JP2004103754A - 面発光レーザ素子および面発光レーザモジュールおよび面発光レーザアレイおよび光伝送システム - Google Patents

Abstract

【課題】ｐ−ＤＢＲを用いない面発光レーザ素子において、さらに、低いしきい値電流，高いスロープ効率，低い素子抵抗を持ち、より高速な伝送特性をもち、用途にとってはより高い出力が得られる面発光レーザ素子を提供する。
【解決手段】第１のミラーと第２のミラーとの間に複数の半導体活性層が設けられ、それぞれの半導体活性層の両側に相対するようにｐ型またはｎ型の導電性のスペーサ層が設けられ、それぞれの半導体活性層を含むｐｎ接合にそれぞれ電流を注入する電流注入手段が設けられており、前記第１のミラーおよび前記第２のミラーの一部の領域または全ての領域が、ｎ型導電性または非導電性のものとなっている。
【選択図】　　　図１

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、面発光レーザ素子および面発光レーザモジュールおよび面発光レーザアレイおよび光伝送システムに関する。
【０００２】
【従来の技術】
半導体基板表面に対し垂直に光をとりだす構造である面発光レーザは、従来の端面発光レーザと比べて、次のような利点をもっている。すなわち、面発光レーザは、活性層体積を小さくできることから、低いしきい値電流、低い消費電力で駆動できる。また、共振器のモード体積が小さいため、数十ＧＨｚの変調が可能であり、高速伝送に向く。また、出射光の広がり角が小さく光ファイバへの結合が容易である。さらに、面発光レーザは、作製にへき開を必要とせず、素子面積も小さいので、並列化及び２次元高密度アレイ化が可能である。
【０００３】
これらの利点をもつため、近年、伝送する情報が高速大容量になっている光通信システム分野、及び、コンピューター間、チップ間、チップ内の高速データ伝送が可能な光インターコネクション分野において、面発光レーザはキーデバイスになると考えられている。
【０００４】
一般に、面発光レーザは、半導体基板と垂直方向にレーザ共振器を構成し、光を基板と垂直に出射する構成をとる。そして、基板と素子表面とに、高反射率の半導体多層膜反射鏡（半導体ＤＢＲ）や誘電体多層膜反射鏡（誘電体ＤＢＲ）や金属反射鏡が設けられ、これらの反射鏡の間に活性層が設けられる。そして、活性層と２つの反射鏡の間に、スペーサ層が設けられる。さらに、活性層近傍に電流と光を閉じ込める必要があるため、また、高速変調では寄生容量を低減する必要があるため、レーザ構造としては半導体柱構造をとり、且つ、活性層近傍に電流狭窄する構造を設ける場合が一般的である。
【０００５】
上記一般的な構成のうち、多くの場合は、製造工程が容易なことから、面発光レーザは、以下のような素子構成をとる。
【０００６】
すなわち、面発光レーザの素子構成としては、図１に示すように、ｐ型またはｎ型の導電性の半導体基板上に、基板と同じ導電性の下部ミラー層（下部半導体多層膜反射鏡（半導体ＤＢＲ））、下部半導体スペーサ層、半導体活性層、上部半導体スペーサ層、下部ミラー層（下部半導体ＤＢＲ）とは逆の導電性をもつ上部ミラー層（上部半導体ＤＢＲ）を順次積層した膜構成をもち、さらに、この積層膜は半導体柱構造に加工されている。さらに、基板裏面には下部電極が形成され、上部ミラー層（上部半導体ＤＢＲ）の上面の一部には上部電極が形成されている。また、電流狭窄部としては、上記積層膜構成にＡｌ（Ｇａ）Ａｓ層を挿入し、この層を電流経路を除いて酸化し絶縁領域を形成する構成をとる場合や、積層膜表面からプロトンや酸素イオンを活性層近傍に注入し絶縁領域を形成する構成をとる場合がある。
【０００７】
このような構成の面発光レーザは、端面発光レーザと比較して、大幅に小さい電流，消費電力で駆動でき、より高速な伝送特性が得られている。
【０００８】
しかし、光通信分野，インターコネクション分野では、より高速変調できる素子が常に望まれている。また、光メモリ分野，レーザプリンタ分野では、より高速により小さい消費電力で書き込みができる発光素子が望まれている。
【０００９】
よって、従来よりもさらに小さいしきい値電流で発振する、より低抵抗な、より高出力な面発光レーザの出現が期待されている。
【００１０】
ところで、従来構造の面発光レーザの多くは、素子構成の一部にｐ−ＤＢＲが用いられている。
【００１１】
しかし、ｐ型半導体は価電子帯間吸収と価電子帯アクセプタ準位間吸収による光吸収が大きいため、光導波領域にｐ型半導体層を用いたレーザ素子は、しきい値電流が上昇し、外部量子効率が低下し、温度特性も悪化する（例えば文献：　伊藤良一、中村道治編「半導体レーザ［基礎と応用］」、培風館刊を参照）。
【００１２】
従って、従来のレーザ特性をさらに向上させるには、ｐ−ＤＢＲを用いない構造が望ましい。ｐ−ＤＢＲを用いない構造の例として、次の２つの素子構成が挙げられる。
【００１３】
第１の素子構成は、例えば特開２０００−２７７８５３に示されているようなトンネル接合電流狭窄構造をもつ面発光レーザである。すなわち、この面発光レーザは、第１のミラーと第１のｎ側電極とを有し、第１のミラー上に、下部ｎ型スペーサ層、活性層、ｐ型スペーサ層、トンネル接合（後の熱処理工程で、このトンネル接合の電流経路部を除いた部分を非導電性にし電流狭窄部を形成する）、上部ｎ型スペーサ層を順次積層する構成を有し、さらに、この上部ｎ型スペーサ層の上で、レーザ光の光路部以外の領域に第２のｎ側電極を有し、この上部ｎ型スペーサ層の上で、レーザ光の光路部の領域に第２のミラーを有する構成となっている。
【００１４】
また、第２の素子構成は、特開平１１−２４３２５７号に示されているようなイントラキャビティコンタクト（Ｉｎｔｒａｃａｖｉｔｙ　Ｃｏｎｔａｃｔｓ）構造の面発光レーザである。このイントラキャビティコンタクト構造は、共振器内または共振器に接して電流を注入する機構を有する構造である。すなわち、この構造は、具体的には、例えば、少なくとも一方が誘電体ＤＢＲである２つのミラーと、これらのミラーの間に活性層を含む共振器構造とを有し、さらに、これらのミラーの間に電流ガイドと光学ガイドを有し、さらに、この共振器構造の内部に、または、この共振器構造に接した領域に、電流を注入するｐ側電極とｎ側電極を有する構造である。
【００１５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述した従来の面発光レーザは、ｐ−ＤＢＲを用いない構造となっているものの、活性層は１つであり、駆動電流経路も１つであり、従って、高いレーザ特性を得るには限界があった。
【００１６】
本発明は、ｐ−ＤＢＲを用いない面発光レーザ素子において、さらに、低いしきい値電流，高いスロープ効率，低い素子抵抗を持ち、より高速な伝送特性をもち、用途にとってはより高い出力が得られる面発光レーザ素子および面発光レーザモジュールおよび面発光レーザアレイおよび光伝送システムを提供することを目的としている。
【００１７】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、請求項１記載の発明は、第１のミラーと第２のミラーとの間に複数の半導体活性層が設けられ、それぞれの半導体活性層の両側に相対するようにｐ型またはｎ型の導電性のスペーサ層が設けられ、それぞれの半導体活性層を含むｐｎ接合にそれぞれ電流を注入する電流注入手段が設けられており、前記第１のミラーおよび前記第２のミラーの一部の領域または全ての領域が、ｎ型導電性または非導電性のものとなっていることを特徴としている。
【００１８】
また、請求項２記載の発明は、請求項１記載の面発光レーザ素子において、前記第１のミラー上に、第１のスペーサ層、第１の半導体活性層、ｐ型導電性の中間スペーサ層、第２の半導体活性層、第２のスペーサ層、第２のミラーを積層した層構造が設けられ、それぞれのスペーサ層に電流を注入する電流注入手段が設けられていることを特徴としている。
【００１９】
また、請求項３記載の発明は、請求項１記載の面発光レーザ素子において、前記第１のミラー上に、ｐ型の第１のスペーサ層、第１の半導体活性層、ｎ型導電性の中間スペーサ層、第２の半導体活性層、ｐ型の第２のスペーサ層、第２のミラーを積層した層構造が設けられ、それぞれのスペーサ層に電流を注入する電流注入手段が設けられていることを特徴としている。
【００２０】
また、請求項４記載の発明は、請求項１乃至請求項３のいずれか一項に記載の面発光レーザ素子において、前記第１のミラーまたは前記第２のミラーのいずれかまたは両方が誘電体多層膜ミラー（ＤＢＲ）であり、該誘電体多層膜ミラー（ＤＢＲ）と接するスペーサ層に、電流を注入する電流注入手段が設けられていることを特徴としている。
【００２１】
また、請求項５記載の発明は、請求項１乃至請求項４のいずれか一項に記載の面発光レーザ素子において、複数の半導体活性層の利得ピーク波長が同一であることを特徴としている。
【００２２】
また、請求項６記載の発明は、請求項１乃至請求項４のいずれか一項に記載の面発光レーザ素子において、複数の半導体活性層の利得ピーク波長が異なることを特徴としている。
【００２３】
また、請求項７記載の発明は、請求項１乃至請求項６のいずれか一項に記載の面発光レーザ素子において、前記第１のミラー、前記第２のミラー、前記スペーサ層のいずれか、または、全ての層に、電流狭窄構造が設けられていることを特徴としている。
【００２４】
また、請求項８記載の発明は、請求項１乃至請求項７のいずれか一項に記載の面発光レーザ素子において、該面発光レーザ素子は、活性層にＧａＩｎＮＡｓ系材料からなる層を含む量子井戸構造を有していることを特徴としている。
【００２５】
また、請求項９記載の発明は、請求項１乃至請求項８のいずれか一項に記載の面発光レーザ素子において、各活性層を含むｐｎ接合のｐ側半導体に電流を注入するｐ側電極を電気的に共通としたｐ側共通電極が設けられ、各活性層を含むｐｎ接合のｎ側半導体に電流を注入するｎ側電極を電気的に共通としたｎ側共通電極が設けられており、ｐ側共通電極，ｎ側共通電極は、それぞれ、駆動電流供給回路に接続されていることを特徴とする面発光レーザモジュールである。
【００２６】
また、請求項１０記載の発明は、請求項９記載の面発光レーザモジュールにおいて、各活性層を含むｐｎ接合における、各ｐ側電極とｐ側共通電極との間の配線、および、各ｎ側電極とｎ側共通電極との間の配線の少なくとも１つ、または、全部に、各活性層に注入する電流値を調整するための電流調整手段が設けられていることを特徴とする面発光レーザモジュールである。
【００２７】
また、請求項１１記載の発明は、請求項１乃至請求項８のいずれか一項に記載の面発光レーザ素子において、各活性層を含むｐｎ接合に各々駆動電流供給回路を接続することを特徴とする面発光レーザモジュールである。
【００２８】
また、請求項１２記載の発明は、請求項１乃至請求項８のいずれか一項に記載の面発光半導体レーザ素子、または、請求項９乃至請求項１１のいずれか一項に記載の面発光レーザモジュールにおいて、面発光レーザ素子が半導体基板上にアレイ状に複数個配列されていることを特徴とする面発光レーザアレイである。
【００２９】
また、請求項１３記載の発明は、請求項１乃至請求項８のいずれか一項に記載の面発光半導体レーザ素子、または、請求項９乃至請求項１１のいずれか一項に記載の面発光レーザモジュール、または、請求項１２記載の面発光レーザアレイが用いられていることを特徴とする光伝送システムである。
【００３０】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。
【００３１】
（第１の実施形態）
本発明の第１の実施形態は、第１のミラーと第２のミラーとの間に複数の半導体活性層が設けられ、それぞれの半導体活性層の両側に相対するようにｐ型またはｎ型の導電性のスペーサ層が設けられ、それぞれの半導体活性層を含むｐｎ接合にそれぞれ電流を注入する電流注入手段が設けられており、前記第１のミラーおよび前記第２のミラーの一部の領域または全ての領域が、ｎ型導電性または非導電性のものとなっていることを特徴としている。
【００３２】
ここで、非導電性のミラーとは、１×１０^１７／ｃｍ^３未満のキャリア濃度をもつ半導体多層膜ミラー（半導体ＤＢＲ）、または、誘電体多層膜ミラー（誘電体ＤＢＲ）である。
【００３３】
また、ｐ型，ｎ型の導電性のスペーサ層とは、それぞれのキャリアの濃度が５×１０^１６／ｃｍ^３以上である層である。
【００３４】
また、ミラーの一部の領域とは、ミラーの厚さの２／３以上の部分の領域（ミラーの大部分の領域）とする。
【００３５】
また、活性層（半導体活性層）は、単層でも良く、多層からなる多重量子井戸構造でもよい。
【００３６】
また、各活性層の位置は、レーザ発振光のモード定在波の腹の部分に配置することが望ましい。
【００３７】
このような構成の面発光レーザ素子を作製する場合、半導体基板上に、ｎ型または非導電性の半導体多層膜反射鏡からなる第１のミラーを設け、さらに各スペーサ層、活性層を一括でエピタキシャル成長させることが、工程が簡便になり、積層膜を高品質にできるので望ましい。ただし、上記スペーサ層のうち１部は半導体基板からなる場合も含む。
【００３８】
図２は、上述した第１の実施形態の面発光レーザ素子の第１の具体例を示す図である。なお、図２の例では、４つの活性層をもつ場合が示されている。
【００３９】
すなわち、図２の例の面発光レーザ素子では、ｎ型半導体基板上に、ｎ型導電性の第１のミラー、ｎ型の第１のスペーサ層、第１の活性層、ｐ型の第２のスペーサ層、第２の活性層、ｎ型の第３のスペーサ層、第３の活性層、ｐ型の第４のスペーサ層、第４の活性層、ｎ型の第５のスペーサ層、ｎ型導電性の第２のミラーからなる積層構造が設けられている。
【００４０】
これらの積層構造は、第２のスペーサ層、第３のスペーサ層、第４のスペーサ層の層中にテラスを持つ柱状構造を形成するように加工される。これらのテラス上には、ｐ側第１中間電極、ｎ側第２中間電極、ｐ側第３中間電極が設けられ、それぞれのスペーサ層と接続される。
【００４１】
さらに、ｎ側の第１の電極は、半導体基板を介し第１のミラーに接続される。さらに、第２のミラーの上面には、ｎ側の第２の電極が設けられている。光出力は、第１のミラー側から取り出される。従って、上記第１の電極は、出射するレーザ光の光路を塞がないように設けられる。
【００４２】
これらの積層構造膜は、ＭＯＣＶＤ法，ＭＢＥ法等の方法で形成される。また、多段のテラスをもつ半導体柱構造は、ウェットエッチング法又はドライエッチング法により形成できる。
【００４３】
また、この半導体柱構造の表面には、ＳｉＯ_２，ＳｉＯＮ，ＳｉＮ，ＴｉＯ_２，ＴｉＮ、ポリイミドなどの材料からなる保護膜が設けられる。
【００４４】
また、図３は上述した第１の実施形態の面発光レーザ素子の第２の具体例を示す図である。図３の例の面発光レーザ素子では、ｎ型の半導体基板上に、ｎ型の第１半導体ＤＢＲ（ミラー）、ｎ型の第１のスペーサ層、第１の活性層、ｐ型の第２のスペーサ層、第２の活性層、ｎ型の第３のスペーサ層、第３の活性層、ｐ型の第４のスペーサ層、ノンドープの第２半導体ＤＢＲ（ミラー）が積層され、積層構造が形成されている。
【００４５】
これらの積層構造は、ｐ型の第２のスペーサ層中に底面をもち、ｎ型の第３のスペーサ層、ｐ型の第４のスペーサ層の層中にテラスを持つ３段の柱状構造を形成するように加工されて、底面上にはｐ側中間電極が設けられ、各テラス上にはｎ側中間電極，ｐ側第２電極が設けられている。また、ｎ型の半導体基板の裏面にはｎ型第１電極が設けられている。そして、光出力は、第２のミラー（ノンドープの第２の半導体ＤＢＲ）側から取り出されるようになっている。
【００４６】
図２または図３の面発光レーザ素子では、各電極から、各活性層に両側から異なる極性のキャリアが注入されるように電流を流し、レーザ発振させることかできる。
【００４７】
この第１の実施形態の面発光レーザ素子では、ｐ−ＤＢＲを用いていないので、ミラーでの光損失が小さくなる。このため、より低い閾値が得られ、また、より高いスロープ効率が得られる。よって、駆動電流が小さくて済み、素子の消費電力が少なくなる。また、素子の発熱も少なくなることから、駆動電流を大きくでき、より高い光出力が得られる。また、高出力が得られるため、共振器中の光子密度が高くなりより、高速な変調が可能になる。
【００４８】
また、図１に示した従来の１つの活性層をもつ面発光レーザと比較すると、この第１の実施形態の面発光レーザ素子は、同一の共振器中に複数の活性層があるので、大幅に高い光出力が得られる。さらに、高出力が得られるため、共振器中の光子密度が高くなり、より高速な変調が可能になる。
【００４９】
（第２の実施形態）
本発明の第２の実施形態は、上述した第１の実施形態の面発光レーザ素子において、前記第１のミラー上に、第１のスペーサ層、第１の半導体活性層、ｐ型導電性の中間スペーサ層、第２の半導体活性層、第２のスペーサ層、第２のミラーを積層した層構造が設けられ、それぞれのスペーサ層に電流を注入する電流注入手段が設けられていることを特徴としている。
【００５０】
図４は第２の実施形態の面発光レーザ素子の第１の具体例を示す図である。図４の例の面発光レーザ素子では、非導電性の半導体基板上に、非導電性の第１の半導体ＤＢＲ（ミラー）、ｎ型の第１の半導体スペーサ層、第１の半導体活性層、ｐ型導電性の第２のスペーサ層、第２の半導体活性層、ｎ型導電性の第３のスペーサ層、非導電性の第２半導体ＤＢＲ（ミラー）を順次積層して、積層構造が形成されている。
【００５１】
これらの積層構造は、第１のスペーサ層中に底面が位置し、第２のスペーサ層中と第３のスペーサ層中にテラスが位置する柱状構造を形成するように加工されて、底面にはｎ側の第１の電極が設けられ、テラス上にはｐ側中間電極，ｎ側の第２の電極が設けられている。そして、光出力は、第２のミラー（非導電性の第２の半導体ＤＢＲ）側から取り出されるようになっている。
【００５２】
また、図５は第２の実施形態の面発光レーザ素子の第２の具体例を示す図である。図５の例の面発光レーザ素子では、ｎ型の半導体基板上に、ｎ型の第１の半導体ＤＢＲ（ミラー）、ｎ型の第１の半導体スペーサ層、第１の半導体活性層、ｐ型導電性の第２のスペーサ層、第２の半導体活性層、ｎ型導電性の第３のスペーサ層、ｎ型の第２の半導体ＤＢＲ（ミラー）を順次積層して、積層構造が形成されている。
【００５３】
これらの積層構造は、第１の半導体ＤＢＲ中に底面が位置し、第２のスペーサ層中にテラスが位置する柱状構造を形成するように加工されて、ｐ側の中間電極が第２のスペーサ層中のテラス上に設けられ、ｎ側の第１の電極が半導体基板の裏面に設けられ、ｎ側の第２の電極が第２の半導体ＤＢＲ上の出射するレーザ光の光路を塞がない位置に設けられている。
【００５４】
また、図６は第２の実施形態の面発光レーザ素子の第３の具体例を示す図である。図６の例の面発光レーザ素子では、非導電性半導体基板上に、非導電性の第１の半導体ＤＢＲ（ミラー）、ｎ型の第１のスペーサ層、第１の半導体活性層、ｐ型導電性の第２のスペーサ層、第２の半導体活性層、ｎ型導電性の第３の半導体スペーサ層、ｎ型の第２の半導体ＤＢＲ（ミラー）を順次積層して、積層構造が形成されている。
【００５５】
これらの積層構造は、第１のスペーサ層中に底面が位置し、第２のスペーサ層中にテラスが位置する２段の柱状構造を形成するように加工されて、ｎ側の第１の電極が第１のスペーサ層中の底面に設けられ、ｐ側の中間電極が第２のスペーサ層上のテラス上に設けられ、ｎ側の第２の電極が第２の半導体ＤＢＲ上の出射するレーザ光の光路を塞がない位置に設けられている。
【００５６】
図４，図５，図６の面発光レーザ素子では、中間電極を正極とし、第１の電極と第２の電極を負極として、素子に電流を流し、レーザ発振させることができる。
【００５７】
この第２の実施形態の面発光レーザ素子では、第１の実施形態の面発光レーザ素子の構成のうち、より簡便な構成を提供しているので、製造が容易で、消費電力が少なく、高い光出力が得られる、高速変調が可能な面発光レーザを提供することができる。
【００５８】
（第３の実施形態）
本発明の第３の実施形態は、上述した第１の実施形態の面発光レーザ素子において、前記第１のミラー上に、ｐ型の第１のスペーサ層、第１の半導体活性層、ｎ型導電性の中間スペーサ層、第２の半導体活性層、ｐ型の第２のスペーサ層、第２のミラーを積層した層構造が設けられ、それぞれのスペーサ層に電流を注入する電流注入手段が設けられていることを特徴としている。
【００５９】
図７は第３の実施形態の面発光レーザ素子の第１の具体例を示す図である。図７の例の面発光レーザ素子では、ノンドープ半導体基板上に、上部の領域がｐ型半導体ＤＢＲからなり、残りの部分（主体部）がノンドープの非導電性半導体ＤＢＲからなる第１のミラー（第１半導体ＤＢＲ）が設けられている。そして、その上に、ｐ型の第１のスペーサ層、第１の活性層、ｎ型の第２のスペーサ層、第２の活性層、ｐ型の第３のスペーサ層、ノンドープの非導電性の第２の半導体ＤＢＲ（ミラー）を積層して、積層構造が形成されている。
【００６０】
これらの積層構造は、ｐ型半導体ＤＢＲ中に底面をもち、第２のスペーサ層，第３のスペーサ層の層中にテラスを持つ３段の柱状構造を形成するように加工されて、底面上にｐ側第１電極が設けられ、各テラス上にｎ側中間電極，ｐ側第２電極が設けられている。そして、光出力は、第２のミラー（第２の半導体ＤＢＲ）側から取り出されるようになっている。
【００６１】
図８は第３の実施形態の面発光レーザ素子の第２の具体例を示す図である。図８の例の面発光レーザ素子では、ノンドープ非導電性半導体基板上に、ノンドープの非導電性半導体ＤＢＲからなる第１のミラー（非導電性第１半導体ＤＢＲ）が設けられている。そして、その上に、ｐ型の第１のスペーサ層、第１の活性層、ｎ型の第２のスペーサ層、第２の活性層、ｐ型の第３のスペーサ層、ノンドープの非導電性の第２の半導体ＤＢＲ（ミラー）を積層して、積層構造が形成されている。
【００６２】
これらの積層構造は、ｐ型の第１のスペーサ層中に底面をもち、ｎ型の第２のスペーサ層，ｐ型の第３のスペーサ層の層中にテラスを持つ３段の柱状構造を形成するように加工されて、底面上にｐ側第１電極が設けられ、各テラス上にｎ側中間電極，ｐ側第２電極が設けられている。そして、光出力は、第２のミラー側から取り出されるようになっている。
【００６３】
図７，図８の面発光レーザ素子では、中間電極を負極とし、第１の電極と第２の電極を正極として、素子に電流を流し、レーザ発振させることができる。
【００６４】
この第３の実施形態の面発光レーザ素子では、第１の実施形態の面発光レーザ素子の構成のうち、より簡便な構成を提供しているので、製造が容易で、消費電力が少なく、高い光出力が得られる、高速変調が可能な面発光レーザを提供することができる。
【００６５】
（第４の実施形態）
本発明の第４の実施形態は、第１乃至第３のいずれかの実施形態の面発光レーザ素子において、前記第１のミラーまたは前記第２のミラーのいずれかまたは両方が誘電体多層膜ミラー（ＤＢＲ）であり、該誘電体多層膜ミラー（ＤＢＲ）と接するスペーサ層に、電流を注入する電流注入手段が設けられていることを特徴としている。
【００６６】
図９は第４の実施形態の面発光レーザ素子の第１の具体例を示す図である。図９の面発光レーザ素子では、ノンドープの非導電性半導体基板上に、上部の領域がｐ型半導体ＤＢＲからなり、残りの部分（主体部）がノンドープの非導電性半導体ＤＢＲからなる第１のミラー（第１半導体ＤＢＲ）が設けられている。そして、その上に、ｐ型の第１のスペーサ層、第１の活性層、ｎ型の第２のスペーサ層、第２の活性層、ｐ型の第３のスペーサ層を積層して、積層構造が形成されている。
【００６７】
これらの積層構造は、ｐ型半導体ＤＢＲ（上部）中に底面をもち、第２のスペーサ層中にテラスを持つ２段の柱状構造を形成するように加工されている。
【００６８】
そして、図９の面発光レーザ素子では、第３のスペーサ層の表面で、レーザ光の光軸の交叉する領域上に、ＳｉＯ_２／ＺｒＯ_２からなる誘電体ＤＢＲ（第２誘電体ＤＢＲ（ミラー））が形成されている。このとき、第３のスペーサ層の表面の外周部には誘電体ＤＢＲを設けないようにする。
【００６９】
そして、図９の面発光レーザ素子では、テラス上で、ｎ側中間電極がｎ型の第２スペーサ層と接続されるように設けられ、また、ｐ型の第３のスペーサ層表面の第２誘電体ＤＢＲ（ミラー）が形成されていない領域に、ｐ側の第２の電極が設けられている。さらに、ｐ側の第１電極がｐ型半導体ＤＢＲ中の底面に設けられている。そして、光出力は第２のミラー側から取り出されるようになっている。
【００７０】
図９の面発光レーザ素子では、ｐ側第１電極とｐ側第２電極を正極とし、ｎ側中間電極を負極として電流を流し、レーザ発振させることができる。
【００７１】
図１０は第４の実施形態の面発光レーザ素子の第２の具体例を示す図である。図１０の面発光レーザ素子では、ｎ型の半導体基板上に、ｎ型の第１の半導体ＤＢＲ（ミラー）、ｎ型の第１の半導体スペーサ層、第１の半導体活性層、ｐ型導電性の第２のスペーサ層、第２の半導体活性層、ｎ型導電性の第３の半導体スペーサ層を積層して、積層構造が形成さている。
【００７２】
これらの積層構造は、ｎ型半導体ＤＢＲ中に底面をもち、ｐ型の第２のスペーサ層中にテラスを持つ２段の柱状構造を形成するように加工されている。
【００７３】
そして、図１０の面発光レーザ素子では、ｎ型の第３のスペーサ層の表面で、レーザ光の光軸の交叉する領域上に、ＳｉＯ_２／ＭｇＯからなる誘電体ＤＢＲ（第２誘電体ＤＢＲ（ミラー））が形成されている。このとき、第３のスペーサ層の表面の外周部には誘電体ＤＢＲを設けないようにする。
【００７４】
そして、図１０の面発光レーザ素子では、テラス上で、ｐ側中間電極がｐ型の第２スペーサ層と接続されるように設けられ、また、ｎ型の第３のスペーサ層表面の誘電体ＤＢＲ（第２のミラー）が形成されていない領域に、ｎ側の第２の電極が設けられている。さらに、ｎ側の第１電極がｎ型半導体基板の裏面に設けられている。そして、光出力は、第２のミラー側から取り出されるようになっている。
【００７５】
図１０の面発光レーザ素子では、ｎ側第１電極とｎ側第２電極を負極とし、ｐ側中間電極を正極として電流を流し、レーザ発振させることができる。
【００７６】
この第４の実施形態の面発光レーザ素子では、半導体ＤＢＲに比べて誘電体ＤＢＲは構成膜間の屈折率差を大きくできるので、より少ない層数で高い反射率のミラーが得られる。
【００７７】
また、半導体基板から最上部の第２のミラーまで半導体エピタキシャル膜で作製する場合は、多段の半導体柱を全てエッチングで作製する必要があり、加工プロセスが複雑になる。このため、最上部のスペーサ層までエピタキシャル成長膜を作製した後、より少ない段数の半導体柱をエッチング加工で作製し、しかる後、第２の電極と第２のミラーの誘電体ＤＢＲを作製する方が、安定した工程で素子が得られる。
【００７８】
（第５の実施形態）
本発明の第５の実施形態は、第１乃至第４のいずれかの実施形態の面発光レーザ素子において、複数の半導体活性層の利得ピーク波長が同一であることを特徴としている。
【００７９】
図１１は第５の実施形態の面発光レーザ素子の具体例を示す図である。図１１の面発光レーザ素子では、ＭＯＣＶＤ法により、ｎ型半導体基板（ｎ型ＧａＡｓ基板）上に、ｎ−Ａｌ_０．９８Ｇａ_０．０２Ａｓ／ｎ−Ａｌ_０．５Ｇａ_０．５Ａｓ　第１ＤＢＲ（第１のミラー）、ノンドープ（Ａｌ_０．７Ｇａ_０．３）_０．５Ｉｎ_０．５Ｐ第１スペーサ層、ＧａＩｎＰ／Ａｌ_０．２５Ｇａ_０．２５Ｉｎ_{０． ５}Ｐ　３重量子井戸第１活性層、ｐ−（Ａｌ_０．７Ｇａ_０．３）_０．５Ｉｎ_０．５Ｐ　第２スペーサ層、ＧａＩｎＰ／Ａｌ_０．２５Ｇａ_０．２５Ｉｎ_０．５Ｐ　３重量子井戸第２活性層、ノンドープ（Ａｌ_０．７Ｇａ_０．３）_０．５Ｉｎ_０．５Ｐ第３スペーサ層、ｎ−Ａｌ_０．９８Ｇａ_０．０２Ａｓ／ｎ−Ａｌ_０．５Ｇａ_０．５Ａｓ　ｎ第２ＤＢＲ（第２のミラー）を積層して、積層構造が形成されている。
【００８０】
ここで、各活性層の位置は、レーザ発振光のモード定在波の腹の部分に配置する。また、各活性層のウェル層とバリア層の厚さと組成は、素子の使用温度（例えば５０℃）において、利得ピーク波長が同一となるように調整する。
【００８１】
そして、図１１の面発光レーザ素子では、次に、エッチングにより、この積層構造は、２段のテラスをもつ半導体柱状構造に形成される。このテラスの底部は、前記ノンドープ　第１スペーサ層中であり、１段目のテラスは第２のスペーサ層中に配置される。また、テラスの最上面は、第２ＤＢＲの表面である。
【００８２】
そして、図１１の面発光レーザ素子では、蒸着法により、第２スペーサ層のテラス上にｐ側ＡｕＺｎ／Ａｕ中間電極が形成され、また、第２ＤＢＲ表面の光出射口部以外の領域にｎ側ＡｕＧｅ／Ａｕ第２電極が形成されている。また、ｎ−ＧａＡｓ基板裏面には、ｎ側ＡｕＧｅ／Ａｕ第１電極が蒸着法により形成されている。そして、光出力は、第２のミラー側から取り出されるようになっている。
【００８３】
そして、図１１の面発光レーザ素子では、ｐ側電極を正極とし、２つのｎ側電極を負極として電流を流し、レーザ発振させることができる。
【００８４】
この第５の実施形態の面発光レーザ素子では、同一の共振器中に利得ピーク波長が同一の活性層を複数含むので、単一波長又は波長幅の狭い波長のレーザ光が高出力で得られる。
【００８５】
（第６の実施形態）
本発明の第６の実施形態は、第１乃至第４のいずれかの実施形態の面発光レーザ素子において、複数の半導体活性層の利得ピーク波長が異なることを特徴としている。
【００８６】
一般に、レーザ素子は、温度により利得のピーク波長がシフトする。面発光レーザ素子の場合は、特に、共振器長により発振波長が規定されるので、素子の使用温度が異なると、利得幅がこの共振波長から容易に外れてしまう場合があり、使用温度範囲が制限されることがある。
【００８７】
本発明では、このような問題を解決するため、素子の使用温度の範囲で、固定された共振波長において、いずれかの半導体活性層が十分大きな利得を持つように、活性層の組成又は構造を調整した複数の半導体活性層を設けている。
【００８８】
図１２は第６の実施形態の面発光レーザ素子の具体例を示す図である。図１２の面発光レーザ素子では、ＭＢＥ法により、ｎ型半導体基板（ｎ型ＧａＡｓ基板）上に、ｎ−ＡｌＡｓ／ｎ−Ａｌ_０．３Ｇａ_０．７Ａｓ　第１ＤＢＲ（第１のミラー）、ｎ−Ａｌ_０．３Ｇａ_０．７Ａｓ　第１スペーサ層、Ａｌ_０．０９Ｇａ_０．９１Ａｓ／Ａｌ_０．３Ｇａ_０．７Ａｓ　３重量子井戸第１活性層、ｐ−Ａｌ_０．３Ｇａ_０．７Ａｓ　第２スペーサ層、Ａｌ_０．１Ｇａ_０．９Ａｓ／Ａｌ_０．３Ｇａ_０．７Ａｓ　３重量子井戸第２活性層、ｎ−Ａｌ_０．３Ｇａ_０．７Ａｓ　第３スペーサ層、Ａｌ_０．１１Ｇａ_０．８９Ａｓ／Ａｌ_０．３Ｇａ_０．７Ａｓ　３重量子井戸第３活性層、ｐ−Ａｌ_０．３Ｇａ_０．７Ａｓ　第４スペーサ層を積層して、積層構造が形成されている。
【００８９】
ここで、各活性層の位置は、レーザ発振光のモード定在波の腹の部分に配置される。また、各活性層の組成およびウェル層とバリア層の厚さは、素子の使用温度範囲（例えば、０℃〜７０℃）において、いずれかの活性層が十分な利得をもつように調整される。故に、一定温度においては、各活性層の利得ピーク波長は異なることになる。
【００９０】
そして、図１２の面発光レーザ素子では、エッチングにより、この積層構造は、３段のテラスをもつ半導体柱状構造に形成される。このテラスの底部は、前記第１ＤＢＲ中であり、１段目のテラスは第２スペーサ層中であり、２段目のテラスは第３スペーサ層中に設けられる。また、テラスの最上面は、第４スペーサ層の表面である。
【００９１】
そして、図１２の面発光レーザ素子では、ｎ−ＧａＡｓ第４スペーサ層表面の中央部に、電子ビーム蒸着法でＳｉＯ_２／ＺｒＯ_２の６ペアからなる第２誘電体ＤＢＲ（第２のミラー）が形成されている。
【００９２】
そして、図１２の面発光レーザ素子では、蒸着法により、第２スペーサ層のテラス上と第４スペーサ層表面の第２誘電体ＤＢＲが設けられていない部分とに、それぞれ、ｐ側ＡｕＺｎ／Ａｕ第１中間電極とｐ側ＡｕＺｎ／Ａｕ第２電極とが形成され、また、第３スペーサ層のテラス上には、ｎ側ＡｕＧｅ／Ａｕ第２中間電極が形成されている。また、ｎ型ＧａＡｓ基板の裏面には、ｎ側ＡｕＧｅ／Ａｕ第１電極が蒸着法により形成されている。そして、光出力は、第２のミラー側から取り出されるようになっている。
【００９３】
図１２の面発光レーザ素子では、２つのｐ側電極を正極とし、２つのｎ側電極を負極として電流を流し、レーザ発振させることかできる。
【００９４】
この図１２の面発光レーザ素子では、利得ピーク波長が異なる複数の半導体活性層が同一の共振器中に含まれているので、広い温度範囲において高い利得が得られる。よって、使用温度範囲が広い面発光レーザ素子が得られる。
【００９５】
なお、特開２０００−２９９４９３には、一対のミラーの間に、発光スペクトルのピーク波長が異なる複数の量子井戸からなる発光層を含む構成の面発光レーザが開示されており、使用温度範囲内において安定した光出力が得られることが示唆されている。しかし、この面発光レーザは、同一電極から複数の活性層にキャリアを注入しているので、キャリア注入が不均一になり効率が悪い。これに対し、本発明では、活性層毎に電極があるので、キャリア注入は均一となり、効率が向上する。
【００９６】
（第７の実施形態）
本発明の第７の実施形態は、第１乃至第６のいずれかの実施形態の面発光レーザ素子において、第１のミラー、第２のミラー、スペーサ層のいずれか、または、全ての層に、電流狭窄構造が設けられていることを特徴としている。
【００９７】
１つの活性層をもつ従来の面発光レーザは、しきい値電流を小さくするため活性層近傍で電流狭窄構造を設け電流経路を絞り発光領域を小さくすることが行われている。本発明においても、これらの電流狭窄構造を設け発光領域を微小化することは、低しきい値化に有効である。電流狭窄構造を作製する方法としては、ＡｌＡｓ膜を酸化して絶縁性のＡｌ_ｘＯ_ｙ膜を形成する方法、プロトンインプランテーションや酸素イオンインプラテーションにより活性層近傍に絶縁領域を設ける方法、ＡｌＡｓ膜のエッチングなどにより電流経路以外の領域を除去する方法、ドーピング元素をイオンインプランテーションや熱拡散により積層膜中に注入し絶縁領域を作製する方法などがある。
【００９８】
プロトンインプランテーションや酸素イオンインプラテーションにより電流狭窄構造を設ける場合は、注入されるイオンの投影飛程のバラツキが大きい。本発明の面発光レーザ素子は、複数の活性層の間に電流を注入する構成なので、絶縁化する領域に精度が要求される。よって、これらの方法は表面に近い活性層付近の狭窄構造の作製などに適している。
【００９９】
また、ＡｌＡｓ膜のエッチングなどにより電流経路以外の領域を除去する方法は、機械的強度の確保が困難であり、使用個所が限定される。
【０１００】
また、ドーピング元素をイオンインプランテーションや熱拡散により積層膜中に注入する方法も、表面に近い活性層付近の狭窄構造の作製などに適している。
【０１０１】
一方、Ａｌ（Ｇａ）Ａｓは、ＧａＡｓとの格子整合性が良く、ＧａＡｓ基板の上に良好にエピタキシャル成長させることができ、ＧａＡｓ基板に成長させるレーザ構成膜中の任意の位置に挿入することができる。このＡｌ（Ｇａ）Ａｓ膜を酸中又は水蒸気中等で選択的にこの膜だけ酸化することができる。最も酸化の進行度の制御性がよい組成領域は、Ａｌ_ｘＧａ_１−ｘＡｓ層（０．８≦ｘ≦１）である。
【０１０２】
また、酸化されて生成したＡｌｘＯｙの屈折率は、ＧａＡｓ等からなる周辺の半導体層の屈折率より小さいため、発振光を閉じ込める効果も大きく、単一モードのレーザ光が得やすくなる。
【０１０３】
図１３は第７の実施形態の面発光レーザ素子の第１の具体例を示す図である。図１３の面発光レーザ素子では、ノンドープの非導電性半導体基板上に、上部の一部の領域がｐ型半導体ＤＢＲからなり、残りの部分がノンドープの非導電性半導体ＤＢＲからなる第１のミラー（第１半導体ＤＢＲ）が設けられている。そして、その上に、ＡｌＡｓ第１選択酸化層、ｐ型の第１のスペーサ層、第１の活性層、ｎ型の第２のスペーサ層、第２の活性層、層中にＡｌＧａＡｓ第２選択酸化層を含むｐ型の第３のスペーサ層を積層して、積層構造が形成されている。これらの積層構造は、ｐ型半導体ＤＢＲ中に底面をもち、第２のスペーサ層中にテラスを持つ２段の柱状構造を形成するように加工されている。
【０１０４】
また、図１３の面発光レーザ素子では、Ｈ_２Ｏ蒸気により上記ＡｌＡｓ第１選択酸化層とＡｌＧａＡｓ第２選択酸化層を酸化して電流狭窄構造が形成されている。
【０１０５】
また、図１３の面発光レーザ素子では、第３のスペーサ層の表面で、レーザ光の光軸の交叉する領域上に、ＳｉＯ_２／Ｙ_２Ｏ_３からなる誘電体ＤＢＲ（第２誘電体ＤＢＲ（第２のミラー））が形成されている。このとき、第３のスペーサ層の表面の外周部には誘電体ＤＢＲを設けないようにする。
【０１０６】
そして、図１３の面発光レーザ素子では、テラス上で、ｎ側中間電極がｎ型の第２スペーサ層と接続されるように設けられ、また、ｐ型の第３のスペーサ層表面の誘電体ＤＢＲ（第２のミラー）を形成していない領域にｐ側の第２の電極が設けられている。さらに、ｐ側の第１電極がｐ型半導体ＤＢＲ中の底面に設けられている。そして、光出力は、第２のミラー側から取り出されるようになっている。
【０１０７】
図１３の面発光レーザ素子では、ｐ側の第１電極とｐ側第２電極を正極とし、ｎ側中間電極を負極として電流を流し、レーザ発振させることができる。
【０１０８】
また、図１４は第７の実施形態の面発光レーザ素子の第２の具体例を示す図である。図１４の面発光レーザ素子では、ｎ型の半導体基板上に、ｎ型の第１の半導体ＤＢＲ（第１のミラー）、ｎ型の第１の半導体スペーサ層、第１の半導体活性層、層中に第１と第２のＡｌＧａＡｓ選択酸化層を含むｐ型の第２のスペーサ層、第２の半導体活性層、ｎ型の第３の半導体スペーサ層、ｎ型の第２の半導体ＤＢＲ（第２のミラー）を積層して、積層構造が形成されている。
【０１０９】
これらの積層構造は、ｎ型第１半導体ＤＢＲ中に底面をもち、ｐ型の第２のスペーサ層中の第１と第２のＡｌＧａＡｓ選択酸化層の間の位置にテラスを持つ２段の柱状構造を形成するように加工されている。そして、Ｈ_２Ｏ蒸気により上記第１，第２のＡｌＧａＡｓ選択酸化層を酸化して電流狭窄構造が形成されている。
【０１１０】
そして、図１４の面発光レーザ素子では、テラス上で、ｐ側中間電極がｐ型の第２スペーサ層と接続されるように設けられ、また、ｎ型の第２の半導体ＤＢＲ上に光出力部を開口してｎ側の第２電極が設けられている。さらに、ｎ側の第１電極がｎ型半導体基板の裏面に設けられている。そして、光出力は、第２のミラー側から取り出されるようになっている。
【０１１１】
図１４の面発光レーザ素子では、ｎ側第１電極とｎ側第２電極を負極とし、ｐ側中間電極を正極として電流を流し、レーザ発振させることができる。
【０１１２】
この第７の実施形態の面発光レーザ素子では、電流狭窄構造を設けることにより、発光領域を微小化できるので、しきい値電流を小さくでき、よって、小さい電力でレーザ発振が可能になる。
【０１１３】
特に、Ａｌ（Ｇａ）Ａｓ選択酸化層を用いる場合は、積層構造中の任意の複数の箇所に、深さ方向と水平方向に制御性良く電流狭窄構造を形成することができる。よって、積層構造中の複数の箇所に、電流と光の閉じ込めを良好に行うことができる電流狭窄構造を形成できる。よって、簡便な工程で制御性良く、単一モードが得やすい、より低いしきい値電流の、より高いスロープ効率の、より高出力の、より小さい消費電力の、より高速変調できる面発光レーザ素子を提供できる。
【０１１４】
（第８の実施形態）
本発明の第８の実施形態は、第１乃至第７のいずれかの実施形態の面発光レーザ素子において、該面発光レーザ素子は、活性層にＧａＩｎＮＡｓ系材料からなる層を含む量子井戸構造をもつことを特徴としている。
【０１１５】
ＧａＩｎＮＡｓ系材料は、ＮとＡｓを含むＩＩＩ−Ｖ族混晶半導体で構成されており、具体的には、ＧａＡｓＮ，ＧａＩｎＮＡｓ，ＧａＡｓＮＳｂ，ＧａＩｎＮＡｓＳｂ，ＧａＩｎＮＡｓＰなどで構成される。これらのＧａＩｎＮＡｓ系材料からなる１つまたは複数の厚さ数１０ｎｍ以下のウェル層と、これらのウェル層をウェル層材料よりもバンドギャップが大きいＧａＡｓ，ＧａＩｎＰ，ＡｌＧａＡｓなどからなる半導体バリア層で囲んだ量子井戸構造からなる活性層を用いることができる。
【０１１６】
近年になり急速に開始されだした長波長帯（例えば、１．１μｍ以上の波長帯）のＧａＩｎＮＡｓ系材料を活性層に用いたレーザは、発振波長が長波長帯なので、石英系ファイバとの整合性が高い。
【０１１７】
さらに、ＧａＡｓ基板上に形成できるので、スペーサ層等の活性層周りの層にワイドバンドギャップ材料を選択できるので、キャリアの閉じ込めが良好になり温度特性が良好である。このため、ＩｎＰ基板上に形成するＧａＩｎＡｓＰを活性層とする従来の長波長帯レーザの場合と異なり、冷却装置を必要としない。
【０１１８】
さらに、この材料を活性層に用いた面発光レーザは、ＧａＡｓ基板上に形成できるので、ＧａＡｓ基板上に形成できる屈折率差の大きいＡｌ（Ｇａ）Ａｓ／ＧａＡｓ、より広義にはＡｌ_ｘＧａ_{（１−ｘ）}Ａｓ／Ａｌ_ｙＧａ_{（１−ｙ）}Ａｓ（０≦ｙ＜ｘ≦１）を、半導体ＤＢＲとして用いるのが好適である。よって、少ない層数の半導体ＤＢＲをもつ面発光レーザが得られる。
【０１１９】
このようにＧａＩｎＮＡｓ系面発光レーザは優れた特性をもつので、光通信システムや、コンピューター間、チップ間、チップ内の光インターコネクションや、光コンピューティングにおける発光素子として期待されている。
【０１２０】
この第８の実施形態の面発光レーザ素子では、活性層がＧａＩｎＮＡｓ系材料からなる層を含むので、石英系ファイバと整合性の良い発振波長の、温度特性が良好な、低消費電力で駆動できる、高出力な、高速変調が可能な面発光レーザ素子が得られる。
【０１２１】
すなわち、活性層がＧａＩｎＮＡｓ系材料からなる層を含むので、これらの活性層及びＡｌ（Ｇａ）Ａｓ／ＧａＡｓ　ＤＢＲをＧａＡｓ基板上に良好にエピタキシャル成長させることができ、よって、良好な結晶品質からなる層から構成されるので、高い信頼性の面発光レーザ素子が得られる。
【０１２２】
（第９の実施形態）
本発明の第９の実施形態は、第１乃至第８のいずれかの実施形態の面発光レーザ素子において、各活性層を含むｐｎ接合のｐ側半導体に電流を注入するｐ側電極を電気的に共通としたｐ側共通電極が設けられ、各活性層を含むｐｎ接合のｎ側半導体に電流を注入するｎ側電極を電気的に共通としたｎ側共通電極が設けられており、ｐ側共通電極，ｎ側共通電極は、それぞれ、駆動電流供給回路に接続されていることを特徴とする面発光レーザモジュールである。
【０１２３】
図１５には、活性層が２つの場合の構成例が示されている。
【０１２４】
この第９の実施形態では、図１５の例からわかるように、ｐ側電極を共通にし、ｎ側電極を共通にした場合、並列回路をなすので、素子全体では抵抗が小さくなり、よって、高速変調が可能になる。
【０１２５】
（第１０の実施形態）
本発明の第１０の実施形態は、第９の実施形態の面発光レーザモジュールにおいて、各活性層を含むｐｎ接合における、各ｐ側電極とｐ側共通電極との間の配線、および、各ｎ側電極とｎ側共通電極との間の配線の少なくとも１つ、または、全部に、各活性層に注入する電流値を調整するための電流調整手段が設けられていることを特徴とする面発光レーザモジュールである。
【０１２６】
図１６には、活性層が２つの場合の構成例が示されている。
【０１２７】
ここで、各活性層に注入する電流値を調整するための電流調節手段は、抵抗からなる場合もあり、インピーダンスマッチングのためにＬＣＲ回路からなる場合もあり、その回路形式については限定されない。
【０１２８】
電流調節手段が純抵抗からなる場合の例を図１６を用いて説明する。
【０１２９】
活性層Ａと活性層Ｂを同一の共振器に含む面発光レーザ素子において、活性層Ａに流れる電流を電流Ａ、電流経路を電流経路Ａとし、活性層Ｂに流れる電流を電流Ｂ、電流経路を電流経路Ｂとする。各電流経路Ａ，Ｂは２つの共通電極に接続され、これらの共通電極は駆動電流供給回路に接続されている。さらに、電流経路Ａと電流経路Ｂとには、それぞれ、電流調節手段として、抵抗Ａと抵抗Ｂとが挿入されている。
【０１３０】
抵抗Ａと抵抗Ｂを変えて得られる電流Ａ／電流Ｂによる光出力の変化は、図１７に示すようになる。
【０１３１】
例えば高い光出力を得るための設計をする必要がある場合は、最大の光出力が得られる電流Ａ／電流Ｂになるように、抵抗Ａと抵抗Ｂを決定する。必要に応じて、他のレーザ特性が良くなるようにも設計できる。
【０１３２】
この第１０の実施形態では、各活性層に注入する電流値を調整するための電流調節手段が設けられているので、より高出力で、より高速変調が可能で、設計が容易な面発光レーザモジュールが得られる。
【０１３３】
（第１１の実施形態）
本発明の第１１の実施形態は、第１乃至第８のいずれかの実施形態の面発光レーザ素子において、各活性層を含むｐｎ接合に各々駆動電流供給回路が接続されていることを特徴とする面発光レーザモジュールである。
【０１３４】
図１８には、活性層が２つの場合の構成例が示されている。
【０１３５】
複数の活性層が設けられている本発明の面発光レーザ素子において、それぞれの活性層を別々に駆動することにより、より高いレーザ特性が得られる場合がある。
【０１３６】
例えば、２つの活性層をもつ面発光レーザ素子において、１つの活性層にバイアス電流を流しておき、もう一方の活性層に高速変調電流を流せば、２つの活性層を同時に駆動する場合と比較し、少ない信号電流の変化で大きな光出力の変化が得られ、素子抵抗も小さくなるので、より高速に駆動できる。
【０１３７】
このように、第１１の実施形態では、各活性層に別々の駆動電流供給回路を接続しているので、より高いレーザ特性をもつ面発光レーザモジュールが得られる。
【０１３８】
（第１２の実施形態）
本発明の第１２の実施形態は、第１乃至第８のいずれかの実施形態の面発光半導体レーザ素子、または、第９乃至第１１のいずれかの実施形態の面発光レーザモジュールにおいて、面発光レーザ素子が半導体基板上にアレイ状に複数個配列されていることを特徴とする面発光レーザアレイである。
【０１３９】
前述のように、面発光レーザは、１枚の基板上に多数の素子を一括で作製でき、へき開が不用なので、並列化及び２次元高密度アレイ化が容易に行える。
【０１４０】
この第１２の実施形態では、本発明の面発光レーザ素子または面発光レーザモジュールを１次元，２次元に配列させているので、従来の素子を用いたアレイに比べて、より高速変調可能な並列伝送用アレイ光源やより高出力なアレイ光源を提供できる。
【０１４１】
（第１３の実施形態）
本発明の第１３の実施形態は、第１乃至第８のいずれかの実施形態の面発光半導体レーザ素子、または、第９乃至第１１のいずれかの実施形態の面発光レーザモジュール、または、第１２の実施形態の面発光レーザアレイが用いられていることを特徴とする光伝送システムである。
【０１４２】
図１９，図２０は本発明の面発光レーザ素子を光源として用いた光伝送システムの構成例を示す図である。
【０１４３】
ここで、図１９の光伝送システムは、並列伝送方式光伝送システムであり、面発光レーザ素子からの信号を複数のファイバを用いて同時に伝送可能になっている。
【０１４４】
また、図２０の光伝送システムは、多波長伝送方式の光伝送システムであり、複数の発振波長の異なる発光素子（本発明の面発光レーザ素子）からの光信号が、それぞれ光ファイバを介して光合波器に導入されるように構成されている。この波長の異なる複数の光信号は、合波され、１本の光ファイバ中に導入され伝送され、伝送された光信号は、伝送先の機器に接続される光分波器を通って元の波長の異なる複数の光信号に分離され、それぞれファイバを介して複数の受光素子に達するようになっている。
【０１４５】
この第１３の実施形態では、高速変調可能な本発明の面発光レーザ素子または面発光レーザモジュールまたは面発光レーザアレイを用いて光伝送システムを構成しているので、大容量，高速でデータ伝送ができる。
【０１４６】
【実施例】
次に、本発明の実施例を説明する。
【０１４７】
（実施例１）
図２１は実施例１の面発光レーザ素子を示す図である。図２１の面発光レーザ素子は、ＭＢＥ法により、ｎ型ＧａＡｓ（１００）基板上に、ｎ−ＡｌＧａＡｓ／ｎ−ＧａＡｓの２８ペアからなるｎ−ＡｌＧａＡｓ／ｎ−ＧａＡｓ第１ＤＢＲ、ｎ−ＧａＡｓ第１スペーサ層、ＧａＩｎＡｓ／ＧａＡｓ　３重量子井戸第１活性層、層中に第１，第２Ａｌ（Ｇａ）Ａｓ選択酸化層を含むｐ−ＧａＡｓ第２スペーサ層、ＧａＩｎＡｓ／ＧａＡｓ　３重量子井戸第２活性層、ｎ−ＧａＡｓ第３スペーサ層、ＧａＩｎＡｓ／ＧａＡｓ　３重量子井戸第３活性層、層中にＡｌＧａＡｓ第３選択酸化層を含むｐ−ＧａＡｓ第４スペーサ層、誘電体第２ＤＢＲを積層して、レーザ構成膜（積層構造）を形成する。
【０１４８】
ここで、各活性層は、第１ミラー（第１ＤＢＲ）と第２ミラー（第２ＤＢＲ）との間を共通の共振器としており、共振器長（Ｌ）は、Ｌ＝Ｎ（λ／（２ｎ_ｓ））となっている。ここで、Ｎは４以上の整数であり、λは発振波長であり、ｎ_ｓは共振器領域の屈折率である。
【０１４９】
そして、各活性層の位置は、レーザ発振光のモード定在波の腹の部分に配置されている。
【０１５０】
そして、フォトリソ工程でフォトレジストマスクパターンをｐ−ＧａＡｓ第４スペーサ層上に形成し、Ｃｌ_２ガスを用いるドライエッチングを行う工程を３回繰り返し、これにより、上記レーザ構成膜（積層構造）は、３段のテラスをもつ半導体柱状構造に形成される。このテラスの底部は前記ｎ−ＡｌＧａＡｓ／ｎ−ＧａＡｓ第１ＤＢＲ中であり、１段目のテラスはｐ−ＧａＡｓ第２スペーサ層の第１Ａｌ（Ｇａ）Ａｓ選択酸化層中と第２Ａｌ（Ｇａ）Ａｓ選択酸化層の間に位置するようにし、２段目のテラスはｎ−ＧａＡｓ第３スペーサ層中に位置するようにする。また、テラスの最上面は、ｐ−ＧａＡｓ第４スペーサ層表面である。
【０１５１】
次に、Ｈ_２Ｏ蒸気により４００℃で、上記第１，第２，第３Ａｌ（Ｇａ）Ａｓ選択酸化層を酸化して、電流狭窄構造を形成する。
【０１５２】
次に、ｐ−ＧａＡｓ第４スペーサ層のテラス表面の中央部以外の試料表面をフォトレジスト膜で覆ったのち、電子ビーム蒸着法でＳｉＯ_２／ＺｒＯ_２の６ペアからなる誘電体第２ＤＢＲ（第２のミラー）を形成する。このフォトレジスト膜を除去した後、感光性ポリイミド前駆体を塗布し、各テラス上のポリイミド前駆体を除去した後、キュアしポリイミド保護膜を形成する。
【０１５３】
続いて、フォトレジストで不要部分を一時的に覆う工程を繰り返しながら、ｐ−ＧａＡｓ第２スペーサ層のポリイミド開口部上とｐ−ＧａＡｓ第４スペーサ層のポリイミド開口部上にｐ側ＡｕＺｎ／Ａｕ第１中間電極とｐ側ＡｕＺｎ／Ａｕ第２電極を形成し、ｎ−ＧａＡｓ第３スペーサ層のポリイミド開口部上にｎ側ＡｕＧｅ／Ａｕ第２中間電極を蒸着法により形成する。最後に、ｎ型ＧａＡｓ基板裏面にｎ側ＡｕＧｅ／Ａｕ第１電極を蒸着法により形成する。光出力は、第２のミラー側から取り出されるようになっている。
【０１５４】
また、実施例１では、図２１の面発光レーザ素子の駆動回路において、ｎ側第１電極を２０Ωの抵抗を介し共通負極と接続し、またｎ側第２中間電極を共通負極と接続する。また、ｐ側第１中間電極とｐ側第２中間電極を共通正極に接続する。そして、各共通電極を駆動電流供給回路に接続して、レーザ発振させることができる。
【０１５５】
このように、この実施例１では、面発光レーザ素子に、３つの活性層を設け、誘電体ＤＢＲを用い、Ａｌ（Ｇａ）Ａｓ選択酸化層からなる電流狭窄部を設け、電流経路の抵抗を調整し並列駆動しているので、低いしきい値電流をもち、駆動電流が小さく、消費電力が小さく、高光出力で、高速変調が可能な面発光レーザ素子が安定した工程で得られる。
【０１５６】
（実施例２）
図２２は実施例２の面発光レーザ素子を示す図である。図２２の面発光レーザ素子は、ＭＯＣＶＤ法により、ｎ型ＧａＡｓ（１００）基板上に、ｎ−ＡｌＧａＡｓ／ｎ−ＧａＡｓの２８ペアからなるｎ−ＡｌＧａＡｓ／ｎ−ＧａＡｓ第１ＤＢＲ、ノンドープＧａＡｓ第１スペーサ層、ＧａＩｎＮＡｓ／ＧａＡｓ　３重量子井戸第１活性層、層中にＡｌ（Ｇａ）Ａｓ第１，第２選択酸化層を含むｐ−ＧａＡｓ第２スペーサ層、ＧａＩｎＮＡｓ／ＧａＡｓ　３重量子井戸第２活性層、ノンドープＧａＡｓ第３スペーサ層、ｎ−ＡｌＧａＡｓ／ｎ−ＧａＡｓの２３ペアからなるｎ−ＡｌＧａＡｓ／ｎ−ＧａＡｓ第２ＤＢＲを積層して、レーザ構成膜（積層構造）を形成する。
【０１５７】
ここで、各活性層は、第１ミラー（第１ＤＢＲ）と第２ミラー（第２ＤＢＲ）との間を共通の共振器としており、共振器長（Ｌ）は、Ｌ＝Ｎ（λ／（２ｎ_ｓ））となっている。ここで、Ｎは３以上の整数であり、λは発振波長であり、ｎ_ｓは共振器領域の屈折率である。
【０１５８】
そして、各活性層の位置は、レーザ発振光のモード定在波の腹の部分に配置されている。
【０１５９】
そして、フォトリソ工程でフォトレジストマスクパターンをｎ−ＡｌＧａＡｓ／ｎ−ＧａＡｓ第２ＤＢＲ上に形成し、Ｃｌ_２ガスを用いたドライエッチング法を行う工程を２回繰り返し、これにより、上記レーザ構成膜（積層構造）は、２段のテラスをもつ半導体柱状構造に形成される。このテラスの底部は前記ノンドープＧａＡｓ第１スペーサ層中であり、１段目のテラスはｐ−ＧａＡｓ第２のスペーサ層中のＡｌ（Ｇａ）Ａｓ第１，第２選択酸化層の間に位置するようにする。また、テラスの最上面は、ｎ−ＡｌＧａＡｓ／ｎ−ＧａＡｓ第２ＤＢＲ表面である。
【０１６０】
次に、Ｈ_２Ｏ蒸気により４００℃で、上記Ａｌ（Ｇａ）Ａｓ第１，第２選択酸化層を酸化して、電流狭窄構造を作製する。
【０１６１】
次に、感光性ポリイミド前駆体を塗布し、テラス上とｎ−ＡｌＧａＡｓ／ｎ−ＧａＡｓ第２ＤＢＲ表面のポリイミド前駆体を除去した後、キュアしポリイミド保護膜を形成する。
【０１６２】
続いて、フォトレジストで不要部分を一時的に覆う工程を繰り返しながら、蒸着法により、ｐ−ＧａＡｓ第２スペーサ層のテラス上のポリイミド開口部にｐ側ＡｕＺｎ／Ａｕ中間電極を形成し、ｎ−ＡｌＧａＡｓ／ｎ−ＧａＡｓ第２ＤＢＲ表面の光出射口部以外の領域にｎ側ＡｕＧｅ／Ａｕ第２電極を形成する。最後に、ｎ−ＧａＡｓ基板裏面にｎ側ＡｕＧｅ／Ａｕ第１電極を蒸着法により形成する。光出力は第２のミラー側から取り出されるようになっている。
【０１６３】
また、実施例２では、図２２の面発光レーザ素子の駆動回路において、ｎ側第１電極を１５Ωの抵抗を介し共通負極と接続し、また、ｎ側第２電極を共通負極と接続する。そして、ｐ側中間電極と共通負極を駆動電流供給回路に接続して、レーザ発振させることができる。
【０１６４】
このように、この実施例２では、面発光レーザ素子に、ＧａＩｎＮＡｓ系材料からなる２つの活性層を設け、Ａｌ（Ｇａ）Ａｓ選択酸化層からなる電流狭窄部を設け、電流経路の抵抗を調整し並列駆動しているので、低いしきい値電流をもち、駆動電流が小さく、消費電力が小さく、高光出力で、高速変調が可能な、光伝送に適合する発振波長をもち温度特性のよい面発光レーザ素子が得られる。
【０１６５】
（実施例３）
図２３は実施例３の面発光レーザ素子を示す図である。図２３の面発光レーザ素子は、ＭＯＣＶＤ法により、ｎ型ＧａＡｓ（１００）基板上に、ｎ−ＡｌＧａＡｓ／ｎ−ＧａＡｓの２８ペアからなるｎ−ＡｌＧａＡｓ／ｎ−ＧａＡｓ第１ＤＢＲ、ｎ−ＧａＡｓ第１スペーサ層、ＧａＩｎＮＡｓ／ＧａＡｓ　３重量子井戸第１活性層、層中にＡｌ（Ｇａ）Ａｓ第１、第２選択酸化層を含むｐ−ＧａＡｓ第２スペーサ層、ＧａＩｎＮＡｓ／ＧａＡｓ　３重量子井戸第２活性層、ｎ−ＧａＡｓ第３スペーサ層、誘電体第２ＤＢＲを積層して、レーザ構成膜（積層構造）を形成する。
【０１６６】
ここで、各活性層は、第１ミラー（第１ＤＢＲ）と第２ミラー（第２ＤＢＲ）との間を共通の共振器としており、共振器長（Ｌ）は、Ｌ＝Ｎ（λ／（２ｎ_ｓ））となっている。ここで、Ｎは３以上の整数であり、λは発振波長、ｎ_ｓは共振器領域の屈折率である。
【０１６７】
そして、各活性層の位置は、レーザ発振光のモード定在波の腹の部分に配置されている。
【０１６８】
そして、フォトリソ工程でフォトレジストマスクパターンをｎ−ＧａＡｓ第３スペーサ層上に形成し、Ｃｌ_２ガスを用いたドライエッチング法を行う工程を２回繰り返し、これにより、上記レーザ構成膜（積層構造）は、２段のテラスをもつ半導体柱状構造に形成される。このテラスの底部は前記ｎ−ＡｌＧａＡｓ／ｎ−ＧａＡｓ第１ＤＢＲ中であり、１段目のテラスはｐ−ＧａＡｓ第２スペーサ層中のＡｌ（Ｇａ）Ａｓ第１，第２選択酸化層の間に位置するようにする。また、テラスの最上面は、ｎ−ＧａＡｓ第３スペーサ層表面である。
【０１６９】
次に、Ｈ_２Ｏ蒸気により４００℃で、上記Ａｌ（Ｇａ）Ａｓ第１，第２選択酸化層を酸化して、電流狭窄構造を形成する。
【０１７０】
次に、ｎ−ＧａＡｓ第３スペーサ層表面の中央部以外の試料表面をフォトレジスト膜で覆った後、電子ビーム蒸着法でＳｉＯ_２／ＺｒＯ_２の６ペアからなる第２誘電体ＤＢＲを形成する。このフォトレジスト膜を有機溶剤で溶かし余分の誘電体膜を除去する。続いて、感光性ポリイミド前駆体を塗布し、各テラス上のポリイミド前駆体だけ除去した後、キュアしポリイミド保護膜を形成する。
【０１７１】
続いて、フォトレジストで不要部分を一時的に覆う工程を繰り返しながら、蒸着法により、ｐ−ＧａＡｓ第２スペーサ層のポリイミド開口部上にｐ側ＡｕＺｎ／Ａｕ中間電極を形成し、ｎ−ＧａＡｓ第３スペーサ層表面の第２誘電体ＤＢＲが設けられていないポリイミド開口部上にｎ側ＡｕＧｅ／Ａｕ第２電極を形成する。最後に、ｎ型ＧａＡｓ基板裏面にｎ側ＡｕＧｅ／Ａｕ第１電極を蒸着法により形成する。光出力は第２のミラー側から取り出されるようになっている。
【０１７２】
また、実施例３では、図２３の面発光レーザ素子の駆動回路において、ｎ側第１電極を１５Ωの抵抗を介し共通負極と接続し、また、ｎ側第２電極を共通負極と接続する。そして、ｐ側中間電極と共通負極を駆動電流供給回路に接続して、レーザ発振させることができる。
【０１７３】
このように、この実施例３では、面発光レーザ素子に、ＧａＩｎＮＡｓ系材料からなる２つの活性層を設け、誘電体ＤＢＲを設け、Ａｌ（Ｇａ）Ａｓ選択酸化層からなる電流狭窄部を設け、電流経路の抵抗を調整し並列駆動しているので、低いしきい値電流をもち、駆動電流が小さく、消費電力が小さく、高光出力で、高速変調可能な、安定した工程で作製できる、光伝送に適合する発振波長をもち温度特性のよい面発光レーザ素子が得られる。
【０１７４】
【発明の効果】
以上に説明したように、請求項１乃至請求項１１記載の発明によれば、第１のミラーと第２のミラーとの間に複数の半導体活性層が設けられ、それぞれの半導体活性層の両側に相対するようにｐ型またはｎ型の導電性のスペーサ層が設けられ、それぞれの半導体活性層を含むｐｎ接合にそれぞれ電流を注入する電流注入手段が設けられており、前記第１のミラーおよび前記第２のミラーの一部の領域または全ての領域が、ｎ型導電性または非導電性のものとなっているので、消費電力が少なく、高い光出力が得られ、高速な変調が可能な面発光レーザ素子を提供することができる。
【０１７５】
特に、請求項２記載の発明では、請求項１記載の面発光レーザ素子において、前記第１のミラー上に、第１のスペーサ層、第１の半導体活性層、ｐ型導電性の中間スペーサ層、第２の半導体活性層、第２のスペーサ層、第２のミラーを積層した層構造が設けられ、それぞれのスペーサ層に電流を注入する電流注入手段が設けられており、請求項１の構成のうち、より簡便な構成を提供しているので、製造が容易な、消費電力が少なく、高い光出力が得られる、高速な変調が可能な面発光レーザ素子を提供することができる。
【０１７６】
また、請求項３記載の発明では、請求項１記載の面発光レーザ素子において、前記第１のミラー上に、ｐ型の第１のスペーサ層、第１の半導体活性層、ｎ型導電性の中間スペーサ層、第２の半導体活性層、ｐ型の第２のスペーサ層、第２のミラーを積層した層構造が設けられ、それぞれのスペーサ層に電流を注入する電流注入手段が設けられており、請求項１の構成のうち、より簡便な構成を提供しているので、製造が容易な、消費電力が少なく、高い光出力が得られる、高速な変調が可能な面発光レーザ素子を提供することができる。
【０１７７】
また、請求項４記載の発明では、請求項１乃至請求項３のいずれか一項に記載の面発光レーザ素子において、前記第１のミラーまたは前記第２のミラーのいずれかまたは両方が誘電体多層膜ミラー（ＤＢＲ）であり、該誘電体多層膜ミラー（ＤＢＲ）と接するスペーサ層に、電流を注入する電流注入手段が設けられており、誘電体ＤＢＲをミラーとして用いているので、半導体ＤＢＲに比べてより少ない層数で高い反射率のミラーが得られる。また、より安定性のある工程で面発光レーザ素子が得られる。すなわち、より簡便な構成で、より安定性のある工程で作製できる面発光レーザ素子を提供することができる。
【０１７８】
また、請求項５記載の発明では、請求項１乃至請求項４のいずれか一項に記載の面発光レーザ素子において、複数の半導体活性層の利得ピーク波長が同一であるので（すなわち、同一の共振器中に利得ピーク波長が同一の活性層を複数含むので）、単一波長又は波長幅の狭い波長のレーザ光が高出力で得られる。すなわち、より高出力が得られる面発光レーザ素子を提供することができる。
【０１７９】
また、請求項６記載の発明では、請求項１乃至請求項４のいずれか一項に記載の面発光レーザ素子において、複数の半導体活性層の利得ピーク波長が異なるので（すなわち、利得ピーク波長が異なる複数の半導体活性層を、同一の共振器中に含むので）、広い温度範囲において、高い利得が得られる。よって、使用温度範囲が広い面発光レーザ素子を提供することができる。
【０１８０】
また、請求項７記載の発明では、請求項１乃至請求項６のいずれか一項に記載の面発光レーザ素子において、前記第１のミラー、前記第２のミラー、前記スペーサ層のいずれか、または、全ての層に、電流狭窄構造が設けられており、電流狭窄構造を設けることにより、発光領域を微小化できるので、しきい値電流を小さくでき、よって、小さい電力でレーザ発振が可能になる。すなわち、より低いしきい値電流で、より小さい消費電力で駆動できる、より高速に変調可能な面発光レーザ素子を提供することができる。
【０１８１】
また、請求項８記載の発明では、請求項１乃至請求項７のいずれか一項に記載の面発光レーザ素子において、該面発光レーザ素子は、活性層にＧａＩｎＮＡｓ系材料からなる層を含む量子井戸構造を有しているので（すなわち、活性層がＧａＩｎＮＡｓ系材料からなる層を含むので）、石英系ファイバと整合性の良い発振波長の、温度特性が良好な、低消費電力で駆動できる、高出力な、高速変調が可能な面発光レーザ素子を提供することができる。
【０１８２】
また、活性層がＧａＩｎＮＡｓ系材料からなる層を含むので、これらの活性層及びＡｌ（Ｇａ）Ａｓ／ＧａＡｓ　ＤＢＲをＧａＡｓ基板上に良好にエピタキシャル成長させることができ、これによって、良好な結晶品質からなる層から構成される高い信頼性の面発光レーザ素子を提供することができる。
【０１８３】
また、請求項９記載の発明では、請求項１乃至請求項８のいずれか一項に記載の面発光レーザ素子において、各活性層を含むｐｎ接合のｐ側半導体に電流を注入するｐ側電極を電気的に共通としたｐ側共通電極が設けられ、各活性層を含むｐｎ接合のｎ側半導体に電流を注入するｎ側電極を電気的に共通としたｎ側共通電極が設けられており、ｐ側共通電極，ｎ側共通電極は、それぞれ、駆動電流供給回路に接続されているので（すなわち、ｐ側電極を共通にし、ｎ側電極を共通した場合、並列回路をなすので）、素子全体では抵抗が小さくなる。よって、高速変調が可能になる。このように、素子全体では抵抗が小さく、高速変調が可能な面発光レーザモジュールを提供することができる。
【０１８４】
また、請求項１０記載の発明では、請求項９記載の面発光レーザモジュールにおいて、各活性層を含むｐｎ接合における、各ｐ側電極とｐ側共通電極との間の配線、および、各ｎ側電極とｎ側共通電極との間の配線の少なくとも１つ、または、全部に、各活性層に注入する電流値を調整するための電流調整手段が設けられているので、より高出力で、より高速変調が可能で、設計が容易な面発光レーザモジュールを提供することができる。
【０１８５】
また、請求項１１記載の発明では、請求項１乃至請求項８のいずれか一項に記載の面発光レーザ素子において、各活性層を含むｐｎ接合に各々駆動電流供給回路を接続するので、より高いレーザ特性をもつ面発光半導体レーザモジュールを提供することができる。
【０１８６】
また、請求項１２記載の発明では、請求項１乃至請求項８のいずれか一項に記載の面発光半導体レーザ素子、または、請求項９乃至請求項１１のいずれか一項に記載の面発光レーザモジュールにおいて、面発光レーザ素子が半導体基板上にアレイ状に複数個配列されているので（すなわち、本発明の面発光レーザ素子を１次元，２次元に配列させているので）、従来の素子を用いたアレイに比べて、より高速変調可能な並列伝送用アレイ光源やより高出力なアレイ光源を提供することができる。
【０１８７】
また、請求項１３記載の発明では、請求項１乃至請求項８のいずれか一項に記載の面発光半導体レーザ素子、または、請求項９乃至請求項１１のいずれか一項に記載の面発光レーザモジュール、または、請求項１２記載の面発光レーザアレイが用いられていることを特徴とする光伝送システムであるので、より大容量の情報をより高速に伝送ができる光伝送システムを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】面発光レーザ素子の一般的な素子構成を示す図である。
【図２】第１の実施形態の面発光レーザ素子の第１の具体例を示す図である。
【図３】第１の実施形態の面発光レーザ素子の第２の具体例を示す図である。
【図４】第２の実施形態の面発光レーザ素子の第１の具体例を示す図である。
【図５】第２の実施形態の面発光レーザ素子の第２の具体例を示す図である。
【図６】第２の実施形態の面発光レーザ素子の第３の具体例を示す図である。
【図７】第３の実施形態の面発光レーザ素子の第１の具体例を示す図である。
【図８】第３の実施形態の面発光レーザ素子の第２の具体例を示す図である。
【図９】第４の実施形態の面発光レーザ素子の第１の具体例を示す図である。
【図１０】第４の実施形態の面発光レーザ素子の第２の具体例を示す図である。
【図１１】第５の実施形態の面発光レーザ素子の具体例を示す図である。
【図１２】第６の実施形態の面発光レーザ素子の具体例を示す図である。
【図１３】第７の実施形態の面発光レーザ素子の第１の具体例を示す図である。
【図１４】第７の実施形態の面発光レーザ素子の第２の具体例を示す図である。
【図１５】第９の実施形態の面発光レーザ素子の構成例を示す図である。
【図１６】第１０の実施形態の面発光レーザ素子の構成例を示す図である。
【図１７】図１６の構成において、抵抗Ａと抵抗Ｂを変えて得られる電流Ａ／電流Ｂによる光出力の変化を示す図である。
【図１８】第１１の実施形態の面発光レーザ素子の構成例を示す図である。
【図１９】本発明の面発光レーザ素子を光源として用いた光伝送システムの構成例を示す図である。
【図２０】本発明の面発光レーザ素子を光源として用いた光伝送システムの構成例を示す図である。
【図２１】実施例１の面発光レーザ素子を示す図である。
【図２２】実施例２の面発光レーザ素子を示す図である。
【図２３】実施例３の面発光レーザ素子を示す図である。

Claims (13)

1. 第１のミラーと第２のミラーとの間に複数の半導体活性層が設けられ、それぞれの半導体活性層の両側に相対するようにｐ型またはｎ型の導電性のスペーサ層が設けられ、それぞれの半導体活性層を含むｐｎ接合にそれぞれ電流を注入する電流注入手段が設けられており、前記第１のミラーおよび前記第２のミラーの一部の領域または全ての領域が、ｎ型導電性または非導電性のものとなっていることを特徴とする面発光レーザ素子。
2. 請求項１記載の面発光レーザ素子において、前記第１のミラー上に、第１のスペーサ層、第１の半導体活性層、ｐ型導電性の中間スペーサ層、第２の半導体活性層、第２のスペーサ層、第２のミラーを積層した層構造が設けられ、それぞれのスペーサ層に電流を注入する電流注入手段が設けられていることを特徴とする面発光レーザ素子。
3. 請求項１記載の面発光レーザ素子において、前記第１のミラー上に、ｐ型の第１のスペーサ層、第１の半導体活性層、ｎ型導電性の中間スペーサ層、第２の半導体活性層、ｐ型の第２のスペーサ層、第２のミラーを積層した層構造が設けられ、それぞれのスペーサ層に電流を注入する電流注入手段が設けられていることを特徴とする面発光レーザ素子。
4. 請求項１乃至請求項３のいずれか一項に記載の面発光レーザ素子において、前記第１のミラーまたは前記第２のミラーのいずれかまたは両方が誘電体多層膜ミラー（ＤＢＲ）であり、該誘電体多層膜ミラー（ＤＢＲ）と接するスペーサ層に、電流を注入する電流注入手段が設けられていることを特徴とする面発光レーザ素子。
5. 請求項１乃至請求項４のいずれか一項に記載の面発光レーザ素子において、複数の半導体活性層の利得ピーク波長が同一であることを特徴とする面発光レーザ素子。
6. 請求項１乃至請求項４のいずれか一項に記載の面発光レーザ素子において、複数の半導体活性層の利得ピーク波長が異なることを特徴とする面発光レーザ素子。
7. 請求項１乃至請求項６のいずれか一項に記載の面発光レーザ素子において、前記第１のミラー、前記第２のミラー、前記スペーサ層のいずれか、または、全ての層に、電流狭窄構造が設けられていることを特徴とする面発光レーザ素子。
8. 請求項１乃至請求項７のいずれか一項に記載の面発光レーザ素子において、該面発光レーザ素子は、活性層にＧａＩｎＮＡｓ系材料からなる層を含む量子井戸構造を有していることを特徴とする面発光レーザ素子。
9. 請求項１乃至請求項８のいずれか一項に記載の面発光レーザ素子において、各活性層を含むｐｎ接合のｐ側半導体に電流を注入するｐ側電極を電気的に共通としたｐ側共通電極が設けられ、各活性層を含むｐｎ接合のｎ側半導体に電流を注入するｎ側電極を電気的に共通としたｎ側共通電極が設けられており、ｐ側共通電極，ｎ側共通電極は、それぞれ、駆動電流供給回路に接続されていることを特徴とする面発光レーザモジュール。
10. 請求項９記載の面発光レーザモジュールにおいて、各活性層を含むｐｎ接合における、各ｐ側電極とｐ側共通電極との間の配線、および、各ｎ側電極とｎ側共通電極との間の配線の少なくとも１つ、または、全部に、各活性層に注入する電流値を調整するための電流調整手段が設けられていることを特徴とする面発光レーザモジュール。
11. 請求項１乃至請求項８のいずれか一項に記載の面発光レーザ素子において、各活性層を含むｐｎ接合に各々駆動電流供給回路を接続することを特徴とする面発光レーザモジュール。
12. 請求項１乃至請求項８のいずれか一項に記載の面発光半導体レーザ素子、または、請求項９乃至請求項１１のいずれか一項に記載の面発光レーザモジュールにおいて、面発光レーザ素子が半導体基板上にアレイ状に複数個配列されていることを特徴とする面発光レーザアレイ。
13. 請求項１乃至請求項８のいずれか一項に記載の面発光半導体レーザ素子、または、請求項９乃至請求項１１のいずれか一項に記載の面発光レーザモジュール、または、請求項１２記載の面発光レーザアレイが用いられていることを特徴とする光伝送システム。

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