JP2004103611A - 半導体装置及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】本発明は、異なる膜厚の半導体領域を有し、素子形成面を平坦とすることを最も主要な特徴とする。
【解決手段】ハンドルウエハ11上には凸状の多結晶シリコン層12が選択的に形成されている。全面に絶縁膜13が形成され、その上には半導体層14が形成されている。凸状の多結晶シリコン層12が形成されている領域の上部における半導体層14の膜厚は薄く、多結晶シリコン層12が形成されていない領域に位置している半導体層14の膜厚は厚い。半導体層14の厚膜半導体領域16の下部に位置する絶縁膜13には開口部17が形成され、この開口17内には多結晶シリコン層12が形成され、厚膜半導体領域16とハンドルウエハ11とが電気的に接続されている。
【選択図】 図1
【解決手段】ハンドルウエハ11上には凸状の多結晶シリコン層12が選択的に形成されている。全面に絶縁膜13が形成され、その上には半導体層14が形成されている。凸状の多結晶シリコン層12が形成されている領域の上部における半導体層14の膜厚は薄く、多結晶シリコン層12が形成されていない領域に位置している半導体層14の膜厚は厚い。半導体層14の厚膜半導体領域16の下部に位置する絶縁膜13には開口部17が形成され、この開口17内には多結晶シリコン層12が形成され、厚膜半導体領域16とハンドルウエハ11とが電気的に接続されている。
【選択図】 図1
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
この発明は、薄膜半導体領域と厚膜半導体領域とが混在した半導体装置及びその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、MPU(Micro Processor Unit)などの高性能デジタル回路や、DRAMなどのメモリ及びアナログ回路などの複数の機能ブロックを同一半導体チップ上に集積し、より安価で高性能なシステムを実現するSoC(System on Chip)への要求が高まっている。より高性能なSoCの開発のためには、それぞれの機能ブロックに用いられる素子構造の違いや、素子に要求される特性の違いをいかにして同時に満たすかが鍵となる。
【0003】
最近の技術動向として、主にデジタル回路では、SOI(Silicon On Insulator)構造を利用することで素子の微細化や寄生容量の低減化が図られたMOSFETを使用することが主流になりつつある。従って、SOI基板を用いたDRAMやアナログ回路の混載技術が必要になる。
【0004】
しかしながら、DRAMなどのメモリやアナログ回路などでは、SOI構造に特有の基板浮遊効果により、回路動作の不具合、例えば誤動作やノイズ特性劣化が生じる場合があることから、SOI構造をそのまま導入することは困難である。
【0005】
このため、SOI基板領域とバルク基板領域とを併せ持つ基板を用いて、それぞれの領域に適した機能回路の素子を形成する手法が開発されている(例えば、非特許文献1参照)。
【0006】
【非特許文献1】
IBM H.L.Ho et. al 著「IEDM Technical Digest pp.503−506,2001」
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
上記従来の手法は、バルク基板にSIMOX(Separation by Implanted Oxygen)法(R)により選択的に埋め込み酸化膜(BOX酸化膜)を形成してSOI領域を形成するものである。
【0008】
しかし、この手法では、基板内部にBOX酸化膜を形成するために、SIMOX部と非SIMOX部の境界部に結晶欠陥が発生する、基板表面の高さが両領域相互間で異なるために段差が生じて微細パターン形成の歩留まりが低下する、さらにSIMOX部の膜構成、つまりSOI膜とBOX酸化膜としても結晶欠陥とピンホールの発生を抑制するためのプロセスウィンドウが狭く、特に異なるSOI膜厚とBOX酸化膜厚の領域を同一基板上に形成することが困難などの問題がある。
【0009】
この発明は上記のような事情を考慮してなされたものであり、その目的は、異なる膜厚の半導体領域を有し、素子形成面が平坦な半導体装置及びその製造方法を提供することである。
【0010】
【課題を解決するための手段】
この発明の半導体装置の製造方法は、一主面に分離層が形成された第1の半導体基板を用意し、前記分離層上に凹部及び凸部を有する半導体層を形成し、前記半導体層上に堆積膜を形成した後、この堆積膜を平坦化し、前記堆積膜の形成面に第2の半導体基板を接着し、前記分離層と共に前記第1の半導体基板を剥離することを特徴とする。
【0011】
この発明の半導体装置は、半導体基板と、前記基板上に選択的に設けられた凸状の膜と、前記凸状の膜上及び前記基板表面上に渡って連続的に設けられた絶縁膜と、前記絶縁膜上に設けられ、前記凸状の膜の上部に位置する薄膜半導体領域及びそれ以外の部分に位置して前記薄膜半導体領域よりも厚い膜厚を有する厚膜半導体領域からなり、上面に平坦面を有する半導体層と、前記半導体層の前記厚膜半導体領域に対応した位置の前記絶縁膜中に設けられ、前記半導体層と基板とを電気的に接続する導電体層とを具備したことを特徴とする。
【0012】
この発明の半導体装置の製造方法は、一主面に分離層及び半導体層が積層された第1の半導体基板を用意し、前記半導体層を選択的に酸化して酸化膜を形成し、前記酸化膜の形成面に第2の半導体基板を接着し、前記分離層と共に前記第1の半導体基板を剥離することを特徴とする。
【0013】
この発明の半導体装置は、半導体基板と、前記基板上に選択的に設けられた酸化膜と、前記酸化膜上及び前記酸化膜が形成されていない領域では前記基板との間に空洞が生じるように設けられ、前記酸化膜の上部に位置する薄膜半導体領域及びそれ以外の領域に位置して前記薄膜半導体領域よりも厚い膜厚を有する厚膜半導体領域からなり、上面に平坦面を有する半導体層とを具備したことを特徴とする。
【0014】
この発明の半導体装置は、半導体基板と、前記基板上に選択的に設けられた互いに膜厚が異なる複数の酸化膜と、前記複数の酸化膜上及び前記基板上に渡って連続的に設けられ、前記複数の各酸化膜の上部に位置するそれぞれ膜厚が異なる複数の薄膜半導体領域及び前記基板の上部に位置して前記複数の各薄膜半導体領域よりも厚い膜厚を有する厚膜半導体領域からなり、上面に平坦面を有する半導体層とを具備したことを特徴とする。
【0015】
この発明の半導体装置は、半導体基板と、前記基板との間に空洞が生じるように前記基板上に設けられた酸化膜と、前記酸化膜上及び前記基板上に渡って連続的に設けられ、前記酸化膜の上部に位置する薄膜半導体領域及び前記基板の上部に位置して前記薄膜半導体領域よりも厚い膜厚を有する厚膜半導体領域からなり、上面に平坦面を有する半導体層とを具備したことを特徴とする。
【0016】
この発明の半導体装置の製造方法は、一主面に分離層及び第1の半導体層が積層された第1の半導体基板を用意し、前記第1の半導体層を選択的に除去して前記半導体層に凹部及び凸部を形成し、前記第1の半導体層の形成面に第2の半導体基板を接着し、前記分離層と共に前記第1の半導体基板を剥離することを特徴とする。
【0017】
この発明の半導体装置の製造方法は、一主面に分離層及び第1の半導体層が積層された第1の半導体基板を用意し、前記第1の半導体層の上面を選択的に酸化して酸化膜を形成し、前記酸化膜をエッチング用のマスクとして用いてエッチングを行って前記第1の半導体層を選択に除去し、前記酸化膜を残した状態で前記第1の半導体層の形成面に第2の半導体基板を接着し、前記分離層と前記第2の半導体基板との間の空洞を第2の半導体層で満たし、前記分離層と共に前記第1の半導体基板を剥離することを特徴とする。
【0018】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照してこの発明の実施の形態を詳細に説明する。
【0019】
(第1の実施の形態)
図1はこの発明の第1の実施の形態による半導体装置の断面図である。
【0020】
シリコン半導体基板からなるハンドルウエハ11上には凸状の多結晶シリコン層12が選択的に形成されている。上記多結晶シリコン層12上及び多結晶シリコン層12が形成されていないハンドルウエハ11の表面上に渡って、絶縁膜13が形成されている。この絶縁膜13は、例えば、酸化雰囲気中で全面を酸化することにより得られるBOX酸化膜により構成されている。上記絶縁膜13上には半導体シリコンからなる半導体層14が形成されている。この半導体層14は、例えばエピタキシャル成長法により形成され、上面は平坦面とされている。
【0021】
ここで、凸状の多結晶シリコン層12が形成されている領域の上部における半導体層14の膜厚は例えば50nm程度と薄くされ、この領域の半導体層14は薄膜半導体領域15となり、SOI領域として使用される。他方、多結晶シリコン層12が形成されていない領域に位置している半導体層14の膜厚は例えば10μm程度と厚くされ、この領域の半導体層14は厚膜半導体領域16となり、トレンチキャパシタを有するDRAMメモリセルを形成するためのDRAM領域として使用される。
【0022】
また、半導体層14の厚膜半導体領域16の下部に位置する絶縁膜13の一部には開口部17が形成されている。この開口17内には上記多結晶シリコン層12が形成され、開口17内部の多結晶シリコン層12を介して、厚膜半導体領域16とハンドルウエハ11とが電気的に接続されている。
【0023】
次に、図1に示すような構成の半導体装置の製造方法を説明する。
【0024】
まず、図2に示すような構成のSOIウエハ20を用意する。このSOIウエハ20は、シリコン半導体基板からなるシードウエハ21上に分離層22及び一様の厚みを有する半導体層14が積層された構造を有する。
【0025】
このSOIウエハ20は、一般に良く知られているELTRAN(Epitaxial Layer Transfer)(R)技術やUNIBOND(R)技術を用いて形成することができる。例えばELTRAN技術を用いる場合、陽極化成によりシードウエハ21の表面に多孔質の分離層22を形成した後、エピタキシャル成長法により半導体層14を形成することで得られる。
【0026】
一方、UNIBOND技術を用いる場合には、シードウエハ21の表面に水素イオンを注入することで分離層22を形成した後、エピタキシャル成長法により半導体層14を形成することで得られる。
【0027】
次に、図3に示すように、半導体層14の表面に所定のパターンを有する耐エッチング用のマスク材を形成した後、半導体層14を選択エッチングして半導体層14に凹部23及び凸部24を形成する。
【0028】
次に、図4に示すように、酸化雰囲気中で酸化を行って半導体層14の表面に絶縁膜13を形成した後、半導体層14の凸部24に対応した位置の絶縁膜13に開口部17を形成する。
【0029】
続いて、全面に多結晶シリコン層12を堆積した後、CMP(Chemical Mechanical Polishing)技術により平坦化して、図5に示すように多結晶シリコン層12を半導体層14の凹部23内及び絶縁膜13の開口部17内に残す。上記多結晶シリコン層12には予め不純物が導入されていて低抵抗化されているものを使用してもよく、あるいは不純物が導入されていない状態で堆積した後に不純物を導入して低抵抗化するようにしてもよい。
【0030】
次に、図6に示すように、多結晶シリコン層12の形成面にシリコン半導体基板からなるハンドルウエハ11を張り合わせる。その後、SOIウエハ20がELTRAN技術によって形成されている場合にはウォータージェット技術により、UNIBOND技術によって形成されている場合にはスマートカット(smart cut)法(R)によりそれぞれ分離層22を破壊することで、シードウエハ21を剥離し、剥離表面の処理を行って図1のような構造を得る。
【0031】
この実施の形態によれば、半導体層14に互いに膜厚が異なる薄膜半導体領域15と厚膜半導体領域16とを形成することができる。しかも半導体層14の上面は平坦面となるので、この後、薄膜半導体領域15と厚膜半導体領域16とにそれぞれ素子を形成する際に、基板表面に段差がないので、従来のような微細パターン形成の歩留まり低下を防止することができる。
【0032】
また、基板内部にBOX酸化膜を形成する必要がないので、薄膜半導体領域15と厚膜半導体領域16の境界部に結晶欠陥が発生することはない。
【0033】
さらに厚膜半導体領域16は、開口部17内に設けられた多結晶シリコン層12を介してハンドルウエハ11と電気的に接続されているので、DRAMメモリセルが形成される厚膜半導体領域16の電位はハンドルウエハ11の電位によって固定され、回路動作の不具合、例えば誤動作やノイズ特性劣化が生じる恐れがなくなる。
【0034】
なお、上記実施の形態では、半導体層14に凹部23及び凸部24を形成するために、半導体層14を選択エッチングする場合を説明したが、これは分離層22上に薄膜半導体領域15に対応した厚みを有する半導体層14を予め形成しておき、次にシリコン酸化膜などのマスクパターンを形成して選択エピタキシャル成長法により半導体層14を選択的に成長させることで厚膜半導体領域16を形成するようにしてもよい。このとき、エピタキシャル成長の条件により、選択成長した半導体層14が、マスクパターン上に一部乗り上げるように成長する。また、マスクパターンを残す場合は、このマスクパターンがSOI領域における絶縁膜13を構成することになる。
【0035】
(第2の実施の形態)
次に、第2の実施の形態に係る半導体装置の製造方法を図7(a)ないし(d)及び図8を参照して説明する。
【0036】
まず、図7(a)に示すように、シリコン半導体基板からなるシードウエハ21上に分離層22及び一様の厚みを有する半導体層14が積層された構造を有するSOIウエハ20を用意する。このSOIウエハ20の作成方法については先に述べたので説明は省略する。
【0037】
次に、図7(b)に示すように、所定のパターンを有する酸化用のマスクを半導体層14上に形成した後、酸化雰囲気中で熱酸化を行って、半導体層14上に酸化膜25を形成する。
【0038】
次に、図7(c)に示すように、酸化膜25の形成面にシリコン半導体基板からなるハンドルウエハ11を張り合わせる。ハンドルウエハ11の接着後、酸化膜25が形成されていない領域には、半導体層14とハンドルウエハ11との間に空洞26が生じる。
【0039】
その後、SOIウエハ20がELTRAN技術によって形成されている場合にはウォータージェット技術により、UNIBOND技術によって形成されている場合にはスマートカット(smart cut)法によりそれぞれ分離層22を破壊することで、シードウエハ21を剥離して図7(d)に示すような構造を得る。
【0040】
ここで、酸化膜25が形成された領域の半導体層14は、シリコンが酸化膜25中に取り込まれることで当初の膜厚よりも薄くなり、この領域の半導体層14は薄膜半導体領域15となる。薄膜半導体領域15の下部には酸化膜25が形成されているので、この薄膜半導体領域15はSOI領域となり、薄膜SOI−MOSFETによるデジタル回路を形成することができる。
【0041】
他方、酸化膜25が形成されていない領域に位置している半導体層14は当初の膜厚を維持しており、この領域の半導体層14は厚膜半導体領域16となる。この厚膜半導体領域16の下部には空洞26が存在しているので、この厚膜半導体領域16はSON(silicon on nothing)領域となり、基板電位を確実に与えたバルク構造のMOSFETによるアナログ回路を形成することができる。
【0042】
この実施の形態による方法は、厚膜半導体領域16の面積に比べて薄膜半導体領域15の面積が広いような場合に好適である。つまり、半導体層14の露出面に比べて酸化膜25の面積が広くなるので、広い面積を持つ酸化膜25とハンドルウエハ11とを張り合わせることで強い接着強度を得ることができる。
【0043】
この実施の形態によれば、半導体層14に互いに膜厚が異なる薄膜半導体領域15と厚膜半導体領域16とを形成することができる。しかも半導体層14の上面は平坦面となるので、この後、薄膜半導体領域15と厚膜半導体領域16とにそれぞれ素子を形成する際に、基板表面に段差がないので、従来のような微細パターン形成の歩留まり低下を防止することができる。
【0044】
また、基板内部にBOX酸化膜を形成する必要がないので、薄膜半導体領域15と厚膜半導体領域16の境界部に結晶欠陥が発生することはない。
【0045】
図8は、図7(d)に示す半導体領域14の薄膜半導体領域15及び厚膜半導体領域16にそれぞれMOSFETを形成した状態を示している。
【0046】
薄膜半導体領域15は、絶縁膜などからなり底部が酸化膜25に達するように形成された素子分離領域27によって個々の素子毎に素子分離される。各素子領域にはMOSFETのソース/ドレイン領域28、チャネル領域29が形成され、チャネル領域29上にはMOSFETのゲート電極30が形成される。
【0047】
厚膜半導体領域16も絶縁膜などからなる素子分離領域27によって個々の素子毎に素子分離され、各素子領域にはMOSFETのソース/ドレイン領域28、チャネル領域29が形成され、チャネル領域29上にはMOSFETのゲート電極30が形成される。また、厚膜半導体領域16に形成されたMOSFETの周囲にはガードリングGRが形成される。このガードリングGRには所定の電位が印加される。通常、ガードリングGRには、厚膜半導体領域16に導入される不純物と同一導電型の不純物が導入される。
【0048】
この実施の形態によれば、第1の実施の形態と同様の効果を得ることができると共に、厚膜半導体領域16の下部には空洞26が存在しているので、この厚膜半導体領域16に形成されるMOSFETと他の領域に形成されるMOSFETとの間で伝播される高周波ノイズを削減できるという効果がさらに得られる。
【0049】
なお、この実施の形態において、ハンドルウエハ11の張り合わせ面には予め酸化膜などを形成しておいてもよく、あるいは何の表面膜も形成しておかなくてもよい。
【0050】
次に、上記第2の実施の形態の種々の変形例について説明する。
【0051】
まず、第1の変形例による半導体装置の製造方法を図9を参照して説明する。先の図7(c)では、酸化膜25の形成面に張り合わせるハンドルウエハ11の貼り合わせ面が平坦であった。
【0052】
これに対し、この変形例では、図9(a)に示すようにハンドルウエハ11の貼り合わせ面において、酸化膜25が形成されていない領域に対応した位置に予め凹部31が形成されている点が異なる。
【0053】
このようなハンドルウエハ11を酸化膜25の形成面に貼り合わせた後は、先の場合と同様に分離層22を破壊することでシードウエハ21を剥離して図9(b)に示すような構造を得る。
【0054】
この第1の変形例によれば、ハンドルウエハ11の貼り合わせ面に形成される凹部31の深さを調整することで、貼り合わせ後に厚膜半導体領域16との間で形成される空洞26の厚さを安定に制御することができる。これにより高周波ノイズの削減を効果的に行うことができる。
【0055】
さらに、厚膜半導体領域16上にインダクタ素子を形成するような場合に、このインダクタ素子のQ値の向上を図ることができる。
【0056】
また、ハンドルウエハ11に凹部31を形成したことにより、貼り合わせ時や素子形成プロセス中に生じる多少のゆがみによる部分的な空洞の欠落を抑制することが可能となる。
【0057】
次に、第2の変形例による半導体装置の製造方法を図10を参照して説明する。上記第1の変形例では、ハンドルウエハ11の貼り合わせ面において酸化膜25が形成されていない領域に対応した位置に予め凹部31が形成される場合を説明したが、この第2の変形例では図10(a)に示すようにハンドルウエハ11の貼り合わせ面において酸化膜25が形成されている領域に対応した位置に予め凹部31が形成されている点が異なる。
【0058】
そしてハンドルウエハ11を酸化膜25の形成面に貼り合わせた後は、先の場合と同様に分離層22を破壊することでシードウエハ21を剥離して図10(b)に示すような構造を得る。
【0059】
この第2の変形例の方法は、薄膜半導体領域15の面積に比べて厚膜半導体領域16の面積が広いような場合に好適である。つまり、酸化膜25の面積に比べて半導体層14の露出面が広くなるので、広い面積を持つ半導体層14の露出面とハンドルウエハ11とを張り合わせることで強い接着強度を得ることができる。
【0060】
この第2の変形例では、薄膜半導体領域15の下部に空洞26が形成されるので、この薄膜半導体領域15に形成される素子の高周波ノイズの削減を効果的に行うことができる。
【0061】
また、この第2の変形例による方法は、半導体層14に形成される酸化膜25は、膜厚が互いに異なる複数の酸化膜を含んでいることも特徴の一部である。図10では膜厚が互いに異なる2種類の酸化膜25が形成される場合を示している。酸化膜25の膜厚が異なると、それぞれの膜厚の酸化膜25に対応した位置の薄膜半導体領域15の膜厚も互いに異なるようになる。
【0062】
つまり、この第2の変形例では膜厚の異なる薄膜半導体領域15を形成することができ、SOI領域膜厚の異なる素子を混載することができる。
【0063】
ところで、上記第2の実施の形態及びその第1の変形例のように、ハンドルウエハ11を酸化膜25に貼り合わせる場合に、貼り合わせ領域の最外周に空洞26が位置していると接着強度が著しく低下する。そのため、ハンドルウエハ11を酸化膜25に貼り合わせる場合には、図11に示すように貼り合わせ領域の最外周部に酸化膜25が位置するように貼り合わせを行うようにすればよい。そして貼り合わせ領域の最外周部では、酸化膜25が形成されている領域は最外周から例えば5mm程度確保されていればよい。
【0064】
上記とは反対に、第2の実施の形態の第2の変形例のように、ハンドルウエハ11を半導体層14の露出面に貼り合わせる場合に、貼り合わせ領域の最外周に酸化膜25が位置していると接着強度が著しく低下する。そのため、ハンドルウエハ11を半導体層14の露出面に貼り合わせる場合には、図12に示すように貼り合わせ領域の最外周部に半導体層14の露出面が位置するように貼り合わせを行うようにすればよい。そして貼り合わせ領域の最外周部では、半導体層14の露出面の領域は最外周から例えば5mm程度確保されていればよい。
【0065】
(第3の実施の形態)
次に、第3の実施の形態に係る半導体装置の製造方法を図13(a)ないし(d)を参照して説明する。
【0066】
まず、図13(a)に示すように、シリコン半導体基板からなるシードウエハ21上に分離層22及び一様の厚みを有する半導体層14が積層された構造を有するSOIウエハを用意する。このSOIウエハの作成方法については先に述べたので説明は省略する。次に、所定のパターンを有する酸化用のマスクを半導体層14上に形成した後、酸化雰囲気中で熱酸化を行って、半導体層14上に酸化膜25を形成する。
【0067】
次に、ウエットエッチング法により酸化膜25の上面を除去することで、図13(b)に示すように除去後の酸化膜25の上面が半導体層14の表面よりも低い位置となるようにする。
【0068】
この後は、図13(c)に示すように、酸化膜25の形成面にシリコン半導体基板からなるハンドルウエハ11を張り合わせる。
【0069】
その後、SOIウエハがELTRAN技術によって形成されている場合にはウォータージェット技術により、UNIBOND技術によって形成されている場合にはスマートカット(smart cut)法によりそれぞれ分離層22を破壊して、シードウエハ21を剥離することで図13(d)に示すような構造を得る。
【0070】
ここで、酸化膜25が形成された領域の半導体層14は、シリコンが酸化膜25中に取り込まれることで当初の膜厚よりも薄くなり、この領域における半導体層14は薄膜半導体領域15となる。さらに薄膜半導体領域15の下部には酸化膜25及び空洞26が形成されているので、この薄膜半導体領域15はSOI領域及びSON領域となり、薄膜MOSFETによるデジタル回路を形成することができる。
【0071】
他方、酸化膜25が形成されていない領域に位置している半導体層14は当初の膜厚を維持しており、この領域の半導体層14は厚膜半導体領域16となる。この厚膜半導体領域16には、基板電位を確実に与えたバルク構造のMOSFETによるアナログ回路を形成することができる。
【0072】
この実施の形態の方法においても、半導体層14に互いに膜厚が異なる薄膜半導体領域15と厚膜半導体領域16とを形成することができる。しかも半導体層14の上面は平坦面となるので、この後、薄膜半導体領域15と厚膜半導体領域16とにそれぞれ素子を形成する際に、基板表面に段差がないので、従来のような微細パターン形成の歩留まり低下を防止することができる。
【0073】
また、基板内部にBOX酸化膜を形成する必要がないので、薄膜半導体領域15と厚膜半導体領域16の境界部に結晶欠陥が発生することはない。
【0074】
(第4の実施の形態)
ところで、先に説明したように、SOIウエハ20上に形成された半導体層14の表面に凹凸をつけて薄膜半導体領域15と厚膜半導体領域16とを形成する場合、凹部に何の膜も形成されていないと、ハンドルウエハ11との張り合わせ面が凹凸状態となる。
【0075】
一般に、凹凸のあるパターンを有するウエハを別のウエハと張り合わせる際、凸部でのみ接着強度を保つ必要があり、凸部の面積の割合が小さなチップには不向きである。
【0076】
そこで、この第4の実施の形態の方法では、凹凸状態の半導体層14の表面を平坦化した後、ハンドルウエハ11と張り合わせを行うことで十分な接着強度が得られるようにしている。
【0077】
以下、図14(a)〜(d)を参照してその詳細を説明する。
【0078】
まず、図14(a)に示すように、シリコン半導体基板からなるシードウエハ21上に分離層22及び一様の厚みを有する半導体層14が積層された構造を有するSOIウエハ20を用意した後、半導体層14を加工して表面に凹凸をつける。半導体層14の加工方法としては、先に説明したように、半導体層14を一様の膜厚で形成した後に選択エッチングを行って部分的に凹部を形成する方法でもよく、あるいは半導体層14を一様の膜厚で形成した後に選択エピタキシャル成長を行って部分的に凸部を形成する方法でもよい。その後、表面を酸化して絶縁膜32を形成する。
【0079】
次に、図14(b)に示すように、全面に任意の膜、例えば多結晶シリコン、アモルファスSi、シリコン酸化膜(SiO2 )、シリコン窒化膜(SiN)などからなる堆積膜33を形成する。また、この堆積膜33の代わりに流動性膜を用いるようにしてもよい。この場合、堆積膜33としては、下地の絶縁膜32と性質が似ている材料からなる膜を用いることが好ましい。例えば絶縁膜32が熱酸化膜であれば、堆積膜33としてCVD酸化膜を用いる。
【0080】
その後、図14(c)に示すように、エッチング法やCMP法などによって堆積膜33の上面を除去して平坦化する。その際、半導体層14の凸部上の絶縁膜32表面が露出するまで堆積膜33を除去する。この後は、先に説明したように、ハンドルウエハと張り合わせを行い、分離層22を破壊することでシードウエハ21を剥離する。
【0081】
この実施の形態の方法では、図14(c)に示すように、半導体層14の上面が平坦化されているので、ハンドルウエハと貼り合わせを行う際に十分な接着強度が得られる。
【0082】
なお、この実施の形態において、堆積膜33の平坦化を行う際に、半導体層14の凸部上の絶縁膜32表面が露出するまで堆積膜33を除去する代わりに、図14(d)に示すように、半導体層14の凸部上にも堆積膜33が残るように堆積膜33を平坦化してもよい。
【0083】
さらに、図14(c)に示すように堆積膜33の平坦化を行った後に、図15に示すように、新たな堆積膜34を全面に堆積するようにしてもよい。この堆積膜34として、例えば多結晶シリコン、アモルファスSi、シリコン酸化膜(SiO2 )、シリコン窒化膜(SiN)などを用いることができる。
【0084】
(第5の実施の形態)
次に、第5の実施の形態の方法を図16を参照して説明する。
【0085】
先に説明した凹凸のある表面パターンを有するSOIウエハを別のウエハと張り合わせる際は、薄膜半導体領域の下部の絶縁膜として凹凸面に例えば100nm程度の厚い酸化膜を形成すると、下地半導体層に大きなストレスがかかり、転位発生の危険がある。従って、酸化膜の膜厚は10nm以下に抑えたい。
【0086】
そこで、この第5の実施の形態の方法では、凹凸状態の半導体層の表面を酸化して10nm以下の膜厚の酸化膜を形成した後、別の堆積膜を表面に形成することで十分な絶縁膜厚が得られるようにしている。
【0087】
すなわち、図16に示すように、シリコン半導体基板からなるシードウエハ21上に分離層22及び一様の厚みを有する半導体層14が積層された構造を有するSOIウエハ20を用意した後、半導体層14を加工して表面に凹凸をつける。半導体層14の加工方法としては、先に説明したように、半導体層14を一様の膜厚で形成した後に選択エッチングを行って部分的に凹部を形成する方法でもよく、あるいは半導体層14を一様の膜厚で形成した後に選択エピタキシャル成長を行って部分的に凸部を形成する方法でもよい。その後、熱酸化により10nm以下の膜厚の絶縁膜32を形成する。
【0088】
続いて、CVD法などにより、全面に任意の膜、例えば多結晶シリコン、アモルファスSi、シリコン酸化膜(SiO2 )、シリコン窒化膜(SiN)などからなる堆積膜33を形成する。この場合、堆積膜33としては、下地の絶縁膜32と性質が似ている材料からなる膜を用いることが好ましい。例えば絶縁膜32が熱酸化膜であれば、堆積膜33としてCVD酸化膜を用いる。
【0089】
その後、ハンドルウエハ11と貼り合わせを行う。以下の工程は先に説明した実施の形態と同じなのでその説明は省略する。
【0090】
この実施の形態の方法によれば、第2の実施の形態の方法の場合と同様の効果が得られる上に、半導体層14表面の凹部の面積を縮小することができるので、ハンドルウエハ11と貼り合わせる際に、十分な接着強度を得ることができる。
【0091】
なお、半導体層14表面に存在している凸部の面積が狭いような場合に、図17(a)に示すように、絶縁膜32上に堆積膜33を形成すると、半導体層14の凸部の上部における堆積膜33が突出してしまい、この場合にも十分な接着強度が得られなくなる。
【0092】
従って、このような場合には、図17(b)に示すように、堆積膜33の突出部分を除去した後、ハンドルウエハ11と貼り合わせるようにすれば、十分な接着強度を得ることができる。
【0093】
(第6の実施の形態)
次に、第6の実施の形態の方法を図18(a)〜(d)を参照して説明する。
【0094】
まず、図18(a)に示すように、シリコン半導体基板からなるシードウエハ21上に分離層22及び一様の厚みを有する半導体層14が積層された構造を有するSOIウエハ20を用意する。
【0095】
次に、図18(b)に示すように、半導体層14を選択的に除去して凹部及び凸部を形成する。半導体層14を選択的に除去する方法としては、半導体層14を選択的にLCOS酸化した後に剥離する方法や、選択陽極化成した後に選択エッチングによって掘り下げるなどの方法がある。
【0096】
これにより、半導体層14には薄膜半導体領域15と厚膜半導体領域16とが形成される。このとき、LCOS酸化または選択陽極化成の工程を何回かに分けて行うことにより、図示のように深さの異なる凹部を形成して、薄膜半導体領域15の膜厚を異ならせるようにしてもよい。その後、半導体層14の表面を熱酸化して10nm以下の膜厚の絶縁膜32を形成する。
【0097】
次に、図18(c)に示すように、半導体層14上にシリコン半導体基板からなるハンドルウエハ11を張り合わせる。
【0098】
その後、SOIウエハ20がELTRAN技術によって形成されている場合にはウォータージェット技術により、UNIBOND技術によって形成されている場合にはスマートカット(smart cut)法によりそれぞれ分離層22を破壊することで、シードウエハ21を剥離して図18(d)に示すような構造を得る。
【0099】
この実施の形態の方法においても、半導体層14に互いに膜厚が異なる薄膜半導体領域15と厚膜半導体領域16とを形成することができる。しかも半導体層14の上面は平坦面となるので、この後、薄膜半導体領域15と厚膜半導体領域16とにそれぞれ素子を形成する際に、基板表面に段差がないので、従来のような微細パターン形成の歩留まり低下を防止することができる。
【0100】
また、基板内部にBOX酸化膜を形成する必要がないので、薄膜半導体領域15と厚膜半導体領域16の境界部に結晶欠陥が発生することはない。
【0101】
なお、この実施の形態の方法では、薄膜半導体領域15下部の空洞26をそのまま残す場合を示しているが、先の第4の実施の形態の場合と同様に、図18(b)の工程の後で図18(c)の工程の前に、絶縁膜32上に絶縁膜、半導体膜、導体膜などからなる他の堆積膜を形成して表面を平坦化することにより、最終的に空洞26が残らない構造にしてもよい。
【0102】
(第7の実施の形態)
次に、第7の実施の形態の方法を図19(a)〜(c)を参照して説明する。
【0103】
先に説明した各実施の形態及び変形例の方法では、半導体層14に凹部を形成する場合に元の半導体層14の一部をそのまま残して凹部を形成するようにしていた。しかし、このような方法では、薄膜半導体領域として残す半導体層14の凹部の膜厚の制御性が問題となる場合がある。
【0104】
そこで、この実施の形態の方法では、半導体層14とは別の半導体層を用いて凹部、つまり薄膜半導体領域を形成することで、薄膜半導体領域の膜厚の制御性を向上させるようにしている。
【0105】
まず、図19(a)に示すように、シリコン半導体基板からなるシードウエハ21上に分離層22及び一様の厚みを有する半導体層14が積層された構造を有するSOIウエハ20を用意する。
【0106】
次に、図19(b)に示すように、半導体層14を選択的にエッチング除去して分離層22に達する開口部35を形成する。
【0107】
次に、水素アニールを行ってエッチング面の均一性を高めた後、図19(c)に示すように、エピタキシャル成長を行って全面に半導体シリコンからなる半導体層36を堆積する。これにより元の半導体層14と新たに堆積した半導体層36とによって厚膜半導体領域が形成され、開口部35内に堆積された半導体層36によって薄膜半導体領域が形成される。
【0108】
この後は、第4の実施の形態と同様に半導体層14表面の凹凸状態を平坦化するか、もしくはそのままの状態でハンドルウエハを張り合わせ、さらに分離層22を破壊してシードウエハ21を剥離する。
【0109】
この実施の形態の方法では、第2の実施の形態の方法と同様の効果が得られる上に、薄膜半導体領域の膜厚はエピタキシャル成長層によって決まるので、薄膜半導体領域の膜厚の制御性を向上させることができるという効果がさらに得られる。
【0110】
(第8の実施の形態)
次に、第8の実施の形態の方法を図20(a)〜(d)及び図21(a)、(b)を参照して説明する。
【0111】
まず、図20(a)に示すように、シリコン半導体基板からなるシードウエハ21上に分離層22及び一様の厚みを有する半導体層14が積層された構造を有するSOIウエハ20を用意する。
【0112】
次に、図20(b)に示すように、半導体層14を選択的に酸化して酸化膜37を形成する。
【0113】
次に、図20(c)に示すように、上記酸化膜37をエッチング用のマスクとして用いて、分離層22が露出するまで半導体層14を選択エッチングする。この後、水素アニールを行ってエッチング面の均一性を改善させるようにしてもよい。
【0114】
続いて、図20(d)に示すように、上記酸化膜37を残したままの状態で、半導体層14上にシリコン半導体基板からなるハンドルウエハ11を張り合わせる。
【0115】
その後、図21(a)に示すように、エピタキシャル成長技術により、ハンドルウエハ11と分離層22との間の空間を単結晶シリコンで埋めて半導体層38を形成する。
【0116】
この後、分離層22を破壊することでシードウエハ21を剥離して図21(b)に示すような構造を得る。
【0117】
ここで、酸化膜37上に残された半導体層14は薄膜半導体領域となる。この薄膜半導体領域の下部には酸化膜37が形成されているので、この薄膜半導体領域はSOI領域となり、薄膜半導体領域には薄膜SOI−MOSFETによるデジタル回路を形成することができる。
【0118】
他方、エピタキシャル成長によって形成された半導体層38は厚膜半導体領域となる。この厚膜半導体領域はハンドルウエハ11と電気的に接続されているので、厚膜半導体領域には基板電位を確実に与えたバルク構造のMOSFETによるアナログ回路を形成することができる。
【0119】
この実施の形態の方法においても、ハンドルウエハ11上に互いに膜厚が異なる薄膜半導体領域と厚膜半導体領域とを形成することができる。しかも薄膜半導体領域と厚膜半導体領域の上面は同一面となり、平坦面となるので、この後、薄膜半導体領域と厚膜半導体領域とにそれぞれ素子を形成する際に、基板表面に段差がないので、従来のような微細パターン形成の歩留まり低下を防止することができる。
【0120】
また、基板内部にBOX酸化膜を形成する必要がないので、薄膜半導体領域と厚膜半導体領域の境界部に結晶欠陥が発生することはない。
【0121】
次に、上記のようにしてハンドルウエハが張り合わされた張り合わせウエハを用いて素子を形成したこの発明の応用例について説明する。
【0122】
図22は、張り合わせウエハにDRAMメモリセルのMOSFET41とトレンチキャパシタ42とを形成した半導体装置を示している。この場合、絶縁膜32が形成されている貼り合わせ面が、トレンチキャパシタ42のプレート電極に相当する拡散層領域43に位置するように設定することで、張り合わせウエハに界面が存在していても、素子特性の劣化、この場合にはトレンチキャパシタ42のリーク特性劣化を防止することができる。
【0123】
図23は、図22の場合と同様に、張り合わせウエハにDRAMメモリセルのMOSFET41とトレンチキャパシタ42とを形成した半導体装置を示している。この場合、貼り合わせ面が互いにN−well領域44となりかつこのN−well領域44がトレンチキャパシタ42のプレート電極に相当する拡散層領域となるように形成することで、素子特性の劣化を防止することができる。
【0124】
図24は、張り合わせウエハにESD素子としてのMOSFETを形成した半導体装置を示している。ウエハ同士の貼り合わせ界面は、同一材料同士であっても、面方位の合わせずれが生じるため、アモルファス状態などが形成され、通常の単結晶基板状態に比べ、品質が低下した界面となる。この界面に空乏層がオーバーラップするような接合の場合、接合リーク電流の増加や接合耐圧の低下が起こる。
【0125】
図24の半導体装置は上記界面の特性を積極的に利用するようにしたものであり、ESD素子としてのMOSFET45のドレイン領域46、ソース領域47を半導体層14内に形成する際に、ドレイン領域46が貼り合わせ面の上部に位置するようにMOSFET45を形成している。このようにすることにより、ドレイン領域46にサージ電圧が印加された場合に、ドレイン領域から伸びる空乏層を貼り合わせ面とオーバーラップさせることで、サージ電荷の放電性が高められる。
【0126】
なお、半導体層14下部の酸化膜25の代わりに空洞を形成するようにしてもよい。
【0127】
この発明は上記した各実施の形態及び変形例に限定されるものではなく、さらなる種々の変形が可能であることはいうまでもない。例えば、ハンドルウエハ11、シードウエハ21及び半導体層14がそれぞれ半導体シリコン(Si)からなる場合について説明したが、これはSiの他にSiGe、GaAsなどの半導体材料を用いてもよい。
【0128】
【発明の効果】
以上説明したようにこの発明によれば、異なる膜厚の半導体領域を有し、素子形成面が平坦な半導体装置及びその製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の第1の実施の形態による半導体装置の断面図。
【図2】図1の半導体装置の製造方法の最初の工程を示す断面図。
【図3】図2に続く工程を示す断面図。
【図4】図3に続く工程を示す断面図。
【図5】図4に続く工程を示す断面図。
【図6】図5に続く工程を示す断面図。
【図7】この発明の第2の実施の形態に係る半導体装置の製造方法を工程順に示す断面図。
【図8】図7に続く工程を示す断面図。
【図9】第2の実施の形態の第1の変形例による半導体装置の製造方法の工程の一部を示す断面図。
【図10】第2の実施の形態の第2の変形例による半導体装置の製造方法の工程の一部を示す断面図。
【図11】第2の実施の形態による半導体装置の製造方法の工程の一部を示す断面図。
【図12】第2の実施の形態による半導体装置の製造方法の工程の一部を示す断面図。
【図13】この発明の第3の実施の形態に係る半導体装置の製造方法を工程順に示す断面図。
【図14】この発明の第4の実施の形態に係る半導体装置の製造方法を工程順に示す断面図。
【図15】第4の実施の形態による半導体装置の製造方法の工程の一部を示す断面図。
【図16】この発明の第5の実施の形態による半導体装置の製造方法の工程の一部を示す断面図。
【図17】第5の実施の形態による半導体装置の製造方法の工程の一部を示す断面図。
【図18】この発明の第6の実施の形態に係る半導体装置の製造方法を工程順に示す断面図。
【図19】この発明の第7の実施の形態に係る半導体装置の製造方法を工程順に示す断面図。
【図20】この発明の第8の実施の形態に係る半導体装置の製造方法を工程順に示す断面図。
【図21】図20に続く工程を示す断面図。
【図22】この発明の応用例の半導体装置の断面図。
【図23】図22とは異なるこの発明の応用例の半導体装置の断面図。
【図24】図22及び図23とは異なるこの発明の応用例の半導体装置の断面図。
【符号の説明】
11…ハンドルウエハ、
12…多結晶シリコン層、
13…絶縁膜、
14…半導体層、
15…薄膜半導体領域、
16…厚膜半導体領域、
17…開口部、
20…SOIウエハ20、
21…シードウエハ、
22…分離層、
23…半導体層の凹部、
24…半導体層の凸部、
25…酸化膜、
26…空洞、
31…ハンドルウエハの凹部、
32…絶縁膜、
33、34…堆積膜、
35…開口部、
36…半導体層、
37…酸化膜、
38…半導体層。
【発明の属する技術分野】
この発明は、薄膜半導体領域と厚膜半導体領域とが混在した半導体装置及びその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、MPU(Micro Processor Unit)などの高性能デジタル回路や、DRAMなどのメモリ及びアナログ回路などの複数の機能ブロックを同一半導体チップ上に集積し、より安価で高性能なシステムを実現するSoC(System on Chip)への要求が高まっている。より高性能なSoCの開発のためには、それぞれの機能ブロックに用いられる素子構造の違いや、素子に要求される特性の違いをいかにして同時に満たすかが鍵となる。
【0003】
最近の技術動向として、主にデジタル回路では、SOI(Silicon On Insulator)構造を利用することで素子の微細化や寄生容量の低減化が図られたMOSFETを使用することが主流になりつつある。従って、SOI基板を用いたDRAMやアナログ回路の混載技術が必要になる。
【0004】
しかしながら、DRAMなどのメモリやアナログ回路などでは、SOI構造に特有の基板浮遊効果により、回路動作の不具合、例えば誤動作やノイズ特性劣化が生じる場合があることから、SOI構造をそのまま導入することは困難である。
【0005】
このため、SOI基板領域とバルク基板領域とを併せ持つ基板を用いて、それぞれの領域に適した機能回路の素子を形成する手法が開発されている(例えば、非特許文献1参照)。
【0006】
【非特許文献1】
IBM H.L.Ho et. al 著「IEDM Technical Digest pp.503−506,2001」
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
上記従来の手法は、バルク基板にSIMOX(Separation by Implanted Oxygen)法(R)により選択的に埋め込み酸化膜(BOX酸化膜)を形成してSOI領域を形成するものである。
【0008】
しかし、この手法では、基板内部にBOX酸化膜を形成するために、SIMOX部と非SIMOX部の境界部に結晶欠陥が発生する、基板表面の高さが両領域相互間で異なるために段差が生じて微細パターン形成の歩留まりが低下する、さらにSIMOX部の膜構成、つまりSOI膜とBOX酸化膜としても結晶欠陥とピンホールの発生を抑制するためのプロセスウィンドウが狭く、特に異なるSOI膜厚とBOX酸化膜厚の領域を同一基板上に形成することが困難などの問題がある。
【0009】
この発明は上記のような事情を考慮してなされたものであり、その目的は、異なる膜厚の半導体領域を有し、素子形成面が平坦な半導体装置及びその製造方法を提供することである。
【0010】
【課題を解決するための手段】
この発明の半導体装置の製造方法は、一主面に分離層が形成された第1の半導体基板を用意し、前記分離層上に凹部及び凸部を有する半導体層を形成し、前記半導体層上に堆積膜を形成した後、この堆積膜を平坦化し、前記堆積膜の形成面に第2の半導体基板を接着し、前記分離層と共に前記第1の半導体基板を剥離することを特徴とする。
【0011】
この発明の半導体装置は、半導体基板と、前記基板上に選択的に設けられた凸状の膜と、前記凸状の膜上及び前記基板表面上に渡って連続的に設けられた絶縁膜と、前記絶縁膜上に設けられ、前記凸状の膜の上部に位置する薄膜半導体領域及びそれ以外の部分に位置して前記薄膜半導体領域よりも厚い膜厚を有する厚膜半導体領域からなり、上面に平坦面を有する半導体層と、前記半導体層の前記厚膜半導体領域に対応した位置の前記絶縁膜中に設けられ、前記半導体層と基板とを電気的に接続する導電体層とを具備したことを特徴とする。
【0012】
この発明の半導体装置の製造方法は、一主面に分離層及び半導体層が積層された第1の半導体基板を用意し、前記半導体層を選択的に酸化して酸化膜を形成し、前記酸化膜の形成面に第2の半導体基板を接着し、前記分離層と共に前記第1の半導体基板を剥離することを特徴とする。
【0013】
この発明の半導体装置は、半導体基板と、前記基板上に選択的に設けられた酸化膜と、前記酸化膜上及び前記酸化膜が形成されていない領域では前記基板との間に空洞が生じるように設けられ、前記酸化膜の上部に位置する薄膜半導体領域及びそれ以外の領域に位置して前記薄膜半導体領域よりも厚い膜厚を有する厚膜半導体領域からなり、上面に平坦面を有する半導体層とを具備したことを特徴とする。
【0014】
この発明の半導体装置は、半導体基板と、前記基板上に選択的に設けられた互いに膜厚が異なる複数の酸化膜と、前記複数の酸化膜上及び前記基板上に渡って連続的に設けられ、前記複数の各酸化膜の上部に位置するそれぞれ膜厚が異なる複数の薄膜半導体領域及び前記基板の上部に位置して前記複数の各薄膜半導体領域よりも厚い膜厚を有する厚膜半導体領域からなり、上面に平坦面を有する半導体層とを具備したことを特徴とする。
【0015】
この発明の半導体装置は、半導体基板と、前記基板との間に空洞が生じるように前記基板上に設けられた酸化膜と、前記酸化膜上及び前記基板上に渡って連続的に設けられ、前記酸化膜の上部に位置する薄膜半導体領域及び前記基板の上部に位置して前記薄膜半導体領域よりも厚い膜厚を有する厚膜半導体領域からなり、上面に平坦面を有する半導体層とを具備したことを特徴とする。
【0016】
この発明の半導体装置の製造方法は、一主面に分離層及び第1の半導体層が積層された第1の半導体基板を用意し、前記第1の半導体層を選択的に除去して前記半導体層に凹部及び凸部を形成し、前記第1の半導体層の形成面に第2の半導体基板を接着し、前記分離層と共に前記第1の半導体基板を剥離することを特徴とする。
【0017】
この発明の半導体装置の製造方法は、一主面に分離層及び第1の半導体層が積層された第1の半導体基板を用意し、前記第1の半導体層の上面を選択的に酸化して酸化膜を形成し、前記酸化膜をエッチング用のマスクとして用いてエッチングを行って前記第1の半導体層を選択に除去し、前記酸化膜を残した状態で前記第1の半導体層の形成面に第2の半導体基板を接着し、前記分離層と前記第2の半導体基板との間の空洞を第2の半導体層で満たし、前記分離層と共に前記第1の半導体基板を剥離することを特徴とする。
【0018】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照してこの発明の実施の形態を詳細に説明する。
【0019】
(第1の実施の形態)
図1はこの発明の第1の実施の形態による半導体装置の断面図である。
【0020】
シリコン半導体基板からなるハンドルウエハ11上には凸状の多結晶シリコン層12が選択的に形成されている。上記多結晶シリコン層12上及び多結晶シリコン層12が形成されていないハンドルウエハ11の表面上に渡って、絶縁膜13が形成されている。この絶縁膜13は、例えば、酸化雰囲気中で全面を酸化することにより得られるBOX酸化膜により構成されている。上記絶縁膜13上には半導体シリコンからなる半導体層14が形成されている。この半導体層14は、例えばエピタキシャル成長法により形成され、上面は平坦面とされている。
【0021】
ここで、凸状の多結晶シリコン層12が形成されている領域の上部における半導体層14の膜厚は例えば50nm程度と薄くされ、この領域の半導体層14は薄膜半導体領域15となり、SOI領域として使用される。他方、多結晶シリコン層12が形成されていない領域に位置している半導体層14の膜厚は例えば10μm程度と厚くされ、この領域の半導体層14は厚膜半導体領域16となり、トレンチキャパシタを有するDRAMメモリセルを形成するためのDRAM領域として使用される。
【0022】
また、半導体層14の厚膜半導体領域16の下部に位置する絶縁膜13の一部には開口部17が形成されている。この開口17内には上記多結晶シリコン層12が形成され、開口17内部の多結晶シリコン層12を介して、厚膜半導体領域16とハンドルウエハ11とが電気的に接続されている。
【0023】
次に、図1に示すような構成の半導体装置の製造方法を説明する。
【0024】
まず、図2に示すような構成のSOIウエハ20を用意する。このSOIウエハ20は、シリコン半導体基板からなるシードウエハ21上に分離層22及び一様の厚みを有する半導体層14が積層された構造を有する。
【0025】
このSOIウエハ20は、一般に良く知られているELTRAN(Epitaxial Layer Transfer)(R)技術やUNIBOND(R)技術を用いて形成することができる。例えばELTRAN技術を用いる場合、陽極化成によりシードウエハ21の表面に多孔質の分離層22を形成した後、エピタキシャル成長法により半導体層14を形成することで得られる。
【0026】
一方、UNIBOND技術を用いる場合には、シードウエハ21の表面に水素イオンを注入することで分離層22を形成した後、エピタキシャル成長法により半導体層14を形成することで得られる。
【0027】
次に、図3に示すように、半導体層14の表面に所定のパターンを有する耐エッチング用のマスク材を形成した後、半導体層14を選択エッチングして半導体層14に凹部23及び凸部24を形成する。
【0028】
次に、図4に示すように、酸化雰囲気中で酸化を行って半導体層14の表面に絶縁膜13を形成した後、半導体層14の凸部24に対応した位置の絶縁膜13に開口部17を形成する。
【0029】
続いて、全面に多結晶シリコン層12を堆積した後、CMP(Chemical Mechanical Polishing)技術により平坦化して、図5に示すように多結晶シリコン層12を半導体層14の凹部23内及び絶縁膜13の開口部17内に残す。上記多結晶シリコン層12には予め不純物が導入されていて低抵抗化されているものを使用してもよく、あるいは不純物が導入されていない状態で堆積した後に不純物を導入して低抵抗化するようにしてもよい。
【0030】
次に、図6に示すように、多結晶シリコン層12の形成面にシリコン半導体基板からなるハンドルウエハ11を張り合わせる。その後、SOIウエハ20がELTRAN技術によって形成されている場合にはウォータージェット技術により、UNIBOND技術によって形成されている場合にはスマートカット(smart cut)法(R)によりそれぞれ分離層22を破壊することで、シードウエハ21を剥離し、剥離表面の処理を行って図1のような構造を得る。
【0031】
この実施の形態によれば、半導体層14に互いに膜厚が異なる薄膜半導体領域15と厚膜半導体領域16とを形成することができる。しかも半導体層14の上面は平坦面となるので、この後、薄膜半導体領域15と厚膜半導体領域16とにそれぞれ素子を形成する際に、基板表面に段差がないので、従来のような微細パターン形成の歩留まり低下を防止することができる。
【0032】
また、基板内部にBOX酸化膜を形成する必要がないので、薄膜半導体領域15と厚膜半導体領域16の境界部に結晶欠陥が発生することはない。
【0033】
さらに厚膜半導体領域16は、開口部17内に設けられた多結晶シリコン層12を介してハンドルウエハ11と電気的に接続されているので、DRAMメモリセルが形成される厚膜半導体領域16の電位はハンドルウエハ11の電位によって固定され、回路動作の不具合、例えば誤動作やノイズ特性劣化が生じる恐れがなくなる。
【0034】
なお、上記実施の形態では、半導体層14に凹部23及び凸部24を形成するために、半導体層14を選択エッチングする場合を説明したが、これは分離層22上に薄膜半導体領域15に対応した厚みを有する半導体層14を予め形成しておき、次にシリコン酸化膜などのマスクパターンを形成して選択エピタキシャル成長法により半導体層14を選択的に成長させることで厚膜半導体領域16を形成するようにしてもよい。このとき、エピタキシャル成長の条件により、選択成長した半導体層14が、マスクパターン上に一部乗り上げるように成長する。また、マスクパターンを残す場合は、このマスクパターンがSOI領域における絶縁膜13を構成することになる。
【0035】
(第2の実施の形態)
次に、第2の実施の形態に係る半導体装置の製造方法を図7(a)ないし(d)及び図8を参照して説明する。
【0036】
まず、図7(a)に示すように、シリコン半導体基板からなるシードウエハ21上に分離層22及び一様の厚みを有する半導体層14が積層された構造を有するSOIウエハ20を用意する。このSOIウエハ20の作成方法については先に述べたので説明は省略する。
【0037】
次に、図7(b)に示すように、所定のパターンを有する酸化用のマスクを半導体層14上に形成した後、酸化雰囲気中で熱酸化を行って、半導体層14上に酸化膜25を形成する。
【0038】
次に、図7(c)に示すように、酸化膜25の形成面にシリコン半導体基板からなるハンドルウエハ11を張り合わせる。ハンドルウエハ11の接着後、酸化膜25が形成されていない領域には、半導体層14とハンドルウエハ11との間に空洞26が生じる。
【0039】
その後、SOIウエハ20がELTRAN技術によって形成されている場合にはウォータージェット技術により、UNIBOND技術によって形成されている場合にはスマートカット(smart cut)法によりそれぞれ分離層22を破壊することで、シードウエハ21を剥離して図7(d)に示すような構造を得る。
【0040】
ここで、酸化膜25が形成された領域の半導体層14は、シリコンが酸化膜25中に取り込まれることで当初の膜厚よりも薄くなり、この領域の半導体層14は薄膜半導体領域15となる。薄膜半導体領域15の下部には酸化膜25が形成されているので、この薄膜半導体領域15はSOI領域となり、薄膜SOI−MOSFETによるデジタル回路を形成することができる。
【0041】
他方、酸化膜25が形成されていない領域に位置している半導体層14は当初の膜厚を維持しており、この領域の半導体層14は厚膜半導体領域16となる。この厚膜半導体領域16の下部には空洞26が存在しているので、この厚膜半導体領域16はSON(silicon on nothing)領域となり、基板電位を確実に与えたバルク構造のMOSFETによるアナログ回路を形成することができる。
【0042】
この実施の形態による方法は、厚膜半導体領域16の面積に比べて薄膜半導体領域15の面積が広いような場合に好適である。つまり、半導体層14の露出面に比べて酸化膜25の面積が広くなるので、広い面積を持つ酸化膜25とハンドルウエハ11とを張り合わせることで強い接着強度を得ることができる。
【0043】
この実施の形態によれば、半導体層14に互いに膜厚が異なる薄膜半導体領域15と厚膜半導体領域16とを形成することができる。しかも半導体層14の上面は平坦面となるので、この後、薄膜半導体領域15と厚膜半導体領域16とにそれぞれ素子を形成する際に、基板表面に段差がないので、従来のような微細パターン形成の歩留まり低下を防止することができる。
【0044】
また、基板内部にBOX酸化膜を形成する必要がないので、薄膜半導体領域15と厚膜半導体領域16の境界部に結晶欠陥が発生することはない。
【0045】
図8は、図7(d)に示す半導体領域14の薄膜半導体領域15及び厚膜半導体領域16にそれぞれMOSFETを形成した状態を示している。
【0046】
薄膜半導体領域15は、絶縁膜などからなり底部が酸化膜25に達するように形成された素子分離領域27によって個々の素子毎に素子分離される。各素子領域にはMOSFETのソース/ドレイン領域28、チャネル領域29が形成され、チャネル領域29上にはMOSFETのゲート電極30が形成される。
【0047】
厚膜半導体領域16も絶縁膜などからなる素子分離領域27によって個々の素子毎に素子分離され、各素子領域にはMOSFETのソース/ドレイン領域28、チャネル領域29が形成され、チャネル領域29上にはMOSFETのゲート電極30が形成される。また、厚膜半導体領域16に形成されたMOSFETの周囲にはガードリングGRが形成される。このガードリングGRには所定の電位が印加される。通常、ガードリングGRには、厚膜半導体領域16に導入される不純物と同一導電型の不純物が導入される。
【0048】
この実施の形態によれば、第1の実施の形態と同様の効果を得ることができると共に、厚膜半導体領域16の下部には空洞26が存在しているので、この厚膜半導体領域16に形成されるMOSFETと他の領域に形成されるMOSFETとの間で伝播される高周波ノイズを削減できるという効果がさらに得られる。
【0049】
なお、この実施の形態において、ハンドルウエハ11の張り合わせ面には予め酸化膜などを形成しておいてもよく、あるいは何の表面膜も形成しておかなくてもよい。
【0050】
次に、上記第2の実施の形態の種々の変形例について説明する。
【0051】
まず、第1の変形例による半導体装置の製造方法を図9を参照して説明する。先の図7(c)では、酸化膜25の形成面に張り合わせるハンドルウエハ11の貼り合わせ面が平坦であった。
【0052】
これに対し、この変形例では、図9(a)に示すようにハンドルウエハ11の貼り合わせ面において、酸化膜25が形成されていない領域に対応した位置に予め凹部31が形成されている点が異なる。
【0053】
このようなハンドルウエハ11を酸化膜25の形成面に貼り合わせた後は、先の場合と同様に分離層22を破壊することでシードウエハ21を剥離して図9(b)に示すような構造を得る。
【0054】
この第1の変形例によれば、ハンドルウエハ11の貼り合わせ面に形成される凹部31の深さを調整することで、貼り合わせ後に厚膜半導体領域16との間で形成される空洞26の厚さを安定に制御することができる。これにより高周波ノイズの削減を効果的に行うことができる。
【0055】
さらに、厚膜半導体領域16上にインダクタ素子を形成するような場合に、このインダクタ素子のQ値の向上を図ることができる。
【0056】
また、ハンドルウエハ11に凹部31を形成したことにより、貼り合わせ時や素子形成プロセス中に生じる多少のゆがみによる部分的な空洞の欠落を抑制することが可能となる。
【0057】
次に、第2の変形例による半導体装置の製造方法を図10を参照して説明する。上記第1の変形例では、ハンドルウエハ11の貼り合わせ面において酸化膜25が形成されていない領域に対応した位置に予め凹部31が形成される場合を説明したが、この第2の変形例では図10(a)に示すようにハンドルウエハ11の貼り合わせ面において酸化膜25が形成されている領域に対応した位置に予め凹部31が形成されている点が異なる。
【0058】
そしてハンドルウエハ11を酸化膜25の形成面に貼り合わせた後は、先の場合と同様に分離層22を破壊することでシードウエハ21を剥離して図10(b)に示すような構造を得る。
【0059】
この第2の変形例の方法は、薄膜半導体領域15の面積に比べて厚膜半導体領域16の面積が広いような場合に好適である。つまり、酸化膜25の面積に比べて半導体層14の露出面が広くなるので、広い面積を持つ半導体層14の露出面とハンドルウエハ11とを張り合わせることで強い接着強度を得ることができる。
【0060】
この第2の変形例では、薄膜半導体領域15の下部に空洞26が形成されるので、この薄膜半導体領域15に形成される素子の高周波ノイズの削減を効果的に行うことができる。
【0061】
また、この第2の変形例による方法は、半導体層14に形成される酸化膜25は、膜厚が互いに異なる複数の酸化膜を含んでいることも特徴の一部である。図10では膜厚が互いに異なる2種類の酸化膜25が形成される場合を示している。酸化膜25の膜厚が異なると、それぞれの膜厚の酸化膜25に対応した位置の薄膜半導体領域15の膜厚も互いに異なるようになる。
【0062】
つまり、この第2の変形例では膜厚の異なる薄膜半導体領域15を形成することができ、SOI領域膜厚の異なる素子を混載することができる。
【0063】
ところで、上記第2の実施の形態及びその第1の変形例のように、ハンドルウエハ11を酸化膜25に貼り合わせる場合に、貼り合わせ領域の最外周に空洞26が位置していると接着強度が著しく低下する。そのため、ハンドルウエハ11を酸化膜25に貼り合わせる場合には、図11に示すように貼り合わせ領域の最外周部に酸化膜25が位置するように貼り合わせを行うようにすればよい。そして貼り合わせ領域の最外周部では、酸化膜25が形成されている領域は最外周から例えば5mm程度確保されていればよい。
【0064】
上記とは反対に、第2の実施の形態の第2の変形例のように、ハンドルウエハ11を半導体層14の露出面に貼り合わせる場合に、貼り合わせ領域の最外周に酸化膜25が位置していると接着強度が著しく低下する。そのため、ハンドルウエハ11を半導体層14の露出面に貼り合わせる場合には、図12に示すように貼り合わせ領域の最外周部に半導体層14の露出面が位置するように貼り合わせを行うようにすればよい。そして貼り合わせ領域の最外周部では、半導体層14の露出面の領域は最外周から例えば5mm程度確保されていればよい。
【0065】
(第3の実施の形態)
次に、第3の実施の形態に係る半導体装置の製造方法を図13(a)ないし(d)を参照して説明する。
【0066】
まず、図13(a)に示すように、シリコン半導体基板からなるシードウエハ21上に分離層22及び一様の厚みを有する半導体層14が積層された構造を有するSOIウエハを用意する。このSOIウエハの作成方法については先に述べたので説明は省略する。次に、所定のパターンを有する酸化用のマスクを半導体層14上に形成した後、酸化雰囲気中で熱酸化を行って、半導体層14上に酸化膜25を形成する。
【0067】
次に、ウエットエッチング法により酸化膜25の上面を除去することで、図13(b)に示すように除去後の酸化膜25の上面が半導体層14の表面よりも低い位置となるようにする。
【0068】
この後は、図13(c)に示すように、酸化膜25の形成面にシリコン半導体基板からなるハンドルウエハ11を張り合わせる。
【0069】
その後、SOIウエハがELTRAN技術によって形成されている場合にはウォータージェット技術により、UNIBOND技術によって形成されている場合にはスマートカット(smart cut)法によりそれぞれ分離層22を破壊して、シードウエハ21を剥離することで図13(d)に示すような構造を得る。
【0070】
ここで、酸化膜25が形成された領域の半導体層14は、シリコンが酸化膜25中に取り込まれることで当初の膜厚よりも薄くなり、この領域における半導体層14は薄膜半導体領域15となる。さらに薄膜半導体領域15の下部には酸化膜25及び空洞26が形成されているので、この薄膜半導体領域15はSOI領域及びSON領域となり、薄膜MOSFETによるデジタル回路を形成することができる。
【0071】
他方、酸化膜25が形成されていない領域に位置している半導体層14は当初の膜厚を維持しており、この領域の半導体層14は厚膜半導体領域16となる。この厚膜半導体領域16には、基板電位を確実に与えたバルク構造のMOSFETによるアナログ回路を形成することができる。
【0072】
この実施の形態の方法においても、半導体層14に互いに膜厚が異なる薄膜半導体領域15と厚膜半導体領域16とを形成することができる。しかも半導体層14の上面は平坦面となるので、この後、薄膜半導体領域15と厚膜半導体領域16とにそれぞれ素子を形成する際に、基板表面に段差がないので、従来のような微細パターン形成の歩留まり低下を防止することができる。
【0073】
また、基板内部にBOX酸化膜を形成する必要がないので、薄膜半導体領域15と厚膜半導体領域16の境界部に結晶欠陥が発生することはない。
【0074】
(第4の実施の形態)
ところで、先に説明したように、SOIウエハ20上に形成された半導体層14の表面に凹凸をつけて薄膜半導体領域15と厚膜半導体領域16とを形成する場合、凹部に何の膜も形成されていないと、ハンドルウエハ11との張り合わせ面が凹凸状態となる。
【0075】
一般に、凹凸のあるパターンを有するウエハを別のウエハと張り合わせる際、凸部でのみ接着強度を保つ必要があり、凸部の面積の割合が小さなチップには不向きである。
【0076】
そこで、この第4の実施の形態の方法では、凹凸状態の半導体層14の表面を平坦化した後、ハンドルウエハ11と張り合わせを行うことで十分な接着強度が得られるようにしている。
【0077】
以下、図14(a)〜(d)を参照してその詳細を説明する。
【0078】
まず、図14(a)に示すように、シリコン半導体基板からなるシードウエハ21上に分離層22及び一様の厚みを有する半導体層14が積層された構造を有するSOIウエハ20を用意した後、半導体層14を加工して表面に凹凸をつける。半導体層14の加工方法としては、先に説明したように、半導体層14を一様の膜厚で形成した後に選択エッチングを行って部分的に凹部を形成する方法でもよく、あるいは半導体層14を一様の膜厚で形成した後に選択エピタキシャル成長を行って部分的に凸部を形成する方法でもよい。その後、表面を酸化して絶縁膜32を形成する。
【0079】
次に、図14(b)に示すように、全面に任意の膜、例えば多結晶シリコン、アモルファスSi、シリコン酸化膜(SiO2 )、シリコン窒化膜(SiN)などからなる堆積膜33を形成する。また、この堆積膜33の代わりに流動性膜を用いるようにしてもよい。この場合、堆積膜33としては、下地の絶縁膜32と性質が似ている材料からなる膜を用いることが好ましい。例えば絶縁膜32が熱酸化膜であれば、堆積膜33としてCVD酸化膜を用いる。
【0080】
その後、図14(c)に示すように、エッチング法やCMP法などによって堆積膜33の上面を除去して平坦化する。その際、半導体層14の凸部上の絶縁膜32表面が露出するまで堆積膜33を除去する。この後は、先に説明したように、ハンドルウエハと張り合わせを行い、分離層22を破壊することでシードウエハ21を剥離する。
【0081】
この実施の形態の方法では、図14(c)に示すように、半導体層14の上面が平坦化されているので、ハンドルウエハと貼り合わせを行う際に十分な接着強度が得られる。
【0082】
なお、この実施の形態において、堆積膜33の平坦化を行う際に、半導体層14の凸部上の絶縁膜32表面が露出するまで堆積膜33を除去する代わりに、図14(d)に示すように、半導体層14の凸部上にも堆積膜33が残るように堆積膜33を平坦化してもよい。
【0083】
さらに、図14(c)に示すように堆積膜33の平坦化を行った後に、図15に示すように、新たな堆積膜34を全面に堆積するようにしてもよい。この堆積膜34として、例えば多結晶シリコン、アモルファスSi、シリコン酸化膜(SiO2 )、シリコン窒化膜(SiN)などを用いることができる。
【0084】
(第5の実施の形態)
次に、第5の実施の形態の方法を図16を参照して説明する。
【0085】
先に説明した凹凸のある表面パターンを有するSOIウエハを別のウエハと張り合わせる際は、薄膜半導体領域の下部の絶縁膜として凹凸面に例えば100nm程度の厚い酸化膜を形成すると、下地半導体層に大きなストレスがかかり、転位発生の危険がある。従って、酸化膜の膜厚は10nm以下に抑えたい。
【0086】
そこで、この第5の実施の形態の方法では、凹凸状態の半導体層の表面を酸化して10nm以下の膜厚の酸化膜を形成した後、別の堆積膜を表面に形成することで十分な絶縁膜厚が得られるようにしている。
【0087】
すなわち、図16に示すように、シリコン半導体基板からなるシードウエハ21上に分離層22及び一様の厚みを有する半導体層14が積層された構造を有するSOIウエハ20を用意した後、半導体層14を加工して表面に凹凸をつける。半導体層14の加工方法としては、先に説明したように、半導体層14を一様の膜厚で形成した後に選択エッチングを行って部分的に凹部を形成する方法でもよく、あるいは半導体層14を一様の膜厚で形成した後に選択エピタキシャル成長を行って部分的に凸部を形成する方法でもよい。その後、熱酸化により10nm以下の膜厚の絶縁膜32を形成する。
【0088】
続いて、CVD法などにより、全面に任意の膜、例えば多結晶シリコン、アモルファスSi、シリコン酸化膜(SiO2 )、シリコン窒化膜(SiN)などからなる堆積膜33を形成する。この場合、堆積膜33としては、下地の絶縁膜32と性質が似ている材料からなる膜を用いることが好ましい。例えば絶縁膜32が熱酸化膜であれば、堆積膜33としてCVD酸化膜を用いる。
【0089】
その後、ハンドルウエハ11と貼り合わせを行う。以下の工程は先に説明した実施の形態と同じなのでその説明は省略する。
【0090】
この実施の形態の方法によれば、第2の実施の形態の方法の場合と同様の効果が得られる上に、半導体層14表面の凹部の面積を縮小することができるので、ハンドルウエハ11と貼り合わせる際に、十分な接着強度を得ることができる。
【0091】
なお、半導体層14表面に存在している凸部の面積が狭いような場合に、図17(a)に示すように、絶縁膜32上に堆積膜33を形成すると、半導体層14の凸部の上部における堆積膜33が突出してしまい、この場合にも十分な接着強度が得られなくなる。
【0092】
従って、このような場合には、図17(b)に示すように、堆積膜33の突出部分を除去した後、ハンドルウエハ11と貼り合わせるようにすれば、十分な接着強度を得ることができる。
【0093】
(第6の実施の形態)
次に、第6の実施の形態の方法を図18(a)〜(d)を参照して説明する。
【0094】
まず、図18(a)に示すように、シリコン半導体基板からなるシードウエハ21上に分離層22及び一様の厚みを有する半導体層14が積層された構造を有するSOIウエハ20を用意する。
【0095】
次に、図18(b)に示すように、半導体層14を選択的に除去して凹部及び凸部を形成する。半導体層14を選択的に除去する方法としては、半導体層14を選択的にLCOS酸化した後に剥離する方法や、選択陽極化成した後に選択エッチングによって掘り下げるなどの方法がある。
【0096】
これにより、半導体層14には薄膜半導体領域15と厚膜半導体領域16とが形成される。このとき、LCOS酸化または選択陽極化成の工程を何回かに分けて行うことにより、図示のように深さの異なる凹部を形成して、薄膜半導体領域15の膜厚を異ならせるようにしてもよい。その後、半導体層14の表面を熱酸化して10nm以下の膜厚の絶縁膜32を形成する。
【0097】
次に、図18(c)に示すように、半導体層14上にシリコン半導体基板からなるハンドルウエハ11を張り合わせる。
【0098】
その後、SOIウエハ20がELTRAN技術によって形成されている場合にはウォータージェット技術により、UNIBOND技術によって形成されている場合にはスマートカット(smart cut)法によりそれぞれ分離層22を破壊することで、シードウエハ21を剥離して図18(d)に示すような構造を得る。
【0099】
この実施の形態の方法においても、半導体層14に互いに膜厚が異なる薄膜半導体領域15と厚膜半導体領域16とを形成することができる。しかも半導体層14の上面は平坦面となるので、この後、薄膜半導体領域15と厚膜半導体領域16とにそれぞれ素子を形成する際に、基板表面に段差がないので、従来のような微細パターン形成の歩留まり低下を防止することができる。
【0100】
また、基板内部にBOX酸化膜を形成する必要がないので、薄膜半導体領域15と厚膜半導体領域16の境界部に結晶欠陥が発生することはない。
【0101】
なお、この実施の形態の方法では、薄膜半導体領域15下部の空洞26をそのまま残す場合を示しているが、先の第4の実施の形態の場合と同様に、図18(b)の工程の後で図18(c)の工程の前に、絶縁膜32上に絶縁膜、半導体膜、導体膜などからなる他の堆積膜を形成して表面を平坦化することにより、最終的に空洞26が残らない構造にしてもよい。
【0102】
(第7の実施の形態)
次に、第7の実施の形態の方法を図19(a)〜(c)を参照して説明する。
【0103】
先に説明した各実施の形態及び変形例の方法では、半導体層14に凹部を形成する場合に元の半導体層14の一部をそのまま残して凹部を形成するようにしていた。しかし、このような方法では、薄膜半導体領域として残す半導体層14の凹部の膜厚の制御性が問題となる場合がある。
【0104】
そこで、この実施の形態の方法では、半導体層14とは別の半導体層を用いて凹部、つまり薄膜半導体領域を形成することで、薄膜半導体領域の膜厚の制御性を向上させるようにしている。
【0105】
まず、図19(a)に示すように、シリコン半導体基板からなるシードウエハ21上に分離層22及び一様の厚みを有する半導体層14が積層された構造を有するSOIウエハ20を用意する。
【0106】
次に、図19(b)に示すように、半導体層14を選択的にエッチング除去して分離層22に達する開口部35を形成する。
【0107】
次に、水素アニールを行ってエッチング面の均一性を高めた後、図19(c)に示すように、エピタキシャル成長を行って全面に半導体シリコンからなる半導体層36を堆積する。これにより元の半導体層14と新たに堆積した半導体層36とによって厚膜半導体領域が形成され、開口部35内に堆積された半導体層36によって薄膜半導体領域が形成される。
【0108】
この後は、第4の実施の形態と同様に半導体層14表面の凹凸状態を平坦化するか、もしくはそのままの状態でハンドルウエハを張り合わせ、さらに分離層22を破壊してシードウエハ21を剥離する。
【0109】
この実施の形態の方法では、第2の実施の形態の方法と同様の効果が得られる上に、薄膜半導体領域の膜厚はエピタキシャル成長層によって決まるので、薄膜半導体領域の膜厚の制御性を向上させることができるという効果がさらに得られる。
【0110】
(第8の実施の形態)
次に、第8の実施の形態の方法を図20(a)〜(d)及び図21(a)、(b)を参照して説明する。
【0111】
まず、図20(a)に示すように、シリコン半導体基板からなるシードウエハ21上に分離層22及び一様の厚みを有する半導体層14が積層された構造を有するSOIウエハ20を用意する。
【0112】
次に、図20(b)に示すように、半導体層14を選択的に酸化して酸化膜37を形成する。
【0113】
次に、図20(c)に示すように、上記酸化膜37をエッチング用のマスクとして用いて、分離層22が露出するまで半導体層14を選択エッチングする。この後、水素アニールを行ってエッチング面の均一性を改善させるようにしてもよい。
【0114】
続いて、図20(d)に示すように、上記酸化膜37を残したままの状態で、半導体層14上にシリコン半導体基板からなるハンドルウエハ11を張り合わせる。
【0115】
その後、図21(a)に示すように、エピタキシャル成長技術により、ハンドルウエハ11と分離層22との間の空間を単結晶シリコンで埋めて半導体層38を形成する。
【0116】
この後、分離層22を破壊することでシードウエハ21を剥離して図21(b)に示すような構造を得る。
【0117】
ここで、酸化膜37上に残された半導体層14は薄膜半導体領域となる。この薄膜半導体領域の下部には酸化膜37が形成されているので、この薄膜半導体領域はSOI領域となり、薄膜半導体領域には薄膜SOI−MOSFETによるデジタル回路を形成することができる。
【0118】
他方、エピタキシャル成長によって形成された半導体層38は厚膜半導体領域となる。この厚膜半導体領域はハンドルウエハ11と電気的に接続されているので、厚膜半導体領域には基板電位を確実に与えたバルク構造のMOSFETによるアナログ回路を形成することができる。
【0119】
この実施の形態の方法においても、ハンドルウエハ11上に互いに膜厚が異なる薄膜半導体領域と厚膜半導体領域とを形成することができる。しかも薄膜半導体領域と厚膜半導体領域の上面は同一面となり、平坦面となるので、この後、薄膜半導体領域と厚膜半導体領域とにそれぞれ素子を形成する際に、基板表面に段差がないので、従来のような微細パターン形成の歩留まり低下を防止することができる。
【0120】
また、基板内部にBOX酸化膜を形成する必要がないので、薄膜半導体領域と厚膜半導体領域の境界部に結晶欠陥が発生することはない。
【0121】
次に、上記のようにしてハンドルウエハが張り合わされた張り合わせウエハを用いて素子を形成したこの発明の応用例について説明する。
【0122】
図22は、張り合わせウエハにDRAMメモリセルのMOSFET41とトレンチキャパシタ42とを形成した半導体装置を示している。この場合、絶縁膜32が形成されている貼り合わせ面が、トレンチキャパシタ42のプレート電極に相当する拡散層領域43に位置するように設定することで、張り合わせウエハに界面が存在していても、素子特性の劣化、この場合にはトレンチキャパシタ42のリーク特性劣化を防止することができる。
【0123】
図23は、図22の場合と同様に、張り合わせウエハにDRAMメモリセルのMOSFET41とトレンチキャパシタ42とを形成した半導体装置を示している。この場合、貼り合わせ面が互いにN−well領域44となりかつこのN−well領域44がトレンチキャパシタ42のプレート電極に相当する拡散層領域となるように形成することで、素子特性の劣化を防止することができる。
【0124】
図24は、張り合わせウエハにESD素子としてのMOSFETを形成した半導体装置を示している。ウエハ同士の貼り合わせ界面は、同一材料同士であっても、面方位の合わせずれが生じるため、アモルファス状態などが形成され、通常の単結晶基板状態に比べ、品質が低下した界面となる。この界面に空乏層がオーバーラップするような接合の場合、接合リーク電流の増加や接合耐圧の低下が起こる。
【0125】
図24の半導体装置は上記界面の特性を積極的に利用するようにしたものであり、ESD素子としてのMOSFET45のドレイン領域46、ソース領域47を半導体層14内に形成する際に、ドレイン領域46が貼り合わせ面の上部に位置するようにMOSFET45を形成している。このようにすることにより、ドレイン領域46にサージ電圧が印加された場合に、ドレイン領域から伸びる空乏層を貼り合わせ面とオーバーラップさせることで、サージ電荷の放電性が高められる。
【0126】
なお、半導体層14下部の酸化膜25の代わりに空洞を形成するようにしてもよい。
【0127】
この発明は上記した各実施の形態及び変形例に限定されるものではなく、さらなる種々の変形が可能であることはいうまでもない。例えば、ハンドルウエハ11、シードウエハ21及び半導体層14がそれぞれ半導体シリコン(Si)からなる場合について説明したが、これはSiの他にSiGe、GaAsなどの半導体材料を用いてもよい。
【0128】
【発明の効果】
以上説明したようにこの発明によれば、異なる膜厚の半導体領域を有し、素子形成面が平坦な半導体装置及びその製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の第1の実施の形態による半導体装置の断面図。
【図2】図1の半導体装置の製造方法の最初の工程を示す断面図。
【図3】図2に続く工程を示す断面図。
【図4】図3に続く工程を示す断面図。
【図5】図4に続く工程を示す断面図。
【図6】図5に続く工程を示す断面図。
【図7】この発明の第2の実施の形態に係る半導体装置の製造方法を工程順に示す断面図。
【図8】図7に続く工程を示す断面図。
【図9】第2の実施の形態の第1の変形例による半導体装置の製造方法の工程の一部を示す断面図。
【図10】第2の実施の形態の第2の変形例による半導体装置の製造方法の工程の一部を示す断面図。
【図11】第2の実施の形態による半導体装置の製造方法の工程の一部を示す断面図。
【図12】第2の実施の形態による半導体装置の製造方法の工程の一部を示す断面図。
【図13】この発明の第3の実施の形態に係る半導体装置の製造方法を工程順に示す断面図。
【図14】この発明の第4の実施の形態に係る半導体装置の製造方法を工程順に示す断面図。
【図15】第4の実施の形態による半導体装置の製造方法の工程の一部を示す断面図。
【図16】この発明の第5の実施の形態による半導体装置の製造方法の工程の一部を示す断面図。
【図17】第5の実施の形態による半導体装置の製造方法の工程の一部を示す断面図。
【図18】この発明の第6の実施の形態に係る半導体装置の製造方法を工程順に示す断面図。
【図19】この発明の第7の実施の形態に係る半導体装置の製造方法を工程順に示す断面図。
【図20】この発明の第8の実施の形態に係る半導体装置の製造方法を工程順に示す断面図。
【図21】図20に続く工程を示す断面図。
【図22】この発明の応用例の半導体装置の断面図。
【図23】図22とは異なるこの発明の応用例の半導体装置の断面図。
【図24】図22及び図23とは異なるこの発明の応用例の半導体装置の断面図。
【符号の説明】
11…ハンドルウエハ、
12…多結晶シリコン層、
13…絶縁膜、
14…半導体層、
15…薄膜半導体領域、
16…厚膜半導体領域、
17…開口部、
20…SOIウエハ20、
21…シードウエハ、
22…分離層、
23…半導体層の凹部、
24…半導体層の凸部、
25…酸化膜、
26…空洞、
31…ハンドルウエハの凹部、
32…絶縁膜、
33、34…堆積膜、
35…開口部、
36…半導体層、
37…酸化膜、
38…半導体層。
Claims (28)
- 一主面に分離層が形成された第1の半導体基板を用意し、
前記分離層上に凹部及び凸部を有する半導体層を形成し、
前記半導体層上に堆積膜を形成した後、この堆積膜を平坦化し、
前記堆積膜の形成面に第2の半導体基板を接着し、
前記分離層と共に前記第1の半導体基板を剥離することを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 前記分離層上に前記半導体層を形成する際に、
前記分離層上に一様な厚みで前記半導体層を形成し、
前記半導体層を選択的に除去することで前記半導体層に前記凹部及び凸部を形成することを特徴とする請求項1記載の半導体装置の製造方法。 - 前記分離層上に前記半導体層を形成する際に、
前記分離層上に一様な厚みで前記半導体層を形成し、
前記半導体層を選択的に成長させることで前記半導体層に前記凹部及び凸部を形成することを特徴とする請求項1記載の半導体装置の製造方法。 - 前記半導体層を形成した後、前記堆積膜を形成する前に、前記半導体層の表面に絶縁膜を形成し、
前記絶縁膜の前記半導体層の凸部に対応した位置に開口部を形成し、
前記堆積膜を形成する際に前記開口部を前記堆積膜で埋めることを特徴とする請求項1記載の半導体装置の製造方法。 - 前記半導体層の表面を酸化して前記絶縁膜を形成することを特徴とする請求項4記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第1、第2の半導体基板及び前記半導体層がSi、SiGe、GaAsいずれかからなることを特徴とする請求項1記載の半導体装置の製造方法。
- 前記堆積膜が多結晶シリコン膜であることを特徴とする請求項1記載の半導体装置の製造方法。
- 半導体基板と、
前記基板上に選択的に設けられた凸状の膜と、
前記凸状の膜上及び前記基板表面上に渡って連続的に設けられた絶縁膜と、
前記絶縁膜上に設けられ、前記凸状の膜の上部に位置する薄膜半導体領域及びそれ以外の部分に位置して前記薄膜半導体領域よりも厚い膜厚を有する厚膜半導体領域からなり、上面に平坦面を有する半導体層と、
前記半導体層の前記厚膜半導体領域に対応した位置の前記絶縁膜中に設けられ、前記半導体層と基板とを電気的に接続する導電体層
とを具備したことを特徴とする半導体装置。 - 前記凸状の膜が前記導電体層と同じ材料を用いて構成されていることを特徴とする請求項8記載の半導体装置。
- 前記凸状の膜及び前記導電体層が多結晶シリコン膜であることを特徴とする請求項8記載の半導体装置の製造方法。
- 前記半導体基板及び前記半導体層がSi、SiGe、GaAsいずれかからなることを特徴とする請求項8記載の半導体装置。
- 一主面に分離層及び半導体層が積層された第1の半導体基板を用意し、
前記半導体層を選択的に酸化して酸化膜を形成し、
前記酸化膜の形成面に第2の半導体基板を接着し、
前記分離層と共に前記第1の半導体基板を剥離することを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 前記酸化膜を形成した後、前記第2の半導体基板を接着する前に、前記酸化膜を表面から除去して前記酸化膜の上面が前記半導体層の表面よりも低い位置となるように形成することを特徴とする請求項12記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第2の半導体基板の接着面には、前記酸化膜が形成されない前記半導体層の領域に対応した位置に予め凹部が形成されていることを特徴とする請求項12記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第2の半導体基板の接着面には、前記酸化膜が形成される前記半導体層の領域に対応した位置に予め凹部が形成されていることを特徴とする請求項12記載の半導体装置の製造方法。
- 前記酸化膜を形成する際に、互いに膜厚が異なるように酸化膜を形成することを特徴とする請求項12記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第1、第2の半導体基板がSi、SiGe、GaAsいずれかからなることを特徴とする請求項12記載の半導体装置の製造方法。
- 半導体基板と、
前記基板上に選択的に設けられた酸化膜と、
前記酸化膜上及び前記酸化膜が形成されていない領域では前記基板との間に空洞が生じるように設けられ、前記酸化膜の上部に位置する薄膜半導体領域及びそれ以外の領域に位置して前記薄膜半導体領域よりも厚い膜厚を有する厚膜半導体領域からなり、上面に平坦面を有する半導体層
とを具備したことを特徴とする半導体装置。 - 半導体基板と、
前記基板上に選択的に設けられた互いに膜厚が異なる複数の酸化膜と、
前記複数の酸化膜上及び前記基板上に渡って連続的に設けられ、前記複数の各酸化膜の上部に位置するそれぞれ膜厚が異なる複数の薄膜半導体領域及び前記基板の上部に位置して前記複数の各薄膜半導体領域よりも厚い膜厚を有する厚膜半導体領域からなり、上面に平坦面を有する半導体層
とを具備したことを特徴とする半導体装置。 - 半導体基板と、
前記基板との間に空洞が生じるように前記基板上に設けられた酸化膜と、
前記酸化膜上及び前記基板上に渡って連続的に設けられ、前記酸化膜の上部に位置する薄膜半導体領域及び前記基板の上部に位置して前記薄膜半導体領域よりも厚い膜厚を有する厚膜半導体領域からなり、上面に平坦面を有する半導体層
とを具備したことを特徴とする半導体装置。 - 一主面に分離層及び第1の半導体層が積層された第1の半導体基板を用意し、
前記第1の半導体層を選択的に除去して前記半導体層に凹部及び凸部を形成し、
前記第1の半導体層の形成面に第2の半導体基板を接着し、
前記分離層と共に前記第1の半導体基板を剥離することを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 前記凹部及び凸部が形成された前記第1の半導体層の表面に前記第1の半導体層とは異なる材料からなる膜を形成して平坦化することを特徴とする請求項21記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第1の半導体層に前記凹部及び凸部を形成した後、前記第2の半導体基板を接着する前に、前記第1の半導体層の表面に絶縁膜を形成することを特徴とする請求項21記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第1の半導体層の表面を酸化して前記絶縁膜を形成することを特徴とする請求項23記載の半導体装置の製造方法。
- 前記絶縁膜を形成した後、第2の半導体基板を接着する前に、前記絶縁膜上に前記絶縁膜とは異なる膜を形成することを特徴とする請求項23記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第1の半導体層に前記凹部を形成する際に、
前記分離層に達するまで前記第1の半導体層を除去した後、前記第1の半導体層上に第2の半導体層を形成することを特徴とする請求項21記載の半導体装置の製造方法。 - 前記第1、第2の半導体基板がSi、SiGe、GaAsいずれかからなることを特徴とする請求項21記載の半導体装置の製造方法。
- 一主面に分離層及び第1の半導体層が積層された第1の半導体基板を用意し、
前記第1の半導体層の上面を選択的に酸化して酸化膜を形成し、
前記酸化膜をエッチング用のマスクとして用いてエッチングを行って前記第1の半導体層を選択に除去し、
前記酸化膜を残した状態で前記第1の半導体層の形成面に第2の半導体基板を接着し、
前記分離層と前記第2の半導体基板との間の空洞を第2の半導体層で満たし、前記分離層と共に前記第1の半導体基板を剥離することを特徴とする半導体装置の製造方法。
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