JP2004156139A - 成膜装置及び成膜方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】真空チャンバ1内に、ワーク2に被膜を形成するための蒸発源3と該ワーク2を冷却するための冷却装置4とを有した成膜装置において、前記ワーク2は、開口部14を介して外部に連通する内部空間15を有し、前記冷却装置4は、前記ワーク2の開口部14から内部空間15へ挿脱自在とされて該ワーク2を内部から冷却するように構成されている。
【選択図】図5
Description
この種のワーク冷却装置として、ワークを搭載するステージの内部に、冷却配管を設けてワークを冷却するもの(特許文献1参照)や、ワークを搭載するトレーを介した伝熱手段でワークを冷却するもの(特許文献2参照)が公知である。
そこで、本発明は、大きな体積を有するワークに対して効果的に冷却することができる成膜装置及び成膜方法を提供することを目的とする。
即ち、本発明の特徴とするところは、真空チャンバ内に、ワークに被膜を形成するための蒸発源と該ワークを冷却するための冷却装置とを有した成膜装置において、前記ワークは、開口部を介して外部に連通する内部空間を有し、前記冷却装置は、前記ワークの開口部から内部空間へ挿脱自在とされて該ワークを内部から冷却するように構成されている点にある。
前記構成の本発明によれば、ワークの内部空間より当該ワークを冷却するので、筒状体などの大きな容積を有するワークを効果的に冷却することができる。
前記ワークの内部空間は直線状軸心を有する筒状に形成されており、前記冷媒容器は前記内部空間に挿入される筒状に形成されているのが好ましい。
前記ワークの内周面と前記冷媒容器の外周面との隙間が、100mm以下とされているのが好ましい。
前記ワークを着脱自在に保持するワーク保持装置を有し、該ワーク保持装置は、前記内部空間の軸心である自転軸回りにワークを自転させる自転テーブルを有するのが好ましい。
前記移動手段は公転軸回りに回転する公転テーブルを有し、該公転テーブルに前記自転テーブルが設けられているのが好ましい。
前記冷媒容器は、前記公転テーブルに設けられているのが好ましい。
前記真空チャンバは底部を有し、該底部に前記公転テーブルが公転軸を縦軸姿勢として設けられ、該公転テーブルの上面に前記自転テーブルが公転軸を中心とする同心円周上に周方向等間隔を有して設けられ、前記冷媒容器は、前記自転軸心部に設けられているのが好ましい。
前記方法において、ワーク内部に冷却装置を挿入した状態で、ワークを自転させ且つ公転させるのが好ましい。
図1、2において示すものは、真空アーク成膜装置である。この成膜装置は、真空チャンバ1を有し、該チャンバ1内に、挿脱自在に装着されたワーク2に被膜を形成するための蒸発源3と、該ワーク2を冷却するための冷却装置4とを有する。
この真空チャンバ1は、底部5と天井部6と周壁部7とを有する密閉容器であり、前記周壁部7は、縦軸心を有する円筒状に形成されている。真空チャンバ1には、排気管8が接続され、該排気管8に真空ポンプ(図示省略)が接続されて、真空チャンバ1内部は減圧される。真空チャンバ1には、ガス供給管9の一つ又は複数が接続され、不活性ガスや反応ガス(プロセスガス)が真空チャンバ1内へ供給される。
真空チャンバ1には、ワーク2を保持するためのワーク保持装置10が設けられている。この保持装置10は、チャンバ1の底部5に、該チャンバ1の軸心と同心円上に周方向等間隔を有して複数配置された自転テーブル11を有する。各自転テーブル11は、その上面にワーク2を載置するように構成されている。この自転テーブル11は、円盤状で該円盤の下面の中心に自転軸12が縦軸心となるように固定され、該自転軸12がチャンバ1の底部5に回転自在に支持されている。
前記保持装置10に保持されるワーク2は、開口部14を介して外部に連通する内部空間15を有する。ワーク2の内部空間15は直線状軸心を有する筒状に形成されている。なお、前記冷却装置4の外周面は、筒状内部空間15と同心状の筒状に形成されているのが好ましい。
この実施の形態では、ワーク2は両端開口の円筒体とされている。円筒体のワーク2は、その軸心が前記自転軸12の軸心と一致するように自転テーブル11上面に固定される。
この実施の形態では、前記円筒体のワーク2の上端開口部14から、内部空間15へ挿脱自在となるように、前記冷媒容器16は、円筒状に形成されている。そして、この円筒状冷媒容器16は、前記各自転テーブル11に対向して、その上方の真空チャンバ1の天井部6に上下動自在に設けられている。天井部6と冷媒容器16間はシール部材(図示省略)でシールされている。
前記ワーク2の内周面と前記冷媒容器16の外周面との隙間は、100mm以下とされている。望ましくは30mm以下とするのがよい。なお、完全に密着しても良いが、少し間隔を持たせた方が熱収縮を吸収できるので、より望ましい。また作業性も良い。
尚、前記成膜装置は、アーク電源19とバイアス電源20を有し、アーク電源19の陰極が蒸発源3に接続され、該蒸発源3はターゲット(陰極)として構成される。アーク電源19の陽極は真空チャンバ1に接続されている。また、ワーク2は、バイアス電源20の陰極に接続されている。
次に、前記構成の成膜装置を用いて成膜する方法を説明する。
まず円筒状ワーク2を真空チャンバ1内に挿入し、自転テーブル11上に載置して、自転軸12と同心状に固定する。冷却装置4の冷媒容器16を下降させて、ワーク2の内部空間15に挿入する。真空チャンバ1内を排気し、プロセスガスを供給してチャンバ1内を所定の減圧状態に維持する。
このとき、ワーク2には、バイアス電源20が印加されている。自転テーブル11は駆動手段13により自転し、円筒状ワーク2は、その軸心周りに回転して、ワーク2の外周面は、蒸発源3に対して均等に対面する。また、冷媒容器16には冷媒の冷却水が供給され、ワーク2は内部から冷却される。
冷媒容器16をワーク2の内部空間15形状に合わせた円筒形状としているので、天井部6とのシール構造が容易になり、真空チャンバ1内の真空度の悪化を最小限に抑えることができる。
また、2物体間の輻射による熱伝達速度は、両者の熱伝達に関与する面積に比例する。冷媒容器16とワーク2内面の間隔をできるだけ狭くすることによりワーク2内面から仰ぎ見たときの冷媒容器16の面積がより広くなり、逆に高温のワーク2内面が見える面積が減ることにより、冷却効果が高まる。
なお、ワーク2を自転テーブル11に固定することなく、単に載置するのみとし、冷媒容器16によりその転倒を防止するように構成しても良い。この場合、冷媒容器16は、ワーク保持治具として機能する。
図3に示すものは、本発明の他の実施の形態である。
この実施の形態では、前記ワーク保持装置10は、前記自転とは異なる方向にワーク2を移動させるように構成されている。即ち、ワーク保持装置10は、前記自転テーブル11とは別に、前記ワーク2を移動させる移動手段21を有する。また、前記冷媒容器16は、前記移動手段21によるワーク2の移動に追従して移動するように設けられている。
蒸発源3は、前記ワーク保持手段10を取り囲むように、前記公転軸22の軸心と同心円周上に、周方向等間隔を有して、複数配置されている。また、蒸発源3は、上下に複数段(この実施の態様では2段)にわたって配置されている。
この冷媒容器保持部25に、前記冷媒容器16が、前記自転テーブル11と同じ位置で対向するように垂下されている。冷媒容器保持部25の上部は、真空チャンバ1の天井部6から上方に突出し、該突出部に回転継手26を介して冷媒供給・排出部27が接続されている。
前記真空チャンバ1の天井部6と周壁部7、又は、周壁部7と底部5は、上下方向に相対移動自在に設けられ、両者を分離したとき、ワーク2を自転テーブル11上に載置可能とし、両者を密閉状に接合したとき、冷媒容器16がワーク2の内部空間15へ挿入されるように構成されている。そして、公転軸22と冷媒容器保持部25とが、係脱自在に結合されて、各冷媒容器16は、公転軸22と同じ回転を行うよう構成されている。
前記構成の実施の形態によれば、ワーク2は、自転すると共に公転するので、蒸発源3に対して均一に対面することになり、均一な成膜が可能となる。
このとき、冷却装置4も公転に追従して移動するので、ワーク2を効果的に冷却することができる。また冷媒の給排出を一カ所の冷媒供給・排出部27で行うように構成されているので、配管系統が簡単になる。
図4に示すものは、本発明の他の実施の形態である。
ワーク保持装置10は、冷媒容器16の下端に設けられたワーク保持具28と、冷媒容器16の中途部に設けられたスペーサ29とから構成されている。
前記ワーク保持具28の上面に円筒状ワーク2が載置され、スペーサ29により同心に位置合わせされる。ワーク2は、駆動手段13により冷媒容器16が回転し、それに伴い、ワーク2が自転するので、前記ワーク保持具28は、自転テーブル11と同じ機能を備えている。
図5、6に示すものは、本発明の他の実施の形態である。
この実施の形態では、冷却装置4がワーク保持装置10に設けられている。
即ち、真空チャンバ1の底部5に、ワーク保持装置10の公転テーブル21の公転軸22が真空シール絶縁30を介して回転自在に支持されている。公転軸22の下端は、駆動手段13のモータにギヤを介して連動連結されている。
この冷媒容器16の下部に自転テーブル11が軸受手段31のベアリングを介して回転自在に支持されている。この自転テーブル11の上面が、筒状ワーク2の載置面とされている。自転テーブル11の下部に小ギヤ32が形成されている。この小ギヤ32に噛合する内歯を有した大ギヤ33が、前記公転軸22の軸心と同心状に、チャンバ1の底部5に絶縁物34を介して設けられている。
なお、前記公転軸22にバイアス電源20が接続され、自転テーブル11上のワーク2にバイアス電源20の陰極が印加される。
前記構成によれば、冷却装置4がワーク保持装置10を兼用することになるので、ワーク2を自転テーブル11上に載置することにより、冷却装置4も同時にセットされることになり、作業のセッチング時間が短縮される。
又この実施の形態では、ワーク2の装着が上方から行えるので、ワークの装着が容易になる。
ロッド状の蒸発源3を中心に配した形態の装置では、蒸発源3の中心軸に対してチャンバ(陽極)1の構造等が厳密には軸対称とならないため、ロッド型蒸発源3から蒸発する粒子の拡散状態は周方向に均一にならず、前記図1の形態では、ワーク間で(各自転軸の間で)少なくとも数パーセント程度の膜厚のバラツキが出るが、図5に示す実施の形態では、ワーク2を自転させ且つ蒸発源3の回りに公転させるので、ワーク間の膜厚バラツキは解消される。
図7に示すものは、本発明装置で使用可能なワーク2の各種形状を示している。図7(a)は、リング状のピストンリングを上下方向に積層して一体化したものである。同図(b)は、軸線方向に複数に分割した筒体である。このような各種ワークは、筒状体ワークとして、本発明装置に使用できる。
ワーク:外径90mm、厚み3mm、高さ600mmの円筒体。
冷媒容器:材質はSUS、冷媒は水温27℃の水。
成膜条件:アーク電流は、500A×2台で、1000A、バイアス電圧は15V、ガス(窒素)圧は3Pa。
を共通の条件とし、ワーク2と冷媒容器16の隙間を変えた場合と、冷媒容器16なしの場合のワーク2の温度を比較した。温度測定は、ワーク温度が十分に定常状態となる放電開始2時間後に行った。実験結果を表1に示す。
従って、ワーク内周面と冷媒容器外周面の隙間は、100mm以下、望ましくは、30mm以下で、5mm以上とするのがよい。
なお、本発明は、前記実施の形態に示したものに限定されるものではなく、真空アーク成膜法に限らず、その他のPVD法に適用されるものであり、またワークの形状は円筒状物に限らず、冷却装置を挿入できる内部空間を有するものであればよい。また内部空間を有さない中実ワークであっても、その配置により中空部材と同じ冷却を行いつつ成膜することができる。
2 ワーク
3 蒸発源
4 冷却装置
10 ワーク保持装置
11 自転テーブル
12 自転軸
14 開口部
15 内部空間
16 冷媒容器
21 移動手段(公転テーブル)
22 公転軸
Claims (12)
- 真空チャンバ内に、ワークに被膜を形成するための蒸発源と該ワークを冷却するための冷却装置とを有した成膜装置において、
前記ワークは、開口部を介して外部に連通する内部空間を有し、前記冷却装置は、前記ワークの開口部から内部空間へ挿脱自在とされて該ワークを内部から冷却するように構成されていることを特徴とする成膜装置。 - 前記冷却装置は、内部に冷却媒体を流す冷媒容器を有することを特徴とする請求項1記載の成膜装置。
- 前記ワークの内部空間は直線状軸心を有する筒状に形成されており、前記冷媒容器は前記内部空間に挿入される筒状に形成されていることを特徴とする請求項2記載の成膜装置。
- 前記ワークの内周面と前記冷媒容器の外周面との隙間が、100mm以下とされていることを特徴とする請求項3記載の成膜装置。
- 前記ワークを着脱自在に保持するワーク保持装置を有し、該ワーク保持装置は、前記内部空間の軸心である自転軸回りにワークを自転させる自転テーブルを有することを特徴とする請求項3又は4記載の成膜装置。
- 前記ワーク保持装置は、前記自転テーブルとは別に前記ワークを移動させる移動手段を有し、前記冷媒容器は、前記移動手段によるワークの移動に追従して移動するように設けられていることを特徴とする請求項5記載の成膜装置。
- 前記移動手段は公転軸回りに回転する公転テーブルを有し、該公転テーブルに前記自転テーブルが設けられていることを特徴とする請求項6記載の成膜装置。
- 前記冷媒容器は、前記公転テーブルに設けられていることを特徴とする請求項7記載の成膜装置。
- 前記真空チャンバは底部を有し、該底部に前記公転テーブルが公転軸を縦軸姿勢として設けられ、該公転テーブルの上面に前記自転テーブルが公転軸を中心とする同心円周上に周方向等間隔を有して設けられ、前記冷媒容器は、前記自転軸心部に設けられていることを特徴とする請求項8記載の成膜装置。
- 前記ワークは、同心円周上に複数配置され、前記冷却装置は、前記同心円の中心部に配置されていることを特徴とする請求項1記載の成膜装置。
- 真空チャンバ内に、ワークに被膜を形成するための蒸発源と該ワークを冷却するための冷却装置とを有した成膜装置を用いて、前記ワークに成膜する方法において、
前記冷却装置を前記ワークの内部に挿脱自在に挿入して該ワークの内部から該ワークを冷却しつつ、該ワークの外周面に成膜を行うことを特徴とする成膜方法。 - ワーク内部に冷却装置を挿入した状態で、ワークを自転させ且つ公転させることを特徴とする請求項11記載の成膜方法。
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