JP2004131373A - シリカ・チタニア極端紫外線光学素子の製造方法 - Google Patents
シリカ・チタニア極端紫外線光学素子の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2004131373A JP2004131373A JP2003311023A JP2003311023A JP2004131373A JP 2004131373 A JP2004131373 A JP 2004131373A JP 2003311023 A JP2003311023 A JP 2003311023A JP 2003311023 A JP2003311023 A JP 2003311023A JP 2004131373 A JP2004131373 A JP 2004131373A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- titania
- containing silica
- extreme ultraviolet
- glass
- sol
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/06—Glass compositions containing silica with more than 90% silica by weight, e.g. quartz
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/10—Forming beads
- C03B19/1005—Forming solid beads
- C03B19/106—Forming solid beads by chemical vapour deposition; by liquid phase reaction
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/12—Other methods of shaping glass by liquid-phase reaction processes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/06—Doped silica-based glasses
- C03B2201/30—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi
- C03B2201/40—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi doped with transition metals other than rare earth metals, e.g. Zr, Nb, Ta or Zn
- C03B2201/42—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi doped with transition metals other than rare earth metals, e.g. Zr, Nb, Ta or Zn doped with titanium
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
Abstract
【解決手段】チタニア含有シリカ粉体を含む水溶性ゾルを提供するステップと、該ゾルからチタニアが均一に分布したゲル状チタニア含有シリカ体を形成するステップと、該ゲルを乾燥させて乾燥チタニア含有シリカ体を提供するステップと、該チタニア含有シリカ体を十分な温度に加熱してガラス体を形成するステップとからなる。
【選択図】なし
Description
ゾル・ゲルプロセスは、粒子の懸濁液若しくはゾルの形成及びゾルのゲル化を介して非有機的なネットワークの発生を含み、連続液相若しくはゲルのネットワークを形成する。ゾルを形成するプリカーサは、さまざまな反応性の配位子によって囲まれた金属又はメタロイド成分を含む。金属アルコキシドは水と素早く反応するので最もよく使用される。最も広く使われている金属アルコキシドは、テトラメトキシシラン(tetramethoxysilane (TMOS))及び テトラエトキシシランアルコキシシラン(tetraethoxysilane (TEOS))の如きアルコキシシランである。官能基レベルでは、加水分解、アルコール縮合及び脱水縮合の3つの反応が一般にゾル・ゲルプロセスを記載するために用いられる。加水分解は、水と金属アルコキシドの反応を含み金属水酸化物を形成する。2つの金属水酸化物(M-OH + HO-M)が結合して、金属酸化物種(M-O-M)を形成するときに縮合反応が生じる。この反応は、水分子を形成する。ここで使用されるように、ゾルは加水分解及び縮合反応を経て、さまざまな反応系の水溶液に関連する。連続的に生産される酸化物種の分子量は増加する。これらの種が成長するように、それらは三次元ネットワークにおいて連結し始め得る。架橋された酸化物粒子のネットワークがゾルを維持する容器に及んだときゲルが形成される。乾燥の前には、ゲルは固体部分と液体部分とから成る。固体部分は、架橋された酸化物粒子の三次元ネットワークを含む。液体部分は、固体部分を包囲する自由空間を包囲している。その後、ゲルは、溶媒交換、超臨界乾燥又はこれらの組み合わせによって乾燥される。乾燥の間、ゲル内の液体が除去され、架橋された粒子ネットワークだけが残る。
11 スート
12 回転収集カップ
14、26 供給体
16 炉
18 ガラス体
20 バブラーガス
22 キャリヤーガス
24 配送システム
28 マニホルド
36 バーナ
37 バーナー炎
Claims (7)
- 固相のチタニア含有シリカ粉体を含む水溶性ゾルを与えるゾル提供ステップと、
前記ゾルからチタニアが均一に分布したゲル状チタニア含有シリカを形成するステップと、
前記ゲル状チタニア含有シリカを乾燥させて乾燥チタニア含有シリカ体を提供するステップと、
前記チタニア含有シリカ体を十分な温度に加熱してガラス体を形成する加熱ステップと、からなることを特徴とする極端紫外線光学素子の製造方法。 - 前記アモルファスチタニア含有シリカ粉体が有機金属系プリカーサの炎加水分解によって形成されることを特徴とする請求項1記載の極端紫外線光学素子の製造方法。
- 前記シリカ粉体のチタニア濃度は約3重量パーセントから10重量パーセントまでの間にあることを特徴とする請求項1又は2記載の極端紫外線光学素子の製造方法。
- 前記極端紫外線光学素子は20℃から35℃までの範囲内で約+30ppb/℃から-30ppb/℃までの範囲内の均質CTEを有することを特徴とする請求項1乃至3のうちの1に記載の極端紫外線光学素子の製造方法。
- 前記加熱ステップは結晶相を溶解させるのに十分な温度に加熱することを特徴とする請求項1乃至4のうちの1に記載の極端紫外線光学素子の製造方法。
- 前記ゾル提供ステップはチタニア含有シリカ粉体とチタン及びシリコンを含むアルコキシドとを混合するステップを含むことを特徴とする請求項1乃至5のうちの1に記載の極端紫外線光学素子の製造方法。
- 約10cmよりも大なる長さと、約10cmよりも大なる幅と、約6.5重量パーセントから約7.5重量パーセントまでの範囲内のチタニア濃度及び約1ppb/℃未満のCTE偏差を有することを特徴とするチタニア含有シリカガラス体。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US40940402P | 2002-09-09 | 2002-09-09 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004131373A true JP2004131373A (ja) | 2004-04-30 |
Family
ID=31888404
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003311023A Pending JP2004131373A (ja) | 2002-09-09 | 2003-09-03 | シリカ・チタニア極端紫外線光学素子の製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20040045318A1 (ja) |
JP (1) | JP2004131373A (ja) |
DE (1) | DE10341569A1 (ja) |
TW (1) | TWI246990B (ja) |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1795506A1 (en) | 2005-12-08 | 2007-06-13 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Titania-doped quartz glass and making method, euv lithographic member and photomask substrate |
JP2007186412A (ja) * | 2005-12-21 | 2007-07-26 | Corning Inc | 脈理が低減された低膨張率ガラスおよび素子ならびにその製造方法 |
JP2008505827A (ja) * | 2004-05-17 | 2008-02-28 | ヘレウス クワルツグラス ゲーエムベーハー ウント コンパニー カーゲー | 石英ガラスブランクおよびその製造方法 |
JP2009538820A (ja) * | 2006-05-31 | 2009-11-12 | コーニング インコーポレイテッド | 脈理が減少した低膨張ガラスおよび素子、並びにその製造方法 |
WO2010010915A1 (ja) * | 2008-07-23 | 2010-01-28 | 株式会社ニコン | フォトマスク用光学部材及びその製造方法 |
JP2013101310A (ja) * | 2011-08-31 | 2013-05-23 | Corning Inc | 3成分ドープのシリカ・チタニアの重要部分を有している、2成分系シリカ・チタニアガラス製品 |
JP2014220289A (ja) * | 2013-05-02 | 2014-11-20 | 独立行政法人物質・材料研究機構 | 光波長変換ガラスの製造方法、光波長変換ガラス及び発光装置 |
JP2017536324A (ja) * | 2014-11-26 | 2017-12-07 | コーニング インコーポレイテッド | ハロゲンをドープした光学要素を製造する方法 |
JP2020079199A (ja) * | 2015-03-26 | 2020-05-28 | コーニング インコーポレイテッド | 極紫外線リソグラフィーに使用するためのガラス複合体 |
JP2021532053A (ja) * | 2018-08-02 | 2021-11-25 | コーニング インコーポレイテッド | スートを捕捉する方法 |
KR20240052934A (ko) | 2021-09-08 | 2024-04-23 | 에이지씨 가부시키가이샤 | TiO2 함유 실리카 유리 기판 |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20030226377A1 (en) * | 2002-03-05 | 2003-12-11 | Barrett W. Tim | Method of making silica-titania extreme ultraviolet elements |
US7155936B2 (en) | 2003-08-08 | 2007-01-02 | Corning Incorporated | Doped silica glass articles and methods of forming doped silica glass boules and articles |
JP4957249B2 (ja) * | 2004-07-01 | 2012-06-20 | 旭硝子株式会社 | TiO2を含有するシリカガラスおよびその製造方法 |
US20060179879A1 (en) * | 2004-12-29 | 2006-08-17 | Ellison Adam J G | Adjusting expansivity in doped silica glasses |
RU2009107892A (ru) * | 2007-08-03 | 2013-03-20 | Теосс Ко., Лтд. | Опорное устройство для кремниевого материала и оборудование для нагрева и быстрого охлаждения кремниевого материала с использованием этого устройства |
JP2011505318A (ja) * | 2007-11-30 | 2011-02-24 | コーニング インコーポレイテッド | 低い膨張係数勾配を有する低膨張性ガラス材料 |
US20100107696A1 (en) * | 2008-10-30 | 2010-05-06 | John Edward Maxon | Method for reducing inclusions in silica-titania glass |
DE102011084316A1 (de) * | 2011-10-12 | 2013-04-18 | Osram Gmbh | Verfahren zur Herstellung eines optischen Elements |
US8987155B2 (en) * | 2012-08-30 | 2015-03-24 | Corning Incorporated | Niobium doped silica titania glass and method of preparation |
JP2017536323A (ja) | 2014-11-26 | 2017-12-07 | コーニング インコーポレイテッド | 低膨張率を有するドープされたシリカ−チタニアガラスおよびその製造方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63307140A (ja) * | 1987-05-29 | 1988-12-14 | コーニング グラス ワークス | 超低膨張ガラスを製造するためのゾルーゲル法 |
JPH0624754A (ja) * | 1992-04-07 | 1994-02-01 | American Teleph & Telegr Co <Att> | 高シリカガラスからなる製品の製造方法 |
JPH07277752A (ja) * | 1994-04-04 | 1995-10-24 | Nippon Steel Corp | 紫外線レーザ用合成石英ガラス及びその製造方法 |
Family Cites Families (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
BE438752A (ja) * | 1939-04-22 | |||
US3790654A (en) * | 1971-11-09 | 1974-02-05 | Corning Glass Works | Extrusion method for forming thinwalled honeycomb structures |
SE434312B (sv) * | 1975-10-22 | 1984-07-16 | Atomic Energy Authority Uk | Porosgel, sett for dess framstellning samt anvendning av densamma for framstellning av ett keramiskt katalysatormaterial |
US4278632A (en) * | 1980-02-08 | 1981-07-14 | Westinghouse Electric Corp. | Method of conforming clear vitreous gal of silica-titania material |
DE3226451C2 (de) * | 1982-07-15 | 1984-09-27 | Heraeus Quarzschmelze Gmbh, 6450 Hanau | Verfahren zur Herstellung von schlierenfreien, blasenfreien und homogenen Quarzglasplatten und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens |
US4789389A (en) * | 1987-05-20 | 1988-12-06 | Corning Glass Works | Method for producing ultra-high purity, optical quality, glass articles |
US4902216A (en) * | 1987-09-08 | 1990-02-20 | Corning Incorporated | Extrusion die for protrusion and/or high cell density ceramic honeycomb structures |
US4940675A (en) * | 1988-06-17 | 1990-07-10 | Corning Incorporated | Method for making low-expansion glass article of complex shape |
US5154744A (en) * | 1991-08-26 | 1992-10-13 | Corning Incorporated | Method of making titania-doped fused silica |
DE4204406C2 (de) * | 1992-02-14 | 1995-04-06 | Heraeus Quarzglas | Verfahren zur Herstellung eines homogenen, schlierenfreien Körpers aus Quarzglas oder aus einem hochkieselsäurehaltigen Glas durch Umformen eines stabförmigen Ausgangskörpers |
US5473826A (en) * | 1994-08-19 | 1995-12-12 | Yazaki Corporation | Process for drying sol-gel derived porous bodies at elevated subcritical temperatures and pressures |
JP2001524920A (ja) * | 1997-05-15 | 2001-12-04 | ショット エムエル ゲーエムベーハー | 均一でストリークのない石英ガラス板の製造方法および装置 |
US6209357B1 (en) * | 1998-07-21 | 2001-04-03 | Lucent Technologies Inc. | Method for forming article using sol-gel processing |
US5970751A (en) * | 1998-09-22 | 1999-10-26 | Corning Incorporated | Fused SiO2 -TiO2 glass method |
DE59902297D1 (de) * | 1998-10-28 | 2002-09-12 | Schott Glas | Quarzglasplatten hoher brechzahlhomogenität |
TW581747B (en) * | 1999-02-16 | 2004-04-01 | Nikon Corp | Synthetic quartz glass optical member for ultraviolet light |
EP1138387A1 (de) * | 2000-03-29 | 2001-10-04 | Degussa AG | Verfahren zur Herstellung eines Titansilicalitformkörpers |
EP1195360A1 (de) * | 2000-09-01 | 2002-04-10 | Degussa AG | Verfahren zur Herstellung von SiO2-TiO2-Gläsern mit geringem thermischen Ausdehnungskoeffizient |
US6776006B2 (en) * | 2000-10-13 | 2004-08-17 | Corning Incorporated | Method to avoid striae in EUV lithography mirrors |
US6832493B2 (en) * | 2002-02-27 | 2004-12-21 | Corning Incorporated | High purity glass bodies formed by zero shrinkage casting |
US20030159466A1 (en) * | 2002-02-27 | 2003-08-28 | Bowden Bradley F. | Dry pressing of spray dried soot to make EUV components |
US6829908B2 (en) * | 2002-02-27 | 2004-12-14 | Corning Incorporated | Fabrication of inclusion free homogeneous glasses |
US20030226377A1 (en) * | 2002-03-05 | 2003-12-11 | Barrett W. Tim | Method of making silica-titania extreme ultraviolet elements |
-
2003
- 2003-09-03 JP JP2003311023A patent/JP2004131373A/ja active Pending
- 2003-09-08 TW TW092124925A patent/TWI246990B/zh not_active IP Right Cessation
- 2003-09-09 US US10/659,525 patent/US20040045318A1/en not_active Abandoned
- 2003-09-09 DE DE10341569A patent/DE10341569A1/de not_active Withdrawn
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63307140A (ja) * | 1987-05-29 | 1988-12-14 | コーニング グラス ワークス | 超低膨張ガラスを製造するためのゾルーゲル法 |
JPH0624754A (ja) * | 1992-04-07 | 1994-02-01 | American Teleph & Telegr Co <Att> | 高シリカガラスからなる製品の製造方法 |
JPH07277752A (ja) * | 1994-04-04 | 1995-10-24 | Nippon Steel Corp | 紫外線レーザ用合成石英ガラス及びその製造方法 |
Cited By (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008505827A (ja) * | 2004-05-17 | 2008-02-28 | ヘレウス クワルツグラス ゲーエムベーハー ウント コンパニー カーゲー | 石英ガラスブランクおよびその製造方法 |
JP4703647B2 (ja) * | 2004-05-17 | 2011-06-15 | ヘレウス クワルツグラス ゲーエムベーハー ウント コンパニー カーゲー | 石英ガラスブランクおよびその製造方法 |
EP1795506A1 (en) | 2005-12-08 | 2007-06-13 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Titania-doped quartz glass and making method, euv lithographic member and photomask substrate |
JP2007186412A (ja) * | 2005-12-21 | 2007-07-26 | Corning Inc | 脈理が低減された低膨張率ガラスおよび素子ならびにその製造方法 |
JP2009538820A (ja) * | 2006-05-31 | 2009-11-12 | コーニング インコーポレイテッド | 脈理が減少した低膨張ガラスおよび素子、並びにその製造方法 |
JP5561164B2 (ja) * | 2008-07-23 | 2014-07-30 | 株式会社ニコン | フォトマスク用光学部材及びその製造方法 |
WO2010010915A1 (ja) * | 2008-07-23 | 2010-01-28 | 株式会社ニコン | フォトマスク用光学部材及びその製造方法 |
JP2013101310A (ja) * | 2011-08-31 | 2013-05-23 | Corning Inc | 3成分ドープのシリカ・チタニアの重要部分を有している、2成分系シリカ・チタニアガラス製品 |
JP2014220289A (ja) * | 2013-05-02 | 2014-11-20 | 独立行政法人物質・材料研究機構 | 光波長変換ガラスの製造方法、光波長変換ガラス及び発光装置 |
JP2017536324A (ja) * | 2014-11-26 | 2017-12-07 | コーニング インコーポレイテッド | ハロゲンをドープした光学要素を製造する方法 |
JP2020079199A (ja) * | 2015-03-26 | 2020-05-28 | コーニング インコーポレイテッド | 極紫外線リソグラフィーに使用するためのガラス複合体 |
JP7012761B2 (ja) | 2015-03-26 | 2022-01-28 | コーニング インコーポレイテッド | 極紫外線リソグラフィーに使用するためのガラス複合体 |
JP2021532053A (ja) * | 2018-08-02 | 2021-11-25 | コーニング インコーポレイテッド | スートを捕捉する方法 |
JP7341220B2 (ja) | 2018-08-02 | 2023-09-08 | コーニング インコーポレイテッド | スートを捕捉する方法 |
KR20240052934A (ko) | 2021-09-08 | 2024-04-23 | 에이지씨 가부시키가이샤 | TiO2 함유 실리카 유리 기판 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20040045318A1 (en) | 2004-03-11 |
DE10341569A1 (de) | 2004-03-18 |
TWI246990B (en) | 2006-01-11 |
TW200416202A (en) | 2004-09-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2004131373A (ja) | シリカ・チタニア極端紫外線光学素子の製造方法 | |
EP1390309B1 (en) | Method for producing titania-doped fused silica extreme ultraviolet lithography substrates glass | |
US5236483A (en) | Method of preparing silica glass | |
US7589040B2 (en) | Doped silica glass articles and methods of forming doped silica glass boules and articles | |
US20060179879A1 (en) | Adjusting expansivity in doped silica glasses | |
JP2009091246A (ja) | 極紫外線リソグラフィー用基板の製造方法 | |
JP2005519022A (ja) | シリカ−チタニア極紫外光光学素子の作成方法 | |
US20110207593A1 (en) | Expansivity in Low Expansion Silica-Titania Glasses | |
US6849114B2 (en) | Dispersion comprising silicon/titanium mixed oxide powder, and green bodies and shaped glass articles produced therefrom | |
JP6651445B2 (ja) | チタンおよびフッ素でドープされた、高ケイ酸含量のガラスからなるブランクの製造法 | |
EP2890651B1 (en) | Niobium doped silica titania glass and method of preparation | |
US20030159465A1 (en) | Fabrication of inclusion free homogeneous glasses | |
US6796143B2 (en) | Process for producing SiO2-TiO2 glasses having a low coefficient of thermal expansion | |
TWI651277B (zh) | 製造用於euv微影術之高矽酸含量的氟與鈦摻雜玻璃底板的方法及由該方法製造之底板 | |
US6997015B2 (en) | EUV lithography glass structures formed by extrusion consolidation process | |
JPH042625A (ja) | 高均質シリカガラスの製造方法 | |
JP4027625B2 (ja) | 低い熱膨張率を有するSiO2−TiO2ガラスの製造方法およびそのガラス | |
JP2611684B2 (ja) | 石英ガラスの製造方法 | |
JP3582093B2 (ja) | シリカガラスの製造方法 | |
US20100107696A1 (en) | Method for reducing inclusions in silica-titania glass | |
JPH03174330A (ja) | ガラスの製造方法 | |
JPH02217323A (ja) | 石英ガラスの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060626 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090825 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20091116 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20091119 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100224 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20110301 |