JP2004085202A - 静電容量型加速度センサ - Google Patents
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Abstract
【課題】組立性の向上および部品点数の削減によって低コスト化が図られるとともに、小型化も達成することができる静電容量型加速度センサを提供する。
【解決手段】重錘50が固定されるダイヤフラム10の両側に、スペーサ20を挟んで静電容量検出用の上側電極基板30と下側電極基板40とをそれぞれ積層する。この積層体にカシメピン60を貫通させ、このカシメピン60によって各部品の相互の位置決めないし固定を図り、さらに電極基板30,40の接続すべき端子33a,43aを接続して導通させる。
【選択図】 図1
【解決手段】重錘50が固定されるダイヤフラム10の両側に、スペーサ20を挟んで静電容量検出用の上側電極基板30と下側電極基板40とをそれぞれ積層する。この積層体にカシメピン60を貫通させ、このカシメピン60によって各部品の相互の位置決めないし固定を図り、さらに電極基板30,40の接続すべき端子33a,43aを接続して導通させる。
【選択図】 図1
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、静電容量型加速度センサに係り、特に小型化や低コスト化を図るための改善に関する。
【0002】
【従来の技術】
加速度センサは、様々な機械産業の分野で物理量の検出装置として広く利用されており、また、デジタル機器用の入力装置としても利用されている。加速度センサは、検出方向によって1軸型や3軸型等に分けられ、検出の形式としては、ピエゾ抵抗型、圧電型、静電容量型等が挙げられる。本発明に係る静電容量型加速度センサとしては、変位電極を有するか、あるいは自身が金属製で共通電極とされたダイヤフラムの片面に重錘を接合し、ダイヤフラムの両側に、電極スペースを確保するスペーサを介して静電容量検出用の電極基板を積層した構成のものがある。その作用は、加速度を受けた重錘に生じた慣性力によってダイヤフラムが歪み、これによってダイヤフラムと電極基板間の静電容量が変化するので、その静電容量の変化に基づき、例えば3軸方向の加速度が検出される。このような静電容量型加速度センサは、特開2000−249609等で公知である。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
上記公報等で知られる従来の静電容量型加速度センサでは、ダイヤフラムと、ダイヤフラムの両側にそれぞれ積層されるスペーサおよび電極基板といった構成部材を、リベット止めや接着といった手段により位置決めして固定しており、電極基板の端子の接続は線材による場合が多い。このため、部材どうしの位置決めないし固定と、電極基板の端子接続とが別の工程になり、その結果、工程数や部品点数の増加に伴う生産効率の低下、ひいてはコストの上昇を招くことになる。また、このような固定方式では、固定に要する面積を確保せねばならず、小型化の要求に満足に応えられるものではなかった。上記公報には、部材どうしの固定をリベット止めで行い、そのリベットで電極基板の端子を接続する例が挙げられているが、リベットでは安定した導通を確保できないことが懸念される。
【0004】
よって本発明は、組立性の向上および部品点数の削減によって低コスト化が図られるとともに、小型化も達成することができる静電容量型加速度センサを提供することを目的としている。
【0005】
【課題を解決するための手段】
本発明は、ダイヤフラムに重錘が固定され、ダイヤフラムの両側に、スペーサを挟んで静電容量検出用の電極基板がそれぞれ積層された静電容量型加速度センサにおいて、ダイヤフラム、スペーサおよび2つの電極基板が、これらに貫通するカシメピンによって互いの相対位置が位置決めされるとともに固定され、さらにこのカシメピンによって、2つの電極基板の接続すべき端子どうしが接続されていることを特徴としている。
【0006】
本発明は、ダイヤフラムと、ダイヤフラムの両側にそれぞれ積層されるスペーサおよび電極基板の相対的な位置決めないし固定をカシメピンによって一括して行い、さらにカシメピンを利用して2つの電極基板の端子どうしを接続して導通させるものである。したがって、積層、固定、電極基板の端子接続を一連の工程で達成することができ、組立性の向上、部品点数の削減とこれに伴う低コスト化が図られる。カシメピンは面積を取らず、しかも電極基板の端子接続部品を兼用することと相まってスペース効率が向上し、小型化が達成される。
【0007】
本発明の静電容量型加速度センサは、制御用等の回路基板が接続されて実用化される場合がある。その場合には、回路基板を積層して配置すればスペースの拡大が抑えられて好ましい。そこで、本発明のカシメピンを、一端部が一方の電極基板へのカシメ部とし、他端部に他方の電極基板に係合する所定厚さを有する鍔部を形成し、さらにこの鍔部からピンの延長部を形成したものとする。回路基板を積層するには、カシメピンの延長部を回路基板に貫通させて鍔部に当て、延長部を回路基板の端子に接続させることで導通を図る。鍔部は、加速度センサと回路基板との間にスペースを確保するスペーサとして機能し、このスペースに回路基板に実装されている電子部品等を配置させることができる。カシメピンは回路基板に対する接続部品をも兼ねることになり、組立性の向上や部品点数の削減に伴う低コスト化ならびに省スペース化がより一層図られる。
【0008】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の一実施形態を説明する。
図1は一実施形態に係る静電容量型加速度センサ1に回路基板2が接続された状態の裏面図、図2は図1のII−II断面図である。本実施形態の加速度センサ1は、XYZの3方向の加速度を検出する3軸型であって、図2に示すように、ダイヤフラム10と、このダイヤフラム10の両面に積層されるスペーサ20,20および電極基板30,40と、ダイヤフラム10に接合される重錘50とを備えている。これら部品が加速度検出のための主要部品であり、検出ユニット1Aを構成している。なお、以下の説明では、図2に示す配置に基づき電極基板30,40を必要に応じて上側電極基板30、下側電極基板40と称する。
【0009】
ダイヤフラム10は、ステンレス等の導電性を有し、かつ弾性変形可能な金属製薄板からなる単一の共通電極を兼ねるもので、図3に示すように略正方形状に形成されている。ダイヤフラム10の中心には、重錘50の位置決め用としてダボ孔11が形成されている。当該加速度センサ1では、ダイヤフラム10の面方向がXY平面とされ、ダイヤフラム10の面方向に直交して重錘50の中心を通る軸がZ軸とされる。ダイヤフラム10の外周部には、複数の円弧状スリット12が点対称的に形成されている。スリット12の最外周部分より内側が弾性変形部分として構成され、この弾性変形部分の中心にダイヤフラム10が接合される。また、一対の対角部の近傍には、円形の位置決め孔13が形成されている。さらに、四隅の角部近傍の所定箇所には、円形のピン孔14が形成されており、これらピン孔14のうちの幾つかは、スリット12の最外周部分に連通している。
【0010】
スペーサ20もステンレス等の金属製薄板からなるもので、図4に示すように、外形が正方形状で、内側の孔21が略円形の枠状薄板である。このスペーサ20はダイヤフラム10の両面に積層され、スペーサ20には、その積層状態でダイヤフラム10の位置決め孔13およびピン孔14と同心状に一致する円形の位置決め孔23およびピン孔24が形成されている。
【0011】
各電極基板30,40は絶縁性材料により正方形状に形成されたもので、十分な剛性を有しており、中心にはそれぞれ円形の中心孔31,41が形成されている。上側電極基板30の中心孔31は後述する重錘50の軸部52を通すための孔であり、下側電極基板40の中心孔41は重錘50をダイヤフラム10に溶接する際に利用する作業用孔である。これら電極基板30,40はスペーサ20を挟んでダイヤフラム10の両側にそれぞれ積層されている。図5(a),(b)は上側電極基板30の内面(ダイヤフラム10への対向面)および外面をそれぞれ示しており、図6(a),(b)は下側電極基板40の内面および外面をそれぞれ示している。
【0012】
図5(a)に示すように、上側電極基板30の内面には、点対称的にパターン化された検出電極32が形成されている。検出電極32は、X方向の変位を検出するX方向検出電極、Y方向への変位を検出するY方向検出電極、Z方向への変位を検出するZ方向検出電極に分けられる。一方、図5(b)に示すように、外面には、検出電極32に対応して適宜な形状にパターン化された複数の配線電極33が形成されている。配線電極33としては、内面のX方向検出電極、Y方向検出電極、Z方向検出電極に対応するものの他に、接地用の電極が形成されている。また、図6(a),(b)に示すように、下側電極基板40の内面および外面にも、同様にして、複数の検出電極42および複数の配線電極43が形成されている。いずれの電極基板30,40においても、対応する検出電極と配線電極(検出電極32と配線電極33、検出電極42と配線電極43)とは、それぞれスルーホール導通路34,44によって導通されている。
【0013】
各電極基板30,40には、ダイヤフラム10に積層された状態でダイヤフラム10およびスペーサ20の位置決め孔13,23およびピン孔14,24と同心状に一致するピン孔35,45がそれぞれ形成されている。そして、各電極基板30,40の外面におけるピン孔35,45の周囲には、配線電極33,43のパターンの一部として環状の端子33a,43aがそれぞれ形成されている。ピン孔35,45の径は、上記位置決め孔13,23の径と同じに設定されている。なお、これら端子33a,43aおよび各電極32,33,42,43は、例えば銅箔のエッチング処理で形成されている。
【0014】
重錘50はステンレス等の金属製であり、図7に示すように、円盤状の頭部51と、この頭部51の片面の中心から直交して延びる円柱状の軸部52とが一体化された略キノコ型を呈している。頭部51の軸部52側はテーパ状に形成され、このテーパ部51aの厚さは、頭部51全体の厚さの約1/2とされている。軸部52の先端には、ダイヤフラム10のダボ孔11に嵌合されるダボ52bが形成されている。軸部52の直径は電極基板30,40の中心孔31,41の径よりも小さく、頭部51の直径は中心孔31,41の径よりも十分大きい寸法を有している。
【0015】
上記のダイヤフラム10、2つのスペーサ20および2つの電極基板30,40は、図2に示すように積層され、導電性を有するカシメピン60によって互いに固定されている。カシメピン60は図8に示すように、鍔部61の両側に長ピン部62と短ピン部(延長部)63が形成されたもので、長ピン部62の先端部は円筒状に形成され、ここがカシメ部62aとされている。各ピン部62,63の外径は同一で、ダイヤフラム10およびスペーサ20の位置決め孔13,23、および各電極基板30,40のピン孔35,45にほぼ隙間なく嵌合する寸法に設定されている。
【0016】
次に、ダイヤフラム10、2つのスペーサ20および電極基板30,40を積層してこれらをカシメピン60を用いて固定し、さらにダイヤフラム10に重錘50を接合して検出ユニット1Aを得る工程を、図9を参照して説明する。
【0017】
まず、内面を上に向けた上側電極基板30の上にスペーサ20を重ね、スペーサ20の上にダイヤフラム10を重ねる(図9:a〜c)。次に、ダイヤフラム10の上にスペーサ20を重ね、スペーサ20の上に内面を下に向けた下側電極基板40を重ねる(図9:d〜e)。ダイヤフラム10およびスペーサ20の位置決め孔13,23に対応する対角2箇所の下側電極基板40のピン孔45に、カシメピン60の長ピン部62を挿入し、鍔部61が下側電極基板40の外面に当たるまで、長ピン部62をスペーサ20、ダイヤフラム10、スペーサ20の各位置決め孔13,23,13、上側電極基板30のピン孔35に通す。このように2本のカシメピン60を対角部分に貫通させることにより、ダイヤフラム10、2つのスペーサ20および電極基板30,40が互いに位置決めされた積層体となる。なお、この工程では、まず上側電極基板30のピン孔35にカシメピン60を通しておき、その後スペーサ20等を順に貫通させて積層体を組み立てるようにしてもよい。
【0018】
次に、図2に示すように、上記積層体に貫通させた2本のカシメピン60の鍔部61を下側電極基板40の外面に当てた状態を保持し、上側電極基板30の外面から突出したカシメ部62aを潰して広げ、カシメピン60により積層体をかしめて固定する。続いて、下側電極基板40の残りのピン孔45から、一致して1つの孔を形成している状態のスペーサ20、ダイヤフラム10、スペーサ20の位置決め孔23,13,23、上側電極基板30のピン孔35に対し同様にカシメピン60を挿入してかしめる。次に、図2に示すように、潰したカシメ部62aと上側電極基板30の端子33a、鍔部61と下側電極基板40の端子43aをそれぞれ半田付けし、ダイヤフラム10、2つのスペーサ20および各電極基板30.40からなる積層体を完全に固定する。
【0019】
次に、軸部52を上に向けて重錘50を置き、軸部52を上側電極基板30の中心孔31に通してダボ52bをダボ孔11に嵌合させる。これによってダイヤフラム10の中心に重錘50が位置決めされる。そして、下側電極基板40の中心孔41を利用してダボ52bをダイヤフラム10に溶接する(図9:f)。
【0020】
以上により、検出ユニット1Aの組み立てが完了し、電極基板30,40の互いに対応する端子33a,43aどうしは、カシメピン60によって導通が確保される。次に、図2に示すように、上側電極基板30の上に枠状のガイド70を挟んでカバー80を重錘50側から被せ、カバー80の爪81を折り曲げて下側電極基板40の外面に係合させ、加速度センサ1を得る。
【0021】
前述したように、本実施形態の加速度センサ1には回路基板2が接続されている。この回路基板2は、例えば検出電極32,42が発生した電荷を電圧に変換して演算し増幅させるもので、図1および図2に示すように、加速度センサ1の下側電極基板40側に積層される。回路基板2は、各電極基板30,40とほぼ同寸法の矩形状に形成されたもので、下側電極基板40に面する内面にはICチップ90が実装されている。また、内面には、X,Y,Z方向の加速度の検出電流を出力するための図示せぬ出力端子、電源用および接地用の端子が形成されており、これら端子に、外面側からピン孔91に挿入されてかしめられ、さらにはんだ付けされた端子ピン92が接続されている。また、回路基板2の上記カシメピン60に対応する部分にはピン孔93が形成され、外面のピン孔93の周囲には、図1に示すように下側電極基板40の外面側の各端子43aに対応する入力端子94が形成されている。
【0022】
回路基板2は、図2に示すように、ICチップ90が実装された内面側を下側電極基板40に向け、各電極基板30,40の各端子33a,43aに接続されたカシメピン60の短ピン部63をピン孔93に挿入し、内面に鍔部61を当てた状態を保持して短ピン部63を入力端子94に半田付けすることにより、加速度センサ1に積層した状態で接続されている。
【0023】
以上が本実施形態の加速度センサ1の構成であり、この加速度センサ1によれば、加速度を受けた重錘50に生じた慣性力によってダイヤフラム10が弾性的に歪み、これによってダイヤフラム10と、上側電極基板30および下側電極基板40との間隔が変化する。この変化によって発生する静電容量の増減が、検出電極32,42が発生する電荷の変化として検出され、その電荷に基づく三軸方向の加速度が検出される。
【0024】
ダイヤフラム10と各電極基板30,40との間には、スペーサ20によってダイヤフラム10の弾性変形を許容する電極スペースが確保されている。また、加速度を受けた重錘50はダイヤフラム10の弾性変形によって傾動するが、テーパ部51aが形成されていることにより、上側電極基板30に対する干渉が効果的に防止される。
【0025】
上記実施形態の加速度センサ1によれば、ダイヤフラム10と、ダイヤフラム10の両側にそれぞれ積層されるスペーサ20および各電極基板30,40の相対的な位置決めないし固定を複数のカシメピン60によって一括して行い、さらにカシメピン60を利用して接続すべき電極基板30,40の端子33a,43aを接続して導通させている。したがって、積層、固定、端子接続を一連の工程で達成することができる。このため、組立性の向上、部品点数の削減とこれに伴う低コスト化が図られる。また、カシメピン60は面積を取らず、しかも電極基板30,40の端子接続部品を兼用することと相まってスペース効率が向上し、小型化が達成される。
【0026】
また、接続する回路基板2を加速度センサ1に積層しているので、スペースの拡大が抑えられている。回路基板2は、加速度センサ1から突出するカシメピン60の短ピン部63を貫通させて入力端子94に接続させることにより加速度センサ1に接続されており、カシメピン60は回路基板2に対する接続部品をも兼ねている。したがって、組立性の向上や部品点数の削減に伴う低コスト化ならびに省スペース化がより一層図られる。カシメピン60の鍔部61は、加速度センサ1と回路基板2との間にスペースを確保するスペーサとして機能し、このスペースに、回路基板2に実装されているICチップ90を配置させることができる。これにより、ICチップ90の収納スペースを確保できるとともに、ICチップ90の保護が図られる。
【0027】
なお、上記実施形態ではカシメピン60と端子とを半田付けしているが、半田に代えて導電ペーストを用いると、熱による基板の膨張が抑えられ、位置決めや固定の確度をより高めることができる。
【0028】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、ダイヤフラムの両側にスペーサおよび電極基板を積層し、この積層体に貫通させカシメピンによって部品相互の位置決めないし固定を図り、さらに電極基板の接続すべき端子どうしを接続して導通させるので、組立性の向上および部品点数の削減によって低コスト化が図られるとともに、小型化も達成することができるといった効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態に係る加速度センサに回路基板が接続された状態の裏面図である。
【図2】図1のII−II断面図である。
【図3】一実施形態に係るダイヤフラムの平面図である。
【図4】一実施形態に係るスペーサの平面図である。
【図5】一実施形態に係る上側電極基板の(a)内面図、(b)外面図である。
【図6】一実施形態に係る下側電極基板の(a)内面図、(b)外面図である。
【図7】一実施形態に係る重錘の一部断面側面図である。
【図8】一実施形態に係るカシメピンの一部断面側面図である。
【図9】一実施形態に係る加速度センサの検出ユニットの組立工程を(a)〜(f)の順に示す図である。
【符号の説明】
1…静電容量型加速度センサ、10…ダイヤフラム、20…スペーサ、
30…上側電極基板、33a,43a…端子、40…下側電極基板、
50…重錘、60…カシメピン、61…鍔部、62a…カシメ部、
63…短ピン部(延長部)。
【発明の属する技術分野】
本発明は、静電容量型加速度センサに係り、特に小型化や低コスト化を図るための改善に関する。
【0002】
【従来の技術】
加速度センサは、様々な機械産業の分野で物理量の検出装置として広く利用されており、また、デジタル機器用の入力装置としても利用されている。加速度センサは、検出方向によって1軸型や3軸型等に分けられ、検出の形式としては、ピエゾ抵抗型、圧電型、静電容量型等が挙げられる。本発明に係る静電容量型加速度センサとしては、変位電極を有するか、あるいは自身が金属製で共通電極とされたダイヤフラムの片面に重錘を接合し、ダイヤフラムの両側に、電極スペースを確保するスペーサを介して静電容量検出用の電極基板を積層した構成のものがある。その作用は、加速度を受けた重錘に生じた慣性力によってダイヤフラムが歪み、これによってダイヤフラムと電極基板間の静電容量が変化するので、その静電容量の変化に基づき、例えば3軸方向の加速度が検出される。このような静電容量型加速度センサは、特開2000−249609等で公知である。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
上記公報等で知られる従来の静電容量型加速度センサでは、ダイヤフラムと、ダイヤフラムの両側にそれぞれ積層されるスペーサおよび電極基板といった構成部材を、リベット止めや接着といった手段により位置決めして固定しており、電極基板の端子の接続は線材による場合が多い。このため、部材どうしの位置決めないし固定と、電極基板の端子接続とが別の工程になり、その結果、工程数や部品点数の増加に伴う生産効率の低下、ひいてはコストの上昇を招くことになる。また、このような固定方式では、固定に要する面積を確保せねばならず、小型化の要求に満足に応えられるものではなかった。上記公報には、部材どうしの固定をリベット止めで行い、そのリベットで電極基板の端子を接続する例が挙げられているが、リベットでは安定した導通を確保できないことが懸念される。
【0004】
よって本発明は、組立性の向上および部品点数の削減によって低コスト化が図られるとともに、小型化も達成することができる静電容量型加速度センサを提供することを目的としている。
【0005】
【課題を解決するための手段】
本発明は、ダイヤフラムに重錘が固定され、ダイヤフラムの両側に、スペーサを挟んで静電容量検出用の電極基板がそれぞれ積層された静電容量型加速度センサにおいて、ダイヤフラム、スペーサおよび2つの電極基板が、これらに貫通するカシメピンによって互いの相対位置が位置決めされるとともに固定され、さらにこのカシメピンによって、2つの電極基板の接続すべき端子どうしが接続されていることを特徴としている。
【0006】
本発明は、ダイヤフラムと、ダイヤフラムの両側にそれぞれ積層されるスペーサおよび電極基板の相対的な位置決めないし固定をカシメピンによって一括して行い、さらにカシメピンを利用して2つの電極基板の端子どうしを接続して導通させるものである。したがって、積層、固定、電極基板の端子接続を一連の工程で達成することができ、組立性の向上、部品点数の削減とこれに伴う低コスト化が図られる。カシメピンは面積を取らず、しかも電極基板の端子接続部品を兼用することと相まってスペース効率が向上し、小型化が達成される。
【0007】
本発明の静電容量型加速度センサは、制御用等の回路基板が接続されて実用化される場合がある。その場合には、回路基板を積層して配置すればスペースの拡大が抑えられて好ましい。そこで、本発明のカシメピンを、一端部が一方の電極基板へのカシメ部とし、他端部に他方の電極基板に係合する所定厚さを有する鍔部を形成し、さらにこの鍔部からピンの延長部を形成したものとする。回路基板を積層するには、カシメピンの延長部を回路基板に貫通させて鍔部に当て、延長部を回路基板の端子に接続させることで導通を図る。鍔部は、加速度センサと回路基板との間にスペースを確保するスペーサとして機能し、このスペースに回路基板に実装されている電子部品等を配置させることができる。カシメピンは回路基板に対する接続部品をも兼ねることになり、組立性の向上や部品点数の削減に伴う低コスト化ならびに省スペース化がより一層図られる。
【0008】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の一実施形態を説明する。
図1は一実施形態に係る静電容量型加速度センサ1に回路基板2が接続された状態の裏面図、図2は図1のII−II断面図である。本実施形態の加速度センサ1は、XYZの3方向の加速度を検出する3軸型であって、図2に示すように、ダイヤフラム10と、このダイヤフラム10の両面に積層されるスペーサ20,20および電極基板30,40と、ダイヤフラム10に接合される重錘50とを備えている。これら部品が加速度検出のための主要部品であり、検出ユニット1Aを構成している。なお、以下の説明では、図2に示す配置に基づき電極基板30,40を必要に応じて上側電極基板30、下側電極基板40と称する。
【0009】
ダイヤフラム10は、ステンレス等の導電性を有し、かつ弾性変形可能な金属製薄板からなる単一の共通電極を兼ねるもので、図3に示すように略正方形状に形成されている。ダイヤフラム10の中心には、重錘50の位置決め用としてダボ孔11が形成されている。当該加速度センサ1では、ダイヤフラム10の面方向がXY平面とされ、ダイヤフラム10の面方向に直交して重錘50の中心を通る軸がZ軸とされる。ダイヤフラム10の外周部には、複数の円弧状スリット12が点対称的に形成されている。スリット12の最外周部分より内側が弾性変形部分として構成され、この弾性変形部分の中心にダイヤフラム10が接合される。また、一対の対角部の近傍には、円形の位置決め孔13が形成されている。さらに、四隅の角部近傍の所定箇所には、円形のピン孔14が形成されており、これらピン孔14のうちの幾つかは、スリット12の最外周部分に連通している。
【0010】
スペーサ20もステンレス等の金属製薄板からなるもので、図4に示すように、外形が正方形状で、内側の孔21が略円形の枠状薄板である。このスペーサ20はダイヤフラム10の両面に積層され、スペーサ20には、その積層状態でダイヤフラム10の位置決め孔13およびピン孔14と同心状に一致する円形の位置決め孔23およびピン孔24が形成されている。
【0011】
各電極基板30,40は絶縁性材料により正方形状に形成されたもので、十分な剛性を有しており、中心にはそれぞれ円形の中心孔31,41が形成されている。上側電極基板30の中心孔31は後述する重錘50の軸部52を通すための孔であり、下側電極基板40の中心孔41は重錘50をダイヤフラム10に溶接する際に利用する作業用孔である。これら電極基板30,40はスペーサ20を挟んでダイヤフラム10の両側にそれぞれ積層されている。図5(a),(b)は上側電極基板30の内面(ダイヤフラム10への対向面)および外面をそれぞれ示しており、図6(a),(b)は下側電極基板40の内面および外面をそれぞれ示している。
【0012】
図5(a)に示すように、上側電極基板30の内面には、点対称的にパターン化された検出電極32が形成されている。検出電極32は、X方向の変位を検出するX方向検出電極、Y方向への変位を検出するY方向検出電極、Z方向への変位を検出するZ方向検出電極に分けられる。一方、図5(b)に示すように、外面には、検出電極32に対応して適宜な形状にパターン化された複数の配線電極33が形成されている。配線電極33としては、内面のX方向検出電極、Y方向検出電極、Z方向検出電極に対応するものの他に、接地用の電極が形成されている。また、図6(a),(b)に示すように、下側電極基板40の内面および外面にも、同様にして、複数の検出電極42および複数の配線電極43が形成されている。いずれの電極基板30,40においても、対応する検出電極と配線電極(検出電極32と配線電極33、検出電極42と配線電極43)とは、それぞれスルーホール導通路34,44によって導通されている。
【0013】
各電極基板30,40には、ダイヤフラム10に積層された状態でダイヤフラム10およびスペーサ20の位置決め孔13,23およびピン孔14,24と同心状に一致するピン孔35,45がそれぞれ形成されている。そして、各電極基板30,40の外面におけるピン孔35,45の周囲には、配線電極33,43のパターンの一部として環状の端子33a,43aがそれぞれ形成されている。ピン孔35,45の径は、上記位置決め孔13,23の径と同じに設定されている。なお、これら端子33a,43aおよび各電極32,33,42,43は、例えば銅箔のエッチング処理で形成されている。
【0014】
重錘50はステンレス等の金属製であり、図7に示すように、円盤状の頭部51と、この頭部51の片面の中心から直交して延びる円柱状の軸部52とが一体化された略キノコ型を呈している。頭部51の軸部52側はテーパ状に形成され、このテーパ部51aの厚さは、頭部51全体の厚さの約1/2とされている。軸部52の先端には、ダイヤフラム10のダボ孔11に嵌合されるダボ52bが形成されている。軸部52の直径は電極基板30,40の中心孔31,41の径よりも小さく、頭部51の直径は中心孔31,41の径よりも十分大きい寸法を有している。
【0015】
上記のダイヤフラム10、2つのスペーサ20および2つの電極基板30,40は、図2に示すように積層され、導電性を有するカシメピン60によって互いに固定されている。カシメピン60は図8に示すように、鍔部61の両側に長ピン部62と短ピン部(延長部)63が形成されたもので、長ピン部62の先端部は円筒状に形成され、ここがカシメ部62aとされている。各ピン部62,63の外径は同一で、ダイヤフラム10およびスペーサ20の位置決め孔13,23、および各電極基板30,40のピン孔35,45にほぼ隙間なく嵌合する寸法に設定されている。
【0016】
次に、ダイヤフラム10、2つのスペーサ20および電極基板30,40を積層してこれらをカシメピン60を用いて固定し、さらにダイヤフラム10に重錘50を接合して検出ユニット1Aを得る工程を、図9を参照して説明する。
【0017】
まず、内面を上に向けた上側電極基板30の上にスペーサ20を重ね、スペーサ20の上にダイヤフラム10を重ねる(図9:a〜c)。次に、ダイヤフラム10の上にスペーサ20を重ね、スペーサ20の上に内面を下に向けた下側電極基板40を重ねる(図9:d〜e)。ダイヤフラム10およびスペーサ20の位置決め孔13,23に対応する対角2箇所の下側電極基板40のピン孔45に、カシメピン60の長ピン部62を挿入し、鍔部61が下側電極基板40の外面に当たるまで、長ピン部62をスペーサ20、ダイヤフラム10、スペーサ20の各位置決め孔13,23,13、上側電極基板30のピン孔35に通す。このように2本のカシメピン60を対角部分に貫通させることにより、ダイヤフラム10、2つのスペーサ20および電極基板30,40が互いに位置決めされた積層体となる。なお、この工程では、まず上側電極基板30のピン孔35にカシメピン60を通しておき、その後スペーサ20等を順に貫通させて積層体を組み立てるようにしてもよい。
【0018】
次に、図2に示すように、上記積層体に貫通させた2本のカシメピン60の鍔部61を下側電極基板40の外面に当てた状態を保持し、上側電極基板30の外面から突出したカシメ部62aを潰して広げ、カシメピン60により積層体をかしめて固定する。続いて、下側電極基板40の残りのピン孔45から、一致して1つの孔を形成している状態のスペーサ20、ダイヤフラム10、スペーサ20の位置決め孔23,13,23、上側電極基板30のピン孔35に対し同様にカシメピン60を挿入してかしめる。次に、図2に示すように、潰したカシメ部62aと上側電極基板30の端子33a、鍔部61と下側電極基板40の端子43aをそれぞれ半田付けし、ダイヤフラム10、2つのスペーサ20および各電極基板30.40からなる積層体を完全に固定する。
【0019】
次に、軸部52を上に向けて重錘50を置き、軸部52を上側電極基板30の中心孔31に通してダボ52bをダボ孔11に嵌合させる。これによってダイヤフラム10の中心に重錘50が位置決めされる。そして、下側電極基板40の中心孔41を利用してダボ52bをダイヤフラム10に溶接する(図9:f)。
【0020】
以上により、検出ユニット1Aの組み立てが完了し、電極基板30,40の互いに対応する端子33a,43aどうしは、カシメピン60によって導通が確保される。次に、図2に示すように、上側電極基板30の上に枠状のガイド70を挟んでカバー80を重錘50側から被せ、カバー80の爪81を折り曲げて下側電極基板40の外面に係合させ、加速度センサ1を得る。
【0021】
前述したように、本実施形態の加速度センサ1には回路基板2が接続されている。この回路基板2は、例えば検出電極32,42が発生した電荷を電圧に変換して演算し増幅させるもので、図1および図2に示すように、加速度センサ1の下側電極基板40側に積層される。回路基板2は、各電極基板30,40とほぼ同寸法の矩形状に形成されたもので、下側電極基板40に面する内面にはICチップ90が実装されている。また、内面には、X,Y,Z方向の加速度の検出電流を出力するための図示せぬ出力端子、電源用および接地用の端子が形成されており、これら端子に、外面側からピン孔91に挿入されてかしめられ、さらにはんだ付けされた端子ピン92が接続されている。また、回路基板2の上記カシメピン60に対応する部分にはピン孔93が形成され、外面のピン孔93の周囲には、図1に示すように下側電極基板40の外面側の各端子43aに対応する入力端子94が形成されている。
【0022】
回路基板2は、図2に示すように、ICチップ90が実装された内面側を下側電極基板40に向け、各電極基板30,40の各端子33a,43aに接続されたカシメピン60の短ピン部63をピン孔93に挿入し、内面に鍔部61を当てた状態を保持して短ピン部63を入力端子94に半田付けすることにより、加速度センサ1に積層した状態で接続されている。
【0023】
以上が本実施形態の加速度センサ1の構成であり、この加速度センサ1によれば、加速度を受けた重錘50に生じた慣性力によってダイヤフラム10が弾性的に歪み、これによってダイヤフラム10と、上側電極基板30および下側電極基板40との間隔が変化する。この変化によって発生する静電容量の増減が、検出電極32,42が発生する電荷の変化として検出され、その電荷に基づく三軸方向の加速度が検出される。
【0024】
ダイヤフラム10と各電極基板30,40との間には、スペーサ20によってダイヤフラム10の弾性変形を許容する電極スペースが確保されている。また、加速度を受けた重錘50はダイヤフラム10の弾性変形によって傾動するが、テーパ部51aが形成されていることにより、上側電極基板30に対する干渉が効果的に防止される。
【0025】
上記実施形態の加速度センサ1によれば、ダイヤフラム10と、ダイヤフラム10の両側にそれぞれ積層されるスペーサ20および各電極基板30,40の相対的な位置決めないし固定を複数のカシメピン60によって一括して行い、さらにカシメピン60を利用して接続すべき電極基板30,40の端子33a,43aを接続して導通させている。したがって、積層、固定、端子接続を一連の工程で達成することができる。このため、組立性の向上、部品点数の削減とこれに伴う低コスト化が図られる。また、カシメピン60は面積を取らず、しかも電極基板30,40の端子接続部品を兼用することと相まってスペース効率が向上し、小型化が達成される。
【0026】
また、接続する回路基板2を加速度センサ1に積層しているので、スペースの拡大が抑えられている。回路基板2は、加速度センサ1から突出するカシメピン60の短ピン部63を貫通させて入力端子94に接続させることにより加速度センサ1に接続されており、カシメピン60は回路基板2に対する接続部品をも兼ねている。したがって、組立性の向上や部品点数の削減に伴う低コスト化ならびに省スペース化がより一層図られる。カシメピン60の鍔部61は、加速度センサ1と回路基板2との間にスペースを確保するスペーサとして機能し、このスペースに、回路基板2に実装されているICチップ90を配置させることができる。これにより、ICチップ90の収納スペースを確保できるとともに、ICチップ90の保護が図られる。
【0027】
なお、上記実施形態ではカシメピン60と端子とを半田付けしているが、半田に代えて導電ペーストを用いると、熱による基板の膨張が抑えられ、位置決めや固定の確度をより高めることができる。
【0028】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、ダイヤフラムの両側にスペーサおよび電極基板を積層し、この積層体に貫通させカシメピンによって部品相互の位置決めないし固定を図り、さらに電極基板の接続すべき端子どうしを接続して導通させるので、組立性の向上および部品点数の削減によって低コスト化が図られるとともに、小型化も達成することができるといった効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態に係る加速度センサに回路基板が接続された状態の裏面図である。
【図2】図1のII−II断面図である。
【図3】一実施形態に係るダイヤフラムの平面図である。
【図4】一実施形態に係るスペーサの平面図である。
【図5】一実施形態に係る上側電極基板の(a)内面図、(b)外面図である。
【図6】一実施形態に係る下側電極基板の(a)内面図、(b)外面図である。
【図7】一実施形態に係る重錘の一部断面側面図である。
【図8】一実施形態に係るカシメピンの一部断面側面図である。
【図9】一実施形態に係る加速度センサの検出ユニットの組立工程を(a)〜(f)の順に示す図である。
【符号の説明】
1…静電容量型加速度センサ、10…ダイヤフラム、20…スペーサ、
30…上側電極基板、33a,43a…端子、40…下側電極基板、
50…重錘、60…カシメピン、61…鍔部、62a…カシメ部、
63…短ピン部(延長部)。
Claims (2)
- ダイヤフラムに重錘が固定され、ダイヤフラムの両側に、スペーサを挟んで静電容量検出用の電極基板がそれぞれ積層された静電容量型加速度センサにおいて、
前記ダイヤフラム、前記スペーサおよび前記2つの電極基板が、これらに貫通するカシメピンによって互いの相対位置が位置決めされるとともに固定され、さらにこのカシメピンによって、2つの電極基板の接続すべき端子どうしが接続されていることを特徴とする静電容量型加速度センサ。 - 前記カシメピンは、一端部が一方の電極基板へのカシメ部とされ、他端部に他方の電極基板に係合する所定厚さを有する鍔部が形成されており、さらにこの鍔部からピンの延長部が形成されていることを特徴とする請求項1に記載の静電容量型加速度センサ。
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---|---|---|---|
JP2002242234A JP2004085202A (ja) | 2002-08-22 | 2002-08-22 | 静電容量型加速度センサ |
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006126064A (ja) * | 2004-10-29 | 2006-05-18 | Star Micronics Co Ltd | 静電容量型センサの製造方法 |
WO2006112317A1 (ja) * | 2005-04-14 | 2006-10-26 | Hosiden Corporation | 加速度センサ |
JP2017203683A (ja) * | 2016-05-11 | 2017-11-16 | 内外ゴム株式会社 | 静電容量型の3軸加速度センサ |
-
2002
- 2002-08-22 JP JP2002242234A patent/JP2004085202A/ja active Pending
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