JP2004149538A - ドラスタチン誘導体 - Google Patents
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Abstract
Description
R1は、アルコキシ基、有利にC1〜C4アルコキシ基;アルキル基、有利にC1〜C7アルキル基;シクロアルキル基、有利にC3〜C6シクロアルキル基;アルキルスルホニル基、有利にC1〜C6アルキルスルホニル基;フルオロアルキル基、有利にフルオロエチル基、ジフルオロエチル基、トリフルオロエチル基、フルオロイソプロピル基、トリフルオロイソプロピル基;トリフロロアセチル基;アミジノ基;ウレイル基;ピペリジノスルホニル基;モルホリノスルホニル基;ベンジルオキシカルボニル基;アルキルオキシカルボニル基、有利にC1〜C4アルキルオキシカルボニル基;アルキル、有利にC1〜C5アルキルによって置換されていてもよいアミノスルホニル基;ヒドロキシ基;アルキル(有利にC1〜C4)、−N(CH3)2、ニトロ、ハロゲンおよびCF3から独立に選択された1個またはそれ以上の置換基によって置換されていてもよいアリールスルホニル基;アルキル(有利にC1〜C4アルキル)、アルコキシ(有利にC1〜C4アルコキシ)、ニトロ、ハロゲンおよびCF3から独立に選択された3個までの置換基によって置換されていてもよいベンジル基;またはR3およびR4がそれぞれ水素原子またはアルキル基、有利にC1〜C4アルキル基であることができるNR3R4であり、
R2は水素原子;アルキル基、有利にC1〜C4アルキル基;フルオロアルキル基、有利にフルオロエチル基、ジフルオロエチル基、トリフルオロエチル基、フルオロイソプロピル基、トリフルオロイソプロピル基;シクロアルキル基、有利にC3〜C7シクロアルキル基;アシル基、有利にC1〜C8シクロアルキル基;ニトロ、ハロゲン、CF3、アルキル(有利にC1〜C4アルキル)およびアルコキシ(C1〜C4アルコキシ)から独立に選択された3個までの置換基によって次の双方が置換されていてもよいベンゾイル基またはベンジル基であり;
R1−N−R2は一緒になって、フタルイミド基であることができるか、または置換されていなくともよいかまたはフェニル、ベンジル、アルキル(有利にC1〜C4アルキル)、N(CH3)2、ニトロ、チエニル、CONH2およびCOOEtから独立に選択された1個またはそれ以上の置換基によって置換されていてもよい5または6員の複素環式基であることができ;
Aはバリル残基、イソロイシル残基、ロイシル残基、アロ−イソロイシル残基、α−アミノイソブタノイル残基、3−第三ブチルアラニル残基、2−第三ブチルグリシル残基、3−シクロヘキシルアラニル残基、2,4−ジアミノブタノイル残基、オルニチル残基、リシル残基、2−エチルグリシル残基、2−シクロヘキシルグリシル残基、リシル残基またはアルギニル残基であり;
BはN−アルキルが有利にN−メチルまたはN−メチルであるようなN−アルキル−バリル残基、N−アルキル−ロイシル残基、N−アルキル−イソロイシル残基、N−アルキル−2−第三ブチルグリシル残基、N−アルキル−3−第三ブチルアラニル残基、N−アルキル−3−シクロヘキシルアラニル残基、N−アルキル−フェニルアラニル残基、N−アルキル−2−エチルグリシル残基、N−アルキル−ノルロイシル残基またはN−アルキル−2−シクロヘキシルグリシル残基であり;
D、E、FおよびGは、プロリル残基、ホモ−プロリル残基、ヒドロキシプロリル残基、チアゾリジニル−4−カルボニル残基、1−アミノペンチル−1−カルボニル残基、バリル残基、2−第三ブチルグリシル残基、イソロイシル残基、ロイシル残基、3−シクロヘキシルアラニル残基、フェニルアラニル残基、N−メチルフェニルアラニル残基、テトラヒドロイソキノリル−2−カルボニル残基、3−チアゾリルアラニル残基、3−チエニルアラニル残基、ヒスチジル残基、1−アミノインジル−1−カルボニル残基、2,4−ジアミノブタノイル残基、アルギニル残基、3−ピリジルアラニル残基、3−第三ブチルアラニル残基、2−シクロヘキシルグリシル残基、リシル残基、ノルロイシル残基および3−ナフチルアラニル残基から構成されている群から独立に選択されたものであり;
Xは水素原子、アルキル基(有利に線状または分子鎖状C1〜C5アルキル基)、シクロアルキル基(有利にシクロヘキシル基)、−CH2−シクロヘキシル基またはアリールアルキル基(有利にベンジル基またはフェニルエチル基)であり;
一緒のAおよびB、一緒のFおよびG、一緒のR1R2N−CHX−COおよびA、一緒のEおよびFは、単独でかまたは対になって、
t、u、vおよびwは独立に0または1であり;かつ
Kはヒドロキシ部分、アルコキシ部分(有利にC1〜C4アルコキシ部分)、フェノキシ部分、ベンジルオキシ部分または置換されたかまたは置換されていないアミノ部分であり;
但し、t、u、vおよびwが0である場合には、Kはヒドロキシ部分、アルコキシ部分、ベンゾキシ部分またはフェノキシ部分ではないものとし;さらにt、uおよびvが0でえある場合には、Kはヒドロキシ部分またはアルコキシ部分ではないものとする〕で示される新規ペプチドおよびその生理的に認容される酸との塩を包含する。
R5は水素原子であるか、ヒドロキシ基であるか、C1〜C7アルコキシ基であるか、ベンジルオキシ基であるか、1個またはそれ以上の弗素原子によって置換されていてもよいC1〜C7アルキル基であるか、C3〜C7シクロアルキル基であるか、または独立にCF3、ニトロ、C1〜C7アルキルスルホニル、C1〜C4アルキルスルホニル、C1〜C4アルコキシ、フェノキシ、ベンゾキシ、ハロゲンまたはC1〜C4アルキルであってもよい3個までの置換基によって置換されていてもよいベンジル基であり、
R6は水素原子であるか、1個またはそれ以上の弗素原子によって置換されていてもよいC1〜C7アルキル基であるか、C3〜C7シクロアルキル基であるか、フェニル基(この場合この基は、独立にCF3、ニトロ、ハロゲン、CONHBzl、CON(Bzl)2、環式系を形成することができるC1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、フェノキシ、ベンゾキシまたはC1〜C7アルキル−スルホニルであることができる3個までの置換基によって置換されていてもよい)であるか、ベンジル基(この場合この基は、独立にCF3、ニトロ、ハロゲン、CONHBzl、CON(Bzl)2、環式系を形成することができるC1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、フェノキシ、ベンゾキシまたはC1〜C7アルキル−スルホニルであることができる3個までの置換基によって置換されていてもよい)であるか、ナフチル基(この場合この基は、独立にCF3、ニトロ、ハロゲン、CONHBzl、CON(Bzl)2、C1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、ベンゾキシ、フェノキシまたはC1〜C7アルキル−スルホニルであることができる2個までの置換基によって置換されていてもよい)であるか、
ベンズヒドリル基(この場合この基は、独立にCF3、ニトロ、ハロゲン、CONHBzl、CON(Bzl)2、C1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、フェノキシ、ベンゾキシまたはC1〜C7アルキル−スルホニルであることができる2個までの置換基によって置換されていてもよい)であるか、
ビフェニル基(この場合この基は、独立にCF3、ニトロ、ハロゲン、CONHBzl、CON(Bzl)2、C1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、フェノキシ、ベンゾキシまたはC1〜C7アルキル−スルホニルであることができる2個までの置換基によって置換されていてもよい)であるか、
トリフェニルメチル基(この場合この基は、独立にCF3、ニトロ、ハロゲン、CONHBzl、CON(Bzl)2、C1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、フェノキシ、ベンゾキシまたはC1〜C7アルキル−スルホニルであることができる3個までの置換基によって置換されていてもよい)であるか、
ベンズヒドリルエチル基(この場合この基は、独立にCF3、ニトロ、ハロゲン、CONHBzl、CON(Bzl)2、C1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、フェノキシ、ベンゾキシまたはC1〜C7アルキル−スルホニルであることができる2個までの置換基によって置換されていてもよい)であるか、
ベンズヒドリルメチル基(この場合この基は、独立にCF3、ニトロ、ハロゲン、CONHBzl、CON(Bzl)2、C1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、フェノキシ、ベンゾキシまたはC1〜C7アルキル−スルホニルであることができる2個までの置換基によって置換されていてもよい)であるか、
ナフチルメチル基(この場合この基は、独立にCF3、ニトロ、ハロゲン、CONHBzl、CON(Bzl)2、C1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、フェノキシ、ベンゾキシまたはC1〜C7アルキル−スルホニルであることができる2個までの置換基によって置換されていてもよい)であるか、
アセナフチル基(この場合この基は、独立にCF3、ニトロ、ハロゲン、CONHBzl、CON(Bzl)2、C1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、フェノキシ、ベンゾキシまたはC1〜C7アルキル−スルホニルであることができる2個までの置換基によって置換されていてもよい)であるか、
アセナフチルメチル基(この場合この基は、独立にCF3、ニトロ、ハロゲン、CONHBzl、CON(Bzl)2、C1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、フェノキシ、ベンゾキシまたはC1〜C7アルキル−スルホニルであることができる2個までの置換基によって置換されていてもよい)であるか、
ピリジル基(この場合この基は、独立にCF3、ニトロ、ハロゲン、CONHBzl、CON(Bzl)2、C1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、フェノキシ、ベンゾキシまたはC1〜C7アルキル−スルホニルであることができる2個までの置換基によって置換されていてもよい)であるか、
ピコリル基(この場合この基は、独立にCF3、ニトロ、ハロゲン、CONHBzl、CON(Bzl)2、C1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、フェノキシ、ベンゾキシまたはC1〜C7アルキル−スルホニルであることができる2個までの置換基によって置換されていてもよい)であるか、
ベンゾチアゾリル基(この場合この基は、独立にCF3、ニトロ、ハロゲン、CONHBzl、CON(Bzl)2、C1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、フェノキシ、ベンゾキシまたはC1〜C7アルキル−スルホニルであることができる2個までの置換基によって置換されていてもよい)であるか、
ベンズイソチアゾリル基(この場合この基は、独立にCF3、ニトロ、ハロゲン、CONHBzl、CON(Bzl)2、C1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、フェノキシ、ベンゾキシまたはC1〜C7アルキル−スルホニルであることができる2個までの置換基によって置換されていてもよい)であるか、
ベンゾピラゾリル基(この場合この基は、独立にCF3、ニトロ、ハロゲン、CONHBzl、CON(Bzl)2、C1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、フェノキシ、ベンゾキシまたはC1〜C7アルキル−スルホニルであることができる2個までの置換基によって置換されていてもよい)であるか、
ベンゾオキサゾリル基(この場合この基は、独立にCF3、ニトロ、ハロゲン、CONHBzl、CON(Bzl)2、C1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、フェノキシ、ベンゾキシまたはC1〜C7アルキル−スルホニルであることができる2個までの置換基によって置換されていてもよい)であるか、
フルオレニル基(この場合この基は、独立にCF3、ニトロ、ハロゲン、CONHBzl、CON(Bzl)2、C1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、フェノキシ、ベンゾキシまたはC1〜C7アルキル−スルホニルであることができる2個までの置換基によって置換されていてもよい)であるか、
アミノフルオレニル基(この場合この基は、独立にCF3、ニトロ、ハロゲン、CONHBzl、CON(Bzl)2、C1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、フェノキシ、ベンゾキシまたはC1〜C7アルキル−スルホニルであることができる2個までの置換基によって置換されていてもよい)であるか、
ピリミジニル基(この場合この基は、独立にCF3、ニトロ、ハロゲン、COOEt、CONHBzl、CON(Bzl)2、環式系を形成させることができるC1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、フェノキシ、ベンゾキシまたはC1〜C7アルキル−スルホニルであることができる2個までの置換基によって置換されていてもよい)であるか、
5員のヘテロアリール基[この場合この基は、独立にCF3、ニトロ、ハロゲン、シアノ、COOMe、COOEt、チオメチル、チオエチル、チオフェニル、ピコリル、アセチル、−CH2−COOEt、CONH2、CONHBzl、CON(Bzl)2、C1〜C4アルキル、C3〜C6シクロアルキル、複素環式基と一緒になって二環式系を形成させるC3〜C4アルキレン基、C1〜C4アルコキシ、フェノキシ、ベンゾキシ、フェニル(この場合、この基は独立にニトロ、CF3、ハロゲン、C1〜C4アルキルであることができる4個までの置換基によって置換されていてもよい)、ベンジル(この場合、この基は独立にニトロ、CF3、ハロゲン、C1〜C4アルキル、ナフチル、C1〜C7アルキル−スルホニル、フェニルスルホニルまたはC1〜C4ジアルキルアミノであることができる4個までの置換基によって置換されていてもよい)]であるか、または
−CHR7−5員のヘテロアリール基(この場合、この基は、独立にCF3、ニトロ、ハロゲン、CONHBzl、CON(Bzl)2、COOMe、COOEt、COOCH(CH3)2、CONH2、COOBzl、C1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、フェノキシ、ベンゾキシ、フェニル、ベンジル、ナフチルまたはC1〜C7アルキル−スルホニル[R7=水素原子、線状または分子鎖状C1〜C5アルキル、ベンジル;またはR7およびR5は一緒になって−(CH2)3−または−(CH2)4−を形成する]であることができる2個までの置換基によって置換されていてもよい)である。
R1R2N−CXH−CO−A−B−Pro−Pro−(F)v−(G)w−K II
によって表わすことができ、別のものは、次の式III:
R1R2N−CXH−CO−A−B−Pro−(F)v−(G)w−K III
によって表わすことができる。
C1〜C4アルコキシから構成されている群から選択された3個までの置換基によって置換されていてもよい)から構成されている群から選択された1個またはそれ以上の置換基で置換されていてもよい、
R1は、エチル、メチル、2−フルオロエチル、2,2−ジフルオロエチル、2,2,2−トリフルオロエチル、2−フルオロイソプロピル、トリフルオロイソプロピル、イソプロピル、プロピル、ブチル、ペンチル、シクロプロピル、シクロペンチル、ウレイル、メシル、トシル、ナフチルスルホニル、フェニルスルホニル、2,4,6−トリメチルスルホニル、ベンジルオキシカルボニル、t−ブチルオキシカルボニル、メチルオキシカルボニル、モルホリンスルホニル、t−ブチルアミノスルホニル、メチルアミノスルホニル、ラクチル、トリフルオロアセチル、NH2、N(CH3)2、N(CH2CH3)2、N[CH(CH3)2]2、アミジノ、CH3O−、または次の残基のひとつを表す:
R1はエチル、メチル、2−フルオロエチル、2,2−ジフルオロエチル、2,2,2−トリフルオロエチル、2−フルオロイソプロピル、トリフルオロイソプロピル、イソプロピル、プロピル、シクロプロピル、ベンジルオキシカルボニル、メチルオキシカルボニル、ラクチル、メチルアミノスルホニル、トシル、ウレイル、メシル、N(CH3)2、アミジノ、メトキシ、ベンジル、4−フェノキシベンジル、4−ベンジルオキシベンジル、または3,4,5−トリメトキシベンジルを表し、
R2は水素、メチル、エチル、2−フルオロエチル、2,2−ジフルオロエチル、2,2,2−トリフルオロエチル、イソプロピル、プロピル、ブチル、シクロプロピル、ホルミル、アセチル、プロピオニル、ピバロイル、ベンゾイルまたはベンジルを表し、
R1−N−R2は一緒になって次のものを表し:
R5は水素、メチル、エチル、2−フルオロエチル、2,2−ジフルオロエチル、プロピル、イソプロピル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、ベンジル、4−フェノキシベンジル、4−ベンジルオキシベンジルまたは3,4,5−トリメトキシベンジルを表し、
R6は水素、メチル、エチル、2−フルオロエチル、2,2−トリフルオロエチル、プロピル、イソプロピル、t−ブチル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、ベンジル、4−フェノキシベンジル、4−ベンジルオキシベンジル、3,4,5−トリメトキシベンジル、フェニル、4−フェノキシフェニル、4−ベンジルオキシフェニル、3,4,5−トリメトキシフェニルまたは次のものを表す:
A. 総合的方法
I. 請求項1で請求したペプチドは、前記したような標準的なZ−およびBoc−法を用いて古典的な溶液合成により合成されるか、またはAPPLIED BIOSYSTEMSにより提供される完全自動モデル431A合成装置を用いて固相合成の標準的方法により合成される。この装置はBocおよびFmoc保護基技術のための異なる合成サイクルを使用する。
a) Boc保護基技術のための合成サイクル
1. DCM中30%のトリフルオロ酢酸 1×3分
2. DCM中50%のトリフルオロ酢酸 1×1分
3. DCM洗浄 5×1分
4. DCM中5%のジイソプロピルエチルアミン 1×1分
5. NMP中5%のジイソプロピルエチルアミン 1×1分
6. NMP洗浄 5×1分
7. 予備活性化した保護されたアミノ酸の付加
(NMP/DCM中DCC1当量およびHOBt1当量を用いて活性化)
ペプチド連結(第1部分) 1×30分
8. 20用量%のDMSOを含有するまでの反応混合物へのDMSOの添加
9. ペプチド連結(第2部分) 1×16分
10.反応混合物へのジイソプロピルエチルアミン3.8当量の添加
11.ペプチド連結(第3部分) 1×7分
12.DCM洗浄 3×1分
13.変換が不完全な場合にはカプリングを繰返す(5.に戻る)
14.DCM中無水酢酸10%、ジイソプロピルエチルアミン5%
1×2分
15.DCM中無水酢酸10% 1×4分
16.DCM洗浄 4×1分
17.1に戻る
BOP−ClおよびPyBropは、次のN−メチルアミノ酸に引続くアミノ酸への連結のための試薬として使用された。反応時間は相応して増大した。溶液合成において、Boc保護したアミノ酸NCAs(N−t−ブチルオキシカルボニル−アミノ酸−N−カルボニル−無水物)またはZ保護したアミノ酸NCAs(N−ベンジルオキシカルボニル−アミノ酸−N−カルボニル−無水物)の使用は、それぞれこのタイプの連結のために最も適している。
b) Fmoc保護基技術の合成サイクル
1. DMF洗浄 1×1分
2. DMF中20%のピペリジン 1×4分
3. DMF中20%のピペリジン 1×16分
4. DMF洗浄 5×1分
5. 予備活性した保護されたアミノ酸の添加
(DMF中、TBTU1当量およびDIPEA1.5当量による活性化)
ペプチド連結 1×61分
6. DMF洗浄 3×1分
7. 変換が完了していない場合に、連結を繰返す(5.に戻る)
8. DMF中10%無水酢酸 1×8分
9. DMF洗浄 3×1分
10.2に戻る
BOP−ClおよびPyBropはN−メチルアミノ酸に引続くアミノ酸への連結のための試薬として使用された。反応時間は相応して増大した。
II. N末端の還元的アルキル化
AIaまたはAIbにおいてと同様に製造したペプチド樹脂を、N末端で脱保護し(AIb中の工程2〜4またはAIa中の1〜6)、次いで、NaCNBH33当量の添加と共にDMF/1%酢酸中のアルデヒドまたはケトンの3倍のモル過剰量と反応させた。反応が完了した後(ネガティブカイザー試験(negative Kaiser test))この樹脂を水、イソプロパノール、DMFおよびジクロロメタンで数回洗浄した。
III. IaおよびIIにおいてと同様に得られたペプチド樹脂の後処理
ペプチド樹脂を減圧下で乾燥させ、TEFLON HF装置の反応容器(PENINSULAにより供給)中へ移した。スカベンジャー、有利にアニソール(1ml/g樹脂)の添加、およびトリプトファン含有ペプチドの場合、インドリックホルミル基(indolic formyl group)の除去のためにチオール、有利にエタンジチオール(0.5ml/g樹脂)の添加に引続き、液体N2で冷却しながらフッ化水素中でフッ化水素(10ml/g樹脂)中で濃縮(condensing)させた。この混合物を0℃に温め、この温度で45時間撹拌した。次いでフッ化水素を減圧下でストリッピングし、残分を残留したスカベンジャーの除去のために酢酸エチルを用いて洗浄した。このペプチドを30%の濃度の酢酸を用いて抽出し、濾過し、濾液を凍結乾燥させた。
IV. IbおよびIIにおけると同様に得られたペプチド樹脂の後処理
ペプチド樹脂を減圧下で乾燥させ、次いで、アミノ酸成分に依存して引続く分離方法の一つにかけた(Wade, Tregear, Howard Florey Fmoc Workshop Manual, Melbourene 1985)。
V. o−クロロトリチル樹脂(Biohellasにより供給)を使用した場合、酢酸/トリフルオロエタノール/ジクロロメタン混合物(1:1:3)中のペプチド樹脂の懸濁液を室温で1時間撹拌した。次いで、この樹脂を吸引濾過し、分離溶液を用いて完全に洗浄した。合わせた濾液を真空中で濃縮し、水で処理した。沈殿した固体を濾過または遠心分離により除去し、ジエチルエーテルで洗浄し減圧下で乾燥した。
VI. ペプチドの精製および特性決定
精製は、ゲルクロマトグラフィー(SEPHADEX G-10, G-15/ 10% HOAc, SEPHADEX LH 20/MeOH)により、および場合により引続く中圧クロマトグラフィー(固定相:HD-SIL C-18, 20-45μ、100オングストローム;可動相:A=0.1%TFA/MeOH、B=0.1TFA/H2Oの勾配)により実施した。
B. 特定の方法
例1(配列番号:1)
例2(配列番号:2)
A. 試験管内方法
細胞毒性は付着細胞系のための標準的方法、たとえばマイクロカルチャーテトラゾリウムアッセイ(microculture tetrazolium assay)(MTT)を用いて測定することができる。このアッセイの詳細は出版されている(Alley, MC et al, Cancer Research 48:589-601, 1988)。腫瘍細胞、たとえばHT−29結腸ガンまたはLX−1肺腫瘍の指数的に成長する培養を、微量滴定プレート培養つくるために使用した。細胞は96個のくぼみを有するプレート中で1個のくぼみあたり5000〜20000個の細胞を接種し(媒体150μl中)、37℃で一晩中成長させた。試験化合物を10−4M〜10−10Mの間で変動する10倍の希釈液の形で添加した。次いで、細胞を48時間インキュベートした。それぞれのくぼみ中の変動可能な細胞数の測定のために、MTT染料を添加した(生理食塩水中3−(4,5−ジメチルチアゾール−2−イル)−2,5−ジフェニルテトラゾリウムブロミドの3mg/ml溶液50μl)。この混合物を37℃で5日間インキュベートし、次いで25%SDS(pH2)50μlをそれぞれのくぼみに添加した。一晩中インキュベートした後、550nmでのそれぞれのくぼみの吸光度を、ELISAリーダーを使用して読取った。複製されたくぼみ(replicated wells)からのデーターの平均+/−SDについての値を、%T/Cの式を用いて計算した(処理/対照の生存細胞の%)。
B. 生体内方法
本発明の化合物は、さらに臨床的有用性を示す生体内活性のための多様な前臨床アッセイを試験することができた。このようなアッセイは、この分野で公知のように、有利にヒト起源の腫瘍組織を移植(異種移植)したヌードマウスを用いて行った。試験化合物を異種移植を行ったマウスに投与することによりその抗腫瘍効果について評価した。
特に、無胸腺ヌードマウス中で成長させたヒト腫瘍を、約50mgのサイズの腫瘍断片を用いて新規の受容動物中へ移植した。移植した日を0日とした。6日後に、マウスを、それぞれの投与で5〜10匹のマウスのグループに静脈内または腹膜腔内注射で与える試験化合物で治療した。この化合物を、10〜100mg/kg体重の投与量で毎日5日間、10日間、15日間与えた。腫瘍の直径および体重を週2回測定した。腫瘍容量をノギス(Vernier calipers)で測定した直径および次の式を用いて計算した:
(長さ × 幅2)/2=腫瘍重量mg
平均腫瘍重量はそれぞれの治療グループについて計算され、T/C値は未処理の対照腫瘍に関してそれぞれのグループについて測定された。
Claims (7)
- 式I:
[R1R2N-CHX-CO]- A - B -[D]t -[E]u -[F]v -[G]w - K I
〔式中、
R1−N−R2がフタルイミド基であるか、或いは
置換されていないか、またはフェニル、ベンジル、アルキル、N(CH3)2、ニトロ、チエニル、オキソ、CONH2およびCOOEtから独立に選択することができる1個またはそれ以上の置換基で置換されていてもよい式:
Aはバリル残基、イソロイシル残基、ロイシル残基、アロ−イソロイシル残基、α−アミノイソブタノイル残基、3−第三ブチルアラニル残基、2−第三ブチルグリシル残基、3−シクロヘキシルアラニル残基、2,4−ジアミノブタノイル残基、オルニチル残基、リシル残基、2−エチルグリシル残基、2−シクロヘキシルグリシル残基、ノルロイシル残基、ノルバリル残基またはアルギニル残基であり;
BはN−アルキル−バリル残基、N−アルキル−ノルバリル残基、N−アルキル−ロイシル残基、N−アルキル−イソロイシル残基、N−アルキル−2−第三ブチルグリシル残基、N−アルキル−3−第三ブチルアラニル残基、N−アルキル−3−シクロヘキシルアラニル残基、N−アルキル−フェニルアラニル残基またはN−アルキル−2−シクロヘキシルグリシル残基であり;
D、E、FおよびGは、プロリル残基、ホモ−プロリル残基、ヒドロキシプロリル残基、チアゾリジニル−4−カルボニル残基、1−アミノペンチル−1−カルボニル残基、バリル残基、2−第三ブチルグリシル残基、イソロイシル残基、ロイシル残基、3−シクロヘキシルアラニル残基、フェニルアラニル残基、N−メチルフェニルアラニル残基、テトラヒドロイソキノリル−2−カルボニル残基、3−チアゾリルアラニル残基、3−チエニルアラニル残基、ヒスチジル残基、1−アミノインジル−1−カルボニル残基、2,4−ジアミノブタノイル残基、アルギニル残基、3−ピリジルアラニル残基、3−第三ブチルアラニル残基、2−シクロヘキシルグリシル残基、リシル残基、ノルバリル残基、ノルロイシル残基および3−ナフチルアラニル残基から構成されている群から独立に選択されたものであり;
Xは水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、−CH2−シクロヘキシル基またはアリールアルキル基であり;
一緒のAおよびB、一緒のFおよびG、一緒のR1R2N−CHX−COおよびA、一緒のEおよびFは、単独でかまたは対になって、
t、u、vおよびwは独立に0または1であり;かつ
Kが式:R5−N−R6で示されるアミノ部分であり、この場合
R5は水素原子であるか、ヒドロキシ基であるか、C1〜C7アルコキシ基であるか、ベンジルオキシ基であるか、C1〜C7アルキル基であるか、フルオロアルキル基であるか、C3〜C7シクロアルキル基であるか、または独立にCF3、ニトロ、C1〜C7アルキルスルホニル、C1〜C4アルキルスルホニル、C1〜C4アルコキシ、フェノキシ、ベンゾキシ、ハロゲンまたはC1〜C4アルキルであることができる3個までの置換基によって置換されていてもよいベンジル基であり、
R6は水素原子であるか、C1〜C7アルキル基であるか、C3〜C7シクロアルキル基であるか、フルオロアルキル基であるか、フェニル基(この場合この基は、独立にCF3、ニトロ、ハロゲン、CONHBzl、CON(Bzl)2、環式系を形成することができるC1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、フェノキシ、ベンゾキシまたはC1〜C7アルキル−スルホニルであることができる3個までの置換基によって置換されていてもよい)であるか、
ベンジル基(この場合この基は、独立にCF3、ニトロ、ハロゲン、CONHBzl、CON(Bzl)2、環式系を形成することができるC1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、フェノキシ、ベンゾキシまたはC1〜C7アルキル−スルホニルであることができる3個までの置換基によって置換されていてもよい)であるか、
ナフチル基(この場合この基は、独立にCF3、ニトロ、ハロゲン、CONHBzl、CON(Bzl)2、C1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、ベンゾキシ、フェノキシまたはC1〜C7アルキル−スルホニルであることができる2個までの置換基によって置換されていてもよい)であるか、
ベンズヒドリル基(この場合この基は、独立にCF3、ニトロ、ハロゲン、CONHBzl、CON(Bzl)2、C1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、フェノキシ、ベンゾキシまたはC1〜C7アルキル−スルホニルであることができる2個までの置換基によって置換されていてもよい)であるか、
ビフェニル基(この場合この基は、独立にCF3、ニトロ、ハロゲン、CONHBzl、CON(Bzl)2、C1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、フェノキシ、ベンゾキシまたはC1〜C7アルキル−スルホニルであることができる2個までの置換基によって置換されていてもよい)であるか、
トリフェニルメチル基(この場合この基は、独立にCF3、ニトロ、ハロゲン、CONHBzl、CON(Bzl)2、C1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、フェノキシ、ベンゾキシまたはC1〜C7アルキル−スルホニルであることができる3個までの置換基によって置換されていてもよい)であるか、
ベンズヒドリルエチル基(この場合この基は、独立にCF3、ニトロ、ハロゲン、CONHBzl、CON(Bzl)2、C1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、フェノキシ、ベンゾキシまたはC1〜C7アルキル−スルホニルであることができる2個までの置換基によって置換されていてもよい)であるか、
ベンズヒドリルメチル基(この場合この基は、独立にCF3、ニトロ、ハロゲン、CONHBzl、CON(Bzl)2、C1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、フェノキシ、ベンゾキシまたはC1〜C7アルキル−スルホニルであることができる2個までの置換基によって置換されていてもよい)であるか、
ナフチルメチル基(この場合この基は、独立にCF3、ニトロ、ハロゲン、CONHBzl、CON(Bzl)2、C1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、フェノキシ、ベンゾキシまたはC1〜C7アルキル−スルホニルであることができる2個までの置換基によって置換されていてもよい)であるか、
アセナフチル基(この場合この基は、独立にCF3、ニトロ、ハロゲン、CONHBzl、CON(Bzl)2、C1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、フェノキシ、ベンゾキシまたはC1〜C7アルキル−スルホニルであることができる2個までの置換基によって置換されていてもよい)であるか、
アセナフチルメチル基(この場合この基は、独立にCF3、ニトロ、ハロゲン、CONHBzl、CON(Bzl)2、C1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、フェノキシ、ベンゾキシまたはC1〜C7アルキル−スルホニルであることができる2個までの置換基によって置換されていてもよい)であるか、
ピリジル基(この場合この基は、独立にCF3、ニトロ、ハロゲン、CONHBzl、CON(Bzl)2、C1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、フェノキシ、ベンゾキシまたはC1〜C7アルキル−スルホニルであることができる2個までの置換基によって置換されていてもよい)であるか、
ピコリル基(この場合この基は、独立にCF3、ニトロ、ハロゲン、CONHBzl、CON(Bzl)2、C1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、フェノキシ、ベンゾキシまたはC1〜C7アルキル−スルホニルであることができる2個までの置換基によって置換されていてもよい)であるか、
ベンゾチアゾリル基(この場合この基は、独立にCF3、ニトロ、ハロゲン、CONHBzl、CON(Bzl)2、C1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、フェノキシ、ベンゾキシまたはC1〜C7アルキル−スルホニルであることができる2個までの置換基によって置換されていてもよい)であるか、
ベンズイソチアゾリル基(この場合この基は、独立にCF3、ニトロ、ハロゲン、CONHBzl、CON(Bzl)2、C1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、フェノキシ、ベンゾキシまたはC1〜C7アルキル−スルホニルであることができる2個までの置換基によって置換されていてもよい)であるか、
ベンゾピラゾリル基(この場合この基は、独立にCF3、ニトロ、ハロゲン、CONHBzl、CON(Bzl)2、C1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、フェノキシ、ベンゾキシまたはC1〜C7アルキル−スルホニルであることができる2個までの置換基によって置換されていてもよい)であるか、
ベンゾオキサゾリル基(この場合この基は、独立にCF3、ニトロ、ハロゲン、CONHBzl、CON(Bzl)2、C1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、フェノキシ、ベンゾキシまたはC1〜C7アルキル−スルホニルであることができる2個までの置換基によって置換されていてもよい)であるか、
フルオレニル基(この場合この基は、独立にCF3、ニトロ、ハロゲン、CONHBzl、CON(Bzl)2、C1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、フェノキシ、ベンゾキシまたはC1〜C7アルキル−スルホニルであることができる2個までの置換基によって置換されていてもよい)であるか、
アミノフルオレニル基(この場合この基は、独立にCF3、ニトロ、ハロゲン、CONHBzl、CON(Bzl)2、C1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、フェノキシ、ベンゾキシまたはC1〜C7アルキル−スルホニルであることができる2個までの置換基によって置換されていてもよい)であるか、
ピリミジニル基(この場合この基は、独立にCF3、ニトロ、ハロゲン、COOEt、CONHBzl、CON(Bzl)2、環式系を形成させることができるC1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、フェノキシ、ベンゾキシまたはC1〜C7アルキル−スルホニルであることができる2個までの置換基によって置換されていてもよい)であるか、
5員のヘテロアリール基[この場合この基は、独立にCF3、ニトロ、ハロゲン、シアノ、COOMe、COOEt、チオメチル、チオエチル、チオフェニル、ピコリル、アセチル、−CH2−COOEt、CONH2、CONHBzl、CON(Bzl)2、環式系を形成させることができるC1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、フェノキシ、ベンゾキシ、フェニル(この場合、この基は独立にニトロ、CF3、ハロゲン、C1〜C4アルキルであることができる4個までの置換基によって置換されていてもよい)、ベンジル(この場合この基は独立にニトロ、CF3、ハロゲン、C1〜C4アルキル、ナフチル、C1〜C7アルキル−スルホニル、フェニルスルホニルまたはC1〜C4ジアルキルアミノであることができる4個までの置換基によって置換されていてもよい)]であるか、または
−CHR7−5員のヘテロアリール基(この場合、この基は、独立にCF3、ニトロ、ハロゲン、CONHBzl、CON(Bzl)2、COOMe、COOEt、COOCH(CH3)2、CONH2、COOBzl、C1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、フェノキシ、ベンゾキシ、フェニル、ベンジル、ナフチルまたはC1〜C7アルキル−スルホニル[R7=水素原子、線状または分子鎖状C1〜C5アルキル、ベンジル;またはR7およびR5は一緒になって−(CH2)3−または−(CH2)4−を形成する]であることができる2個までの置換基によって置換されていてもよい)である〕で示されるペプチドおよびその生理的に認容される酸との塩。 - Kが、置換されていないかまたは独立にCF3、ニトロ、ハロゲン、オキソ、シアノ、N,N,−ジメチルアミノ、CONHBzl、CON(Bzl)2、C1〜C6アルキル、縮合環化された環系を形成させるC3〜C4アルキレン、C1〜C4アルコキシ、フェノキシ、ベンゾキシ、ナフチル、ピリミジル、COOEt、COOBzl、C3〜C6シクロアルキル、ピロリジニル、ピペリジニル、チエニル、ピロリル、−CH2−CO−NCH(CH3)2、−CH2−CO−N(CH2)4、−CH2−CO−N(CH2)4O、ベンジル(この場合、この基は独立にニトロ、ハロゲン、CF3、チオメチルまたは相応するスルホキシドもしくはスルホン、チオエチルまたは相応するスルホキシドもしくはスルホン、C1〜C4アルキルおよびC1〜C4アルコキシから構成されている群から選択された3個までの置換基によって置換されていてもよい)およびフェニル(この場合、この基は独立にニトロ、ハロゲン、CF3、チオメチル、チオエチル、C1〜C4アルキルおよびC1〜C4アルコキシから構成されている群から選択された3個までの置換基によって置換されていてもよい)から構成されている群から選択された1個またはそれ以上の置換基で置換されていてもよい、
- t、u、vおよびwが0であり、かつKがヒドロキシ部分、ベンゾキシ部分、フェノキシ部分またはアルコキシ部分ではない、請求項1記載の式Iの化合物。
- t、uおよびvが0であり、かつKがヒドロキシ部分またはアルコキシ部分ではない、請求項1記載の式Iの化合物。
- t、u、vおよびwが1であり、かつKがヒドロキシ部分、アルコキシ部分、フェノキシ部分またはベンジルオキシ部分である、請求項1記載の式Iの化合物。
- t、uおよびvが1であり、wが0であり、かつKがヒドロキシ部分、アルコキシ部分、フェノキシ部分またはベンジルオキシ部分である、請求項1記載の式Iの化合物。
- tおよびuが1であり、vおよびwが0であり、かつKがヒドロキシ部分、アルコキシ部分、フェノキシ部分またはベンジルオキシ部分であるような式Iの化合物を包含する。
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