JP2004103649A - 熱光発電用光電変換素子 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】受光面寄りの一導電型炭素半導体層と裏面寄りの反対導電型炭素半導体層とが積層されて成る半導体層を備え、一対の裏面電極のうち第1の電極は、一端が接続領域を介して上記受光面寄り一導電型炭素半導体層と接続し、上記半導体層内を貫通して他端が裏面に露出しており、上記一端および上記他端以外の部位は周囲から絶縁され、積層方向に対して直角な断面積が上記一端から上記他端にかけて増加しており、一対の裏面電極のうち第2の電極は、一端が接続領域を介して上記裏面寄り反対導電型炭素半導体層と接続し、上記半導体層内を経由せず直接他端が裏面に露出しており、上記各接続領域は、それぞれ接続する上記各炭素半導体層よりもsp2/sp3結合比が大きい炭素から成る。
【選択図】 図1
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、熱源により加熱された発光体からの輻射光を電力に変換する熱光発電用光電変換素子に関する。
【0002】
【従来の技術】
熱源から直接電気エネルギーを得る装置として熱光発電(Thermophotovoltaics 、TPV)が注目されている。この装置のしくみは、熱源により発光体を加熱し、発光体から赤外光を発生させ、光電変換素子(光電池)に照射して電気エネルギーを得るものである。熱源としては、プラント(工場)、ボイラー、ヒーターの廃熱や、化石燃料の燃焼熱を用いる。
【0003】
TPVでは温度1000〜1700℃の発光体から得られる赤外光を用いる。ここから放射される波長1.4〜1.7μmの光を電気に変換するためにはバンドギャップ(Eg)の小さい材料で作製した光電変換素子を用いる必要がある。一般的な材料Siでは波長1.1μm以下の光しか電気に変換することができない。
【0004】
TPV用の光電変換素子には0.5〜0.7eVのバンドギャップが適する。代表的な材料としてGaSb(ガリウムアンチモン、Eg=0.72eV)やInGaAs(インジウムガリウム砒素、Eg=0.60〜1.0eV)やGe(ゲルマニウム、Eg=0.66eV)などがある。
【0005】
更に、次世代の太陽電池材料として、炭素を主成分とする半導体薄膜が提案されている。アモルファスカーボン、ダイヤモンドライクカーボンとも呼ばれる。カーボンは導電体でありsp2結合から成るグラファイトと、絶縁体でありsp3結合から成るダイヤモンドという2つの安定した結晶構造がある。このsp2,sp3結合を混合させることにより半導体を形成することができる。更にsp2,sp3結合比や添加する水素濃度を調節することにより太陽電池に適した吸収特性を有する材料を自在に形成することができる。同様に、赤外光に適した材料を形成することが可能であり、従来の材料であるGaSb,GaInAs,Geに比べて、低コストで光電池を作製することができる。
【0006】
しかし、TPVには下記の点で問題があった。
【0007】
〔1〕エネルギー効率の向上時における抵抗損失の増加
TPVのエネルギー効率を高め、高価な光電変換素子の使用量を減らし、コストを低減する方法として、発光体から発生する光強度を増加させる方法がある。光強度を100倍にすると光電変換素子の使用量は1/100となりコストを大幅に低減でき、また変換効率も向上する。
【0008】
しかし、発生電流が増大するため、従来の光電変換素子では抵抗損失を減少させるために表面側の電極面積を大幅に増加させる方法が取られている。電極面積が増加すると、光電変換素子に入射する光量が減少するため、光強度の増加を活かせないという問題がある。
【0009】
一方、表面に電極を形成しない裏面電極型という構造があり集光型発電システムに用いられている。本発明者は、特願第2001−173017号において、赤外光に適するGeを用いた裏面電極型の光電変換素子を成立させるため、再結合損失を大幅に減少できる素子構造を提案した。また、更にコストを低減するために、ガラス等の安価な基板に薄膜半導体層を形成する素子構造を提案した。
【0010】
〔2〕炭素薄膜による低コスト化
Ge裏面電極型はTPV装置に極めて適した光電変換素子である。また、製造コストも従来のGaSb等のIII −V化合物系に比べて低くなった。しかし、更にコストを低減するためには、コストを大幅に減少することができる炭素系薄膜を用いることが望まれている。
【0011】
しかしながら、光電変換素子に適した良質な炭素薄膜とアルミニウム(Al)等の安価な電極材料とは接触抵抗が大きく、性能向上に対する障害となっている。接触抵抗を減少させるためには、sp2結合を増加させる、すなわちよりグラファイトに近づけることが必要である。しかし、sp2結合を増加させることにより、電荷の移動特性が低下し、再結合損失が増加する。電極材料として、接触抵抗を減少させることができる金(Au)などを用いることもできるが、材料コストの増加、加工プロセスの複雑化によりコストが増加する。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の課題は、光電変換素子に適した炭素薄膜を用い、炭素薄膜と電極との接触抵抗を低減し、性能とコストを両立できる熱光発電用光電変換素子を提供することである。
【0013】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するために、本発明の熱光発電用光電変換素子は、高温の発光体から輻射される光を受け入れる受光面と、一対の裏面電極を備えた裏面とを有する熱光発電用光電変換素子において、
相対位置が受光面寄りの一導電型炭素半導体層と裏面寄りの反対導電型炭素半導体層とが積層されて成る半導体層を備え、
一対の裏面電極のうち第1の電極は、一端が接続領域を介して上記受光面寄り一導電型炭素半導体層と接続し、上記半導体層内を貫通して他端が裏面に露出しており、上記一端および上記他端以外の部位は周囲から絶縁され、積層方向に対して直角な断面積が上記一端から上記他端にかけて増加しており、
一対の裏面電極のうち第2の電極は、一端が接続領域を介して上記裏面寄り反対導電型炭素半導体層と接続し、上記半導体層内を経由せず直接他端が裏面に露出しており、
上記各接続領域は、それぞれ接続する上記各炭素半導体層よりもsp2/sp3結合比が大きい炭素から成ることを特徴とする。
【0014】
炭素膜はsp2/sp3結合比を自在に選ぶことにより、光吸収特性、電気特性を大幅に変えることが可能である。また、水素やハロゲン元素、導電性を制御する元素を添加することにより物性を制御することができる。このような性質を利用して、炭素薄膜と電極との接触抵抗を低減し、性能とコストを両立させることができる。
【0015】
すなわち、本発明においては、炭素半導体層と導体である電極とを仲介する接続領域における炭素のsp2/sp3結合比を炭素半導体層より大きくしたことにより、接続領域の電気特性を半導体と導体との中間とすることができるので、炭素半導体層と電極導体との接触抵抗を低下させることができる。
【0016】
望ましい態様においては、接続領域のsp2/sp3結合比が、炭素半導体層との接続部位から電極との接続部位にかけて増加している。これにより、炭素半導体層との接続部位は接続領域の電気特性を半導体の電気特性に近ずけ、同時に、電極との接続部位は接続領域の電気特性を電極導体の電気特性に近ずけることができるので、接触抵抗を更に低下することができる。sp2/sp3結合比の増加は、段階的あるいは連続的にすることができるが、接触抵抗をより低減できる連続的増加の方が望ましい。
【0017】
更に望ましい態様においては、sp2/sp3結合比の増加に伴い、ドーパント濃度、水素濃度、ハロゲン元素濃度のうち少なくとも1つが増加または減少している。sp2/sp3結合比の増加に伴い、ドーパント濃度、水素濃度、ハロゲン元素濃度のうち少なくとも1つが増加する形態は、sp2/sp3結合比の増加に伴う再結合損失の増加を防止できる。sp2/sp3結合比の増加に伴い、ドーパント濃度、水素濃度、ハロゲン元素濃度のうち少なくとも1つが減少する形態は、プロセスが容易であるという利点がある。
【0018】
【発明の実施の形態】
図1を参照して、本発明の光電変換素子の典型的な基本構成例を説明する。
【0019】
本発明による光電変換素子100は、高温の発光体(図示せず)から輻射される光Qを受け入れる受光面Lと、電極対22/26を備えた裏面Rとを有する。
【0020】
相対位置が受光面L寄りの一導電型(図示の例ではn+型)の炭素半導体層14と裏面R寄りの反対導電型(図ではp型、p+型)の炭素半導体層16、18とが積層されて成る半導体層20を備えている。
【0021】
光電変換素子100は光透過性基板12上に形成されており、基板12の受光面L側は多層光制御薄膜10が設けられている。多層光制御薄膜10としては、光反射損失を減少させるための反射防止膜や、セルの発電に有効な光を透過し不要な光を反射するための光学フィルターを設ける。光透過性基板12としては、光電変換素子に有用な波長の光を透過する基板であり、石英、ガラス、プラスチックなどを用いる。
【0022】
電極対22/26のうち第1の電極22は、一端(図では上端)が接続領域24を介して受光面L寄りの一導電型(n+型)炭素半導体層14と接続し、半導体層20内を貫通して他端(図では下端)が裏面Rに露出しており、一端および他端以外の部位は絶縁膜30により周囲から絶縁され、積層方向Sに対して直角な断面積が一端(上端)から他端(下端)にかけて増加している。
【0023】
電極対22/26のうち第2の電極26は、一端(上端)が接続領域28を介して裏面R寄りの反対導電型(p+型)炭素半導体層18と接続し、半導体層20内を経由せず直接他端(下端)が裏面Rに露出している。
【0024】
本発明の最も重要な特徴として、各接続領域24、28は、それぞれが接続する各炭素半導体層14、18よりも炭素のsp2/sp3結合比が大きい。このことを図2および図3に示す。すなわち第1電極(図示の例では負極)22の接続領域24は、図2に示すように、炭素のsp2/sp3結合比が一導電型炭素半導体層(n+層)14よりも接続領域24の方が大きい。また、第2電極(図示の例では正極)26の接続領域28は、図3に示すように、sp2/sp3結合比が反対導電型炭素半導体層(p層、p+層)16、18よりも接続領域28の方が大きい。これにより、炭素半導体層14と電極22との接触抵抗および炭素半導体層18と電極26との接触抵抗が低減する。
【0025】
また、第1電極22は、積層方向Sに対して直角の断面積が上端から下端にかけて増加している。これにより、炭素半導体層14との接続箇所の面積を小さくして半導体層20内部での光吸収を最大限に確保すると同時に、裏面においては電極として十分な面積を確保する。
【0026】
半導体層20を構成する炭素半導体層14、16、18は、sp2結合とsp3結合とが混合した炭素を主成分とする薄膜として形成されており、水素またはハロゲン元素、および導電性を制御する元素を含有しており、光を吸収して電荷を発生する。n+層14とp層16とで構成されるpn接合により、電子(マイナスキャリア)はn+層14へ移動し、正孔(プラスキャリア)はp+層18へ移動する。ここで、接続領域24を介して電極22に接続する炭素半導体層14および接続領域28を介して電極26に接続する炭素半導体層18は、それぞれキャリア濃度を高めたn+層およびp+層として電荷収集率を高めてある。
【0027】
なお、図示の構成例では受光面側をn型としたが、p層、n層を入れ替えることにより同様の構成を作製することが可能である。
【0028】
このように、本発明の光電変換素子によれば、炭素を主成分とする薄膜により半導体層を形成することにより、製造コストを低減することができる。その際、接続領域を設けることにより、半導体層から電極への物性値の変化量が小さくなり、半導体と電極界面に形成される障壁が小さくなるため接触抵抗が減少し、素子の抵抗を減少させることができる。sp2/sp3結合比の増加による接触抵抗の低減は、製造コストを大幅に増加させることなく行なえる。接触抵抗を減少させるための他の手段として、接続領域をGaInAs,Ge等の他の半導体材料を用いる方法や、電極材料に金などの貴金属を用いる方法があるが、材料コストの増加、加工プロセスの複雑化により製造コストが増加する。sp2/sp3結合比を増加させる接続領域を半導体層の一部に設けることにより、受光部分の品質を低下させることはない。
【0029】
これにより、炭素を主成分とする裏面電極型薄膜光電変換素子を実現でき、製造コストを増加させること無く、性能を向上させることができ、TPVシステムの発電量を増加させつつ、装置のコストを低減できる。
【0030】
【実施例】
〔実施例1〕
図1に示した本発明の光電変換素子の構成を具体例により説明する。
【0031】
<多層光制御薄膜10>
MgF2 ,ZnS,SiO2 ,TiO2 などから構成される多層膜を用いることができる。TPVの発光体(エミッター)が発生する光のうち光電変換素子により電流に変換できる波長領域の光を透過し半導体層に吸収させ、不要な光を反射させることにより素子の温度上昇を防ぐ。
【0032】
<光透過性基板12>
石英、ガラス、プラスチックなどの基板を用いることができる。典型的な基板寸法は下記のとおりである。
【0033】
・厚み :0.2〜5mm程度
・平面寸法:1×1cm〜100×100cm程度
<半導体層20>
・材料 :炭素を主成分とする。必要に応じてSi,Geを添加する。
【0034】
水素、またはハロゲン元素を0.01%〜30%含有する。
【0035】
・バンドギャップ:0.2〜2.0eV程度
・n+層14:厚み0.02〜1μm、キャリア濃度1×1017〜1×1020cm−3
・p層16 :厚み0.1〜30μm、キャリア濃度1×1014〜1×1018cm−3
・p+層18:厚み0.02〜1μm、キャリア濃度1×1017〜1×1020cm−3
<接続領域24、28>
・厚み :0.005μm〜0.5μm
・sp2/sp3結合比:n+層、p+層に対して1.05倍〜2.0倍
図2、図3に示す結合比を有する
<絶縁膜30>
・材料 :SiO2 ,SiNx 等
・厚み :200〜500nm
<第1、第2電極>
・材料 :Al,Ag,Ti,Cu,Ni,Cr等
<第1電極22の寸法例>
・上部幅:1〜50μm程度(n+層14との接続部位)
・下部幅:5〜200μm程度(裏面電極としての平面寸法)
・n+層/第1電極接触面積率:3%
なお、本実施例におけるp層、n層の組み合わせは、これに限定するものではなく、逆の組み合わせを用いることが出来る。
【0036】
〔実施例2〕
実施例1の構造において、図1のA断面およびB断面についてそれぞれ図4および図5に示すように、接続領域24、28の炭素のsp2/sp3結合比を段階的に変化させる。
【0037】
これにより、接続領域24、28とn+層14、p+層18との各界面に発生するエネルギー障壁を減少させ、接触抵抗を更に低減させる。
【0038】
半導体層14、18と電極22、26との各界面に設けた接続領域24、28によりエネルギー障壁を減少させることができるが、半導体層14、18と接続領域24、28との界面、接続領域24、28と電極22、26との界面に小さいエネルギー障壁が発生する。接続領域24、28のsp2/sp3結合比を段階的に変化させることにより、この小さいエネルギー障壁を更に小さくすることができるので、接触抵抗を更に低減させることができる。
【0039】
なお、図4、図5においては、接続領域内でのsp2/sp3結合比の変化を3段階で設けた例を示したが、任意の段階数で変化させることが可能である。
【0040】
本実施例の接続領域24、28の典型的な構成例は下記のとおりである。
【0041】
・厚み :0.005μm〜0.5μm
・sp2/sp3結合比(1層目がn+層14またはp+層18に接続する)
1層目:n+層、p+層に対して1.05〜1.8倍
2層目:n+層、p+層に対して1.10〜2.2倍
3層目:n+層、p+層に対して1.15〜2.6倍
〔実施例3〕
実施例1の構造において、図1のA断面およびB断面についてそれぞれ図6および図7に示すように、接続領域24、28の炭素のsp2/sp3結合比を連続的に変化させる。
【0042】
これにより、接続領域24、28とn+層14、p+層18との各界面に発生するエネルギー障壁を解消し、接触抵抗を更に低減させる。
【0043】
半導体層14、18と電極22、26との各界面に設けた接続領域24、28によりエネルギー障壁を減少させることができるが、半導体層14、18と接続領域24、28との界面、接続領域24、28と電極22、26との界面に小さいエネルギー障壁が発生する。接続領域のsp2/sp3結合比を連続的に変化させることにより、この小さいエネルギー障壁を解消することができるので、接触抵抗を更に低減させることができる。
【0044】
本実施例の接続領域24、28の典型的な構成例は下記のとおりである。
【0045】
・厚み :0.005μm〜0.5μm
・sp2/sp3結合比
n+層、p+層との各界面直近部:各々n+層、p+層と等しい
電極側:n+層、p+層に対して1.1〜2.6倍
〔実施例4〕
実施例1の構造において、図1のA断面およびB断面についてそれぞれ接続領域24、28において、炭素のsp2/sp3結合比の増加に対応させてドーパント濃度を増加させる。これを、B断面を例として図8、図9に示す。図8は、図5に示すsp2/sp3結合比の増加に対応させて段階的にドーパント濃度を増加させた場合を示し、図9は、図7に示すsp2/sp3結合比の増加に対応させて連続的にドーパント濃度を増加させた場合を示す。
【0046】
これにより、接続領域自体の内部抵抗を減少させる。sp2/sp3結合比を増加させた接続領域では、ドーパントの活性化率が減少するためキャリア濃度が減少する。従って、界面の抵抗は減少するが、接続領域(バルク)の抵抗が増加する。この抵抗増加を防ぐためドーパント濃度を増加させる。
【0047】
本実施例の接続領域24、28の典型的な構成例は下記のとおりである。
【0048】
・図8のドーパント濃度(1層目がn+層14またはp+層18に接続する)
1層目:n+層、p+層に対して1.05〜5倍
2層目:n+層、p+層に対して1.10〜10倍
3層目:n+層、p+層に対して1.15〜20倍
・図9のドーパント濃度
n+層、p+層との各界面直近部:各々n+層、p+層と等しい
電極側:n+層、p+層に対して1.1〜20倍
〔実施例5〕
実施例1の構造において、図1のA断面およびB断面についてそれぞれ接続領域24、28において、炭素のsp2/sp3結合比の増加に対応させて水素またはハロゲン元素の濃度を減少させる。これを、B断面を例として図10、11に示す。図10は、図5に示すsp2/sp3結合比の増加に対応させて段階的に水素またはハロゲン元素の濃度を減少させた場合を示し、図11は、図7に示すsp2/sp3結合比の増加に対応させて連続的に水素またはハロゲン元素の濃度を減少させた場合を示す。
【0049】
これにより、接続領域におけるsp2/sp3結合比を容易に増加できる。
【0050】
水素またはハロゲン元素と炭素とのsp3結合を切断、すなわち、水素またはハロゲン元素を除去することにより、炭素同士のsp2結合を形成することができる。この方法は、半導体層を形成後、レーザーなどにより部分的に加熱処理を行うことにより容易に行なうことができるので、低コストで制御性良くsp2/sp3結合比を増加させることができる。
【0051】
本実施例の接続領域24、28の典型的な構成例は下記のとおりである。
【0052】
・図10の水素またはハロゲン元素の濃度(1層目がn+層14またはp+層18に接続する)
1層目:n+層、p+層に対して0.7〜0.99倍
2層目:n+層、p+層に対して0.4〜0.98倍
3層目:n+層、p+層に対して0.1〜0.97倍
・図11の水素またはハロゲン元素の濃度
n+層、p+層との各界面直近部:各々n+層、p+層と等しい
電極側:n+層、p+層に対して0.1〜0.98倍
〔実施例6〕
実施例1の構造において、図1のA断面およびB断面についてそれぞれ接続領域24、28において、炭素のsp2/sp3結合比のぞうかに対応させて水素またはハロゲン元素の濃度を増加させる。これをB断面を例として図12、13に示す。図12は、図5に示すsp2/sp3結合比の増加に対応させて段階的に水素またはハロゲン元素の濃度を増加させた場合を示し、図13は、図7に示すsp2/sp3結合比の増加に対応させて連続的に水素またはハロゲン元素の濃度を増加させた場合を示す。
【0053】
これにより、水素またはハロゲン元素により接続領域の欠陥を減少させ、電荷の再結合損失増加を防ぐ。
【0054】
sp2結合を増加させることにより、未結合手が増加し、再結合損失の増加により変換効率が減少する可能性がある。水素またはハロゲン元素は、未結合手と結合し欠陥を減少させることができる。
【0055】
本実施例においては、実施例5で減少させるのとは逆に水素またはハロゲン元素の濃度を増加させる。濃度の増加、減少どちらが効果があるかは接続領域の製造方法や物性、得られる光電池特性により異なるため、これらに応じて適宜増加または減少のいずれかを選択する。
【0056】
本実施例の接続領域24、28の典型的な構成例は下記のとおりである。
【0057】
・図12の水素またはハロゲン元素の濃度(1層目がn+層14またはp+層18に接続する)
1層目:n+層、p+層に対して1.01〜3倍
2層目:n+層、p+層に対して1.02〜5倍
3層目:n+層、p+層に対して1.03〜10倍
・図13の水素またはハロゲン元素の濃度
n+層、p+層との各界面直近部:n+層、p+層と等しい
電極側:n+層、p+層に対して1.01〜10倍
〔実施例7〕
本発明の光電変換素子の他の構造例を図14、15に示す。この構造の光電変換素子100においては、炭素半導体層14、18と電極22、26との界面に部分的に接続領域24、28を設ける。
【0058】
これにより、欠陥の多いsp2結合比を増加させた接続領域を必要最小限とし、再結合損失の増加を抑制する。すなわち、sp2結合を増加させることにより、未結合手が増加し、再結合損失の増加により変換効率が減少する可能性がある。図14の断面図、図15の平面図に示すように接続領域24、26を部分的に設けることにより、再結合損失の増加を防ぎつつ、接触抵抗を減少させることができる。
【0059】
本発明の接続領域の典型的な構成例は下記のとおりである。
【0060】
・厚み :0.005μm〜0.5μm
・接続領域の面積率:界面の面積に対して0.1〜50%
・形状 :任意の形状でよい。図15に、(1)正方状あるいは(2)六方状に規則的に設けた場合の例を示す。
【0061】
以下に、本発明による接続領域を設けた光電変換素子の製造プロセスの具体例を説明する。
【0062】
〔実施例8〕
図16を参照して、本発明により図1に示すように接続領域を設けた光電変換素子100の製造プロセスの一例を説明する。
【0063】
光透過性基板12に、n+層14、p層16、p+層18より構成される半導体層20を形成する。
【0064】
次いで、半導体層20内の電極22の形成予定箇所に電極22に対応した開口を形成する。
【0065】
次いで、プラズマCVD法によりsp2結合比を増加させた薄膜を形成する。フォトリソグラフィー法により不要な薄膜を除去し、図16に示す接続領域24、28を形成する。
【0066】
次いで、絶縁膜パターンを形成した後、多層光制御薄膜と微細電極を形成し光電池を完成させる。
【0067】
本実施例の方法によれば、半導体層とは別途接続領域を形成するため、任意の特性を有する炭素薄膜を形成することができる。ガスの成分、圧力、温度、高周波出力などを調節することにより、所望のsp2/sp3結合比、ドーパント濃度、水素、またはハロゲン元素濃度を有する高品質な接続領域を形成することができる。
【0068】
〔実施例9〕
図17を参照して、本発明により図14、15に示すように部分的に接続領域を設けた光電変換素子の製造プロセスの一例を説明する。
【0069】
光透過性基板12にn+層14、p層16、p+層18より構成される半導体層20を形成する。
【0070】
次いで、絶縁膜30を形成した後に不要部分をフォトリソグラフィーにより除去する。
【0071】
次いで、炭素半導体層14、18の電極22、26との接続部分に部分的にレーザビームを照射する。レーザー照射された部分は加熱され、カーボンのsp3結合の切断、または添加された水素またはハロゲン元素が放出されることにより、sp2結合が増加して、図17に示す部分的な接続領域24、28が形成される。
【0072】
その後、図14、15に示したように多層光制御薄膜10と微細電極22、26を形成し光電変換素子100を完成させる。
【0073】
本実施例により、必要な部分に簡便に低コストで接続領域を形成することができる。
【0074】
このように、レーザビーム照射は、電極と炭素半導体層の接続部分に部分的に接続領域を形成するのに適している。ただし、レーザビーム照射により電極と炭素半導体層の接続部分の全体に接続領域を形成してもよい。
【0075】
実施例8の製造方法は手間がかかるが高品質な接続領域を形成できるという利点があるのに対して、実施例9の製造方法は簡便で低コストであるという利点がある。
【0076】
【発明の効果】
本発明によれば、光電変換素子に適した炭素薄膜を用い、炭素薄膜と電極との接触抵抗を低減し、性能とコストを両立できる熱光発電用光電変換素子が提供される。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は、本発明の光電変換素子の典型的な基本構成例を示す断面図である。
【図2】図2は、本発明の光電変換素子において電極と受光面寄り炭素半導体層(n+層)とを接続する接続領域およびその近傍の炭素のsp2/sp3結合比を定性的に示すグラフである。接続領域中のsp2/sp3結合比が炭素半導体層(n+層)より大きく、かつ炭素半導体層側から電極側にかけて接続領域内で一様である。
【図3】図3は、本発明の光電変換素子において電極と裏面寄り炭素半導体層(p+層)とを接続する接続領域およびその近傍の炭素のsp2/sp3結合比を定性的に示すグラフである。接続領域中のsp2/sp3結合比が炭素半導体層(p+層)より大きく、かつ炭素半導体層側から電極側にかけて接続領域内で一様である。
【図4】図4は、本発明の光電変換素子において電極と受光面寄り炭素半導体層(n+層)とを接続する接続領域およびその近傍の炭素のsp2/sp3結合比を定性的に示すグラフである。接続領域中のsp2/sp3結合比が炭素半導体層(n+層)より大きく、かつ炭素半導体層側から電極側にかけて接続領域内で段階的に増加している。
【図5】図5は、本発明の光電変換素子において電極と裏面寄り炭素半導体層(p+層)とを接続する接続領域およびその近傍の炭素のsp2/sp3結合比を定性的に示すグラフである。接続領域中のsp2/sp3結合比が炭素半導体層(p+層)より大きく、かつ炭素半導体層側から電極側にかけて接続領域内で段階的に増加している。
【図6】図4は、本発明の光電変換素子において電極と受光面寄り炭素半導体層(n+層)とを接続する接続領域およびその近傍の炭素のsp2/sp3結合比を定性的に示すグラフである。接続領域中のsp2/sp3結合比が炭素半導体層(n+層)より大きく、かつ炭素半導体層側から電極側にかけて接続領域内で連続的に増加している。
【図7】図5は、本発明の光電変換素子において電極と裏面寄り炭素半導体層(p+層)とを接続する接続領域およびその近傍の炭素のsp2/sp3結合比を定性的に示すグラフである。接続領域中のsp2/sp3結合比が炭素半導体層(p+層)より大きく、かつ炭素半導体層側から電極側にかけて接続領域内で連続的に増加している。
【図8】図8は、本発明の光電変換素子において電極と裏面寄り炭素半導体層(p+層)とを接続する接続領域およびその近傍のドーパント濃度を定性的に示すグラフである。接続領域のドーパント濃度が炭素半導体層側から電極側にかけて段階的に増加している。
【図9】図9は、本発明の光電変換素子において電極と裏面寄り炭素半導体層(p+層)とを接続する接続領域およびその近傍のドーパント濃度を定性的に示すグラフである。接続領域のドーパント濃度が炭素半導体層側から電極側にかけて連続的に増加している。
【図10】図10は、本発明の光電変換素子において電極と裏面寄り炭素半導体層(p+層)とを接続する接続領域およびその近傍の水素またはハロゲン元素の濃度を定性的に示すグラフである。接続領域の水素またはハロゲン元素の濃度が炭素半導体層側から電極側にかけて段階的に減少している。
【図11】図11は、本発明の光電変換素子において電極と裏面寄り炭素半導体層(p+層)とを接続する接続領域およびその近傍の水素またはハロゲン元素の濃度を定性的に示すグラフである。接続領域の水素またはハロゲン元素の濃度が炭素半導体層側から電極側にかけて連続的に減少している。
【図12】図12は、本発明の光電変換素子において電極と裏面寄り炭素半導体層(p+層)とを接続する接続領域およびその近傍の水素またはハロゲン元素の濃度を定性的に示すグラフである。接続領域の水素またはハロゲン元素の濃度が炭素半導体層側から電極側にかけて段階的に増加している。
【図13】図13は、本発明の光電変換素子において電極と裏面寄り炭素半導体層(p+層)とを接続する接続領域およびその近傍の水素またはハロゲン元素の濃度を定性的に示すグラフである。接続領域の水素またはハロゲン元素の濃度が炭素半導体層側から電極側にかけて連続的に増加している。
【図14】図14は、本発明の光電変換素子において電極と炭素半導体層との接続部分に部分的に接続領域を設けた構成例を示す断面図である。
【図15】図15は、部分的に設ける接続領域の平面配置例を示す平面図である。
【図16】図16は、図1に示した構造の光電変換素子の製造プロセスにおいて接続領域を形成する工程を示す断面図である。
【図17】図17は、図14に示した構造の光電変換素子の製造プロセスにおいて接続領域を形成する工程を示す断面図である。
【符号の説明】
100…光電変換素子
L…受光面
R…裏面
Q…入射光
S…積層方向
10…多層光制御薄膜
12…光透過性基板
14…受光面寄り一導電型炭素半導体層(n+層)
16…中間の反対導電型炭素半導体層(p層)
18…裏面寄り反対導電型炭素半導体層(p+層)
20…半導体層
22、26…電極
24、28…接続領域
30…絶縁膜
Claims (3)
- 高温の発光体から輻射される光を受け入れる受光面と、一対の裏面電極を備えた裏面とを有する熱光発電用光電変換素子において、
相対位置が受光面寄りの一導電型炭素半導体層と裏面寄りの反対導電型炭素半導体層とが積層されて成る半導体層を備え、
一対の裏面電極のうち第1の電極は、一端が接続領域を介して上記受光面寄り一導電型炭素半導体層と接続し、上記半導体層内を貫通して他端が裏面に露出しており、上記一端および上記他端以外の部位は周囲から絶縁され、積層方向に対して直角な断面積が上記一端から上記他端にかけて増加しており、
一対の裏面電極のうち第2の電極は、一端が接続領域を介して上記裏面寄り反対導電型炭素半導体層と接続し、上記半導体層内を経由せず直接他端が裏面に露出しており、
上記各接続領域は、それぞれ接続する上記各炭素半導体層よりもsp2/sp3結合比が大きい炭素から成ることを特徴とする熱光発電用光電変換素子。 - 前記接続領域のsp2/sp3結合比が、前記炭素半導体層との接続部位から前記電極との接続部位にかけて増加していることを特徴とする請求項1記載の熱光発電用光電変換素子。
- 前記接続領域は、前記sp2/sp3結合比の増加に伴い、ドーパント濃度、水素濃度、ハロゲン元素濃度のうち少なくとも1つが増加または減少していることを特徴とする請求項2記載の熱光発電用光電変換素子。
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