tert−ブチル）ホスフィノ−α−
メチル−（２−ナフタレン）メタンイミドチタニウムト
リクロライド、１−ジ（tert−ブチル）ホスフィノ−α
−フェニル−（２−ナフタレン）メタンイミドチタニウ
ムトリクロライド、１−ジ（tert−ブチル）ホスフィノ
−α−イソプロピル−（２−ナフタレン）メタンイミド
チタニウムトリクロライド、１−ジ（tert−ブチル）ホ
スフィノ−α−tert−ブチル−（２−ナフタレン）メタ
ンイミドチタニウムトリクロライド、１−ジ（tert−ブ
チル）ホスフィノ−α−sec−ブチル−（２−ナフタレ
ン）メタンイミドチタニウムトリクロライド、１−ジ
（tert−ブチル）ホスフィノ−α−（２，４，６−トリ
メチルフェニル）−（２−ナフタレン）メタンイミドチ
タニウムトリクロライド

【００３０】ビス（２−ピペリジル−α−メチルベンゼ
ンメタンイミド）チタニウムジクロライド、ビス（２−
ピペリジル−α−フェニルベンゼンメタンイミド）チタ
ニウムジクロライド、ビス（２−ピペリジル−α−イソ
プロピルベンゼンメタンイミド）チタニウムジクロライ
ド、ビス（２−ピペリジル−α−tert−ブチルベンゼン
メタンイミド）チタニウムジクロライド、ビス（２−ピ
ペリジル−α−sec−ブチルベンゼンメタンイミド）チ
タニウムジクロライド、ビス[２−ピペリジル−α−
（２，４，６−トリメチルフェニル）ベンゼンメタンイ
ミド]チタニウムジクロライド

【００３１】ビス[１−ピペリジル−α−メチル−（２
−ナフタレン）メタンイミド]チタニウムジクロライ
ド、ビス[１−ピペリジル−α−フェニル−（２−ナフ
タレン）メタンイミド]チタニウムジクロライド、ビス
[１−ピペリジル−α−イソプロピル−（２−ナフタレ
ン）メタンイミド]チタニウムジクロライド、ビス[１−
ピペリジル−α−tert−ブチル−（２−ナフタレン）メ
タンイミド]チタニウムジクロライド、ビス[１−ピペリ
ジル−α−sec−ブチル−（２−ナフタレン）メタンイ
ミド]チタニウムジクロライド、ビス[１−ピペリジル−
α−（２，４，６−トリメチルフェニル）−（２−ナフ
タレン）メタンイミド]チタニウムジクロライド

【００３２】２−ピペリジル−α−メチルベンゼンメタ
ンイミドチタニウムトリクロライド、２−ピペリジル−
α−フェニルベンゼンメタンイミドチタニウムトリクロ
ライド、２−ピペリジル−α−イソプロピルベンゼンメ
タンイミドチタニウムトリクロライド、２−ピペリジル
−α−tert−ブチルベンゼンメタンイミドチタニウムト
リクロライド、２−ピペリジル−α−sec−ブチルベン
ゼンメタンイミドチタニウムトリクロライド、２−ピペ
リジル−α−（２，４，６−トリメチルフェニル）ベン
ゼンメタンイミドチタニウムトリクロライド

【００３３】１−ピペリジル−α−メチル−（２−ナフ
タレン）メタンイミドチタニウムトリクロライド、１−
ピペリジル−α−フェニル−（２−ナフタレン）メタン
イミドチタニウムトリクロライド、１−ピペリジル−α
−イソプロピル−（２−ナフタレン）メタンイミドチタ
ニウムトリクロライド、１−ピペリジル−α−tert−ブ
チル−（２−ナフタレン）メタンイミドチタニウムトリ
クロライド、１−ピペリジル−α−sec−ブチル−（２
−ナフタレン）メタンイミドチタニウムトリクロライ
ド、１−ピペリジル−α−（２，４，６−トリメチルフ
ェニル）−（２−ナフタレン）メタンイミドチタニウム
トリクロライド

【００３４】などが例示され、これらの化合物のホスフ
ィノを砒素に変換した化合物、（１−ジフェニルホスフ
ィノ−α−メチル−２−ナフタレンメタンイミド）を
（２−ジフェニルホスフィノ−α−メチル−１−ナフタ
レンメタンイミド）に変換した化合物、[１−ジ（シク
ロヘキシル）ホスフィノ−α−メチル−２−ナフタレン
メタンイミド]を[２−ジ（シクロヘキシル）ホスフィノ
−α−メチル−１−ナフタレンメタンイミド]に変換し
た化合物、[１−ジ（tert−ブチル）ホスフィノ−α−
メチル−２−ナフタレンメタンイミド]を[２−ジ（tert
−ブチル）ホスフィノ−α−メチル−１−ナフタレンメ
タンイミド]に変換した化合物、チタニウムをジルコニ
ウム、ハフニウムに変換した化合物、ジクロリドをジブ
ロミド、ジアイドダイド、ジメトキシド、ジイソプロポ
キシド、ジブトキシド、ビスジメチルアミド、ビスジエ
チルアミド、ジメチル、ビストリメチルシリルメチルに
変換した化合物などが同様に挙げられる。

【００３５】かかる遷移金属錯体は、例えば一般式
（２） （Ａ、Ｂ、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶およびＲ⁷は
それぞれ前記と同じ意味を表わす。）で示される置換ベ
ンゼンと一般式（３） （式中、Ｍ、ｍ、Ｘ¹、Ｘ²はそれぞれ前記と同じ意味を
表わし、Ｘ³は水素原子、ハロゲン原子、置換されてい
てもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、置換されて
いてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、置換さ
れていてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、置換
されていてもよい炭素原子数１〜２０の置換シリル基、
置換されていてもよい炭素原子数１〜２０のアルコキシ
基、置換されていてもよい炭素原子数１〜２０のアラル
キルオキシ基、置換されていてもよい炭素原子数１〜２
０のアリールオキシ基または炭素原子数２〜２０の２置
換アミノ基を示し、ｌは１または２を示し、ｌとｍの和
は２または３である。）で示される遷移金属化合物を反
応させることにより製造することができる。

【００３６】一般式（２）で示される置換ベンゼンと一
般式（３）で示される遷移金属化合物との反応は、塩基
の存在下において好ましく実施される。反応の方法は特
に限定されないが、一般式（２）で示される置換ベンゼ
ンに塩基を反応させた後、一般式（３）で示される遷移
金属錯体を反応させることにより好ましく実施される。
かかる塩基としては、リチウムジイソプロピルアミド、
リチウムヘキサメチルジシラジド、ナトリウムヘキサメ
チルジシラジド、カリウムヘキサメチルジシラジド、ナ
トリウムヒドリド、カリウムヒドリドなどの求核力の弱
い強塩基が挙げられる。

【００３７】一般式（２）で示される置換ベンゼンとし
ては、例えば、２−ジフェニルホスフィノ−α−メチル
ベンゼンメタンイミン、２−ジフェニルホスフィノ−α
−フェニルベンゼンメタンイミン、２−ジフェニルホス
フィノ−α−イソプロピルベンゼンメタンイミン、２−
ジフェニルホスフィノ−α−tert−ブチルベンゼンメタ
ンイミン、２−ジフェニルホスフィノ−α−sec−ブチ
ルベンゼンメタンイミン、２−ジフェニルホスフィノ−
α−（２，４，６−トリメチルフェニル）ベンゼンメタ
ンイミン

【００３８】２−ジシクロヘキシルホスフィノ−α−メ
チルベンゼンメタンイミン、２−ジシクロヘキシルホス
フィノ−α−フェニルベンゼンメタンイミン、２−ジシ
クロヘキシルホスフィノ−α−イソプロピルベンゼンメ
タンイミン、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−α−te
rt−ブチルベンゼンメタンイミン、２−ジシクロヘキシ
ルホスフィノ−α−sec−ブチルベンゼンメタンイミ
ン、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−α−（２，４，
６−トリメチルフェニル）ベンゼンメタンイミン

【００３９】２−ジ（tert―ブチル）ホスフィノ−α−
メチルベンゼンメタンイミン、２−ジ（tert―ブチル）
ホスフィノ−α−フェニルベンゼンメタンイミン、２−
ジ（tert―ブチル）ホスフィノ−α−イソプロピルベン
ゼンメタンイミン、２−ジ（tert―ブチル）ホスフィノ
−α−tert−ブチルベンゼンメタンイミン、２−ジ（te
rt―ブチル）ホスフィノ−α−sec−ブチルベンゼンメ
タンイミン、２−ジ（tert―ブチル）ホスフィノ−α−
（２，４，６−トリメチルフェニル）ベンゼンメタンイ
ミン

【００４０】（１−ジフェニルホスフィノ−α−メチル
−２−ナフタレン）メタンイミン、（１−ジフェニルホ
スフィノ−α−フェニル−２−ナフタレン）メタンイミ
ン、（１−ジフェニルホスフィノ−α−イソプロピル−
２−ナフタレン）メタンイミン、（１−ジフェニルホス
フィノ−α−tert−ブチル−２−ナフタレン）メタンイ
ミン、（１−ジフェニルホスフィノ−α−sec−ブチル
−２−ナフタレン）メタンイミドン、[１−ジフェニル
ホスフィノ−α−（２，４，６−トリメチルフェニル）
−２−ナフタレン]メタンイミン

【００４１】（１−ジシクロヘキシルホスフィノ−α−
メチル−２−ナフタレン）メタンイミン、（１−ジシク
ロヘキシルホスフィノ−α−フェニル−２−ナフタレ
ン）メタンイミン、（１−ジシクロヘキシルホスフィノ
−α−イソプロピル−２−ナフタレン）メタンイミン、
（１−ジシクロヘキシルホスフィノ−α−tert−ブチル
−２−ナフタレン）メタンイミン、（１−ジシクロヘキ
シルホスフィノ−α−sec−ブチル−２−ナフタレン）
メタンイミン、[１−ジシクロヘキシルホスフィノ−α
−（２，４，６−トリメチルフェニル）−２−ナフタレ
ン]メタンイミン

【００４２】[１−ジ（tert―ブチル）ホスフィノ−α
−メチル−２−ナフタレン]メタンイミン、[１−ジ（te
rt―ブチル）ホスフィノ−α−フェニル−２−ナフタレ
ン]メタンイミン、[１−ジ（tert―ブチル）ホスフィノ
−α−イソプロピル−２−ナフタレン]メタンイミン、
[１−ジ（tert―ブチル）ホスフィノ−α−tert−ブチ
ル−２−ナフタレン]メタンイミン、[１−ジ（tert―ブ
チル）ホスフィノ−α−sec−ブチル−２−ナフタレン]
メタンイミン、[１−ジ（tert―ブチル）ホスフィノ−
α−（２，４，６−トリメチルフェニル）−２−ナフタ
レン]メタンイミン

【００４３】２−ピロリジル−α−メチルベンゼンメタ
ンイミン、２−ピロリジル−α−フェニルベンゼンメタ
ンイミン、２−ピロリジル−α−イソプロピルベンゼン
メタンイミン、２−ピロリジル−α−tert−ブチルベン
ゼンメタンイミン、２−ピロリジル−α−sec−ブチル
ベンゼンメタンイミン、２−ピロリジル−α−（２，
４，６−トリメチルフェニル）ベンゼンメタンイミン

【００４４】（１−ピロリジル−α−メチル−２−ナフ
タレン）メタンイミン、（１−ピロリジル−α−フェニ
ル−２−ナフタレン）メタンイミン、（１−ピロリジル
−α−イソプロピル−２−ナフタレン）メタンイミン、
（１−ピロリジル−α−tert−ブチル−２−ナフタレ
ン）メタンイミン、（１−ピロリジル−α−sec−ブチ
ル−２−ナフタレン）メタンイミドン、[１−ピロリジ
ル−α−（２，４，６−トリメチルフェニル）−２−ナ
フタレン]メタンイミンなどが例示される。

【００４５】置換基Ｘ³として示されるハロゲン原子、
置換されていてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル
基、置換されていてもよい炭素原子数７〜２０のアラル
キル基、置換されていてもよい炭素原子数６〜２０のア
リール基、置換されていてもよい炭素原子数１〜２０の
置換シリル基、置換されていてもよい炭素原子数１〜２
０のアルコキシ基、置換されていてもよい炭素原子数１
〜２０のアラルキルオキシ基、置換されていてもよい炭
素原子数１〜２０のアリールオキシ基、炭素原子数２〜
２０の２置換アミノ基としては、一般式（１）で示され
る遷移金属錯体において置換基Ｘ¹ 、Ｘ²として前記し
たと同様のものがそれぞれ挙げられる。

【００４６】一般式（３）で示される遷移金属化合物と
しては、例えば、四塩化チタン、四臭化チタン、四ヨウ
化チタンなどのハロゲン化チタン、テトラキス（ジメチ
ルアミノ）チタン、ジクロロビス（ジメチルアミノ）チ
タン、トリクロロ（ジメチルアミノ）チタニウム、テト
ラキス（ジエチルアミノ）チタンなどのアミドチタン、
テトライソプロポキシチタン、テトラ−ｎ−ブトキシチ
タン、ジクロロジイソプロポキシチタン、トリクロロイ
ソプロポキシチタンなどのアルコキシチタン、テトラキ
ス（ベンジル）チタン、ジクロロビス（ベンジル）チタ
ンなどのアルキルチタンおよび上記各化合物のチタンを
ジルコニウム、ハフニウムに変更した化合物などが挙げ
られ、その使用量は一般式（２）で示される置換ベンゼ
ンに対して通常０．５〜３モル倍、好ましくは０．７〜
１．５モル倍程度の範囲である。

【００４７】反応は通常、反応に対して不活性な溶媒中
で行われる。かかる溶媒としては、例えばベンゼン、ト
ルエンなどの芳香族炭化水素系溶媒、ヘキサン、ヘプタ
ンなどの脂肪族炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、テ
トラヒドロフラン、１，４−ジオキサンなどのエーテル
系溶媒、ヘキサメチルホスホリックアミド、ジメチルホ
ルムアミドなどのアミド系溶媒、アセトニトリル、プロ
ピオニトリル、アセトン、ジエチルケトン、メチルイソ
ブチルケトン、シクロヘキサノンなどの極性溶媒、ジク
ロロメタン、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロ
ロベンゼンなどのハロゲン系溶媒といった非プロトン性
溶媒などが挙げられる。かかる溶媒はそれぞれ単独もし
くは２種以上を混合して用いられ、その使用量は一般式
（２）で示される置換ベンゼンに対して通常１〜２００
重量倍、好ましくは３〜５０重量倍の範囲である。

【００４８】上記反応は通常、溶媒に一般式（２）で示
される置換ベンゼンおよび塩基を加えたのち一般式
（３）で示される遷移金属化合物を加えることによって
行うことができる。一般式（２）で示される置換ベンゼ
ンおよび塩基を加えた後に固体が析出することがある
が、この場合には、反応系から取り出した該固体を前記
と同様の溶媒に加え、次いで一般式（３）で示される遷
移金属化合物を加えてもよい。また、溶媒に一般式
（２）で示される置換ベンゼン、一般式（３）で示され
る遷移金属化合物を同時に加えてもよい。反応温度は通
常−１００℃以上溶媒の沸点以下、好ましくは−８０〜
１００℃の範囲である。反応系は遮光されていることが
得られる一般式（１）で示される遷移金属錯体の収率の
点で好ましい。

【００４９】得られた反応混合物から通常の方法、例え
ば生成した沈殿を濾別後、濾液を濃縮して一般式（１）
で示される遷移金属錯体を析出させたのち、これを濾取
する方法などによって目的の一般式（１）で示される遷
移金属錯体を得ることができる。

【００５０】かくして製造される一般式（１）で示され
る遷移金属錯体は、化合物（Ａ）、あるいはさらに化合
物（Ｂ）を、重合時に任意の順序で投入し使用すること
ができるが、またそれらの任意の化合物の組合せを予め
接触させて得られた反応物を用いることもできる。

【００５１】〔化合物（Ａ）〕本発明において用いられ
る化合物（Ａ）としては、公知の有機アルミニウム化合
物が使用できる。好ましくは、下記化合物（Ａ１）〜
（Ａ３）のいずれか、あるいはそれらの２〜３種の混合
物が挙げられる。 （Ａ１）： 一般式 Ｅ1 a Ａｌ（Ｚ）3-a で示される
有機アルミニウム化合物 （Ａ２）: 一般式 ｛−Ａｌ（Ｅ2 ）−Ｏ−｝b で示
される構造を有する環状のアルミノキサン （Ａ３）： 一般式 Ｅ3 ｛−Ａｌ（Ｅ3 ）−Ｏ−｝c
Ａｌ（Ｅ3） 2 で示される構造を有する線状のアルミノ
キサン （式中、Ｅ1 〜Ｅ3 は同一または相異なり、炭素原子数
１〜８の炭化水素基であり、Ｚは同一または相異なり、
水素原子またはハロゲン原子を表し、ａは１、２または
３で、ｂは２以上の整数を、ｃは１以上の整数を表
す。）

【００５２】一般式 Ｅ1 a ＡｌＺ3-a で示される有機
アルミニウム化合物（Ａ１）の具体例としては、トリメ
チルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリプロ
ピルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリ
ヘキシルアルミニウム等のトリアルキルアルミニウム；
ジメチルアルミニウムクロライド、ジエチルアルミニウ
ムクロライド、ジプロピルアルミニウムクロライド、ジ
イソブチルアルミニウムクロライド、ジヘキシルアルミ
ニウムクロライド等のジアルキルアルミニウムクロライ
ド；メチルアルミニウムジクロライド、エチルアルミニ
ウムジクロライド、プロピルアルミニウムジクロライ
ド、イソブチルアルミニウムジクロライド、ヘキシルア
ルミニウムジクロライド等のアルキルアルミニウムジク
ロライド；ジメチルアルミニウムハイドライド、ジエチ
ルアルミニウムハイドライド、ジプロピルアルミニウム
ハイドライド、ジイソブチルアルミニウムハイドライ
ド、ジヘキシルアルミニウムハイドライド等のジアルキ
ルアルミニウムハイドライド等を例示することができ
る。好ましくは、トリアルキルアルミニウムであり、よ
り好ましくは、トリエチルアルミニウム、トリイソブチ
ルアルミニウムが挙げられる。

【００５３】一般式 ｛−Ａｌ（Ｅ2 ）−Ｏ−｝b で示
される構造を有する環状のアルミノキサン（Ａ２）、一
般式 Ｅ3 ｛−Ａｌ（Ｅ3 ）−Ｏ−｝c Ａｌ（Ｅ3） 2
で示される構造を有する線状のアルミノキサン（Ａ３）
における、Ｅ2 、Ｅ3 の具体例としては、メチル基、エ
チル基、ノルマルプロピル基、イソプロピル基、ノルマ
ルブチル基、イソブチル基、ノルマルペンチル基、ネオ
ペンチル基等のアルキル基を例示することができる。ｂ
は２以上の整数であり、ｃは１以上の整数である。好ま
しくは、Ｅ2 及びＥ3 はメチル基、イソブチル基であ
り、ｂは２〜４０、ｃは１〜４０の整数である。

【００５４】上記のアルミノキサンは各種の方法で作ら
れる。その方法については特に制限はなく、公知の方法
に準じて作ればよい。例えば、トリアルキルアルミニウ
ム（例えば、トリメチルアルミニウムなど）を適当な有
機溶剤（ベンゼン、脂肪族炭化水素など）に溶かした溶
液を水と接触させて作る。また、トリアルキルアルミニ
ウム（例えば、トリメチルアルミニウムなど）を結晶水
を含んでいる金属塩（例えば、硫酸銅水和物など）に接
触させて作る方法が例示できる。

【００５５】〔化合物Ｂ〕本発明において化合物（Ｂ）
としては、（Ｂ１）一般式ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 で示されるホ
ウ素化合物、（Ｂ２）一般式Ｚ+ （ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 Ｑ4
）- で示されるホウ素化合物、（Ｂ３）一般式（Ｌ−
Ｈ）+ （ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 Ｑ4 ）- で示されるホウ素化合
物のいずれか、あるいはそれらの２〜３種の混合物を用
いる。

【００５６】一般式 ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 で示されるホウ素
化合物（Ｂ１）において、Ｂは３価の原子価状態のホウ
素原子であり、Ｑ1 〜Ｑ3 はハロゲン原子、１〜２０個
の炭素原子を含む炭化水素基、１〜２０個の 炭素原子
を含むハロゲン化炭化水素基、１〜２０個の炭素原子を
含む置換シリル基、１〜２０個の炭素原子を含むアルコ
キシ基または２〜２０個の炭素原子を含む２置換アミノ
基であり、それらは同じであっても異なっていても良
い。好ましいＱ1 〜Ｑ3 はハロゲン原子、１〜２０個の
炭素原子を含む炭化水素基、１〜２０個の炭素原子を含
むハロゲン化炭化水素基である。

【００５７】（Ｂ１）の具体例としては、トリス（ペン
タフルオロフェニル）ボラン、トリス（２，３，５，６
−テトラフルオロフェニル）ボラン、トリス（２，３，
４，５−テトラフルオロフェニル）ボラン、トリス
（３，４，５−トリフルオロフェニル）ボラン、トリス
（２，３，４−トリフルオロフェニル）ボラン、フェニ
ルビス（ペンタフルオロフェニル）ボラン等が挙げられ
るが、好ましくは、トリス（ペンタフルオロフェニル）
ボランである。

【００５８】一般式Ｚ+ （ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 Ｑ4 ）- で示
されるホウ素化合物（Ｂ２）において、Ｚ+ は無機また
は有機のカチオンであり、Ｂは３価の原子価状態のホウ
素原子であり、Ｑ1 〜Ｑ4 は上記の（Ｂ１）におけるＱ
1 〜Ｑ3 と同様のものが挙げられるる。

【００５９】一般式 Ｚ+ （ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 Ｑ4 ）- で
示される化合物の具体例としては、無機のカチオンであ
るＺ+ には、フェロセニウムカチオン、アルキル置換フ
ェロセニウムカチオン、銀陽イオンなどが、有機のカチ
オンであるＺ+ には、トリフェニルメチルカチオンなど
が挙げられる。（ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 Ｑ4 ）- には、テトラ
キス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、テトラキス
（２，３，５，６−テトラフルオロフェニル）ボレー
ト、テトラキス（２，３，４，５−テトラフルオロフェ
ニル）ボレート、テトラキス（３，４，５−トリフルオ
ロフェニル）ボレート、テトラキス（２，２，４ートリ
フルオロフェニル）ボレート、フェニルビス（ペンタフ
ルオロフェニル）ボレ−ト、テトラキス（３，５−ビス
トリフルオロメチルフェニル）ボレートなどが挙げられ
る。

【００６０】これらの具体的な組み合わせとしては、フ
ェロセニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボ
レート、１，１'−ジメチルフェロセニウムテトラキス
（ペンタフルオロフェニル）ボレート、銀テトラキス
（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリフェニルメ
チルテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、
トリフェニルメチルテトラキス（３，５−ビストリフル
オロメチルフェニル）ボレートなどを挙げることができ
るが、好ましくは、トリフェニルメチルテトラキス（ペ
ンタフルオロフェニル）ボレートが挙げられる。

【００６１】また、一般式（Ｌ−Ｈ）+ （ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ
3 Ｑ4 ）- で示されるホウ素化合物（Ｂ３）において
は、Ｌは中性ルイス塩基であり、（Ｌ−Ｈ）+ はブレン
ステッド酸であり、Ｂは３価の原子価状態のホウ素原子
であり、Ｑ1 〜Ｑ4 は上記の（Ｂ１）におけるＱ1 〜Ｑ
3 と同様である。

【００６２】一般式（Ｌ−Ｈ）+ （ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 Ｑ4
）- で示される化合物の具体例としては、ブレンステ
ッド酸である（Ｌ−Ｈ）+ には、トリアルキル置換アン
モニウム、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアニリニウム、ジアルキ
ルアンモニウム、トリアリールホスホニウムなどが挙げ
られ、（ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 Ｑ4 ）- には、前述と同様のも
のが挙げられる。

【００６３】これらの具体的な組み合わせとしては、ト
リエチルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェ
ニル）ボレート、トリプロピルアンモニウムテトラキス
（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリ（ノルマル
ブチル）アンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェ
ニル）ボレート、トリ（ノルマルブチル）アンモニウム
テトラキス（３，５−ビストリフルオロメチルフェニ
ル）ボレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウムテトラキ
ス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ−ジエ
チルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニ
ル）ボレート、Ｎ，Ｎ−２，４，６−ペンタメチルアニ
リニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレー
ト、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウムテトラキス（３，５
−ビストリフルオロメチルフェニル）ボレート、ジイソ
プロピルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェ
ニル）ボレート、ジシクロヘキシルアンモニウムテトラ
キス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリフェニ
ルホスホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）
ボレート、トリ（メチルフェニル）ホスホニウムテトラ
キス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリ（ジメ
チルフェニル）ホスホニウムテトラキス（ペンタフルオ
ロフェニル）ボレートなどを挙げることができるが、好
ましくは、トリ（ノルマルブチル）アンモニウムテトラ
キス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニ
ル）ボレート等が挙げられる。

【００６４】各触媒成分の使用量は、化合物（Ａ）／遷
移金属錯体のモル比が０．１〜１００００で、好ましく
は５〜２０００、化合物（Ｂ）／遷移金属錯体のモル比
が０．０１〜１００で、好ましくは０．５〜１０の範囲
にあるように、各成分を用いることが望ましい。各触媒
成分を溶液状態で使う場合の濃度については、一般式
（１）で示される遷移金属錯体が、０．０００１〜５ミ
リモル／リットルで、好ましくは、０．００１〜１ミリ
モル／リットル、化合物（Ａ）が、Ａｌ原子換算で、
０．０１〜５００ミリモル／リットルで、好ましくは、
０．１〜１００ミリモル／リットル、化合物（Ｂ）は、
０．０００１〜５ミリモル／リットルで、好ましくは、
０．００１〜１ミリモル／リットルの範囲にあるよう
に、各成分を用いることが望ましい。

【００６５】本発明において、重合に使用するモノマー
は、炭素原子数２〜２０個からなるオレフィン、ジオレ
フィン等のいずれをも用いることができ、同時に２種類
以上のモノマーを用いることもできる。かかるモノマー
を以下に例示するが、本発明は下記化合物に限定される
ものではない。かかるオレフィンの具体例としては、エ
チレン、プロピレン、ブテン−１、ペンテン−１、ヘキ
セン−１、ヘプテン−１、オクテン−１、ノネン−１、
デセン−１、５−メチル−２−ペンテン−１、ビニルシ
クロヘキセン等が例示される。ジオレフィン化合物とし
ては、炭化水素化合物の共役ジエン、非共役ジエンが挙
げられ、かかる化合物の具体例としては、非共役ジエン
化合物の具体例として、１，５−ヘキサジエン、１，４
−ヘキサジエン、１，４−ペンタジエン、１，７−オク
タジエン、１，８−ノナジエン、１，９−デカジエン、
４−メチル−１，４−ヘキサジエン、５−メチル−１，
４−ヘキサジエン、７−メチル−１，６−オクタジエ
ン、５−エチリデン−２−ノルボルネン、ジベンゼン、
５−ビニル−２−ノルボルネン、５−メチル−２−ノル
ボルネン、ノルボルナジエン、５−メチレン−２−ノル
ボルネン、１，５−シクロオクタジエン、５，８−エン
ドメチレンヘキサヒドロナフタレン等が例示され、共役
ジエン化合物の具体例としては、１，３−ブタジエン、
イソプレン、１，３−ヘキサジエン、１，３−オクタジ
エン、１，３−シクロオクタジエン、１，３−シクロヘ
キサジエン等を例示することができる。共重合体を構成
するモノマーの具体例としては、エチレンとプロピレ
ン、エチレンとブテン−１、エチレンとヘキセン−１、
プロピレンとブテン−１等、およびそれらにさらに５−
エチリデン−２−ノルボルネンを使用する組み合わせ等
が例示されるが、本発明は、上記化合物に限定されるも
のではない。

【００６６】本発明では、モノマーとして芳香族ビニル
化合物も用いることができる。芳香族ビニル化合物の具
体例としては、スチレン、ｏ−メチルスチレン、ｍ−メ
チルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ｏ，ｐ−ジメチル
スチレン、ｏ−エチルスチレン、ｍ−エチルスチレン、
ｐ−エチルスチレン、ｏ−クロロスチレン、ｐ−クロロ
スチレン、α−メチルスチレン、ジビニルベンゼン等が
挙げられる。

【００６７】重合方法も、特に限定されるべきものでは
ないが、例えば、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタ
ン、オクタン等の脂肪族炭化水素、ベンゼン、トルエン
等の芳香族炭化水素、又はメチレンジクロライド等のハ
ロゲン化炭化水素を溶媒として用いる溶媒重合、又はス
ラリー重合、ガス状のモノマー中での気相重合等が可能
であり、また、連続重合、回分式重合のどちらでも可能
である。

【００６８】重合温度は、−５０℃〜２００℃の範囲を
取り得るが、特に、−２０℃〜１００℃程度の範囲が好
ましく、重合圧力は、常圧〜６ＭＰａ（６０ｋｇ／ｃｍ
２ Ｇ）が好ましい。重合時間は、一般的に、目的とす
るポリマーの種類、反応装置により適宜決定されるが、
１分間〜２０時間の範囲を取ることができる。また、本
発明は共重合体の分子量を調節するために水素等の連鎖
移動剤を添加することもできる。

【００６９】

【発明の効果】本発明により得られる遷移金属錯体を、
触媒成分として用いることにより、優れた触媒活性で高
分子量のポリオレフィンを製造することができる。

【００７０】

【実施例】以下、実施例により、本発明をさらに詳細に
説明するが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。 （実施例1） ２−ジフェニルホスフィノ−α−tert−ブチルベンゼン
メタンイミンの合成 ２−ジフェニルホスフィノ−シアノベンゼン（０．７１
８g、２．５０mmol）のテトラヒドロフラン溶液（１
２．１mL）に、−７８℃にてtert―ブチルリチウム１．
５０Mエーテル溶液（１．６７ｍL）を滴下し、室温まで
昇温し１時間攪拌した。反応混合液にトルエン（２０m
L）と飽和塩化アンモニウム水溶液（２０mL）を加え
て、有機層と水層を分離した。有機層を硫酸ナトリウム
で乾燥した後、溶媒を留去することで、２−ジフェニル
ホスフィノ−α−tert−ブチルベンゼンメタンイミンを
定量的に得た。¹ H NMR(C₆D₆) δ=１．４４（９H）、６．８１−７．６
９（１４H）、９．２０（１H）

【００７１】（実施例2） ビス（２−ジフェニルフォスフィノ−α−tert−ブチル
ベンゼンメタンイミド）ジルコニウムジクロライドの合
成 ２−ジフェニルホスフィノ−シアノベンゼン（０．７１
８g、２．５０mmol）のテトラヒドロフラン溶液（１
２．１mL）に、−７８℃にてtert―ブチルリチウム１．
５０Mエーテル溶液（１．６７ｍL）を滴下し、室温まで
昇温し１時間攪拌した。反応混合液を、−７８℃にて、
四塩化ジルコニウムテトラヒドロフラン（１：２）錯体
（０．４７２g、１．２５mmol）のテトラヒドロフラン
溶液（１２．１mL）に滴下し、室温で２０時間攪拌し
た。溶媒を減圧留去後、トルエン（２０．０mL）を加
え、不溶物を濾別した濾液を減圧蒸留することにより、
ビス（２−ジフェニルフォスフィノ−α−tert−ブチル
ベンゼンメタンイミド）ジルコニウムジクロライド（３
６０mg、３４．０%）を得た。¹ H NMR(C₆D₆) δ=１．４７（９H）、６．８１−８．０
１（１４H）

【００７２】（実施例3） ビス（２−ジフェニルフォスフィノ−α−tert−ブチル
ベンゼンメタンイミド）ハフニウムジクロライドの合成 ２−ジフェニルホスフィノ−シアノベンゼン（０．７１
８g、２．５０mmol）のテトラヒドロフラン溶液（１
２．１mL）に、−７８℃にてtert―ブチルリチウム１．
５０Mエーテル溶液（１．６７ｍL）を滴下し、室温まで
昇温し１時間攪拌した。反応混合液を、−７８℃にて、
四塩化ハフニウムテトラヒドロフラン（１：２）錯体
（０．５７８g、１．２５mmol）のテトラヒドロフラン
溶液（１２．１mL）に滴下し、室温で２０時間攪拌し
た。溶媒を減圧留去後、トルエン（２０．０mL）を加
え、不溶物を濾別した濾液を減圧蒸留することにより、
ビス（２−ジフェニルフォスフィノ−α−tert−ブチル
ベンゼンメタンイミド）ハフニウムジクロライド（３３
０mg、２８．２%）を得た。¹ H NMR(C₆D₆) δ=１．４８（９H）、６．６９−８．４
２（１４H）

【００７３】（実施例4）オートクレーブに窒素下で、
トルエン５．０mLを仕込み、４０℃で安定させた後、エ
チレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。ここ
に、メチルアルミノキサン（１００μmol）、ビス（２
−ジフェニルフォスフィノ−α−tert−ブチルベンゼン
メタンイミド）ジルコニウムジクロライド（０．１０μ
mol）を加え、３０分間重合した。重合の結果、ポリマ
ーをジルコニウム１mol当たり、1時間当たり、５．００
×１０⁵ｇ製造した。

【００７４】（実施例5）メチルアルミノキサンの代わ
りに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４
０μL、１．０Ｍ、関東化学）、ペンタフルオロフェニ
ルボラン（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例３
と同様に重合を行った。重合の結果、ポリマーをジルコ
ニウム１mol当たり、1時間当たり、２．００×１０⁵ｇ
製造した。

【００７５】（実施例6）メチルアルミノキサンの代わ
りに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４
０μL、１．０Ｍ、関東化学）、ジメチルアニリニウム
テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．
３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例３と同様に重合を
行った。重合の結果、ポリマーをジルコニウム１mol当
たり、1時間当たり、９．００×１０⁵ｇ製造した。

【００７６】（実施例7）メチルアルミノキサンの代わ
りに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４
０μL、１．０Ｍ、関東化学）、トリフェニルメチルテ
トラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．３
０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例３と同様に重合を行
った。重合の結果、ポリマーをジルコニウム１mol当た
り、1時間当たり、１．１０×１０⁶ｇ製造した。

【００７７】（実施例8）オートクレーブに窒素下で、
トルエン５．０mL、1−ヘキセン（０．５０μL）を仕込
み、４０℃で安定させた後、エチレンを０．６０ＭＰａ
まで加圧し安定させた。ここに、メチルアルミノキサン
（１００μmol）、ビス（２−ジフェニルフォスフィノ
−α−tert−ブチルベンゼンメタンイミド）ジルコニウ
ムジクロライド（０．１０μmol）を加え、３０分間重
合した。重合の結果、ポリマーをジルコニウム１mol当
たり、1時間当たり、３．００×１０⁵ｇ製造した。

【００７８】（実施例9）メチルアルミノキサンの代わ
りに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４
０μL、１．０Ｍ、関東化学）、ペンタフルオロフェニ
ルボラン（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例７
と同様に重合を行った。重合の結果、ポリマーをジルコ
ニウム１mol当たり、1時間当たり、２．００×１０⁵ｇ
製造した。

【００７９】（実施例10）メチルアルミノキサンの代わ
りに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４
０μL、１．０Ｍ、関東化学）、ジメチルアニリニウム
テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．
３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例７と同様に重合を
行った。重合の結果、ポリマーをジルコニウム１mol当
たり、1時間当たり、５．００×１０⁵ｇ製造した。

【００８０】（実施例11）メチルアルミノキサンの代わ
りに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４
０μL、１．０Ｍ、関東化学）、トリフェニルメチルテ
トラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．３
０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例７と同様に重合を行
った。重合の結果、ポリマーをジルコニウム１mol当た
り、1時間当たり、６．００×１０⁵ｇ製造した。

【００８１】（実施例12）オートクレーブに窒素下で、
トルエン５．０mLを仕込み、４０℃で安定させた後、エ
チレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。ここ
に、メチルアルミノキサン（１００μmol）、ビス（２
−ジフェニルフォスフィノ−α−tert−ブチルベンゼン
メタンイミド）ハフニウムジクロライド（０．１０μmo
l）を加え、３０分間重合した。重合の結果、ポリマー
をハフニウム１mol当たり、1時間当たり、１．００×１
０⁵ｇ製造した。

【００８２】（実施例13）メチルアルミノキサンの代わ
りに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４
０μL、１．０Ｍ、関東化学）、ペンタフルオロフェニ
ルボラン（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例１
１と同様に重合を行った。重合の結果、ポリマーをハフ
ニウム１mol当たり、1時間当たり、１．００×１０⁵ｇ
製造した。

【００８３】（実施例14）メチルアルミノキサンの代わ
りに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４
０μL、１．０Ｍ、関東化学）、ジメチルアニリニウム
テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．
３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例１１と同様に重合
を行った。重合の結果、ポリマーをハフニウム１mol当
たり、1時間当たり、１．００×１０⁵ｇ製造した。

【００８４】（実施例15）メチルアルミノキサンの代わ
りに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４
０μL、１．０Ｍ、関東化学）、トリフェニルメチルテ
トラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．３
０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例１１と同様に重合を
行った。重合の結果、ポリマーをハフニウム１mol当た
り、1時間当たり、２．００×１０⁵ｇ製造した。

【００８５】（実施例16） ビス（２−ピペリジノ−α−tert―ブチルベンゼンメタ
ンイミド）チタニウムジクロライド ２−ピペリジノシアノベンゼン（０．５０g、２．６８m
mol）のテトラヒドロフラン溶液（９．０１mL）に、−
７８℃にてtert―ブチルリチウム１．５０Mエーテル溶
液（１．７９ｍL）を滴下し、室温まで昇温し１時間攪
拌した。反応混合液を、−７８℃にて、四塩化チタニウ
ムテトラヒドロフラン（１：２）錯体（０．４５g、
１．３４mmol）のテトラヒドロフラン溶液（２．２５m
L）に滴下し、室温で２０時間攪拌した。溶媒を減圧留
去後、トルエン（２０．０mL）を加え、不溶物を濾別し
た濾液を減圧蒸留することにより、ビス（２−ピペリジ
ノ−α−tert―ブチルベンゼンメタンイミド）チタニウ
ムジクロライド（４１５mg、５１．２%）を得た。¹ H NMR(C₆D₆) δ=１．１６（１８H）、１．３４−１．
６７、２．８５（２０H）、６．３９−６．８８（８H）

【００８６】（実施例17） ビス（２−ピペリジノ−α−tert―ブチルベンゼンメタ
ンイミド）ジルコニウムジクロライド ２−ピペリジノシアノベンゼン（０．５０g、２．６８m
mol）のテトラヒドロフラン溶液（９．０１mL）に、−
７８℃にてtert―ブチルリチウム１．５０Mエーテル溶
液（１．７９ｍL）を滴下し、室温まで昇温し１時間攪
拌した。反応混合液を、−７８℃にて、四塩化ジルコニ
ウムテトラヒドロフラン（１：２）錯体（０．５１g、
１．３４mmol）のテトラヒドロフラン溶液（２．２５m
L）に滴下し、室温で２０時間攪拌した。溶媒を減圧留
去後、トルエン（２０．０mL）を加え、不溶物を濾別し
た濾液を減圧蒸留することにより、ビス（２−ピペリジ
ノ−α−tert―ブチルベンゼンメタンイミド）ジルコニ
ウムジクロライドを得た。¹ H NMR(C₆D₆) δ=１．０３（１８H）、１．１７−１．
７０、２．８２（２０H）、６．４０−７．０７（８H）

【００８７】（実施例18）オートクレーブに窒素下で、
トルエン５．０mLを仕込み、４０℃で安定させた後、エ
チレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。ここ
に、メチルアルミノキサン（１００μmol）、ビス（２
−ピペリジノ−α−tert―ブチルベンゼンメタンイミ
ド）チタニウムジクロライド（０．１０μmol）を加
え、３０分間重合した。重合の結果、ポリマーをチタニ
ウム１mol当たり、1時間当たり、４．００×１０⁵ｇ製
造した。

【００８８】（実施例19）メチルアルミノキサンの代わ
りに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４
０μL、１．０Ｍ、関東化学）、ペンタフルオロフェニ
ルボラン（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例１
７と同様に重合を行った。重合の結果、ポリマーをチタ
ニウム１mol当たり、1時間当たり、１．００×１０⁵ｇ
製造した。

【００８９】（実施例20）メチルアルミノキサンの代わ
りに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４
０μL、１．０Ｍ、関東化学）、ジメチルアニリニウム
テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．
３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例１７と同様に重合
を行った。重合の結果、ポリマーをチタニウム１mol当
たり、1時間当たり、３．００×１０⁵ｇ製造した。

【００９０】（実施例21）メチルアルミノキサンの代わ
りに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４
０μL、１．０Ｍ、関東化学）、トリフェニルメチルテ
トラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．３
０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例１７と同様に重合を
行った。重合の結果、ポリマーをチタニウム１mol当た
り、1時間当たり、３．００×１０⁵ｇ製造した。

【００９１】（実施例22）オートクレーブに窒素下で、
トルエン５．０mL、1−ヘキセン（０．５０μL）を仕込
み、４０℃で安定させた後、エチレンを０．６０ＭＰａ
まで加圧し安定させた。ここに、メチルアルミノキサン
（１００μmol）、ビス（２−ピペリジノ−α−tert―
ブチルベンゼンメタンイミド）チタニウムジクロライド
（０．１０μmol）を加え、３０分間重合した。重合の
結果、ポリマーをチタニウム１mol当たり、1時間当た
り、２．００×１０⁵ｇ製造した。

【００９２】（実施例23）メチルアルミノキサンの代わ
りに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４
０μL、１．０Ｍ、関東化学）、ペンタフルオロフェニ
ルボラン（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例２
１と同様に重合を行った。重合の結果、ポリマーをチタ
ニウム１mol当たり、1時間当たり、１．００×１０⁵ｇ
製造した。

【００９３】（実施例24）メチルアルミノキサンの代わ
りに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４
０μL、１．０Ｍ、関東化学）、ジメチルアニリニウム
テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．
３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例２１と同様に重合
を行った。重合の結果、ポリマーをチタニウム１mol当
たり、1時間当たり、１．００×１０⁵ｇ製造した。

【００９４】（実施例25）メチルアルミノキサンの代わ
りに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４
０μL、１．０Ｍ、関東化学）、トリフェニルメチルテ
トラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．３
０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例２１と同様に重合を
行った。重合の結果、ポリマーをチタニウム１mol当た
り、1時間当たり、１．００×１０⁵ｇ製造した。

【００９５】（実施例26）オートクレーブに窒素下で、
トルエン５．０mLを仕込み、４０℃で安定させた後、エ
チレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。ここ
に、メチルアルミノキサン（１００μmol）、ビス（２
−ピペリジノ−α−tert―ブチルベンゼンメタンイミ
ド）ジルコニウムジクロライド（０．１０μmol）を加
え、３０分間重合した。重合の結果、ポリマーをジルコ
ニウム１mol当たり、1時間当たり、２．００×１０⁶ｇ
製造した。

【００９６】（実施例27）メチルアルミノキサンの代わ
りに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４
０μL、１．０Ｍ、関東化学）、ペンタフルオロフェニ
ルボラン（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例２
５と同様に重合を行った。重合の結果、ポリマーをジル
コニウム１mol当たり、1時間当たり、３．００×１０⁵
ｇ製造した。

【００９７】（実施例28）メチルアルミノキサンの代わ
りに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４
０μL、１．０Ｍ、関東化学）、ジメチルアニリニウム
テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．
３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例２５と同様に重合
を行った。重合の結果、ポリマーをジルコニウム１mol
当たり、1時間当たり、５．２０×１０⁶ｇ製造した。

【００９８】（実施例29）メチルアルミノキサンの代わ
りに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４
０μL、１．０Ｍ、関東化学）、トリフェニルメチルテ
トラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．３
０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例２５と同様に重合を
行った。重合の結果、ポリマーをジルコニウム１mol当
たり、1時間当たり、５．７０×１０⁶ｇ製造した。

【００９９】（実施例30）オートクレーブに窒素下で、
トルエン５．０mL、1−ヘキセン（０．５０μL）を仕込
み、４０℃で安定させた後、エチレンを０．６０ＭＰａ
まで加圧し安定させた。ここに、メチルアルミノキサン
（１００μmol）、ビス（２−ピペリジノ−α−tert―
ブチルベンゼンメタンイミド）ジルコニウムジクロライ
ド（０．１０μmol）を加え、３０分間重合した。重合
の結果、ポリマーをジルコニウム１mol当たり、1時間当
たり、９．００×１０⁵ｇ製造した。

【０１００】（実施例31）メチルアルミノキサンの代わ
りに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４
０μL、１．０Ｍ、関東化学）、ペンタフルオロフェニ
ルボラン（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例２
９と同様に重合を行った。重合の結果、ポリマーをジル
コニウム１mol当たり、1時間当たり、２．２０×１０⁶
ｇ製造した。

【０１０１】（実施例32）メチルアルミノキサンの代わ
りに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４
０μL、１．０Ｍ、関東化学）、ジメチルアニリニウム
テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．
３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例２９と同様に重合
を行った。重合の結果、ポリマーをジルコニウム１mol
当たり、1時間当たり、３．５０×１０⁶ｇ製造した。

【０１０２】（実施例33）メチルアルミノキサンの代わ
りに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４
０μL、１．０Ｍ、関東化学）、トリフェニルメチルテ
トラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．３
０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例２９と同様に重合を
行った。重合の結果、ポリマーをジルコニウム１mol当
たり、1時間当たり、３．７０×１０⁶ｇ製造した。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4H049 VN06 VP01 VQ43 VQ91 VR32 VR52 VS12 VU13 4H050 AA01 AA02 AA03 AB40 WA29 4J128 AA01 AB00 AB01 AC01 AC03 AC08 AC22 AC26 AE05 AE06 AE13 BA00A BA01B BA02B BA03B BA04B BA05B BB00A BB00B BB01B BB02B BB03B BC12B BC13B BC15B BC16B BC17B BC25B BC27B CB65B CB87B EB01 EB02 EB04 EB05 EB07 EB08 EB09 EB12 EB13 EB14 EB16 EB18 EB21 EC01 EC02 FA01 FA02 FA04 GB01

Claims (13)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】一般式（１） （式中、Ｍは元素の周期律表の第４族の遷移金属原子を
   示し、ＡおよびＢはそれぞれ元素の周期律表の第１５族
   の原子を示し、ｎは１または２を示し、ｍは０から２の
   整数を示し、ｍとｎの和は２または３である。Ｒ¹、
   Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｘ¹ およびＸ²はそれ
   ぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、置換されていても
   よい炭素原子数１〜２０のアルキル基、置換されていて
   もよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、置換されて
   いてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、置換され
   ていてもよい炭素原子数１〜２０の置換シリル基、置換
   されていてもよい炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、
   置換されていてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル
   オキシ基、置換されていてもよい炭素原子数６〜２０の
   アリールオキシ基または炭素原子数２〜２０の２置換ア
   ミノ基を示し、Ｒ¹とＲ²および、隣接するＲ³、Ｒ⁴、Ｒ
   ⁵、Ｒ⁶は任意に結合して環を形成していてもよい。）で
   示される遷移金属錯体。
2. 【請求項２】Ａが窒素原子である請求項１に記載の遷移
   金属錯体。
3. 【請求項３】Ｂが窒素またはリン原子である請求項１ま
   たは２に記載の遷移金属錯体。
4. 【請求項４】ｎが２である請求項１から３のいずれかに
   記載の遷移金属錯体。
5. 【請求項５】ｍが１である請求項１から４のいずれかに
   記載の遷移金属錯体。
6. 【請求項６】Ｒ¹、Ｒ²およびＲ⁷が同一または相異な
   り、置換されていてもよい炭素原子数１〜２０のアルキ
   ル基、置換されていてもよい炭素原子数７〜２０のアラ
   ルキル基、または置換されていてもよい炭素原子数６〜
   ２０のアリール基である請求項１から５のいずれかに記
   載の遷移金属錯体。
7. 【請求項７】一般式（２） （Ａ、Ｂ、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶およびＲ⁷は
   それぞれ前記と同じ意味を表わす。）で示される置換ベ
   ンゼンと一般式（３） （式中、Ｍ、ｍ、Ｘ¹およびＸ²はそれぞれ前記と同じ意
   味を表わし、Ｘ³はハロゲン原子、置換されていてもよ
   い炭素原子数１〜２０のアルキル基、置換されていても
   よい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、置換されてい
   てもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、置換されて
   いてもよい炭素原子数１〜２０の置換シリル基、置換さ
   れていてもよい炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、置
   換されていてもよい炭素原子数１〜２０のアラルキルオ
   キシ基、置換されていてもよい炭素原子数１〜２０のア
   リールオキシ基または炭素原子数２〜２０の２置換アミ
   ノ基を示し、ｌは１または２を示し、ｌとｍの和は２ま
   たは３である。）で示される遷移金属化合物とを反応さ
   せることを特徴とする一般式（１）で示される遷移金属
   錯体の製造方法。
8. 【請求項８】一般式（２）で示される置換ベンゼンと、
   一般式（３）で示される遷移金属化合物との反応におい
   て、塩基を用いることを特徴とする一般式（１）で示さ
   れる遷移金属錯体の製造方法。
9. 【請求項９】一般式（２） （表の第１５族の原子を示し、Ａ、Ｂ、Ｒ¹、Ｒ²、
   Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、およびＲ⁷はそれぞれ前記と同じ
   意味を表わす。ただし、ＡおよびＢが共に窒素原子であ
   る場合には、Ｒ⁷はＣ３−Ｃ４アルキル基、トリル基ま
   たはフェネチル基ではない。）で示される置換ベンゼ
   ン。
10. 【請求項１０】Ａが窒素原子である請求項９に記載の置
    換ベンゼン。
11. 【請求項１１】請求項１〜６のいずれかに記載の遷移金
    属錯体、および下記化合物（Ａ）を組み合わせてなるこ
    とを特徴とするオレフィン重合用触媒。 （Ａ）： 下記化合物（Ａ１）〜（Ａ３）のいずれか、
    あるいはそれらの２〜３種の混合物 （Ａ１）： 一般式 Ｅ1 a Ａｌ（Ｚ）3-a で示される
    有機アルミニウム化合物 （Ａ２）: 一般式 ｛−Ａｌ（Ｅ2 ）−Ｏ−｝b で示
    される構造を有する環状のアルミノキサン （Ａ３）： 一般式 Ｅ3 ｛−Ａｌ（Ｅ3 ）−Ｏ−｝c
    Ａｌ（Ｅ3） 2 で示される構造を有する線状のアルミノ
    キサン （式中、Ｅ1 〜Ｅ3 は同一または相異なり、炭素原子数
    １〜８の炭化水素基であり、Ｚは同一または相異なり、
    水素原子またはハロゲン原子を表し、ａは１、２または
    ３で、ｂは２以上の整数を、ｃは１以上の整数を表
    す。）
12. 【請求項１２】請求項１〜６のいずれかに記載の遷移金
    属錯体、下記化合物（Ａ）および（Ｂ）を組み合わせて
    なることを特徴とするオレフィン重合用触媒。 （Ａ）： 下記化合物（Ａ１）〜（Ａ３）のいずれか、
    あるいはそれらの２〜３種の混合物 （Ａ１）： 一般式 Ｅ1 a Ａｌ（Ｚ）3-a で示される
    有機アルミニウム化合物 （Ａ２）: 一般式 ｛−Ａｌ（Ｅ2 ）−Ｏ−｝b で示
    される構造を有する環状のアルミノキサン、 （Ａ３）： 一般式 Ｅ3 ｛−Ａｌ（Ｅ3 ）−Ｏ−｝c
    Ａｌ（Ｅ3） 2 で示される構造を有する線状のアルミノ
    キサン （式中、Ｅ1 〜Ｅ3 は同一または相異なり、炭素原子数
    １〜８の炭化水素基であり、Ｚは同一または相異なり、
    水素原子またはハロゲン原子を示し、ａは１、２または
    ３で、ｂは２以上の整数を、ｃは１以上の整数を示
    す。） （Ｂ）: 下記化合物（Ｂ１）〜（Ｂ３）のいずれか、
    あるいはそれらの２〜３種の混合物 （Ｂ１）： 一般式 ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 で示されるホウ素
    化合物、 （Ｂ２）： 一般式 Ｚ+ （ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 Ｑ4 ）- で
    示されるホウ素化合物、 （Ｂ３）： 一般式（Ｌ−Ｈ）+ （ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 Ｑ4
    ）- で示されるホウ素化合物 （式中、Ｂは３価の原子価状態のホウ素原子であり、Ｑ
    1 〜Ｑ4 は同一または相異なり、ハロゲン原子、炭素原
    子数１〜２０の炭化水素基、炭素原子数１〜２０のハロ
    ゲン化炭化水素基、炭素原子数１〜２０の置換シリル
    基、炭素原子数１〜２０のアルコキシ基または炭素原子
    数２〜２０の２置換アミノ基を示す。）
13. 【請求項１３】請求項１１または１２に記載のオレフィ
    ン重合用触媒を用いることを特徴とするオレフィン重合
    体の製造方法。