JP2004153047A - 相変化型メモリ素子およびその製造方法 - Google Patents
相変化型メモリ素子およびその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2004153047A JP2004153047A JP2002317184A JP2002317184A JP2004153047A JP 2004153047 A JP2004153047 A JP 2004153047A JP 2002317184 A JP2002317184 A JP 2002317184A JP 2002317184 A JP2002317184 A JP 2002317184A JP 2004153047 A JP2004153047 A JP 2004153047A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrodes
- phase change
- layer
- phase
- recording material
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000008859 change Effects 0.000 title claims abstract description 117
- 230000015654 memory Effects 0.000 title claims abstract description 73
- 238000000034 method Methods 0.000 title abstract description 25
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title abstract description 22
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 76
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 claims description 5
- 150000004770 chalcogenides Chemical class 0.000 claims description 5
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 claims description 5
- 239000011368 organic material Substances 0.000 claims description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 abstract description 10
- 230000010354 integration Effects 0.000 abstract description 6
- 238000009413 insulation Methods 0.000 abstract description 3
- 239000012774 insulation material Substances 0.000 abstract 2
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 109
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 31
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 6
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 6
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 6
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 5
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 4
- 230000006870 function Effects 0.000 description 4
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 3
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 3
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 3
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 3
- MLOXIXGLIZLPDP-UHFFFAOYSA-N 2-amino-1h-imidazole-4,5-dicarbonitrile Chemical compound NC1=NC(C#N)=C(C#N)N1 MLOXIXGLIZLPDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012782 phase change material Substances 0.000 description 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 2
- FNKWYSRJIINZKW-UHFFFAOYSA-N 4-[(3-nitrophenyl)methylideneamino]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1N=CC1=CC=CC([N+]([O-])=O)=C1 FNKWYSRJIINZKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TUDPMSCYVZIWFW-UHFFFAOYSA-N [Ti].[In] Chemical compound [Ti].[In] TUDPMSCYVZIWFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000053 physical method Methods 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 239000012462 polypropylene substrate Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001947 vapour-phase growth Methods 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C13/00—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00
- G11C13/0002—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00 using resistive RAM [RRAM] elements
- G11C13/0004—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00 using resistive RAM [RRAM] elements comprising amorphous/crystalline phase transition cells
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N70/00—Solid-state devices having no potential barriers, and specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching
- H10N70/011—Manufacture or treatment of multistable switching devices
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N70/00—Solid-state devices having no potential barriers, and specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching
- H10N70/20—Multistable switching devices, e.g. memristors
- H10N70/231—Multistable switching devices, e.g. memristors based on solid-state phase change, e.g. between amorphous and crystalline phases, Ovshinsky effect
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N70/00—Solid-state devices having no potential barriers, and specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching
- H10N70/801—Constructional details of multistable switching devices
- H10N70/821—Device geometry
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N70/00—Solid-state devices having no potential barriers, and specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching
- H10N70/801—Constructional details of multistable switching devices
- H10N70/821—Device geometry
- H10N70/823—Device geometry adapted for essentially horizontal current flow, e.g. bridge type devices
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N70/00—Solid-state devices having no potential barriers, and specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching
- H10N70/801—Constructional details of multistable switching devices
- H10N70/821—Device geometry
- H10N70/826—Device geometry adapted for essentially vertical current flow, e.g. sandwich or pillar type devices
- H10N70/8265—Device geometry adapted for essentially vertical current flow, e.g. sandwich or pillar type devices on sidewalls of dielectric structures, e.g. mesa-shaped or cup-shaped devices
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N70/00—Solid-state devices having no potential barriers, and specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching
- H10N70/801—Constructional details of multistable switching devices
- H10N70/881—Switching materials
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N70/00—Solid-state devices having no potential barriers, and specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching
- H10N70/801—Constructional details of multistable switching devices
- H10N70/881—Switching materials
- H10N70/882—Compounds of sulfur, selenium or tellurium, e.g. chalcogenides
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C2213/00—Indexing scheme relating to G11C13/00 for features not covered by this group
- G11C2213/70—Resistive array aspects
- G11C2213/71—Three dimensional array
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10B—ELECTRONIC MEMORY DEVICES
- H10B63/00—Resistance change memory devices, e.g. resistive RAM [ReRAM] devices
- H10B63/20—Resistance change memory devices, e.g. resistive RAM [ReRAM] devices comprising selection components having two electrodes, e.g. diodes
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10B—ELECTRONIC MEMORY DEVICES
- H10B63/00—Resistance change memory devices, e.g. resistive RAM [ReRAM] devices
- H10B63/80—Arrangements comprising multiple bistable or multi-stable switching components of the same type on a plane parallel to the substrate, e.g. cross-point arrays
- H10B63/84—Arrangements comprising multiple bistable or multi-stable switching components of the same type on a plane parallel to the substrate, e.g. cross-point arrays arranged in a direction perpendicular to the substrate, e.g. 3D cell arrays
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Semiconductor Memories (AREA)
Abstract
【解決手段】相変化型メモリ素子を、絶縁層を介して配設された2以上の電極と、絶縁層と電極の少なくとも一部が露出している表出面と、少なくとも2つの電極に接触するように表出面上に設けられた相変化記録材料層と、を備えるものとし、この相変化型メモリ素子の製造方法は、2以上の電極を絶縁材料により離間させて配設する工程と、絶縁材料と電極の少なくとも一部が露出する表出面を形成する工程と、この表出面上に電極の少なくとも2つに接触する相変化記録材料層を形成する工程と、を有するものとした。
【選択図】 図1
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は消去可能型不揮発性メモリ素子、特に相変化型メモリ素子と、その製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
【特許文献1】特開平5−21740号公報
【特許文献2】特開平4−45583号公報
【特許文献3】特開平4−45585号公報
電気的に書き換え可能であり、かつ、消去可能である相変化する材料、例えば、ほぼ非晶質(アモルファス)状態とほぼ結晶質状態との間、または、結晶質状態に維持されながら異なる抵抗状態の間で電気的にスイッチングできる材料を記録材料として使用した相変化型メモリ素子が特許文献1に開示されている。
【0003】
特許文献1に開示されている相変化型メモリ素子では、電極間に記録材料(相変化材料)が配設され、電極と記録材料の間に所定の大きさの開口を有する絶縁層が介在した構造となっている。そして、電極間にセットパルスを印加してオン状態とし、リセットパルスの印加によりオフ状態に戻される。しかし、電圧印加により記録材料に生じる電流パスの直径は2〜3μmに達するため相変化領域の体積が大きく、オン状態からオフ状態に戻すリセットパルスとして大きな電流パルスが必要であるという問題があった。また、記録材料の相変化領域を除く部分は非晶質状態となっていることが必要であり、このため、相変化型メモリ素子を記録材料の結晶化温度以下で製造する必要があり、例えば、駆動回路を構成するトランジスタやダイオードの製造時の温度が制約を受けるという問題があった。
一方、特許文献2には、内径0.1〜1.5μmのコンタクトホールを設けた絶縁層の一方の面に、コンタクトホール内を充填するように記録材料層を設け、この記録材料層と絶縁層を下部電極と上部電極で挟持した構造の相変化型メモリ素子が開示されている。また、特許文献3には、上下の電極間に記録材料を直径0.1〜1.5μmの柱状に形成し、この記録材料の周囲に絶縁層を形成した構造の相変化型メモリ素子が開示されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、特許文献2、3に開示の相変化型メモリ素子では、オン状態からオフ状態に戻すためのリセットパルスの電流は比較的小さくなり、また、プロセス温度の制約もなくなるものの、内径0.1〜1.5μmのコンタクトホールの形成や、直径0.1〜1.5μmの柱状に記録材料を形成することは、高度な技術を要するため、歩留りが低いという問題があった。また、記録材料を充填するためのコンタクトホールの内径を小さくすること、あるいは、記録材料の直径を小さくすることは、製造技術上の限界があり、特許文献2、3に開示されるような構造の相変化型メモリ素子において集積度を向上させるには限界があった。
本発明は、このような実情に鑑みてなされたものであり、オン状態からオフ状態に戻すためのリセットパルスの電流値が小さく、集積度の向上が可能であり、また、製造時のプロセス温度の制約がなく、製造が簡便な相変化型メモリ素子と、その製造方法を提供することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】
このような目的を達成するために、本発明の相変化型メモリ素子は、絶縁層を介して配設された2以上の電極と、前記絶縁層と前記電極の少なくとも一部が露出している表出面と、少なくとも2つの前記電極に接触するように前記表出面上に設けられた相変化記録材料層と、を備えるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記表出面は平面、多平面および曲面の少なくとも1つで構成されているような構成とした。
本発明の他の態様として、前記相変化記録材料層は厚みが1〜1000nmの範囲であるような構成とした。
【0006】
本発明の他の態様として、1個のメモリ領域を構成する一対の電極間の前記絶縁層の厚みが10〜1000nmの範囲であるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記相変化記録材料層はカルゴゲナイドの少なくとも1種を含有するような構成、あるいは、前記相変化記録材料層は有機材料からなるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記表出面と前記相変化記録材料層との間にバリア層および/または熱制御層が存在するような構成とした。
また、本発明の相変化型メモリ素子の製造方法は、2以上の電極を絶縁材料により離間させて配設する工程と、前記絶縁材料と前記電極の少なくとも一部が露出する表出面を形成する工程と、該表出面上に前記電極の少なくとも2つに接触する相変化記録材料層を形成する工程と、を有するような構成とした。
【0007】
【発明の実施の形態】
以下、本発明について図面を参照しながら説明する。
相変化型メモリ素子
図1は、本発明の相変化型メモリ素子の基本的構成を示す一例の平面図であり、図2は図1に示される相変化型メモリ素子のII−II線における縦断面図である。図1および図2において、相変化型メモリ素子1は、基板2とこの基板2の一方の面に配設された電極4、この電極4に絶縁層3を介して配設された電極5、この電極4と絶縁層3と電極5の積層体を覆うように形成されている絶縁層3′を備え、さらに、上記の電極4の端面4aと、絶縁層3の端面3aと、電極5の端面5aとが露出している平面である表出面7に相変化記録材料層8を備えている。表出面7に設けられた相変化記録材料層8は、絶縁層3の端面3aによって離間されている電極4の端面4aと電極5の端面5aに接触するものである。
【0008】
この相変化型メモリ素子1では、一対の電極4、5と相変化記録材料層8が1個のメモリ領域を構成する。そして、一対の電極4と電極5の間にセットパルスを印加すると、表出面7に沿った電流パスが相変化記録材料層8中に生じて相変化領域8aとなる。この相変化領域8aでは、ジュール熱が発生して非晶質状態から結晶質状態に相変化し、抵抗値が低下して相変化型メモリ素子1がオン状態となる。また、電極4と電極5の間にリセットパルスを印加すると、上記の相変化領域8aにジュール熱が発生し、その熱が周囲の相変化記録材料層8に奪われて急冷されて結晶質状態から非晶質状態に相変化して戻り、抵抗値が高くなって相変化型メモリ素子1がオフ状態となる。このような相変化型メモリ素子1の読み取りは、例えば、電極4にリードパルスを印加し、相変化領域8aのオン状態、オフ状態に対応して変化する電極5の出力を読み取ることで行うことができる。
【0009】
このように、本発明の相変化型メモリ素子1は、相変化記録材料層8中に生じる電流パスが表出面7に沿ったものとなり、オン状態とオフ状態との間を可逆的に変化する相変化領域8aの体積は小さいものである。したがって、オン状態からオフ状態に戻すためのリセットパルスの電流値は小さいものとなる。また、相変化記録材料層8の形成は、相変化型メモリ素子1の製造の最終工程となるため、それ以前のプロセス温度の制約はないものとなる。
【0010】
本発明の相変化型メモリ素子1を構成する基板2は、単結晶半導体基板、ガラス基板、シリコンウエハ、ポリカーボネート基板、アクリル基板、ポリエチレンテレフタレート基板、ポリプロピレン基板、フィルム等とすることができる。また、絶縁層3、3′は、酸化珪素(SiOx)、アルミナ、ステアタイト、ポリイミド、ポリエチレン、ポリプロピレン、四フッ化エチレン、ポリ塩化ビニル、ガラス等の従来公知の絶縁材料を使用することができる。電極4と電極5を離間させるための絶縁層3の厚みT1は、10〜1000nm、好ましくは10〜300nmの範囲で設定することができる。絶縁層3の厚みが10nm未満であると、電極間の絶縁が不充分となったり、製造歩留りが低下し、また、絶縁層3の厚みが1000nmを超えると集積度の向上に支障を来すので好ましくない。
【0011】
また、相変化型メモリ素子1を構成する電極4、5は、Ni、Al、Au、Cu、Ag、Mo、Ti、W、Ta、Crおよびこれらの合金、あるいは、酸化インジウムスズ(ITO)、インジウムチタン(IT)、酸化亜鉛(ZnO)等の透明導電材料等の従来公知の導電材料を使用することができる。このような電極4、5の厚みT2は、10〜1000nm、好ましくは10〜300nmの範囲で設定することができる。また、電極4、5の幅Wは、0.05〜15μm、好ましくは0.05〜1.0μmの範囲で設定することができる。
【0012】
相変化型メモリ素子1を構成する相変化記録材料層8は、カルゴゲナイド、Te、S、Se、Ge、Sb、In、Ga、Bi、Ag、Pb、Sn、As、Si、P、Oから選択された合金および混合物等の無機材料、2−アミノ−4,5−イミダゾールジカーボニトリル(AIDCN)、N−(3−ニトロベンジリデン)−P−フェニレンジアミン(NBPDA)等の有機材料を使用することができる。図示例では、相変化記録材料層8が表出面7の全面に形成されているが、本発明はこれに限定されず、電極4の端面4aと電極5の端面5aに接触するものであれば制限はない。また、相変化記録材料層8の厚みは1〜1000nm、好ましくは1〜500nmの範囲で設定することができる。
【0013】
上述の例では、電極4の端面4aと、絶縁層3の端面3aと、電極5の端面5aとが露出している表出面7が平面であるが、本発明はこれに限定されるものではなく、例えば、各端面4a、端面3a、端面5aがそれぞれ平面であり、かつ、これらが所定の角度で連続するような多平面形状、あるいは、表出面7が曲面であるような形状であってもよい。
また、図示例では、電極4、5が伸長する方向(図2に矢印aで示される方向)と表出面7とがなす角度が90°であるが、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、図3に示されるように、電極4、5が伸長する方向(図3に矢印aで示される方向)と表出面7とがなす角度θが90°未満であってもよい。
【0014】
また、本発明では、上記の相変化型メモリ素子1において、バリア層および熱制御層の少なくとも一方を介して相変化記録材料層8を表出面7上に配設してもよい。バリア層と熱制御層の両層を形成する場合、表出面7側に熱制御層が位置するように積層することが好ましい。バリア層は相変化記録材料層8と電極4、5との導通を保つとともに、相変化記録材料層8への異物の拡散、もしくは、相変化記録材料の他層への拡散を防止する作用をなすものであり、例えば、Ti、V、Cr、Zr、Nb、Mo、Hf、Ta、W、B、C、N、O、Al、Si、P、S、Niおよびこれらの合金、あるいは、これらの組み合わせからなる材料で形成することができる。また、熱制御層は発生した熱の放冷を制御する作用をなすものであり、C、F、O、N、Si、Hf、Al2O3およびこれらの合金、あるいは、これらの組み合わせからなる材料で形成することができる。
【0015】
本発明の相変化型メモリ素子は、基板を備えないものであってもよい。図4は、このような相変化型メモリ素子の一例を示す斜視図である。図4において、相変化型メモリ素子11は、絶縁層13を介して対向するように配設された1組の電極14、15と、この絶縁層13と電極14、15との積層体を封止するように形成されている絶縁体16を備え、さらに、上記の絶縁層13の端面13aと、電極14の端面14aと、電極15の端面15aとが露出している平面である表出面17に相変化記録材料層18を備えている。尚、図示例では、相変化記録材料層18は仮想線(2点鎖線)で示されており、表出面17の全面に設けられているが、この相変化記録材料層18は、絶縁層13の端面13aによって離間されている電極14、15の端面14a、15aに接触するものであればよく、配設位置、大きさ等には特に制限はない。
【0016】
上述の例では説明を容易とするために1組の電極と1つの相変化記録材料層で構成される1個のメモリ領域を示しているが、本発明の相変化型メモリ素子は複数のメモリ領域を備えてもよいことは勿論である。図5は、本発明の相変化型メモリ素子の他の例を示す斜視図であり、相変化型メモリ素子21は、絶縁層23と、この絶縁層23のほぼ中央に形成された凹部26とを備え、凹部26の各側壁面は複数の電極24、25の端面が露出した表出面27を構成している。各電極24と電極25と間には絶縁層23が介在しており、表出面27上には、図示されていない相変化記録材料層を備えている。これにより、相変化型メモリ素子21では、凹部26内に複数のメモリ領域が形成されている。また、図6は、本発明の相変化型メモリ素子の他の例を示す斜視図であり、相変化型メモリ素子31は、絶縁層33と、この絶縁層33の各側壁面に端部が露出している複数の電極34、35を備えている。各電極34と電極35と間には絶縁層33が介在しており、この絶縁層33の各側壁面が表出面37を構成し、図示されていない相変化記録材料層が表出面37上に形成されている。これにより、相変化型メモリ素子31では、絶縁層33の側壁面に複数のメモリ領域が形成されている。
【0017】
上述のように絶縁層によって離間された電極が複数組存在する場合、電極を所定の規則性をもって配置することができる。図7および図8はこのような電極の配置例を示すものであり、図7では、絶縁層43に電極44、45がそれぞれ格子型となるように配置されている表出面47が示されている。また、図8では、絶縁層43に電極44、45がそれぞれ市松型となるように配置されている表出面47が示されている。図8に示される例では、1組の電極を構成する電極44と電極45(図中に鎖線で囲んだ1組の電極)の距離が、各電極のコーナー部44′と45′との間で著しく小さいものとなり、電界強度を大きくすることができ、リセットパルスの電流をより少ないものとすることができる。
【0018】
図9は、本発明の相変化型メモリ素子の他の例を示す斜視図である。図9において、相変化型メモリ素子51は、3つの絶縁層53a,53b,53cが端部側の上面53a′,53b′,53c′を露出させて階段形状となるように積層され、各絶縁層の露出している上面53a′,53b′,53c′には、それぞれ所定の間隔で配設されている電極54a,54b,54cが露出している。そして、電極54aが露出している絶縁層53aの上面53a′と、絶縁層53bの端面53b″と、電極54bが露出している絶縁層53bの上面53b′の3つの面が1つの表出面57aを構成し、この表出面57aに電極54aと54bを覆うように相変化記録材料層58a(図示例では鎖線で示してある)が設けられている。同様に、電極54bが露出している絶縁層53bの上面53b′と、絶縁層53cの端面53c″と、電極54cが露出している絶縁層53cの上面53c′の3つの面が1つの表出面57bを構成し、この表出面57bに電極54bと54cを覆うように相変化記録材料層58b(図示例では鎖線で示してある)が設けられている。尚、絶縁層の層数は図示例では3層であるが、これに限定されるものではない。
【0019】
この相変化型メモリ素子51では、一対の電極54a、54bと相変化記録材料層58aが1個のメモリ領域を構成し、一対の電極54b、54cと相変化記録材料層58bが1個のメモリ領域を構成することにより、複数のメモリ領域(図示例では8個)を備えるものとなっている。そして、一対の電極54aと電極54bの間に、あるいは、一対の電極54bと電極54cの間にセットパルスを印加すると、相変化記録材料層58aあるいは58b中に、表出面57a,57bに沿った電流パスが生じ相変化領域となり、非晶質状態から結晶質状態に相変化し、抵抗値が低下してオン状態となる。また、一対の電極54aと電極54bの間に、あるいは、一対の電極54bと電極54cの間にリセットパルスを印加すると、相変化記録材料層58aあるいは58b中の相変化領域が結晶質状態から非晶質状態に相変化して戻り、抵抗値が高くなってオフ状態となる。
【0020】
また、図10は、本発明の相変化型メモリ素子の他の例を示す斜視図である。図10において、相変化型メモリ素子61は、3つの絶縁層63a,63b,63cが端部側の上面63a′,63b′,63c′を露出させて階段形状となるように積層されている。絶縁層63aの上面63a′には、所定の間隔で複数組配設されている一対の電極64a,65aが露出している。同様に、絶縁層63bの上面63b′には電極64b,65bが露出しており、絶縁層63cの上面63c′には電極64c,65cが露出している。そして、電極64a,65aが露出している絶縁層63aの上面63a′が1つの表出面67aを構成し、この表出面67aに電極64a,65aを覆うように相変化記録材料層68a(図示例では鎖線で示してある)が設けられている。同様に、電極64b,65bが露出している絶縁層63bの上面63b′が1つの表出面67bを構成し、この表出面67bに電極64b,65bを覆うように相変化記録材料層68b(図示例では鎖線で示してある)が設けられている。また、電極64c,65cが露出している絶縁層63cの上面63c′が1つの表出面67cを構成し、この表出面67cに電極64c,65cを覆うように相変化記録材料層68c(図示例では鎖線で示してある)が設けられている。尚、絶縁層の層数は図示例では3層であるが、これに限定されるものではない。
【0021】
この相変化型メモリ素子61では、一対の電極64a、65aと相変化記録材料層68a、一対の電極64b、65bと相変化記録材料層68b、一対の電極64c、65cと相変化記録材料層68cがそれぞれ1個のメモリ領域を構成することにより、複数のメモリ領域(図示例では6個)を備えるものとなっている。そして、例えば、一対の電極64aと電極65aの間にセットパルスを印加すると、相変化記録材料層68a中に、表出面67aに沿った電流パスが生じ相変化領域となり、非晶質状態から結晶質状態に相変化し、抵抗値が低下してオン状態となる。また、一対の電極64aと電極65aの間にリセットパルスを印加すると、相変化記録材料層68a中の相変化領域が結晶質状態から非晶質状態に相変化して戻り、抵抗値が高くなってオフ状態となる。
【0022】
また、本発明の相変化型メモリ素子は、絶縁層で離間された一対の電極と相変化記録材料層からなる個々のメモリ領域を電気的に分離する集積回路手段を備えるものであってもよい。このような集積回路手段は、例えば、トランジスタ、ダイオード等の公知の素子を備えるものとすることができる。図11は、ダイオードを備えた集積回路手段に9個のメモリ領域を接続するための各メモリ領域から伸長する電極の構成例を示す斜視図である。図11に示されるように、相変化型メモリ素子71は、基板72と、この基板72上に配設された第1層目の3本の電極74aと、第2層目の3本の電極75aと、第3層目の3本の電極74bと、第4層目の3本の電極75bと、第5層目の3本の電極74cと、第6層目の3本の電極75cと、各電極間に介在する絶縁層73とを備えている。そして、上記の6層、計18本の電極の端面と絶縁層の端面が露出している表出面77に相変化記録材料層(図示せず)が形成されている。
【0023】
上記の相変化型メモリ素子71では、第1層目の3本の電極74aは基板72に形成された電極72aの所定位置に配設された3個のダイオード(図示せず)に接続され、第3層目の3本の電極74bは基板72に形成された電極72bの所定位置に配設された3個のダイオード(図示せず)に接続され、第5層目の3本の電極74cは基板72に形成された電極72cの所定位置に配設された3個のダイオード(図示せず)に接続されている。
また、相変化型メモリ素子71では、第2層目の3本の電極75aと第6層目の3本の電極75cは絶縁層73内を絶縁層側壁面73aまで引き出され、基板72上の端子部75′に接続されている。また、第4層目の3本の電極75bも絶縁層73内を絶縁層側壁面73aまで引き出され、基板72上の端子部75″に接続されている。
【0024】
上述の6層の電極を、図12〜14を参照して更に詳しく説明する。
図12は第1層目の3本の電極74aと第2層目の3本の電極75aの配設状態を示す斜視図である。図12において、第1層目の3本の電極74aは基板72に形成された電極72aの所定位置に配設された3個のダイオード76aに接続するように伸長されている。また、絶縁層73(一点鎖線で示されている)を介して第1層目の3本の電極74a上に配設されている第2層目の3本の電極75aは、絶縁層側壁面73a方向に引き出され、絶縁層側壁面73aを、基板72上の端子部75′に接続するように伸長されている。
【0025】
また、図13は第3層目の3本の電極74bと第4層目の3本の電極75bの配設状態を示す斜視図である。図13において、第3層目の3本の電極74bは、第2層目の3本の電極75aを覆うように形成された絶縁層73上を絶縁層後壁面73b方向に伸長され、絶縁層後壁面73bを、基板72に形成された電極72bの所定位置に配設された3個のダイオード76bに接続するように伸長されている。また、絶縁層73(一点鎖線で示されている)を介して第3層目の3本の電極74b上に配設されている第4層目の3本の電極75bは、絶縁層側壁面73a方向に引き出され、絶縁層側壁面73aを、基板72上の端子部75″に接続するように伸長されている。尚、3個の端子部75″は上記の3個の端子部75′と共通としてもよい。
【0026】
また、図14は第5層目の3本の電極74cと第6層目の3本の電極75cの配設状態を示す斜視図である。図14において、第5層目の3本の電極74cは、第4層目の3本の電極75bを覆うように形成された絶縁層73上を絶縁層後壁面73b方向に伸長され、絶縁層後壁面73bを、基板72に形成された電極72cの所定位置に配設された3個のダイオード76cに接続するように伸長されている。また、絶縁層73(一点鎖線で示されている)を介して第5層目の3本の電極74c上に配設されている第6層目の3本の電極75cは、絶縁層側壁面73a方向に引き出され、絶縁層側壁面73aを、第2層目の3本の電極75aとともに基板72上の端子部75′に接続するように伸長されている。
これにより、第1層目の3本の電極74aの各端面と第2層目の3本の電極75aの各端面から3個のメモリ領域A1,A2,A3(図中に鎖線で囲まれる領域)が構成される。同様に、第3層目の3本の電極74bの各端面と第4層目の3本の電極75bの各端面から3個のメモリ領域B1,B2,B3(図中に鎖線で囲まれる領域)が構成され、第5層目の3本の電極74cの各端面と第6層目の3本の電極75cの各端面から3個のメモリ領域C1,C2,C3(図中に鎖線で囲まれる領域)が構成される。
【0027】
また、上述の例では、第2層目の3本の電極75aと第6層目の3本の電極75cが接続されている基板72上の端子部75′と、第4層目の3本の電極75bが接続されている基板72上の端子部75″とが電気的に独立しているので、メモリ領域の変更が可能である。すなわち、第2層目の3本の電極75aの各端面と第3層目の3本の電極74bの各端面から3個のメモリ領域を構成することができ、第4層目の3本の電極75bの各端面と第5層目の3本の電極74cの各端面から3個のメモリ領域を構成することができる。
本発明の相変化型メモリ素子は、外部環境の影響が及ぶのを防止するために、相変化記録材料層や露出している電極等を覆うように封止してもよい。封止部材としては、エポキシ系、シリコン系等の封止部材を使用することができる。
【0028】
相変化型メモリ素子の製造方法
次に、本発明の相変化型メモリ素子の製造方法について、上述の図1および図に示される相変化型メモリ素子を例として説明する。
図15および図16は、本発明の相変化型メモリ素子の製造方法を説明するための工程図である。本発明では、まず、単結晶半導体基板、ガラス基板等の基板2上にNi、Al、Au等の導電材料を使用して導電層を形成し、この導電層をフォトグラフィー法等によりパターニングして電極層4を形成する(図15(A))。
【0029】
次いで、電極層4を覆うように基板2上に酸化珪素(SiOx)、アルミナ、ポリイミド等の絶縁層3を積層する(図15(B))。絶縁層3の形成は、気相成長法、液相成長法等の化学的方法や、コーティング法、真空蒸着法、スパッタリング法等の物理的方法等により行うことができる。さらに、上記の絶縁層3上にNi、Al、Au等の導電材料を使用して導電層を形成し、この導電層をフォトグラフィー法等によりパターニングして電極層5を形成する(図15(C))。これにより、電極4と電極5が絶縁層3により離間されて配設される。
次に、電極層5を覆うように絶縁層3上に酸化珪素(SiOx)、アルミナ、ポリイミド等の絶縁層3′を積層する(図16(A))。その後、電極4,5の伸長方向(図16(A)に矢印aで示される方向)に対して垂直に絶縁層3の端面3a、電極4の端面4a、および、電極5の端面5aが露出する表出面を形成する(図16(B))。この表出面7の形成は、エッチング、ワイヤーカッター等の機械的な切断や破断、マスキングイオンビームによる削り出し等により行うことができる。
【0030】
次いで、表出面7に相変化記録材料層8を形成する(図16(C))。相変化記録材料層8の形成は、コーティング法、真空蒸着法、スパッタリング法、プラズマCVD法、イオンプレーティング法等により行うことができる。形成する相変化記録材料層8の厚みは1〜1000nm、好ましくは1〜500nmの範囲とすることができ、本発明では、相変化記録材料層8の薄膜化、および、厚み制御が容易である。
上述のような本発明の製造方法は、電極4、5間の距離を決定する絶縁層3の厚みをナノオーダーで制御できる。このため、従来の相変化型メモリ素子に比べてメモリ領域の集積度を高くすることができる。また、コンタクトホールの形成工程や柱状の相変化記録材料の形成工程が不要であり、製造が簡便である。
【0031】
【実施例】
次に、実施例を示して本発明を更に詳細に説明する。
[実施例1]
ガラス基板上にスパッタリング法によりNiの導電層を形成し、この導電層をフォトグラフィー法によりパターニングして厚み200nm、幅1.0μmのストライプ状の電極層を形成した。次に、この電極層を覆うようにガラス基板上にSiO2からなる絶縁層(電極層上の厚み200nm)をプラズマCVD法により形成した。その後、この絶縁層3上にスパッタリング法によりNiの導電層を形成し、この導電層をフォトグラフィー法によりパターニングして厚み200nm、幅1.0μmのストライプ状の電極層を上記の電極層に対して絶縁層を介して対向するように形成した。これにより、厚み200nmの2つのストライプ状の電極層が厚み200nmの絶縁層により離間された積層構造を形成した。
【0032】
次に、電極層を覆うように絶縁層上にSiO2からなる絶縁層(厚み0.2μm)をプラズマCVD法により形成した。
次いで、上記のストライプ状の電極の伸長方向に対し垂直な面でワイヤーカッターによりガラス基板、電極層、絶縁層を切断し、断面を研磨して電極の端面が露出する表出面を形成した。
次に、この表出面上にスパッタリング法によりカルコゲナイド(TeSb)合金の薄膜を成膜して、相変化記録材料層(厚み200nm)を形成し、相変化型メモリ素子を作製した。
【0033】
上述のように作製した相変化型メモリ素子について、書き込み、読み取り、消去、読み取りを行った。すなわち、電極間にセットパルス電流(1.0mA)を印加してオン状態とした後にリードパルス電流(0.01mA)を印加して読み取りを行い、次いで、電極間にリセットパルス電流(5.0mA)を印加してオン状態とした後にリードパルス電流(0.01mA)を印加して読み取りを行うことを1回の記録とし、この記録を30回繰り返し行った。その結果、オン状態での読み取り時の抵抗値の平均は約450Ωであり、オフ状態での読み取り時の抵抗値の平均は約1800Ωであった。このことから、本発明の相変化型メモリ素子は、低いリセットパルス電流であっても確実に機能することが確認された。
【0034】
[実施例2]
2つのストライプ状の電極層の厚みを50nm、幅を0.5μmとし、カルコゲナイド(TeSb)合金の薄膜からなる相変化記録材料層の厚みを10nmとした他は実施例1と同様にして相変化型メモリ素子を作製した。
上述のように作製した相変化型メモリ素子について、実施例1と同様に書き込み、読み取り、消去、読み取りを行った結果、オン状態での読み取り時の抵抗値の平均は約200Ωであり、オフ状態での読み取り時の抵抗値の平均は約800Ωであった。このことから、本発明の相変化型メモリ素子は、低いリセットパルス電流であっても確実に機能することが確認された。
【0035】
【発明の効果】
以上詳述したように、本発明によれば絶縁層と電極が露出している表出面に少なくとも2つの電極に接触するように相変化記録材料層が設けられているので、相変化記録材料層中の電流パスは上記表出面に沿ったものとなり、オン状態とオフ状態との間を可逆的に変化する相変化領域の体積は小さく、したがって、オン状態からオフ状態に戻すためのリセットパルスの電流値が小さいものとなり、かつ、相変化記録材料層の上記の相変化領域を除く部分は、非晶状態と結晶状態のいずれでもよいので、製造時のプロセス温度の制約がなく、また、電極間距離を決定する絶縁層の厚みはナノオーダーで制御できるため、従来の相変化型メモリ素子に比べて集積度が大幅に向上し、さらに、コンタクトホールや柱状の相変化記録材料を用いないので、製造が簡便であるという効果が奏される。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の相変化型メモリ素子の基本的構成を示す一例の平面図である。
【図2】図1に示される相変化型メモリ素子のII−II線における縦断面図である。
【図3】本発明の相変化型メモリ素子の他の例を示す斜視図である。
【図4】本発明の相変化型メモリ素子の他の例を示す斜視図である。
【図5】本発明の相変化型メモリ素子の他の例を示す斜視図である。
【図6】本発明の相変化型メモリ素子の他の例を示す斜視図である。
【図7】本発明の相変化型メモリ素子の表出面における電極の配置を示す図である。
【図8】本発明の相変化型メモリ素子の表出面における電極の配置を示す図である。
【図9】本発明の相変化型メモリ素子の他の例を示す斜視図である。
【図10】本発明の相変化型メモリ素子の他の例を示す斜視図である。
【図11】本発明の相変化型メモリ素子においてダイオードを備えた集積回路手段に9個のメモリ領域を接続するための各メモリ領域から伸長する電極の構成例を示す斜視図である。
【図12】図11に示される相変化型メモリ素子の第1層目の3本の電極と第2層目の3本の電極の配設状態を示す斜視図である。
【図13】図11に示される相変化型メモリ素子の第3層目の3本の電極と第4層目の3本の電極の配設状態を示す斜視図である。
【図14】図11に示される相変化型メモリ素子の第5層目の3本の電極と第6層目の3本の電極の配設状態を示す斜視図である。
【図15】本発明の相変化型メモリ素子の製造方法を説明するための工程図である。
【図16】本発明の相変化型メモリ素子の製造方法を説明するための工程図である。
【符号の説明】
1,11,21,31,51,61,71…相変化型メモリ素子
2…基板
3,13,23,33,43,53a,53b,53c,63a,63b,63c,73…絶縁層
4,5,14,15,24,25,34,35,44,45,54a,54b,54c,64a,65a,64b,65b,64c,65c,74a,75a,74b,75b,74c,75c…電極
7,17,27,37,47,57a,57b,67a,67b,67c,77…表出面
8,18,58a,58b,68a,68b,68c…相変化記録材料層
72a,72b,72c…電極
75′,75″…端子部
76a,76b,76c…ダイオード
Claims (8)
- 絶縁層を介して配設された2以上の電極と、前記絶縁層と前記電極の少なくとも一部が露出している表出面と、少なくとも2つの前記電極に接触するように前記表出面上に設けられた相変化記録材料層と、を備えることを特徴とする相変化型メモリ素子。
- 前記表出面は平面、多平面および曲面の少なくとも1つで構成されていることを特徴とする請求項1に記載の相変化型メモリ素子。
- 前記相変化記録材料層は厚みが1〜1000nmの範囲であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の相変化型メモリ素子。
- 1個のメモリ領域を構成する一対の電極間の前記絶縁層の厚みが10〜1000nmの範囲であることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の相変化型メモリ素子。
- 前記相変化記録材料層はカルゴゲナイドの少なくとも1種を含有することを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれかに記載の相変化型メモリ素子。
- 前記相変化記録材料層は有機材料からなることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれかに記載の相変化型メモリ素子。
- 前記表出面と前記相変化記録材料層との間にバリア層および/または熱制御層が存在することを特徴とする請求項1乃至請求項6のいずれかに記載の相変化型メモリ素子。
- 2以上の電極を絶縁材料により離間させて配設する工程と、前記絶縁材料と前記電極の少なくとも一部が露出する表出面を形成する工程と、該表出面上に前記電極の少なくとも2つに接触する相変化記録材料層を形成する工程と、を有することを特徴とする相変化型メモリ素子の製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002317184A JP4928045B2 (ja) | 2002-10-31 | 2002-10-31 | 相変化型メモリ素子およびその製造方法 |
US10/694,401 US6859389B2 (en) | 2002-10-31 | 2003-10-28 | Phase change-type memory element and process for producing the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002317184A JP4928045B2 (ja) | 2002-10-31 | 2002-10-31 | 相変化型メモリ素子およびその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004153047A true JP2004153047A (ja) | 2004-05-27 |
JP4928045B2 JP4928045B2 (ja) | 2012-05-09 |
Family
ID=32460639
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002317184A Expired - Fee Related JP4928045B2 (ja) | 2002-10-31 | 2002-10-31 | 相変化型メモリ素子およびその製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6859389B2 (ja) |
JP (1) | JP4928045B2 (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006253667A (ja) * | 2005-02-10 | 2006-09-21 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 記憶装置および半導体装置 |
US7550756B2 (en) | 2005-07-08 | 2009-06-23 | Elpida Memory, Inc. | Semiconductor memory |
JP2010502012A (ja) * | 2006-08-25 | 2010-01-21 | マイクロン テクノロジー, インク. | プログラマブルな抵抗メモリ装置、およびそれを用いた系、ならびにそれを形成する方法 |
US7778069B2 (en) | 2005-10-17 | 2010-08-17 | Renesas Technology Corp. | Semiconductor device and its fabrication method |
JP2011040579A (ja) * | 2009-08-11 | 2011-02-24 | Toshiba Corp | 抵抗変化メモリ |
US8604547B2 (en) | 2005-02-10 | 2013-12-10 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Memory element and semiconductor device |
KR20170021869A (ko) * | 2014-08-29 | 2017-02-28 | 인텔 코포레이션 | 상 변화 메모리 디바이스들의 재료들 및 컴포넌트들 |
Families Citing this family (146)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6612695B2 (en) * | 2001-11-07 | 2003-09-02 | Michael Waters | Lighted reading glasses |
US7425735B2 (en) * | 2003-02-24 | 2008-09-16 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Multi-layer phase-changeable memory devices |
US7402851B2 (en) * | 2003-02-24 | 2008-07-22 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Phase changeable memory devices including nitrogen and/or silicon and methods for fabricating the same |
US7115927B2 (en) * | 2003-02-24 | 2006-10-03 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Phase changeable memory devices |
DE10355561A1 (de) * | 2003-11-28 | 2005-06-30 | Infineon Technologies Ag | Halbleiteranordnung mit nichtflüchtigen Speichern |
JP4567963B2 (ja) * | 2003-12-05 | 2010-10-27 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体集積回路装置 |
CN100461482C (zh) * | 2004-11-17 | 2009-02-11 | 株式会社东芝 | 开关元件、线路转换设备和逻辑电路 |
US20060108667A1 (en) * | 2004-11-22 | 2006-05-25 | Macronix International Co., Ltd. | Method for manufacturing a small pin on integrated circuits or other devices |
KR100682908B1 (ko) * | 2004-12-21 | 2007-02-15 | 삼성전자주식회사 | 두개의 저항체를 지닌 비휘발성 메모리 소자 |
US7374174B2 (en) * | 2004-12-22 | 2008-05-20 | Micron Technology, Inc. | Small electrode for resistance variable devices |
US7221579B2 (en) * | 2005-06-13 | 2007-05-22 | International Business Machines Corporation | Method and structure for high performance phase change memory |
US7534647B2 (en) * | 2005-06-17 | 2009-05-19 | Macronix International Co., Ltd. | Damascene phase change RAM and manufacturing method |
US7514367B2 (en) * | 2005-06-17 | 2009-04-07 | Macronix International Co., Ltd. | Method for manufacturing a narrow structure on an integrated circuit |
US7321130B2 (en) | 2005-06-17 | 2008-01-22 | Macronix International Co., Ltd. | Thin film fuse phase change RAM and manufacturing method |
US7696503B2 (en) * | 2005-06-17 | 2010-04-13 | Macronix International Co., Ltd. | Multi-level memory cell having phase change element and asymmetrical thermal boundary |
US7238994B2 (en) * | 2005-06-17 | 2007-07-03 | Macronix International Co., Ltd. | Thin film plate phase change ram circuit and manufacturing method |
US7514288B2 (en) * | 2005-06-17 | 2009-04-07 | Macronix International Co., Ltd. | Manufacturing methods for thin film fuse phase change ram |
KR100637235B1 (ko) * | 2005-08-26 | 2006-10-20 | 삼성에스디아이 주식회사 | 플라즈마 디스플레이 패널 |
US7635855B2 (en) * | 2005-11-15 | 2009-12-22 | Macronix International Co., Ltd. | I-shaped phase change memory cell |
US7450411B2 (en) * | 2005-11-15 | 2008-11-11 | Macronix International Co., Ltd. | Phase change memory device and manufacturing method |
US7394088B2 (en) * | 2005-11-15 | 2008-07-01 | Macronix International Co., Ltd. | Thermally contained/insulated phase change memory device and method (combined) |
US7786460B2 (en) | 2005-11-15 | 2010-08-31 | Macronix International Co., Ltd. | Phase change memory device and manufacturing method |
US7414258B2 (en) | 2005-11-16 | 2008-08-19 | Macronix International Co., Ltd. | Spacer electrode small pin phase change memory RAM and manufacturing method |
US7829876B2 (en) | 2005-11-21 | 2010-11-09 | Macronix International Co., Ltd. | Vacuum cell thermal isolation for a phase change memory device |
US7449710B2 (en) | 2005-11-21 | 2008-11-11 | Macronix International Co., Ltd. | Vacuum jacket for phase change memory element |
US7507986B2 (en) * | 2005-11-21 | 2009-03-24 | Macronix International Co., Ltd. | Thermal isolation for an active-sidewall phase change memory cell |
CN100524878C (zh) * | 2005-11-21 | 2009-08-05 | 旺宏电子股份有限公司 | 具有空气绝热单元的可编程电阻材料存储阵列 |
US7479649B2 (en) * | 2005-11-21 | 2009-01-20 | Macronix International Co., Ltd. | Vacuum jacketed electrode for phase change memory element |
US7599217B2 (en) * | 2005-11-22 | 2009-10-06 | Macronix International Co., Ltd. | Memory cell device and manufacturing method |
US7688619B2 (en) | 2005-11-28 | 2010-03-30 | Macronix International Co., Ltd. | Phase change memory cell and manufacturing method |
US7459717B2 (en) | 2005-11-28 | 2008-12-02 | Macronix International Co., Ltd. | Phase change memory cell and manufacturing method |
US7521364B2 (en) * | 2005-12-02 | 2009-04-21 | Macronix Internation Co., Ltd. | Surface topology improvement method for plug surface areas |
US7605079B2 (en) * | 2005-12-05 | 2009-10-20 | Macronix International Co., Ltd. | Manufacturing method for phase change RAM with electrode layer process |
US7531825B2 (en) * | 2005-12-27 | 2009-05-12 | Macronix International Co., Ltd. | Method for forming self-aligned thermal isolation cell for a variable resistance memory array |
US8062833B2 (en) | 2005-12-30 | 2011-11-22 | Macronix International Co., Ltd. | Chalcogenide layer etching method |
US7741636B2 (en) | 2006-01-09 | 2010-06-22 | Macronix International Co., Ltd. | Programmable resistive RAM and manufacturing method |
US7560337B2 (en) * | 2006-01-09 | 2009-07-14 | Macronix International Co., Ltd. | Programmable resistive RAM and manufacturing method |
US7595218B2 (en) | 2006-01-09 | 2009-09-29 | Macronix International Co., Ltd. | Programmable resistive RAM and manufacturing method |
US20070158632A1 (en) * | 2006-01-09 | 2007-07-12 | Macronix International Co., Ltd. | Method for Fabricating a Pillar-Shaped Phase Change Memory Element |
US7432206B2 (en) | 2006-01-24 | 2008-10-07 | Macronix International Co., Ltd. | Self-aligned manufacturing method, and manufacturing method for thin film fuse phase change ram |
US7956358B2 (en) | 2006-02-07 | 2011-06-07 | Macronix International Co., Ltd. | I-shaped phase change memory cell with thermal isolation |
US7554144B2 (en) * | 2006-04-17 | 2009-06-30 | Macronix International Co., Ltd. | Memory device and manufacturing method |
US7928421B2 (en) * | 2006-04-21 | 2011-04-19 | Macronix International Co., Ltd. | Phase change memory cell with vacuum spacer |
US7538411B2 (en) * | 2006-04-26 | 2009-05-26 | Infineon Technologies Ag | Integrated circuit including resistivity changing memory cells |
KR100782482B1 (ko) * | 2006-05-19 | 2007-12-05 | 삼성전자주식회사 | GeBiTe막을 상변화 물질막으로 채택하는 상변화 기억 셀, 이를 구비하는 상변화 기억소자, 이를 구비하는 전자 장치 및 그 제조방법 |
US7423300B2 (en) * | 2006-05-24 | 2008-09-09 | Macronix International Co., Ltd. | Single-mask phase change memory element |
TWI303875B (en) * | 2006-06-16 | 2008-12-01 | Ind Tech Res Inst | Confined spacer phase change memory and fabrication method thereof |
US7696506B2 (en) * | 2006-06-27 | 2010-04-13 | Macronix International Co., Ltd. | Memory cell with memory material insulation and manufacturing method |
US7785920B2 (en) * | 2006-07-12 | 2010-08-31 | Macronix International Co., Ltd. | Method for making a pillar-type phase change memory element |
US7772581B2 (en) | 2006-09-11 | 2010-08-10 | Macronix International Co., Ltd. | Memory device having wide area phase change element and small electrode contact area |
US7504653B2 (en) | 2006-10-04 | 2009-03-17 | Macronix International Co., Ltd. | Memory cell device with circumferentially-extending memory element |
US7510929B2 (en) | 2006-10-18 | 2009-03-31 | Macronix International Co., Ltd. | Method for making memory cell device |
US20080094885A1 (en) * | 2006-10-24 | 2008-04-24 | Macronix International Co., Ltd. | Bistable Resistance Random Access Memory Structures with Multiple Memory Layers and Multilevel Memory States |
US7863655B2 (en) | 2006-10-24 | 2011-01-04 | Macronix International Co., Ltd. | Phase change memory cells with dual access devices |
US7388771B2 (en) * | 2006-10-24 | 2008-06-17 | Macronix International Co., Ltd. | Methods of operating a bistable resistance random access memory with multiple memory layers and multilevel memory states |
US7527985B2 (en) * | 2006-10-24 | 2009-05-05 | Macronix International Co., Ltd. | Method for manufacturing a resistor random access memory with reduced active area and reduced contact areas |
US7476587B2 (en) | 2006-12-06 | 2009-01-13 | Macronix International Co., Ltd. | Method for making a self-converged memory material element for memory cell |
US20080137400A1 (en) * | 2006-12-06 | 2008-06-12 | Macronix International Co., Ltd. | Phase Change Memory Cell with Thermal Barrier and Method for Fabricating the Same |
US7682868B2 (en) * | 2006-12-06 | 2010-03-23 | Macronix International Co., Ltd. | Method for making a keyhole opening during the manufacture of a memory cell |
US7697316B2 (en) * | 2006-12-07 | 2010-04-13 | Macronix International Co., Ltd. | Multi-level cell resistance random access memory with metal oxides |
US7903447B2 (en) | 2006-12-13 | 2011-03-08 | Macronix International Co., Ltd. | Method, apparatus and computer program product for read before programming process on programmable resistive memory cell |
US8344347B2 (en) * | 2006-12-15 | 2013-01-01 | Macronix International Co., Ltd. | Multi-layer electrode structure |
US7718989B2 (en) * | 2006-12-28 | 2010-05-18 | Macronix International Co., Ltd. | Resistor random access memory cell device |
US7440315B2 (en) * | 2007-01-09 | 2008-10-21 | Macronix International Co., Ltd. | Method, apparatus and computer program product for stepped reset programming process on programmable resistive memory cell |
US7433226B2 (en) * | 2007-01-09 | 2008-10-07 | Macronix International Co., Ltd. | Method, apparatus and computer program product for read before programming process on multiple programmable resistive memory cell |
US7663135B2 (en) | 2007-01-31 | 2010-02-16 | Macronix International Co., Ltd. | Memory cell having a side electrode contact |
US7535756B2 (en) | 2007-01-31 | 2009-05-19 | Macronix International Co., Ltd. | Method to tighten set distribution for PCRAM |
US7619311B2 (en) * | 2007-02-02 | 2009-11-17 | Macronix International Co., Ltd. | Memory cell device with coplanar electrode surface and method |
US7701759B2 (en) * | 2007-02-05 | 2010-04-20 | Macronix International Co., Ltd. | Memory cell device and programming methods |
US7483292B2 (en) * | 2007-02-07 | 2009-01-27 | Macronix International Co., Ltd. | Memory cell with separate read and program paths |
US7463512B2 (en) * | 2007-02-08 | 2008-12-09 | Macronix International Co., Ltd. | Memory element with reduced-current phase change element |
US8138028B2 (en) * | 2007-02-12 | 2012-03-20 | Macronix International Co., Ltd | Method for manufacturing a phase change memory device with pillar bottom electrode |
US7884343B2 (en) | 2007-02-14 | 2011-02-08 | Macronix International Co., Ltd. | Phase change memory cell with filled sidewall memory element and method for fabricating the same |
US7619237B2 (en) * | 2007-02-21 | 2009-11-17 | Macronix International Co., Ltd. | Programmable resistive memory cell with self-forming gap |
US8008643B2 (en) * | 2007-02-21 | 2011-08-30 | Macronix International Co., Ltd. | Phase change memory cell with heater and method for fabricating the same |
US7956344B2 (en) * | 2007-02-27 | 2011-06-07 | Macronix International Co., Ltd. | Memory cell with memory element contacting ring-shaped upper end of bottom electrode |
US7786461B2 (en) | 2007-04-03 | 2010-08-31 | Macronix International Co., Ltd. | Memory structure with reduced-size memory element between memory material portions |
US8610098B2 (en) * | 2007-04-06 | 2013-12-17 | Macronix International Co., Ltd. | Phase change memory bridge cell with diode isolation device |
US7755076B2 (en) * | 2007-04-17 | 2010-07-13 | Macronix International Co., Ltd. | 4F2 self align side wall active phase change memory |
US7483316B2 (en) * | 2007-04-24 | 2009-01-27 | Macronix International Co., Ltd. | Method and apparatus for refreshing programmable resistive memory |
US8513637B2 (en) * | 2007-07-13 | 2013-08-20 | Macronix International Co., Ltd. | 4F2 self align fin bottom electrodes FET drive phase change memory |
TWI402980B (zh) | 2007-07-20 | 2013-07-21 | Macronix Int Co Ltd | 具有緩衝層之電阻式記憶結構 |
US7884342B2 (en) * | 2007-07-31 | 2011-02-08 | Macronix International Co., Ltd. | Phase change memory bridge cell |
US7729161B2 (en) * | 2007-08-02 | 2010-06-01 | Macronix International Co., Ltd. | Phase change memory with dual word lines and source lines and method of operating same |
US9018615B2 (en) * | 2007-08-03 | 2015-04-28 | Macronix International Co., Ltd. | Resistor random access memory structure having a defined small area of electrical contact |
US7642125B2 (en) * | 2007-09-14 | 2010-01-05 | Macronix International Co., Ltd. | Phase change memory cell in via array with self-aligned, self-converged bottom electrode and method for manufacturing |
US8178386B2 (en) | 2007-09-14 | 2012-05-15 | Macronix International Co., Ltd. | Phase change memory cell array with self-converged bottom electrode and method for manufacturing |
US7551473B2 (en) * | 2007-10-12 | 2009-06-23 | Macronix International Co., Ltd. | Programmable resistive memory with diode structure |
US7919766B2 (en) | 2007-10-22 | 2011-04-05 | Macronix International Co., Ltd. | Method for making self aligning pillar memory cell device |
US7804083B2 (en) * | 2007-11-14 | 2010-09-28 | Macronix International Co., Ltd. | Phase change memory cell including a thermal protect bottom electrode and manufacturing methods |
US7646631B2 (en) | 2007-12-07 | 2010-01-12 | Macronix International Co., Ltd. | Phase change memory cell having interface structures with essentially equal thermal impedances and manufacturing methods |
US7879643B2 (en) * | 2008-01-18 | 2011-02-01 | Macronix International Co., Ltd. | Memory cell with memory element contacting an inverted T-shaped bottom electrode |
US7879645B2 (en) | 2008-01-28 | 2011-02-01 | Macronix International Co., Ltd. | Fill-in etching free pore device |
US8158965B2 (en) | 2008-02-05 | 2012-04-17 | Macronix International Co., Ltd. | Heating center PCRAM structure and methods for making |
US8084842B2 (en) * | 2008-03-25 | 2011-12-27 | Macronix International Co., Ltd. | Thermally stabilized electrode structure |
US8030634B2 (en) | 2008-03-31 | 2011-10-04 | Macronix International Co., Ltd. | Memory array with diode driver and method for fabricating the same |
US7825398B2 (en) | 2008-04-07 | 2010-11-02 | Macronix International Co., Ltd. | Memory cell having improved mechanical stability |
US7791057B2 (en) * | 2008-04-22 | 2010-09-07 | Macronix International Co., Ltd. | Memory cell having a buried phase change region and method for fabricating the same |
US8077505B2 (en) * | 2008-05-07 | 2011-12-13 | Macronix International Co., Ltd. | Bipolar switching of phase change device |
US7701750B2 (en) | 2008-05-08 | 2010-04-20 | Macronix International Co., Ltd. | Phase change device having two or more substantial amorphous regions in high resistance state |
US8415651B2 (en) * | 2008-06-12 | 2013-04-09 | Macronix International Co., Ltd. | Phase change memory cell having top and bottom sidewall contacts |
US8134857B2 (en) * | 2008-06-27 | 2012-03-13 | Macronix International Co., Ltd. | Methods for high speed reading operation of phase change memory and device employing same |
US7932506B2 (en) | 2008-07-22 | 2011-04-26 | Macronix International Co., Ltd. | Fully self-aligned pore-type memory cell having diode access device |
US20100019215A1 (en) * | 2008-07-22 | 2010-01-28 | Macronix International Co., Ltd. | Mushroom type memory cell having self-aligned bottom electrode and diode access device |
US7903457B2 (en) * | 2008-08-19 | 2011-03-08 | Macronix International Co., Ltd. | Multiple phase change materials in an integrated circuit for system on a chip application |
US7719913B2 (en) * | 2008-09-12 | 2010-05-18 | Macronix International Co., Ltd. | Sensing circuit for PCRAM applications |
US8324605B2 (en) * | 2008-10-02 | 2012-12-04 | Macronix International Co., Ltd. | Dielectric mesh isolated phase change structure for phase change memory |
US7897954B2 (en) * | 2008-10-10 | 2011-03-01 | Macronix International Co., Ltd. | Dielectric-sandwiched pillar memory device |
US8036014B2 (en) * | 2008-11-06 | 2011-10-11 | Macronix International Co., Ltd. | Phase change memory program method without over-reset |
US8907316B2 (en) * | 2008-11-07 | 2014-12-09 | Macronix International Co., Ltd. | Memory cell access device having a pn-junction with polycrystalline and single crystal semiconductor regions |
US8664689B2 (en) | 2008-11-07 | 2014-03-04 | Macronix International Co., Ltd. | Memory cell access device having a pn-junction with polycrystalline plug and single-crystal semiconductor regions |
US7869270B2 (en) | 2008-12-29 | 2011-01-11 | Macronix International Co., Ltd. | Set algorithm for phase change memory cell |
US8089137B2 (en) * | 2009-01-07 | 2012-01-03 | Macronix International Co., Ltd. | Integrated circuit memory with single crystal silicon on silicide driver and manufacturing method |
US8107283B2 (en) * | 2009-01-12 | 2012-01-31 | Macronix International Co., Ltd. | Method for setting PCRAM devices |
US8030635B2 (en) | 2009-01-13 | 2011-10-04 | Macronix International Co., Ltd. | Polysilicon plug bipolar transistor for phase change memory |
US8064247B2 (en) | 2009-01-14 | 2011-11-22 | Macronix International Co., Ltd. | Rewritable memory device based on segregation/re-absorption |
US8933536B2 (en) | 2009-01-22 | 2015-01-13 | Macronix International Co., Ltd. | Polysilicon pillar bipolar transistor with self-aligned memory element |
US8084760B2 (en) | 2009-04-20 | 2011-12-27 | Macronix International Co., Ltd. | Ring-shaped electrode and manufacturing method for same |
US8173987B2 (en) * | 2009-04-27 | 2012-05-08 | Macronix International Co., Ltd. | Integrated circuit 3D phase change memory array and manufacturing method |
US8097871B2 (en) | 2009-04-30 | 2012-01-17 | Macronix International Co., Ltd. | Low operational current phase change memory structures |
US7933139B2 (en) * | 2009-05-15 | 2011-04-26 | Macronix International Co., Ltd. | One-transistor, one-resistor, one-capacitor phase change memory |
US8350316B2 (en) | 2009-05-22 | 2013-01-08 | Macronix International Co., Ltd. | Phase change memory cells having vertical channel access transistor and memory plane |
US7968876B2 (en) | 2009-05-22 | 2011-06-28 | Macronix International Co., Ltd. | Phase change memory cell having vertical channel access transistor |
US8809829B2 (en) * | 2009-06-15 | 2014-08-19 | Macronix International Co., Ltd. | Phase change memory having stabilized microstructure and manufacturing method |
US8406033B2 (en) | 2009-06-22 | 2013-03-26 | Macronix International Co., Ltd. | Memory device and method for sensing and fixing margin cells |
US8363463B2 (en) | 2009-06-25 | 2013-01-29 | Macronix International Co., Ltd. | Phase change memory having one or more non-constant doping profiles |
US8238149B2 (en) | 2009-06-25 | 2012-08-07 | Macronix International Co., Ltd. | Methods and apparatus for reducing defect bits in phase change memory |
US8110822B2 (en) | 2009-07-15 | 2012-02-07 | Macronix International Co., Ltd. | Thermal protect PCRAM structure and methods for making |
US7894254B2 (en) | 2009-07-15 | 2011-02-22 | Macronix International Co., Ltd. | Refresh circuitry for phase change memory |
US8198619B2 (en) | 2009-07-15 | 2012-06-12 | Macronix International Co., Ltd. | Phase change memory cell structure |
US8064248B2 (en) | 2009-09-17 | 2011-11-22 | Macronix International Co., Ltd. | 2T2R-1T1R mix mode phase change memory array |
US8178387B2 (en) | 2009-10-23 | 2012-05-15 | Macronix International Co., Ltd. | Methods for reducing recrystallization time for a phase change material |
US8729521B2 (en) | 2010-05-12 | 2014-05-20 | Macronix International Co., Ltd. | Self aligned fin-type programmable memory cell |
US8310864B2 (en) | 2010-06-15 | 2012-11-13 | Macronix International Co., Ltd. | Self-aligned bit line under word line memory array |
US8395935B2 (en) | 2010-10-06 | 2013-03-12 | Macronix International Co., Ltd. | Cross-point self-aligned reduced cell size phase change memory |
US8497705B2 (en) | 2010-11-09 | 2013-07-30 | Macronix International Co., Ltd. | Phase change device for interconnection of programmable logic device |
US8467238B2 (en) | 2010-11-15 | 2013-06-18 | Macronix International Co., Ltd. | Dynamic pulse operation for phase change memory |
US8987700B2 (en) | 2011-12-02 | 2015-03-24 | Macronix International Co., Ltd. | Thermally confined electrode for programmable resistance memory |
TWI549229B (zh) | 2014-01-24 | 2016-09-11 | 旺宏電子股份有限公司 | 應用於系統單晶片之記憶體裝置內的多相變化材料 |
US9559113B2 (en) | 2014-05-01 | 2017-01-31 | Macronix International Co., Ltd. | SSL/GSL gate oxide in 3D vertical channel NAND |
US9159412B1 (en) | 2014-07-15 | 2015-10-13 | Macronix International Co., Ltd. | Staggered write and verify for phase change memory |
US9672906B2 (en) | 2015-06-19 | 2017-06-06 | Macronix International Co., Ltd. | Phase change memory with inter-granular switching |
US10727405B2 (en) | 2017-03-22 | 2020-07-28 | Micron Technology, Inc. | Chalcogenide memory device components and composition |
US10163977B1 (en) * | 2017-03-22 | 2018-12-25 | Micron Technology, Inc. | Chalcogenide memory device components and composition |
JP2019149473A (ja) | 2018-02-27 | 2019-09-05 | 東芝メモリ株式会社 | 半導体記憶装置およびその製造方法 |
CN113439336B (zh) * | 2021-05-18 | 2022-12-06 | 长江先进存储产业创新中心有限责任公司 | 三维相变存储器器件及其形成方法 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61229378A (ja) * | 1985-04-04 | 1986-10-13 | Seiko Epson Corp | アモルフアス半導体装置 |
JPH1016393A (ja) * | 1996-07-03 | 1998-01-20 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 相変化型光学情報記録媒体及びその製造方法 |
WO2000057498A1 (en) * | 1999-03-25 | 2000-09-28 | Energy Conversion Devices, Inc. | Electrically programmable memory element with improved contacts |
JP2001189431A (ja) * | 1999-12-28 | 2001-07-10 | Seiko Epson Corp | メモリのセル構造及びメモリデバイス |
JP2002120799A (ja) * | 2000-07-07 | 2002-04-23 | Nec Toshiba Space System Kk | 熱制御装置及び熱制御方法 |
JP2003298013A (ja) * | 2002-04-01 | 2003-10-17 | Ricoh Co Ltd | 相変化材料素子および半導体メモリ |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6147395A (en) * | 1996-10-02 | 2000-11-14 | Micron Technology, Inc. | Method for fabricating a small area of contact between electrodes |
JP4376979B2 (ja) * | 1998-01-12 | 2009-12-02 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置の作製方法 |
US6555860B2 (en) * | 2000-09-29 | 2003-04-29 | Intel Corporation | Compositionally modified resistive electrode |
-
2002
- 2002-10-31 JP JP2002317184A patent/JP4928045B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2003
- 2003-10-28 US US10/694,401 patent/US6859389B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61229378A (ja) * | 1985-04-04 | 1986-10-13 | Seiko Epson Corp | アモルフアス半導体装置 |
JPH1016393A (ja) * | 1996-07-03 | 1998-01-20 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 相変化型光学情報記録媒体及びその製造方法 |
WO2000057498A1 (en) * | 1999-03-25 | 2000-09-28 | Energy Conversion Devices, Inc. | Electrically programmable memory element with improved contacts |
JP2001189431A (ja) * | 1999-12-28 | 2001-07-10 | Seiko Epson Corp | メモリのセル構造及びメモリデバイス |
JP2002120799A (ja) * | 2000-07-07 | 2002-04-23 | Nec Toshiba Space System Kk | 熱制御装置及び熱制御方法 |
JP2003298013A (ja) * | 2002-04-01 | 2003-10-17 | Ricoh Co Ltd | 相変化材料素子および半導体メモリ |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006253667A (ja) * | 2005-02-10 | 2006-09-21 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 記憶装置および半導体装置 |
US8604547B2 (en) | 2005-02-10 | 2013-12-10 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Memory element and semiconductor device |
US7550756B2 (en) | 2005-07-08 | 2009-06-23 | Elpida Memory, Inc. | Semiconductor memory |
US7778069B2 (en) | 2005-10-17 | 2010-08-17 | Renesas Technology Corp. | Semiconductor device and its fabrication method |
JP2010502012A (ja) * | 2006-08-25 | 2010-01-21 | マイクロン テクノロジー, インク. | プログラマブルな抵抗メモリ装置、およびそれを用いた系、ならびにそれを形成する方法 |
JP2011040579A (ja) * | 2009-08-11 | 2011-02-24 | Toshiba Corp | 抵抗変化メモリ |
KR20170021869A (ko) * | 2014-08-29 | 2017-02-28 | 인텔 코포레이션 | 상 변화 메모리 디바이스들의 재료들 및 컴포넌트들 |
KR102271230B1 (ko) * | 2014-08-29 | 2021-07-02 | 인텔 코포레이션 | 상 변화 메모리 디바이스들의 재료들 및 컴포넌트들 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4928045B2 (ja) | 2012-05-09 |
US20040208038A1 (en) | 2004-10-21 |
US6859389B2 (en) | 2005-02-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2004153047A (ja) | 相変化型メモリ素子およびその製造方法 | |
TW586186B (en) | Self-aligned, programmable phase change memory | |
JP6230229B2 (ja) | 集積トランジスタセレクタを有する積層rram | |
US7385235B2 (en) | Spacer chalcogenide memory device | |
JP5788274B2 (ja) | 抵抗変化型不揮発記憶装置、半導体装置及び抵抗変化型不揮発記憶装置の製造方法 | |
US6872963B2 (en) | Programmable resistance memory element with layered memory material | |
US8502184B2 (en) | Nonvolatile memory device using variable resistive element | |
JP2007019475A (ja) | 相変化メモリ素子及びその製造方法 | |
TWI520271B (zh) | 記憶體裝置及製造其之方法 | |
WO2008062734A1 (en) | Nonvolatile storage element, nonvolatile storage element array and its fabrication process | |
TW200834911A (en) | Memory element with reduced-current phase change element | |
KR20130062211A (ko) | 가변 저항 메모리 소자 및 이의 제조 방법 | |
WO2004100266A1 (ja) | 不揮発性メモリおよびその製造方法 | |
KR102593112B1 (ko) | 가변 저항 메모리 소자 및 이의 제조 방법 | |
JP2008235704A (ja) | 半導体素子および半導体集積回路 | |
US7932509B2 (en) | Phase change memory element | |
US20050184282A1 (en) | Phase change memory cell and method of its manufacture | |
WO2008155724A1 (en) | An electronic component, and a method of manufacturing an electronic component | |
KR101923428B1 (ko) | 상변화 메모리 소자 및 그 제조방법 | |
JP2010502012A (ja) | プログラマブルな抵抗メモリ装置、およびそれを用いた系、ならびにそれを形成する方法 | |
KR100687757B1 (ko) | 멀티비트 상변화 메모리 및 이를 이용한 동작방법 | |
WO2022032582A1 (zh) | 忆阻器及其制作方法、阻变式存储器 | |
JPH0445585A (ja) | 相転移型メモリ素子およびその製造方法 | |
CN112652714A (zh) | 一种相变存储器阵列的制备方法 | |
KR20140115798A (ko) | 상변화 메모리 소자 및 이의 제조방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20051019 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20080710 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080729 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080926 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20081028 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20081222 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20091201 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100218 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20100330 |
|
A912 | Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912 Effective date: 20100521 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120113 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120210 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150217 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |