JP2004158738A - 半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】強誘電体膜を有するキャパシタを被覆する絶縁膜中の水や水素による膜剥がれを防止し、また強誘電体膜の還元を防止して、キャパシタの電気的特性の向上を図る。
【解決手段】強誘電体膜14を有する素子(例えばキャパシタ16)を被覆する金属系絶縁膜(例えば酸化アルミニウム膜)17を形成する工程を備えた半導体装置の製造方法であって、金属系絶縁膜17は、酸素、窒素および酸化窒素のうちの少なくとも1種からなる添加ガスを含むアルゴンガスを用いたスパッタ法により形成されるものである。
【選択図】 図1
【解決手段】強誘電体膜14を有する素子(例えばキャパシタ16)を被覆する金属系絶縁膜(例えば酸化アルミニウム膜)17を形成する工程を備えた半導体装置の製造方法であって、金属系絶縁膜17は、酸素、窒素および酸化窒素のうちの少なくとも1種からなる添加ガスを含むアルゴンガスを用いたスパッタ法により形成されるものである。
【選択図】 図1
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体装置の製造方法に関し、詳しくは強誘電体キャパシタのような強誘電体膜を有する素子を被覆する絶縁膜を形成する工程を備えた半導体装置の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
絶縁膜上に形成されたキャパシタ上に、スパッタ法もしくはCVD法によって、例えば酸化アルミニウム膜を被覆形成した後、キャパシタの上部電極に達するコンタクトホールを開孔し、このコンタクトホールを通じて上部電極と導通させるための配線を形成する。このアルミニウム配線を形成する際に発せられる熱によって絶縁膜から水や水素が発生し、その発生した水もしくは水素がコンタクトホールから侵入して、強誘電体膜を還元するという現象が起こっていた。このことにより、キャパシタの電気的特性が劣化していた。
【0003】
次に、従来の製造方法を、図7の製造工程図によって説明する。
図7の(1)に示すように、熱酸化法によって、シリコン基板11上に酸化シリコン膜12を例えば300nmの厚さに形成する。次いで、スパッタ法によって、上記酸化シリコン膜12上に下部電極膜13を、例えば酸化チタン(TiO2 )膜131を40nmの厚さに成膜した後、イリジウム(Ir)膜132を100nmの厚さに成膜して形成する。次いで、回転塗布法によって、上記下部電極膜13上に強誘電体膜14を形成する。ここでは、SrBi2 Ta2 O9 を100nmの厚さに成膜した。このとき、強誘電体膜14の結晶化温度は酸素雰囲気中で700℃〜800℃とした。さらにスパッタ法によって、強誘電体膜14上にイリジウム(Ir)を100nmの厚さに堆積して上部電極膜15を形成する。
【0004】
その後、図7の(2)に示すように、上記上部電極膜15、強誘電体膜14、下部電極膜13を順次加工して、キャパシタ16を形成する。
【0005】
次に、図7の(3)に示すように、プロセスガスにアルゴンガスのみを用いたスパッタ法によって、上記キャパシタ16を被覆するバリア膜となる金属系絶縁膜17を、酸化アルミニウム膜を例えば50nmの厚さに堆積して形成する。さらに、スパッタ法もしくはCVD法によって、その金属系絶縁膜17上に絶縁膜18を、例えば酸化シリコンを250nmの厚さに堆積して形成する。したがって、金属系絶縁膜17と絶縁膜18とからなる層間絶縁膜19の膜厚は300nmとなる。
【0006】
その後、図7の(4)に示すように、上記層間絶縁膜19にキャパシタ16の上部電極膜15に達するコンタクトホール20を形成し、さらにコンタクトホール20を通じて上部電極膜15に接続される配線21を、例えばアルミニウム系材料で形成する。
【0007】
次に、上記図7によって説明した製造方法により製造されたキャパシタ16の電気的特性を評価した。さらに、窒素シンターを行った後の電気的特性も評価した。図8に配線21を形成した直後の電流(リーク電流)−電圧(印加電圧)特性(以下、I−V特性という)を示す。また、図9に窒素シンター直後のI−V特性を示す。なお、この窒素シンターは、400℃の窒素雰囲気中で30分行った。この結果、配線21を形成した直後と比較して、窒素シンター直後では耐圧の劣化が観察された。この耐圧劣化は、窒素シンターによって、金属系絶縁膜17や絶縁膜18中の水素や水分が要因と考えられる。
【0008】
または、強誘電体膜を有するキャパシタ上に、プロセスガスにアルゴンガスのみを用いたスパッタ法によって、例えば酸化アルミニウム膜からなるバリア膜を被覆形成した後、さらにスパッタ法もしくはCVD法によって、酸化シリコン等の酸化膜からなる絶縁膜を形成する。その後、この絶縁膜からキャパシタの上部電極膜へ通じるコンタクトホールを開孔する。その後、不活性ガス雰囲気中もしくは不活性ガスである窒素雰囲気中で、400℃の温度で熱処理を行って、酸化膜からなる絶縁膜中の水分や水素を膜の外部に放出させていた。その後、上部電極膜と導通させるための配線を、例えばアルミニウム配線で形成していた。
【0009】
この従来の製造方法を、図10の製造工程断面図によって以下に説明する。
【0010】
図10の(1)に示すように、前記図7によって説明したのと同様に、熱酸化法によって、シリコン基板11上に酸化シリコン膜12を例えば300nmの厚さに形成する。次いで、スパッタ法によって、上記酸化シリコン膜12上に下部電極膜13を、例えば酸化チタン(TiO2 )膜131を40nmの厚さに成膜した後、イリジウム(Ir)膜132を100nmの厚さに成膜して形成する。次いで、回転塗布法によって、上記下部電極膜13上に強誘電体膜14を形成する。ここでは、SrBi2 Ta2 O9 を100nmの厚さに成膜した。このとき、強誘電体膜14の結晶化温度は酸素雰囲気中で700℃〜800℃とした。さらにスパッタ法によって、強誘電体膜14上にイリジウム(Ir)を100nmの厚さに堆積して上部電極膜15を形成する。
【0011】
その後、前記図7の(2)に示すように、上記上部電極膜15、強誘電体膜14、下部電極膜13を順次加工して、キャパシタ16を形成する。
【0012】
次に、前記図7の(3)に示すように、プロセスガスにアルゴンガスのみを用いたスパッタ法によって、上記キャパシタ16を被覆する金属系絶縁膜17を、酸化アルミニウム膜を例えば50nmの厚さに堆積して形成する。さらに、スパッタ法もしくはCVD法によって、その金属系絶縁膜17上に絶縁膜18を、例えば酸化シリコンを250nmの厚さに堆積して形成する。したがって、金属系絶縁膜17と絶縁膜18とからなる層間絶縁膜19の膜厚は300nmとなる。
【0013】
その後、前記図7の(4)によって説明したのと同様に、上記層間絶縁膜19に上部電極膜15に達するコンタクトホール20を形成する。その後、400℃の窒素雰囲気中で1時間の熱処理を行う。
【0014】
次に、図10の(2)に示すように、前記図7の(4)によって説明したのと同様に、コンタクトホール20を通じて上部電極膜15に接続される配線21を、例えばアルミニウム系材料で形成する。
【0015】
上記図10によって説明した製造方法により製造されたキャパシタの電気的特性を評価した。さらに、窒素シンターを行った後の電気的特性も評価した。図11にアルミニウム配線を形成した直後のI−V特性を示す。また、図12に窒素シンター直後のI−V特性を示す。この窒素シンターは、400℃の窒素雰囲気中で30分行った。この結果、前記図7に示した製造方法よりもこの図10によって示した製造方法の方が、リーク電流が発生する電圧が高くなり、リーク電流が少なくなっていることから耐圧が良くなっていることが認められた。
【0016】
さらに、上記製造方法に対して、アルミニウム配線を形成する工程が終了した後、コンタクト特性を良化させるために、窒素シンター処理を行う。また、キャパシタを形成するプロセスにおいて劣化した、同一基板上に形成されたトランジスタの特性を回復させるためのフォーミングアニールを実施する。このシンターは窒素雰囲気で、例えば400℃程度の温度で行われる。また、フォーミングアニールは、例えば水素5%と窒素95%の雰囲気で、400℃程度の温度で行われる。なおフォーミングアニールは必ずしも行わなくてもよい。
【0017】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、アルミニウム配線を形成する際に発生する熱によって、絶縁膜から水や水素が発生し、その発生した水もしくは水素がコンタクトホールから侵入して、強誘電体膜が還元され、電気的特性が劣化するという問題があった。また、フォーミングアニール後に電気的特性が劣化するという問題があった。
【0018】
上記電気特性の劣化の要因としては、アルミニウム配線を形成した後に、窒素シンターを行うと酸化物の絶縁膜中から水や水素が発生する。もしくは、酸化物の絶縁膜から発生した水がアルミニウムと反応し、さらに多量の水素が発生する。このように発生した水や水素はコンタクトホールの開口部から、上部電極や強誘電体膜へ拡散し、これらの水や水素によって膜剥がれが発生して、電気的特性が劣化されていた。
【0019】
【課題を解決するための手段】
本発明は、上記課題を解決するためになされた半導体装置の製造方法である。
【0020】
本発明の半導体装置の製造方法は、強誘電体膜を有する素子を被覆する金属系絶縁膜を形成する工程を備えた半導体装置の製造方法であって、前記金属系絶縁膜は、酸素、窒素および酸化窒素のうちの少なくとも1種からなる添加ガスを含むアルゴンガスを用いたスパッタ法により形成される。
【0021】
上記半導体装置に製造方法では、絶縁膜を形成する金属系絶縁膜が酸素、窒素および酸化窒素のうちの少なくとも1種からなる添加ガスを含むアルゴンガスを用いたスパッタ法により形成されることから、例えば金属系絶縁膜を酸化アルミニウム膜で形成する場合には添加ガスに酸素を用いる。この場合、酸素が含まれることから、成膜される酸化アルミニウム膜の酸化が強化され、Al2 O3 膜となる。また、例えば金属系絶縁膜を窒化アルミニウム膜で形成する場合には添加ガスに窒素を用いる。この場合、窒素が含まれることから、成膜される窒化アルミニウム膜の窒化が強化され、AlN膜となる。また、酸窒化アルミニウム膜も同様に添加ガスに用いる酸素と窒素とによって酸窒化が強化される。このように金属系絶縁膜中の酸化、窒化もしくは酸窒化が強化されるので、絶縁膜中の水素や水分が強誘電体膜に侵入することが回避され、強誘電体膜が還元されることがなくなる。さらに、水分や水素が離脱した部分のダングリングボンドに酸素もしくは窒素が結合し、金属系絶縁膜がより緻密に構成されるのでより強固な金属系絶縁膜になる。これにより、外部からの水素の侵入を防ぐことができる。
【0022】
したがって、キャパシタの電気的特性の劣化、特に耐圧の劣化を防ぐことができる。また水素や水分による膜剥がれが防止され、膜の密着性が劣化することも防止される。よって、安定した強誘電体膜を有する素子を備えた半導体装置が製造されることになる。
【0023】
【発明の実施の形態】
本発明の半導体装置の製造方法によって形成される半導体装置は、強誘電体膜を有する素子、例えば強誘電体膜を挟むように上部電極および下部電極とを設けたキャパシタを有する。このキャパシタの上部、下部電極にはイリジウム(Ir)や白金(Pt)のような貴金属からなる電極を用いる。強誘電体膜を構成する強誘電体材料としては、例えばPbZrx Ti1−xO3 、PbTiO3 等の鉛系化合物、SrBi2 Ta2 O9 、Bi4 Ti3 O12等のビスマス層状化合物等を用いる。これらの強誘電体膜は、アルコキシド原料としたMOD(Metal Organic Decomposition)法、レーザアブレーション法、MOCVD(Metal Organic Chemical Vapor Deposition)法、回転塗布法、LSMCD法等により成膜することができる。成膜後は熱処理を行って結晶化させ、安定化させている。
【0024】
上記キャパシタ上には、外部から前記キャパシタへの水素の侵入を阻止する金属系絶縁膜として、酸素、窒素および酸化窒素のうちの少なくとも1種からなる添加ガスを含むアルゴンガスを用いたスパッタ法により例えば酸化アルミニウム膜が成膜されている。さらにその上に、スパッタ法もしくはCVD法によって、酸化シリコン等の酸化物の絶縁膜が形成されている。このように、積層の層間絶縁膜構造としている。上記酸化物の絶縁膜の脱水および脱水素化は熱処理によって行われている。この熱処理によって、膜間の密着性が高められ、さらに後の工程で熱処理を行っても、膜剥がれが発生しなくなり、特性劣化が無い安定したキャパシタを有する半導体装置となっている。
【0025】
次に、本発明の半導体装置の製造方法に係る第1実施の形態を、図1の製造工程図によって説明する。
【0026】
図1の(1)に示すように、熱酸化法によって、シリコン基板11上に酸化シリコン膜12を例えば300nmの厚さに形成する。次いで、スパッタ法によって、上記酸化シリコン膜12上に下部電極膜13を、例えば酸化チタン(TiO2 )膜131を40nmの厚さに成膜した後、イリジウム(Ir)膜132を100nmの厚さに成膜して形成する。次いで、回転塗布法によって、上記下部電極膜13上に強誘電体膜14を形成する。ここでは、SrBi2 Ta2 O9 を100nmの厚さに成膜した。このとき、強誘電体膜14の結晶化温度は酸素雰囲気中で700℃〜800℃とした。次いで、スパッタ法によって、強誘電体膜14上にイリジウム(Ir)を100nmの厚さに堆積して上部電極膜15を形成する。その後、上部電極膜15、強誘電体膜14、下部電極膜13を順次加工して、キャパシタ16を形成する。
【0027】
次いで、図1の(2)に示すように、スパッタ法によって、上記キャパシタ16を被覆して、上記キャパシタ16への水素の侵入を防止する金属系絶縁膜17を、例えば酸化アルミニウムを50nmの厚さに堆積して形成する。
【0028】
上記スパッタ法は、酸素、窒素および酸化窒素のうちの少なくとも1種からなる添加ガスを含むアルゴンガスを用いたスパッタ法による。例えば、上記のように酸化アルミニウム膜を形成する場合には、アルゴンに酸素を添加したガスをスパッタガスとして用いる。このとき、アルゴンガスに対する添加ガス(酸素)の混入比は、少なくとも酸素ガスが混入されていて、その最大混入量がアルゴンの流量に対して体積流量比で10%以下とする。この添加ガスは、成膜する金属系絶縁膜種によって異なる。例えば酸化系金属系絶縁膜の場合には酸素を添加し、窒化系金属系絶縁膜の場合には窒素を添加することが好ましい。なお、窒化系金属ターゲットを用い酸素を添加して酸窒化系金属系絶縁膜を形成すること、もしくは酸化系金属ターゲットを用い窒素を添加して酸窒化系金属系絶縁膜を形成することも可能である。この場合には、一酸化二窒素(N2 O)酸化窒素を用いることも可能である。
【0029】
その後、酸素雰囲気中で熱処理を行う。ここでは400℃の酸素雰囲気中で1時間の熱処理を行った。この熱処理は、100℃〜850℃の酸素雰囲気中で行う。また上記金属系絶縁膜17としては、酸化アルミニウムの他に、酸化タンタル(Ta2 O5 )、酸化ハフニウム(HfO2 )、酸化チタン(TiO2 )、酸化ジルコニウム(ZnO2 )、窒化チタン(TiN)、窒化アルミニウム(AlN)等を用いて形成することができる。
【0030】
さらに、図1の(3)に示すように、スパッタ法もしくはCVD法によって、その金属系絶縁膜17上に絶縁膜18を例えば酸化シリコンを250nmの厚さに堆積して形成する。その後、酸素雰囲気中で熱処理を行う。ここでは400℃の酸素雰囲気中で1時間の熱処理を行った。この熱処理は、100℃〜850℃の酸素雰囲気中で行う。したがって、層間絶縁膜19の膜厚は300nmとなる。
【0031】
上記各酸素雰囲気中での熱処理温度を100℃〜850℃としたのは、100℃より低いと、絶縁膜中の水分の気化が不十分となり、また850℃を越える温度で行うと、例えばCMOSトランジスタの特性に悪影響がでる恐れがある。したがって、酸素雰囲気中の熱処理は上記温度範囲とした。
【0032】
その後、図1の(4)に示すように、上記層間絶縁膜19に上部電極膜15に達するコンタクトホール20を形成し、さらにコンタクトホール20を通じて上部電極膜15に接続される配線21を、例えばアルミニウム系材料で形成する。その後、従来と同様に窒素シンターを行う。この窒素シンターは、400℃の窒素雰囲気で30分実施した。
【0033】
ここで、上記金属系絶縁膜17を形成するスパッタ法の酸素流量の範囲を決定した根拠を説明する。以下の説明における流量比は体積%で表す。図2には、酸化アルミニウム(Al2 O3 )膜の成膜をアルゴンガスのみ(Arガス=100%、酸素ガスの混入流量比=0%)で行ったスパッタ方法と、アルゴンガスに対する酸素ガスの混入を流量比で1、2、3、5、8、10%と変化させて行ったスパッタ方法とで行った場合の、酸素ガスの流量比に対する酸化アルミニウム膜の屈折率の変化を示した。屈折率の測定はウエハー内9点で行い、図2に示すように、各酸素ガスの混入比の条件毎に最大値(MAX)、平均値(AVG)、最小値(MIN)をプロットした。この結果から、屈折率は、アルゴンガスに対する酸素ガスの混入を流量比が多くなるにつれて小さくなり、酸素ガスの混入流量比が5%をこえると、屈折率の値はほぼ一定になることが分かった。また、通常のスパッタ装置では、処理室内を一定の減圧状態に保持するためにクライオポンプにより真空引きが行われている。このため、アルゴンの流量に対する酸素流量が10数%をこえると、一般に危険を伴うことがあるとされているため、ここでは10%以下としている。以上のことを踏まえて、屈折率が流量比の変化に影響を受け難いようにすることが好ましく、それには酸素ガスの混入流量比は5%以上10%以下が好ましい。
【0034】
次に、金属系絶縁膜(酸化アルミニウム膜)の屈折率と膜厚との関係について調べた。その結果を図3によって説明する。図3は、アルゴンガスのみ(Arガス=100%、酸素ガスの混入流量比=0%)を用いたスパッタ法によって、酸化アルミニウム(Al2 O3 )膜の成膜を行い、その膜厚の変化による屈折率の変化を示した。屈折率の測定はウエハー内9点で行い、各膜厚毎に最大値(MAX)、平均値(AVG)、最小値(MIN)をプロットした。この結果から、屈折率は、成膜した厚みが100〜150nm付近で最大値を示すことがわかった。この傾向は、アルゴンガスに酸素を混入したスパッタ法においても同様なる傾向であった。したがって、所望の屈折率を得たい場合には、酸化アルミニウム膜の膜厚を調整すればよいことがわかる。
【0035】
上記第1実施の形態の半導体装置の製造方法では、金属系絶縁膜17を、酸素、窒素および酸化窒素のうちの少なくとも1種からなる添加ガスを含むアルゴンガスを用いたスパッタ法により形成することから、金属系絶縁膜17中の酸化、窒化もしくは酸窒化が強化されるので、絶縁膜18中の水素や水分が強誘電体膜14に侵入することが回避され、強誘電体膜14が還元されることがなくなる。さらに、水分や水素が離脱した部分のダングリングボンドに酸素もしくは窒素が結合し、金属系絶縁膜17がより緻密に構成されるのでより強固な金属系絶縁膜17になる。これにより、外部からの水素の侵入を防ぐことができる。さらに、金属系絶縁膜17のスパッタ成膜時に酸素を用いた場合には、この酸素ガスによって強誘電体膜14へも酸素が供給される。このため、酸化物系の強誘電体膜では、酸化が強化される。
【0036】
したがって、金属系絶縁膜17によって、キャパシタ16の電気的特性の劣化、特に耐圧の劣化を防ぐことができる。また水素や水分による膜剥がれが防止され、膜の密着性が劣化することも防止される。よって、安定した強誘電体膜14を有する素子を備えた半導体装置が製造されることになる。
【0037】
また、金属系絶縁膜17および絶縁膜18を形成した後でコンタクトホール20を形成する前に、100℃以上850℃以下の酸素雰囲気中で熱処理を行うことから、金属系絶縁膜17および絶縁膜18中の水分や水素が膜中より離脱される。つまり、熱処理温度が100℃以上であるため、離脱した水分は気化し、また水素は酸素と結合して気化し、膜中より除去される。このようにして金属系絶縁膜17および絶縁膜18中の水分、水素は離脱されているので、金属系絶縁膜17および絶縁膜18にキャパシタ16の上部電極膜15に通じるコンタクトホール20を形成しても、コンタクトホール20を通じて金属系絶縁膜17および絶縁膜18中の水素や水分が強誘電体膜14に侵入することが回避され、強誘電体膜14が還元されることがなくなる。
【0038】
さらに、酸素雰囲気中での熱処理であるため、水分や水素が離脱したダングリングボンドに酸素が結合し、酸化膜がより緻密に構成されるのでより強固な酸化膜になる。また金属系絶縁膜17および絶縁膜18が窒化膜からなる場合であっても、ダングリングボンドに酸素が結合することにより、窒化膜がより緻密に構成されるのでより強固な酸窒化膜となる。これにより、外部からの水素の侵入を防ぐことができる。
【0039】
したがって、上記熱処理によっても、キャパシタ16の電気的特性の劣化、特に耐圧の劣化を防ぐことができる。また水素や水分による膜剥がれが防止され、膜の密着性が劣化することも防止される。よって、安定した強誘電体メモリ装置が製造されることになる。
【0040】
上記第1実施の形態の半導体装置の製造方法により製造された半導体装置では、上記製造方法による作用効果が得られたものとなる。
【0041】
次に、本発明の強誘電体メモリ装置の製造方法に係る第2実施の形態を、図4の製造工程図によって説明する。
【0042】
図4の(1)に示すように、前記第1実施の形態の前記図1の(1)によって説明したように、シリコン基板11上に熱酸化法によって酸化シリコン膜12を例えば300nmの厚さに形成する。次いで、スパッタ法によって、上記酸化シリコン膜12上に下部電極膜13を、例えば酸化チタン(TiO2 )膜131を40nmの厚さに成膜した後、イリジウム(Ir)膜132を100nmの厚さに成膜して形成する。次いで、回転塗布法によって、上記下部電極膜13上に強誘電体膜14を形成する。ここでは、SrBi2 Ta2 O9 を100nmの厚さに成膜した。このとき、強誘電体膜14の結晶化温度は酸素雰囲気中で700℃〜800℃とした。次いで、スパッタ法によって、強誘電体膜14上にイリジウム(Ir)を100nmの厚さに堆積して上部電極膜15を形成する。その後、上部電極膜15、強誘電体膜14、下部電極膜13を順次加工して、キャパシタ16を形成する。
【0043】
次いで、図4の(2)に示すように、スパッタ法もしくはCVD法によって、上記キャパシタ16を被覆する金属系絶縁膜17を、例えば酸化アルミニウムを50nmの厚さに堆積して形成する。
【0044】
ここでの金属系絶縁膜17を形成するスパッタ法は、前記第1実施の形態で説明したスパッタ法と同様である。したがって、スパッタ法におけるアルゴンガスに対する酸素の流量比の決定理由は上記第1実施の形態で説明したのと同様である。
【0045】
続けて、その金属系絶縁膜17上に、例えば酸化シリコン等の酸化膜からなる絶縁膜18を例えば250nmの厚さに形成する。したがって、金属系絶縁膜17と絶縁膜18とを合わせた層間絶縁膜19の膜厚は300nmとなる。
【0046】
その後、酸素雰囲気中で熱処理を行う。ここでは400℃の酸素雰囲気中で1時間の熱処理を行った。この熱処理は、100℃〜850℃の酸素雰囲気中で行う。上記金属系絶縁膜17としては、酸化アルミニウムの他に、酸化タンタル(Ta2 O5 )、酸化ハフニウム(HfO2 )、酸化チタン(TiO2 )、酸化ジルコニウム(ZnO2 )、窒化チタン(TiN)、窒化アルミニウム(AlN)等を用いて形成することができる。
【0047】
次に、図4の(3)に示すように、上記層間絶縁膜19に上部電極膜15に達するコンタクトホール20を形成し、さらにコンタクトホール20を通じて上部電極膜15に接続される配線21を、例えばアルミニウム系材料で形成する。その後、従来と同様に窒素シンターを行う。この窒素シンターは、400℃の窒素雰囲気で30分実施した。
【0048】
上記図4によって説明した製造方法により製造されたキャパシタの電気的特性を評価した。この評価は、窒素シンターを行った後のものである。図5は、上記第2実施の形態で説明した製造方法において、金属系絶縁膜17を形成するスパッタ法で、アルゴンガスに対する酸素ガスを流量比で8%の混入させて、酸化アルゴン膜を50nmの厚さに成膜し、続けてCVD法で酸化シリコン(SiO2 )膜を250nmの厚さに成膜した後、400℃の窒素ガス雰囲気中で1時間の熱処理を実施し、さらにAl配線加工を経て窒素シンターを行った後の電気特性値(I−V特性)を示す図である。図5に示すように、上記図4によって説明した本発明の製造方法により形成されたキャパシタ16はリーク電流の発生がなく、従来技術の製造方法で形成したキャパシタよりも耐圧が向上されていることがわかった。この傾向は、図1によって説明した製造方法により形成したキャパシタでも同様の結果となった。
【0049】
次に、比較例を図6に示す。図6は、上記第2実施の形態で説明した製造方法において、金属系絶縁膜17を形成するスパッタ法で、アルゴンガスを100%で酸化アルゴン膜を50nmの厚さに成膜し、続けてCVD法で酸化シリコン(SiO2 )膜を250nmの厚さに成膜した後、400℃の窒素ガス雰囲気中で1時間の熱処理を実施し、さらにAl配線加工を経て窒素シンターを行った後の電気特性値(I−V特性)を示す図である。図6に示すように、従来技術で説明した製造方法で形成したキャパシタよりも耐圧は向上されているが、高電圧(例えば7V)を印加した際に若干のリーク電流が検出されることがあった。
【0050】
したがって、酸素を含むアルゴンガスを用いたスパッタ法によって、金属系絶縁膜を形成することにより、上記検出範囲±7Vの印加電圧の範囲内においてリーク電流を全く発生させないようにすることが可能になった。
【0051】
また、上記第2実施の形態における半導体装置の製造方法でも、前記説明した第1実施の形態の半導体装置の製造方法と同様なる作用効果が得られる。
【0052】
したがって、キャパシタ16の電気的特性の劣化、特に耐圧の劣化を防ぐことができる。また水素や水分による膜剥がれが防止され、膜の密着性が劣化することも防止される。よって、安定した強誘電体メモリ装置が製造されることになる。
【0053】
上記第2実施の形態の強誘電体メモリ装置の製造方法により製造された強誘電体メモリ装置では、金属系絶縁膜17および絶縁膜18を形成した後、もしくは絶縁膜18を形成した後で、コンタクトホールを形成する前に、100℃以上850℃以下の酸素雰囲気中で熱処理を行ったものであるから、コンタクトホールを形成する前には、金属系絶縁膜17および絶縁膜18中の水分や水素が膜中より離脱されている。つまり、熱処理温度が100℃以上であるため、離脱した水分は気化され、また水素は酸素と結合して気化され、膜中より除去されている。このように金属系絶縁膜17中、絶縁膜18中の水分、水素は離脱されているので、層間絶縁膜19にキャパシタ16の上部電極膜15に通じるコンタクトホール20が形成されても、コンタクトホール20を通じて層間絶縁膜19中の水素や水分が強誘電体膜14に侵入することが回避され、強誘電体膜14が還元されることがなくなる。
【0054】
さらに、酸素雰囲気中での熱処理であるため、水分や水素が離脱したダングリングボンドに酸素が結合し、酸化膜がより緻密に構成されるのでより強固な酸化膜になっている。また金属系絶縁膜17および絶縁膜18が窒化膜からなる場合であっても、ダングリングボンドに酸素が結合することにより、窒化膜がより緻密に構成されるのでより強固な酸窒化膜となっている。これにより、外部からの水素の侵入を防ぐことができる。
【0055】
したがって、キャパシタ16は、電気的特性の劣化、特に耐圧の劣化がないものとなる。また水素や水分による膜剥がれが防止されるので、膜の密着性の劣化がないものとなっている。よって、安定した強誘電体メモリ装置になる。
【0056】
さらに、上記各実施の形態において、アルゴンガスに対する酸素、窒素等の添加ガスの混入比を、スパッタ法が進行する過程で減少させることも可能である。例えば、金属系絶縁膜17が、初めの5nm〜10nmの膜厚が成膜されるまでは、例えば添加ガス流量を5%〜10%程度として、バリア性に優れた膜を成膜し、その後添加ガス流量を5%未満に低減して、屈折率の高い膜を成膜することも可能である。
【0057】
なお、上記各実施の形態においては、図示はしていないが、シリコン基板11には選択素子としてのMISトランジスタが形成され、そのMISトランジスタを被覆するように絶縁膜12が形成されている。さらに、キャパシタ16とMISトランジスタとを接続するコンタクトが形成されている。
【0058】
上記各製造方法では、強誘電体膜14にSrBi2 Ta2 O9 を用いた構成例を説明したが、SrBi2 Ta2 O9 以外のキャパシタに用いることができる強誘電体膜材料であってもよい。例えば、PZT〔Pb(Zr,Ti)O3 〕、SrBi2 TaO9 、BaTiO3 、PbTiO3 、LiNbO3 、LiTaO3 、SbSI、(Pb,La)(Zr,Ti)O3 、(Bi,La4 )Ti3 O12、PbをLa、Sr、Caで置換したPZT、PLSCZT(Pb0.96La0.1Sr0.2Ca0.1Zr0.3Ti0.7O3 )、Bi層状強誘電体のBi4 Ti3 O12のBiをNdで置換したBi3.54Nd0.46Ti3 O12などの強誘電体膜を用いることもできる。
【0059】
【発明の効果】
以上、説明したように本発明の半導体装置の製造方法によれば、金属系絶縁膜の成膜を、酸素、窒素および酸化窒素のうちの少なくとも1種からなる添加ガスを含むアルゴンガスを用いたスパッタ法により行うので、混入した添加ガスにより金属系絶縁膜の酸素、窒素もしくは酸化窒素を強化することができる。また、酸素ガスを使用した場合には強誘電体膜へも同時に酸素が供給され、強誘電体膜の酸化を強化することができる利点がある。よって、酸化、窒化もしくは酸窒化が強化された金属系絶縁膜によって、強誘電体膜への水や水素の進入を防ぐことができるので強誘電体膜が還元されなくなり、膜同士の密着性が向上し、膜剥がれも防止することができる。従って、強誘電体膜を含む素子を形成した後の工程を経ても電気特性の劣化が殆ど無く、特に耐圧の優れた安定した強誘電体膜を含む素子、例えば強誘電体キャパシタを製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の半導体装置の製造方法に係る第1実施の形態を示す製造工程断面図である。
【図2】金属系絶縁膜の屈折率と混入される酸素ガスの体積流量比との関係図である。
【図3】金属系絶縁膜の屈折率と膜厚との関係図である。
【図4】本発明の半導体装置の製造方法に係る第2実施の形態を示す製造工程断面図である。
【図5】第2実施の形態における窒素シンター直後の強誘電体膜の電流−電圧特性を示す図である。
【図6】第2実施の形態において100%アルゴンガスを用いたスパッタ法により金属系絶縁膜を形成した場合における窒素シンター直後の強誘電体膜の電流−電圧特性を示す図である。
【図7】従来の強誘電体メモリ装置の製造方法を示す製造工程断面図である。
【図8】図5に示した従来の強誘電体メモリ装置の製造方法における配線を形成した直後の強誘電体膜の電流−電圧特性を示す図である。
【図9】図5に示した従来の強誘電体メモリ装置の製造方法における窒素シンターを行った直後の強誘電体膜の電流−電圧特性を示す図である。
【図10】従来の強誘電体メモリ装置の製造方法を示す製造工程断面図である。
【図11】図8に示した従来の強誘電体メモリ装置の製造方法における配線を形成した直後の強誘電体膜の電流−電圧特性を示す図である。
【図12】図8に示した従来の強誘電体メモリ装置の製造方法における窒素シンターを行った直後の強誘電体膜の電流−電圧特性を示す図である。
【符号の説明】
14…強誘電体膜、17…金属系絶縁膜
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体装置の製造方法に関し、詳しくは強誘電体キャパシタのような強誘電体膜を有する素子を被覆する絶縁膜を形成する工程を備えた半導体装置の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
絶縁膜上に形成されたキャパシタ上に、スパッタ法もしくはCVD法によって、例えば酸化アルミニウム膜を被覆形成した後、キャパシタの上部電極に達するコンタクトホールを開孔し、このコンタクトホールを通じて上部電極と導通させるための配線を形成する。このアルミニウム配線を形成する際に発せられる熱によって絶縁膜から水や水素が発生し、その発生した水もしくは水素がコンタクトホールから侵入して、強誘電体膜を還元するという現象が起こっていた。このことにより、キャパシタの電気的特性が劣化していた。
【0003】
次に、従来の製造方法を、図7の製造工程図によって説明する。
図7の(1)に示すように、熱酸化法によって、シリコン基板11上に酸化シリコン膜12を例えば300nmの厚さに形成する。次いで、スパッタ法によって、上記酸化シリコン膜12上に下部電極膜13を、例えば酸化チタン(TiO2 )膜131を40nmの厚さに成膜した後、イリジウム(Ir)膜132を100nmの厚さに成膜して形成する。次いで、回転塗布法によって、上記下部電極膜13上に強誘電体膜14を形成する。ここでは、SrBi2 Ta2 O9 を100nmの厚さに成膜した。このとき、強誘電体膜14の結晶化温度は酸素雰囲気中で700℃〜800℃とした。さらにスパッタ法によって、強誘電体膜14上にイリジウム(Ir)を100nmの厚さに堆積して上部電極膜15を形成する。
【0004】
その後、図7の(2)に示すように、上記上部電極膜15、強誘電体膜14、下部電極膜13を順次加工して、キャパシタ16を形成する。
【0005】
次に、図7の(3)に示すように、プロセスガスにアルゴンガスのみを用いたスパッタ法によって、上記キャパシタ16を被覆するバリア膜となる金属系絶縁膜17を、酸化アルミニウム膜を例えば50nmの厚さに堆積して形成する。さらに、スパッタ法もしくはCVD法によって、その金属系絶縁膜17上に絶縁膜18を、例えば酸化シリコンを250nmの厚さに堆積して形成する。したがって、金属系絶縁膜17と絶縁膜18とからなる層間絶縁膜19の膜厚は300nmとなる。
【0006】
その後、図7の(4)に示すように、上記層間絶縁膜19にキャパシタ16の上部電極膜15に達するコンタクトホール20を形成し、さらにコンタクトホール20を通じて上部電極膜15に接続される配線21を、例えばアルミニウム系材料で形成する。
【0007】
次に、上記図7によって説明した製造方法により製造されたキャパシタ16の電気的特性を評価した。さらに、窒素シンターを行った後の電気的特性も評価した。図8に配線21を形成した直後の電流(リーク電流)−電圧(印加電圧)特性(以下、I−V特性という)を示す。また、図9に窒素シンター直後のI−V特性を示す。なお、この窒素シンターは、400℃の窒素雰囲気中で30分行った。この結果、配線21を形成した直後と比較して、窒素シンター直後では耐圧の劣化が観察された。この耐圧劣化は、窒素シンターによって、金属系絶縁膜17や絶縁膜18中の水素や水分が要因と考えられる。
【0008】
または、強誘電体膜を有するキャパシタ上に、プロセスガスにアルゴンガスのみを用いたスパッタ法によって、例えば酸化アルミニウム膜からなるバリア膜を被覆形成した後、さらにスパッタ法もしくはCVD法によって、酸化シリコン等の酸化膜からなる絶縁膜を形成する。その後、この絶縁膜からキャパシタの上部電極膜へ通じるコンタクトホールを開孔する。その後、不活性ガス雰囲気中もしくは不活性ガスである窒素雰囲気中で、400℃の温度で熱処理を行って、酸化膜からなる絶縁膜中の水分や水素を膜の外部に放出させていた。その後、上部電極膜と導通させるための配線を、例えばアルミニウム配線で形成していた。
【0009】
この従来の製造方法を、図10の製造工程断面図によって以下に説明する。
【0010】
図10の(1)に示すように、前記図7によって説明したのと同様に、熱酸化法によって、シリコン基板11上に酸化シリコン膜12を例えば300nmの厚さに形成する。次いで、スパッタ法によって、上記酸化シリコン膜12上に下部電極膜13を、例えば酸化チタン(TiO2 )膜131を40nmの厚さに成膜した後、イリジウム(Ir)膜132を100nmの厚さに成膜して形成する。次いで、回転塗布法によって、上記下部電極膜13上に強誘電体膜14を形成する。ここでは、SrBi2 Ta2 O9 を100nmの厚さに成膜した。このとき、強誘電体膜14の結晶化温度は酸素雰囲気中で700℃〜800℃とした。さらにスパッタ法によって、強誘電体膜14上にイリジウム(Ir)を100nmの厚さに堆積して上部電極膜15を形成する。
【0011】
その後、前記図7の(2)に示すように、上記上部電極膜15、強誘電体膜14、下部電極膜13を順次加工して、キャパシタ16を形成する。
【0012】
次に、前記図7の(3)に示すように、プロセスガスにアルゴンガスのみを用いたスパッタ法によって、上記キャパシタ16を被覆する金属系絶縁膜17を、酸化アルミニウム膜を例えば50nmの厚さに堆積して形成する。さらに、スパッタ法もしくはCVD法によって、その金属系絶縁膜17上に絶縁膜18を、例えば酸化シリコンを250nmの厚さに堆積して形成する。したがって、金属系絶縁膜17と絶縁膜18とからなる層間絶縁膜19の膜厚は300nmとなる。
【0013】
その後、前記図7の(4)によって説明したのと同様に、上記層間絶縁膜19に上部電極膜15に達するコンタクトホール20を形成する。その後、400℃の窒素雰囲気中で1時間の熱処理を行う。
【0014】
次に、図10の(2)に示すように、前記図7の(4)によって説明したのと同様に、コンタクトホール20を通じて上部電極膜15に接続される配線21を、例えばアルミニウム系材料で形成する。
【0015】
上記図10によって説明した製造方法により製造されたキャパシタの電気的特性を評価した。さらに、窒素シンターを行った後の電気的特性も評価した。図11にアルミニウム配線を形成した直後のI−V特性を示す。また、図12に窒素シンター直後のI−V特性を示す。この窒素シンターは、400℃の窒素雰囲気中で30分行った。この結果、前記図7に示した製造方法よりもこの図10によって示した製造方法の方が、リーク電流が発生する電圧が高くなり、リーク電流が少なくなっていることから耐圧が良くなっていることが認められた。
【0016】
さらに、上記製造方法に対して、アルミニウム配線を形成する工程が終了した後、コンタクト特性を良化させるために、窒素シンター処理を行う。また、キャパシタを形成するプロセスにおいて劣化した、同一基板上に形成されたトランジスタの特性を回復させるためのフォーミングアニールを実施する。このシンターは窒素雰囲気で、例えば400℃程度の温度で行われる。また、フォーミングアニールは、例えば水素5%と窒素95%の雰囲気で、400℃程度の温度で行われる。なおフォーミングアニールは必ずしも行わなくてもよい。
【0017】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、アルミニウム配線を形成する際に発生する熱によって、絶縁膜から水や水素が発生し、その発生した水もしくは水素がコンタクトホールから侵入して、強誘電体膜が還元され、電気的特性が劣化するという問題があった。また、フォーミングアニール後に電気的特性が劣化するという問題があった。
【0018】
上記電気特性の劣化の要因としては、アルミニウム配線を形成した後に、窒素シンターを行うと酸化物の絶縁膜中から水や水素が発生する。もしくは、酸化物の絶縁膜から発生した水がアルミニウムと反応し、さらに多量の水素が発生する。このように発生した水や水素はコンタクトホールの開口部から、上部電極や強誘電体膜へ拡散し、これらの水や水素によって膜剥がれが発生して、電気的特性が劣化されていた。
【0019】
【課題を解決するための手段】
本発明は、上記課題を解決するためになされた半導体装置の製造方法である。
【0020】
本発明の半導体装置の製造方法は、強誘電体膜を有する素子を被覆する金属系絶縁膜を形成する工程を備えた半導体装置の製造方法であって、前記金属系絶縁膜は、酸素、窒素および酸化窒素のうちの少なくとも1種からなる添加ガスを含むアルゴンガスを用いたスパッタ法により形成される。
【0021】
上記半導体装置に製造方法では、絶縁膜を形成する金属系絶縁膜が酸素、窒素および酸化窒素のうちの少なくとも1種からなる添加ガスを含むアルゴンガスを用いたスパッタ法により形成されることから、例えば金属系絶縁膜を酸化アルミニウム膜で形成する場合には添加ガスに酸素を用いる。この場合、酸素が含まれることから、成膜される酸化アルミニウム膜の酸化が強化され、Al2 O3 膜となる。また、例えば金属系絶縁膜を窒化アルミニウム膜で形成する場合には添加ガスに窒素を用いる。この場合、窒素が含まれることから、成膜される窒化アルミニウム膜の窒化が強化され、AlN膜となる。また、酸窒化アルミニウム膜も同様に添加ガスに用いる酸素と窒素とによって酸窒化が強化される。このように金属系絶縁膜中の酸化、窒化もしくは酸窒化が強化されるので、絶縁膜中の水素や水分が強誘電体膜に侵入することが回避され、強誘電体膜が還元されることがなくなる。さらに、水分や水素が離脱した部分のダングリングボンドに酸素もしくは窒素が結合し、金属系絶縁膜がより緻密に構成されるのでより強固な金属系絶縁膜になる。これにより、外部からの水素の侵入を防ぐことができる。
【0022】
したがって、キャパシタの電気的特性の劣化、特に耐圧の劣化を防ぐことができる。また水素や水分による膜剥がれが防止され、膜の密着性が劣化することも防止される。よって、安定した強誘電体膜を有する素子を備えた半導体装置が製造されることになる。
【0023】
【発明の実施の形態】
本発明の半導体装置の製造方法によって形成される半導体装置は、強誘電体膜を有する素子、例えば強誘電体膜を挟むように上部電極および下部電極とを設けたキャパシタを有する。このキャパシタの上部、下部電極にはイリジウム(Ir)や白金(Pt)のような貴金属からなる電極を用いる。強誘電体膜を構成する強誘電体材料としては、例えばPbZrx Ti1−xO3 、PbTiO3 等の鉛系化合物、SrBi2 Ta2 O9 、Bi4 Ti3 O12等のビスマス層状化合物等を用いる。これらの強誘電体膜は、アルコキシド原料としたMOD(Metal Organic Decomposition)法、レーザアブレーション法、MOCVD(Metal Organic Chemical Vapor Deposition)法、回転塗布法、LSMCD法等により成膜することができる。成膜後は熱処理を行って結晶化させ、安定化させている。
【0024】
上記キャパシタ上には、外部から前記キャパシタへの水素の侵入を阻止する金属系絶縁膜として、酸素、窒素および酸化窒素のうちの少なくとも1種からなる添加ガスを含むアルゴンガスを用いたスパッタ法により例えば酸化アルミニウム膜が成膜されている。さらにその上に、スパッタ法もしくはCVD法によって、酸化シリコン等の酸化物の絶縁膜が形成されている。このように、積層の層間絶縁膜構造としている。上記酸化物の絶縁膜の脱水および脱水素化は熱処理によって行われている。この熱処理によって、膜間の密着性が高められ、さらに後の工程で熱処理を行っても、膜剥がれが発生しなくなり、特性劣化が無い安定したキャパシタを有する半導体装置となっている。
【0025】
次に、本発明の半導体装置の製造方法に係る第1実施の形態を、図1の製造工程図によって説明する。
【0026】
図1の(1)に示すように、熱酸化法によって、シリコン基板11上に酸化シリコン膜12を例えば300nmの厚さに形成する。次いで、スパッタ法によって、上記酸化シリコン膜12上に下部電極膜13を、例えば酸化チタン(TiO2 )膜131を40nmの厚さに成膜した後、イリジウム(Ir)膜132を100nmの厚さに成膜して形成する。次いで、回転塗布法によって、上記下部電極膜13上に強誘電体膜14を形成する。ここでは、SrBi2 Ta2 O9 を100nmの厚さに成膜した。このとき、強誘電体膜14の結晶化温度は酸素雰囲気中で700℃〜800℃とした。次いで、スパッタ法によって、強誘電体膜14上にイリジウム(Ir)を100nmの厚さに堆積して上部電極膜15を形成する。その後、上部電極膜15、強誘電体膜14、下部電極膜13を順次加工して、キャパシタ16を形成する。
【0027】
次いで、図1の(2)に示すように、スパッタ法によって、上記キャパシタ16を被覆して、上記キャパシタ16への水素の侵入を防止する金属系絶縁膜17を、例えば酸化アルミニウムを50nmの厚さに堆積して形成する。
【0028】
上記スパッタ法は、酸素、窒素および酸化窒素のうちの少なくとも1種からなる添加ガスを含むアルゴンガスを用いたスパッタ法による。例えば、上記のように酸化アルミニウム膜を形成する場合には、アルゴンに酸素を添加したガスをスパッタガスとして用いる。このとき、アルゴンガスに対する添加ガス(酸素)の混入比は、少なくとも酸素ガスが混入されていて、その最大混入量がアルゴンの流量に対して体積流量比で10%以下とする。この添加ガスは、成膜する金属系絶縁膜種によって異なる。例えば酸化系金属系絶縁膜の場合には酸素を添加し、窒化系金属系絶縁膜の場合には窒素を添加することが好ましい。なお、窒化系金属ターゲットを用い酸素を添加して酸窒化系金属系絶縁膜を形成すること、もしくは酸化系金属ターゲットを用い窒素を添加して酸窒化系金属系絶縁膜を形成することも可能である。この場合には、一酸化二窒素(N2 O)酸化窒素を用いることも可能である。
【0029】
その後、酸素雰囲気中で熱処理を行う。ここでは400℃の酸素雰囲気中で1時間の熱処理を行った。この熱処理は、100℃〜850℃の酸素雰囲気中で行う。また上記金属系絶縁膜17としては、酸化アルミニウムの他に、酸化タンタル(Ta2 O5 )、酸化ハフニウム(HfO2 )、酸化チタン(TiO2 )、酸化ジルコニウム(ZnO2 )、窒化チタン(TiN)、窒化アルミニウム(AlN)等を用いて形成することができる。
【0030】
さらに、図1の(3)に示すように、スパッタ法もしくはCVD法によって、その金属系絶縁膜17上に絶縁膜18を例えば酸化シリコンを250nmの厚さに堆積して形成する。その後、酸素雰囲気中で熱処理を行う。ここでは400℃の酸素雰囲気中で1時間の熱処理を行った。この熱処理は、100℃〜850℃の酸素雰囲気中で行う。したがって、層間絶縁膜19の膜厚は300nmとなる。
【0031】
上記各酸素雰囲気中での熱処理温度を100℃〜850℃としたのは、100℃より低いと、絶縁膜中の水分の気化が不十分となり、また850℃を越える温度で行うと、例えばCMOSトランジスタの特性に悪影響がでる恐れがある。したがって、酸素雰囲気中の熱処理は上記温度範囲とした。
【0032】
その後、図1の(4)に示すように、上記層間絶縁膜19に上部電極膜15に達するコンタクトホール20を形成し、さらにコンタクトホール20を通じて上部電極膜15に接続される配線21を、例えばアルミニウム系材料で形成する。その後、従来と同様に窒素シンターを行う。この窒素シンターは、400℃の窒素雰囲気で30分実施した。
【0033】
ここで、上記金属系絶縁膜17を形成するスパッタ法の酸素流量の範囲を決定した根拠を説明する。以下の説明における流量比は体積%で表す。図2には、酸化アルミニウム(Al2 O3 )膜の成膜をアルゴンガスのみ(Arガス=100%、酸素ガスの混入流量比=0%)で行ったスパッタ方法と、アルゴンガスに対する酸素ガスの混入を流量比で1、2、3、5、8、10%と変化させて行ったスパッタ方法とで行った場合の、酸素ガスの流量比に対する酸化アルミニウム膜の屈折率の変化を示した。屈折率の測定はウエハー内9点で行い、図2に示すように、各酸素ガスの混入比の条件毎に最大値(MAX)、平均値(AVG)、最小値(MIN)をプロットした。この結果から、屈折率は、アルゴンガスに対する酸素ガスの混入を流量比が多くなるにつれて小さくなり、酸素ガスの混入流量比が5%をこえると、屈折率の値はほぼ一定になることが分かった。また、通常のスパッタ装置では、処理室内を一定の減圧状態に保持するためにクライオポンプにより真空引きが行われている。このため、アルゴンの流量に対する酸素流量が10数%をこえると、一般に危険を伴うことがあるとされているため、ここでは10%以下としている。以上のことを踏まえて、屈折率が流量比の変化に影響を受け難いようにすることが好ましく、それには酸素ガスの混入流量比は5%以上10%以下が好ましい。
【0034】
次に、金属系絶縁膜(酸化アルミニウム膜)の屈折率と膜厚との関係について調べた。その結果を図3によって説明する。図3は、アルゴンガスのみ(Arガス=100%、酸素ガスの混入流量比=0%)を用いたスパッタ法によって、酸化アルミニウム(Al2 O3 )膜の成膜を行い、その膜厚の変化による屈折率の変化を示した。屈折率の測定はウエハー内9点で行い、各膜厚毎に最大値(MAX)、平均値(AVG)、最小値(MIN)をプロットした。この結果から、屈折率は、成膜した厚みが100〜150nm付近で最大値を示すことがわかった。この傾向は、アルゴンガスに酸素を混入したスパッタ法においても同様なる傾向であった。したがって、所望の屈折率を得たい場合には、酸化アルミニウム膜の膜厚を調整すればよいことがわかる。
【0035】
上記第1実施の形態の半導体装置の製造方法では、金属系絶縁膜17を、酸素、窒素および酸化窒素のうちの少なくとも1種からなる添加ガスを含むアルゴンガスを用いたスパッタ法により形成することから、金属系絶縁膜17中の酸化、窒化もしくは酸窒化が強化されるので、絶縁膜18中の水素や水分が強誘電体膜14に侵入することが回避され、強誘電体膜14が還元されることがなくなる。さらに、水分や水素が離脱した部分のダングリングボンドに酸素もしくは窒素が結合し、金属系絶縁膜17がより緻密に構成されるのでより強固な金属系絶縁膜17になる。これにより、外部からの水素の侵入を防ぐことができる。さらに、金属系絶縁膜17のスパッタ成膜時に酸素を用いた場合には、この酸素ガスによって強誘電体膜14へも酸素が供給される。このため、酸化物系の強誘電体膜では、酸化が強化される。
【0036】
したがって、金属系絶縁膜17によって、キャパシタ16の電気的特性の劣化、特に耐圧の劣化を防ぐことができる。また水素や水分による膜剥がれが防止され、膜の密着性が劣化することも防止される。よって、安定した強誘電体膜14を有する素子を備えた半導体装置が製造されることになる。
【0037】
また、金属系絶縁膜17および絶縁膜18を形成した後でコンタクトホール20を形成する前に、100℃以上850℃以下の酸素雰囲気中で熱処理を行うことから、金属系絶縁膜17および絶縁膜18中の水分や水素が膜中より離脱される。つまり、熱処理温度が100℃以上であるため、離脱した水分は気化し、また水素は酸素と結合して気化し、膜中より除去される。このようにして金属系絶縁膜17および絶縁膜18中の水分、水素は離脱されているので、金属系絶縁膜17および絶縁膜18にキャパシタ16の上部電極膜15に通じるコンタクトホール20を形成しても、コンタクトホール20を通じて金属系絶縁膜17および絶縁膜18中の水素や水分が強誘電体膜14に侵入することが回避され、強誘電体膜14が還元されることがなくなる。
【0038】
さらに、酸素雰囲気中での熱処理であるため、水分や水素が離脱したダングリングボンドに酸素が結合し、酸化膜がより緻密に構成されるのでより強固な酸化膜になる。また金属系絶縁膜17および絶縁膜18が窒化膜からなる場合であっても、ダングリングボンドに酸素が結合することにより、窒化膜がより緻密に構成されるのでより強固な酸窒化膜となる。これにより、外部からの水素の侵入を防ぐことができる。
【0039】
したがって、上記熱処理によっても、キャパシタ16の電気的特性の劣化、特に耐圧の劣化を防ぐことができる。また水素や水分による膜剥がれが防止され、膜の密着性が劣化することも防止される。よって、安定した強誘電体メモリ装置が製造されることになる。
【0040】
上記第1実施の形態の半導体装置の製造方法により製造された半導体装置では、上記製造方法による作用効果が得られたものとなる。
【0041】
次に、本発明の強誘電体メモリ装置の製造方法に係る第2実施の形態を、図4の製造工程図によって説明する。
【0042】
図4の(1)に示すように、前記第1実施の形態の前記図1の(1)によって説明したように、シリコン基板11上に熱酸化法によって酸化シリコン膜12を例えば300nmの厚さに形成する。次いで、スパッタ法によって、上記酸化シリコン膜12上に下部電極膜13を、例えば酸化チタン(TiO2 )膜131を40nmの厚さに成膜した後、イリジウム(Ir)膜132を100nmの厚さに成膜して形成する。次いで、回転塗布法によって、上記下部電極膜13上に強誘電体膜14を形成する。ここでは、SrBi2 Ta2 O9 を100nmの厚さに成膜した。このとき、強誘電体膜14の結晶化温度は酸素雰囲気中で700℃〜800℃とした。次いで、スパッタ法によって、強誘電体膜14上にイリジウム(Ir)を100nmの厚さに堆積して上部電極膜15を形成する。その後、上部電極膜15、強誘電体膜14、下部電極膜13を順次加工して、キャパシタ16を形成する。
【0043】
次いで、図4の(2)に示すように、スパッタ法もしくはCVD法によって、上記キャパシタ16を被覆する金属系絶縁膜17を、例えば酸化アルミニウムを50nmの厚さに堆積して形成する。
【0044】
ここでの金属系絶縁膜17を形成するスパッタ法は、前記第1実施の形態で説明したスパッタ法と同様である。したがって、スパッタ法におけるアルゴンガスに対する酸素の流量比の決定理由は上記第1実施の形態で説明したのと同様である。
【0045】
続けて、その金属系絶縁膜17上に、例えば酸化シリコン等の酸化膜からなる絶縁膜18を例えば250nmの厚さに形成する。したがって、金属系絶縁膜17と絶縁膜18とを合わせた層間絶縁膜19の膜厚は300nmとなる。
【0046】
その後、酸素雰囲気中で熱処理を行う。ここでは400℃の酸素雰囲気中で1時間の熱処理を行った。この熱処理は、100℃〜850℃の酸素雰囲気中で行う。上記金属系絶縁膜17としては、酸化アルミニウムの他に、酸化タンタル(Ta2 O5 )、酸化ハフニウム(HfO2 )、酸化チタン(TiO2 )、酸化ジルコニウム(ZnO2 )、窒化チタン(TiN)、窒化アルミニウム(AlN)等を用いて形成することができる。
【0047】
次に、図4の(3)に示すように、上記層間絶縁膜19に上部電極膜15に達するコンタクトホール20を形成し、さらにコンタクトホール20を通じて上部電極膜15に接続される配線21を、例えばアルミニウム系材料で形成する。その後、従来と同様に窒素シンターを行う。この窒素シンターは、400℃の窒素雰囲気で30分実施した。
【0048】
上記図4によって説明した製造方法により製造されたキャパシタの電気的特性を評価した。この評価は、窒素シンターを行った後のものである。図5は、上記第2実施の形態で説明した製造方法において、金属系絶縁膜17を形成するスパッタ法で、アルゴンガスに対する酸素ガスを流量比で8%の混入させて、酸化アルゴン膜を50nmの厚さに成膜し、続けてCVD法で酸化シリコン(SiO2 )膜を250nmの厚さに成膜した後、400℃の窒素ガス雰囲気中で1時間の熱処理を実施し、さらにAl配線加工を経て窒素シンターを行った後の電気特性値(I−V特性)を示す図である。図5に示すように、上記図4によって説明した本発明の製造方法により形成されたキャパシタ16はリーク電流の発生がなく、従来技術の製造方法で形成したキャパシタよりも耐圧が向上されていることがわかった。この傾向は、図1によって説明した製造方法により形成したキャパシタでも同様の結果となった。
【0049】
次に、比較例を図6に示す。図6は、上記第2実施の形態で説明した製造方法において、金属系絶縁膜17を形成するスパッタ法で、アルゴンガスを100%で酸化アルゴン膜を50nmの厚さに成膜し、続けてCVD法で酸化シリコン(SiO2 )膜を250nmの厚さに成膜した後、400℃の窒素ガス雰囲気中で1時間の熱処理を実施し、さらにAl配線加工を経て窒素シンターを行った後の電気特性値(I−V特性)を示す図である。図6に示すように、従来技術で説明した製造方法で形成したキャパシタよりも耐圧は向上されているが、高電圧(例えば7V)を印加した際に若干のリーク電流が検出されることがあった。
【0050】
したがって、酸素を含むアルゴンガスを用いたスパッタ法によって、金属系絶縁膜を形成することにより、上記検出範囲±7Vの印加電圧の範囲内においてリーク電流を全く発生させないようにすることが可能になった。
【0051】
また、上記第2実施の形態における半導体装置の製造方法でも、前記説明した第1実施の形態の半導体装置の製造方法と同様なる作用効果が得られる。
【0052】
したがって、キャパシタ16の電気的特性の劣化、特に耐圧の劣化を防ぐことができる。また水素や水分による膜剥がれが防止され、膜の密着性が劣化することも防止される。よって、安定した強誘電体メモリ装置が製造されることになる。
【0053】
上記第2実施の形態の強誘電体メモリ装置の製造方法により製造された強誘電体メモリ装置では、金属系絶縁膜17および絶縁膜18を形成した後、もしくは絶縁膜18を形成した後で、コンタクトホールを形成する前に、100℃以上850℃以下の酸素雰囲気中で熱処理を行ったものであるから、コンタクトホールを形成する前には、金属系絶縁膜17および絶縁膜18中の水分や水素が膜中より離脱されている。つまり、熱処理温度が100℃以上であるため、離脱した水分は気化され、また水素は酸素と結合して気化され、膜中より除去されている。このように金属系絶縁膜17中、絶縁膜18中の水分、水素は離脱されているので、層間絶縁膜19にキャパシタ16の上部電極膜15に通じるコンタクトホール20が形成されても、コンタクトホール20を通じて層間絶縁膜19中の水素や水分が強誘電体膜14に侵入することが回避され、強誘電体膜14が還元されることがなくなる。
【0054】
さらに、酸素雰囲気中での熱処理であるため、水分や水素が離脱したダングリングボンドに酸素が結合し、酸化膜がより緻密に構成されるのでより強固な酸化膜になっている。また金属系絶縁膜17および絶縁膜18が窒化膜からなる場合であっても、ダングリングボンドに酸素が結合することにより、窒化膜がより緻密に構成されるのでより強固な酸窒化膜となっている。これにより、外部からの水素の侵入を防ぐことができる。
【0055】
したがって、キャパシタ16は、電気的特性の劣化、特に耐圧の劣化がないものとなる。また水素や水分による膜剥がれが防止されるので、膜の密着性の劣化がないものとなっている。よって、安定した強誘電体メモリ装置になる。
【0056】
さらに、上記各実施の形態において、アルゴンガスに対する酸素、窒素等の添加ガスの混入比を、スパッタ法が進行する過程で減少させることも可能である。例えば、金属系絶縁膜17が、初めの5nm〜10nmの膜厚が成膜されるまでは、例えば添加ガス流量を5%〜10%程度として、バリア性に優れた膜を成膜し、その後添加ガス流量を5%未満に低減して、屈折率の高い膜を成膜することも可能である。
【0057】
なお、上記各実施の形態においては、図示はしていないが、シリコン基板11には選択素子としてのMISトランジスタが形成され、そのMISトランジスタを被覆するように絶縁膜12が形成されている。さらに、キャパシタ16とMISトランジスタとを接続するコンタクトが形成されている。
【0058】
上記各製造方法では、強誘電体膜14にSrBi2 Ta2 O9 を用いた構成例を説明したが、SrBi2 Ta2 O9 以外のキャパシタに用いることができる強誘電体膜材料であってもよい。例えば、PZT〔Pb(Zr,Ti)O3 〕、SrBi2 TaO9 、BaTiO3 、PbTiO3 、LiNbO3 、LiTaO3 、SbSI、(Pb,La)(Zr,Ti)O3 、(Bi,La4 )Ti3 O12、PbをLa、Sr、Caで置換したPZT、PLSCZT(Pb0.96La0.1Sr0.2Ca0.1Zr0.3Ti0.7O3 )、Bi層状強誘電体のBi4 Ti3 O12のBiをNdで置換したBi3.54Nd0.46Ti3 O12などの強誘電体膜を用いることもできる。
【0059】
【発明の効果】
以上、説明したように本発明の半導体装置の製造方法によれば、金属系絶縁膜の成膜を、酸素、窒素および酸化窒素のうちの少なくとも1種からなる添加ガスを含むアルゴンガスを用いたスパッタ法により行うので、混入した添加ガスにより金属系絶縁膜の酸素、窒素もしくは酸化窒素を強化することができる。また、酸素ガスを使用した場合には強誘電体膜へも同時に酸素が供給され、強誘電体膜の酸化を強化することができる利点がある。よって、酸化、窒化もしくは酸窒化が強化された金属系絶縁膜によって、強誘電体膜への水や水素の進入を防ぐことができるので強誘電体膜が還元されなくなり、膜同士の密着性が向上し、膜剥がれも防止することができる。従って、強誘電体膜を含む素子を形成した後の工程を経ても電気特性の劣化が殆ど無く、特に耐圧の優れた安定した強誘電体膜を含む素子、例えば強誘電体キャパシタを製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の半導体装置の製造方法に係る第1実施の形態を示す製造工程断面図である。
【図2】金属系絶縁膜の屈折率と混入される酸素ガスの体積流量比との関係図である。
【図3】金属系絶縁膜の屈折率と膜厚との関係図である。
【図4】本発明の半導体装置の製造方法に係る第2実施の形態を示す製造工程断面図である。
【図5】第2実施の形態における窒素シンター直後の強誘電体膜の電流−電圧特性を示す図である。
【図6】第2実施の形態において100%アルゴンガスを用いたスパッタ法により金属系絶縁膜を形成した場合における窒素シンター直後の強誘電体膜の電流−電圧特性を示す図である。
【図7】従来の強誘電体メモリ装置の製造方法を示す製造工程断面図である。
【図8】図5に示した従来の強誘電体メモリ装置の製造方法における配線を形成した直後の強誘電体膜の電流−電圧特性を示す図である。
【図9】図5に示した従来の強誘電体メモリ装置の製造方法における窒素シンターを行った直後の強誘電体膜の電流−電圧特性を示す図である。
【図10】従来の強誘電体メモリ装置の製造方法を示す製造工程断面図である。
【図11】図8に示した従来の強誘電体メモリ装置の製造方法における配線を形成した直後の強誘電体膜の電流−電圧特性を示す図である。
【図12】図8に示した従来の強誘電体メモリ装置の製造方法における窒素シンターを行った直後の強誘電体膜の電流−電圧特性を示す図である。
【符号の説明】
14…強誘電体膜、17…金属系絶縁膜
Claims (3)
- 強誘電体膜を有する素子を被覆する金属系絶縁膜を形成する工程を備えた半導体装置の製造方法であって、
前記金属系絶縁膜は、酸素、窒素および酸化窒素のうちの少なくとも1種からなる添加ガスを含むアルゴンガスを用いたスパッタ法により形成される
ことを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 前記アルゴンガスに対する添加ガスの混入比は、少なくとも添加ガスを混入しその最大混入量は流量比で10%以下とする
ことを特徴とする請求項1記載の半導体装置の製造方法。 - 前記アルゴンガスに対する前記添加ガスの混入比を、スパッタ法が進行する過程で減少させる
ことを特徴とする請求項1記載の半導体装置の製造方法。
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006261443A (ja) * | 2005-03-17 | 2006-09-28 | Fujitsu Ltd | 半導体装置及びその製造方法 |
KR100777768B1 (ko) | 2005-03-30 | 2007-11-20 | 후지쯔 가부시끼가이샤 | 반도체 장치 및 그 제조 방법 |
US7528490B2 (en) | 2004-06-25 | 2009-05-05 | Seiko Epson Corporation | Semiconductor device and ferroelectric memory, and method for manufacturing semiconductor device |
-
2002
- 2002-11-08 JP JP2002324701A patent/JP2004158738A/ja active Pending
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