JP2004075771A - ガスハイドレート製造装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】液体Wとガスハイドレート形成物質Gを混合し、加圧下で冷却してガスハイドレートHを生成させるガスハイドレート製造装置1を、長尺筒状体からなるチューブラリアクター11と、該チューブラリアクター11に前記液体Wを供給する液体供給手段14と、該チューブラリアクター11に前記ガスハイドレート形成物質Gを供給するガスハイドレート形成物質供給手段15とを備えて形成する。
【選択図】 図1
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、天然ガス、メタンガス、炭酸ガス等のハイドレート形成物質からガスハイドレートを生成するためのガスハイドレート製造装置に関するものである。
【0002】
【従来技術】
近年、クリーンなエネルギー源や各種物質原料として、天然ガスなどのメタンを主成分とするガスが注目され、その輸送或いは貯蔵のために、天然ガス等をガスハイドレートにする研究が行われている。
【0003】
このガスハイドレートは、水和包接化合物、気体包接化合物とも呼ばれ、低級炭化水素等のガスと水等の液体(水和物)が一緒になったものであり、水の分子が作るカゴの中にガスの分子が一つずつ収まる結晶構造を持っており、例えば、メタンハイドレートでは、常圧で1m3 のメタンハイドレート中に164m3 のメタンを包蔵できるといわれている。
【0004】
このようにメタンハイドレートは、高いガス包蔵性を有しているので、液化天然ガス(以下、LNGという)に代わる天然ガスの新しい輸送及び貯蔵手段として注目されている。メタンハイドレート中のメタンガス密度は、LNGの約3.5分の1であるが、製造にあたってはLNGのようにマイナス162℃の液化温度以下まで冷却する必要がないため、エネルギー効率が大幅に改善されるといわれている。
【0005】
ところで、自然界に存在するメタンハイドレートは別にしても、人工的にメタンハイドレートを製造する場合は、温度を1〜10℃、圧力を3.0〜10.0MPaに保持した圧力容器内に、水とハイドレート形成物質であるメタンガスを供給して反応させることにより、粉雪状又はかき氷状のメタンハイドレートを生成している。
【0006】
そして、このようなLNG、メタンガス、炭酸ガス等のガスハイドレート形成物質と水とを接触反応させて、ガスハイドレートを製造する方法として、従来、気泡攪拌槽法とスプレー法が知られている。
【0007】
この気泡攪拌槽法では、図8に示すように、攪拌翼2とスパージャー3とを配置した高圧容器の攪拌槽1内に水Wを供給し、攪拌槽1内の水(水や不凍液)Wを攪拌翼2で攪拌しながらスパージャー3からハイドレート形成物質であるガスGを気泡として供給し、この水WとガスGとの接触反応によりガスハイドレートを生成している。
【0008】
このとき、多量の反応熱(例えば、ハイドレート1kg当たり100kcal)が発生する。そのため攪拌槽1の下部から水Wの一部をポンプ4でクーラー5に循環させて、このクーラー5の冷却を調整することにより、攪拌槽1内を所定の温度及び圧力となるように制御している。
【0009】
また、スプレー法では、図9に示すように、高圧容器のタンク6内に、クーラー7により所定の温度に冷却されたハイドレート形成物質であるガスGをブロワー8により供給すると共に、ノズル9から水Wを噴霧して、このガスGと水Wを接触反応させてガスハイドレートを生成している。
【0010】
このとき、発生する多量の反応熱を吸収するために、タンク6内のガスGの一部をブロワー8により吸引してクーラー7に循環させて冷却し、このガスGの循環量を調整することにより、タンク6内を所定の温度及び圧力となるように制御している。
【0011】
【発明が解決しょうとする課題】
しかしながら、これらの従来のガスハイドレート製造方法においては、水とハイドレート形成物質であるガスの混合からガスハイドレートの生成までの反応を攪拌槽内又はタンク内で行っているため、ガスハイドレートの生成に多くの時間を要し、しかも、生成されたガスハイドレートスラリー中の水分が多いため、その水分の分離に手間がかかるという問題がある。
【0012】
更に、水とガスとの反応により発生する多量の反応熱を除去するために、熱除去設備が大型になるという問題もある。特に、スプレー法では液体でなく、ガスを冷却するために高圧ガスの循環設備やガスクーラー等が必要になるので、製造装置が大型でかつ高価なものとなる。
【0013】
例えば、気泡攪拌槽法では、メタン100万t/年の設備の場合には、概算で径が6mφで高さ7m位の攪拌槽が4〜5槽必要になり、スプレー法では、タンクは更に大型となる。
【0014】
本発明は、上記の問題点を解決するためになされたものであって、その目的は、ガスハイドレートの生成速度が高く、しかも、ガスハイドレートスラリー中の水分を極めて少なくできる高効率で低コストのガスハイドレート製造装置を提供することにある。
【0015】
【課題を解決するための手段】
そして、上記の目的を達成するための本発明のガスハイドレート製造装置は、次のように構成される。
【0016】
液体とガスハイドレート形成物質を混合し、加圧下で冷却してガスハイドレートを生成させるガスハイドレート製造装置であって、長尺筒状体からなるチューブラリアクターと、該チューブラリアクターに前記液体を供給する液体供給手段と、該チューブラリアクターに前記ガスハイドレート形成物質を供給するガスハイドレート形成物質供給手段とを備えて形成される。
【0017】
このチューブラリアクターとは、長尺筒状体の反応器であり、長尺筒状体の一方の入口から供給された原料が長尺筒状体内を一方から他方に流れる間に反応が生じ、生成物が長尺筒状体の他方の出口から排出される反応器のことをいう。なお、未反応の原料を生成物と分離して別々に入口部又は中間部にリサイクルすることも含む。
【0018】
この構成のガスハイドレート製造装置によれば、チューブラリアクターの一端に液体とガスハイドレート形成物質が所定の温度と所定の圧力を有する状態で混合されて供給され、この混合流体がチューブラリアクター内を流れる過程でジャケットに供給される冷却媒体等により反応熱が除去され、ガスハイドレート化の反応が進む。
【0019】
そして、チューブラリアクターでは反応熱の除去効率を高くすることができ、ピストンフローとなるため、ガスハイドレートの生成速度を速めることができ、装置も気泡攪拌槽やスプレー法のタンク等よりも小型化できる。
【0020】
また、生成されたガスハイドレートは、ガスハイドレートスラリーとして、このチューブラリアクターから排出されるが、液体とガスハイドレート形成物質の混合率や圧力や温度の調整により、生成されたガスハイドレートスラリー中の液体分を非常に少なくすることができ、液体とガスハイドレートとの分離を容易とすることができる。
【0021】
そして、このチューブラリアクターユニットの連結は、直列の連結に限定されず、直列の連結以外にも、並列の連結、あるいは、並列の連結と直列の連結とを組み合わせることもできるが、チューブラリアクターを、複数のチューブラリアクターユニットを直列に連結して形成することにより、製造装置が大型になった場合においても、工場で比較的短尺のチューブラリアクターユニットを製作し、このチューブラリアクターユニットを現地で直列に連結することにより容易に製作することができる。
【0022】
また、前記チューブラリアクターユニットが、前記液体と前記ガスハイドレート形成物質の混合物が通過するチューブと、該チューブの外側に設けられ冷却媒体が流通するジャケットとからなるように構成することにより、簡単な構成の装置で、チューブ内の混合物を効率よく冷却することができる。
【0023】
また、前記チューブラリアクターの一部に、生成されたガスハイドレートスラリーを攪拌する攪拌手段、又は、生成されたガスハイドレートスラリーを移送する移送手段の少なくとも一方を設けることにより、より効率よく、ガスハイドレート化の反応を促進できる。
【0024】
あるいは、前記チューブラリアクターを構成する前記ジャケット付チューブラリアクターユニット間に、生成されたガスハイドレートスラリーを攪拌する攪拌手段、又は、生成されたガスハイドレートスラリーを移送する移送手段の少なくとも一方を適所に設けることにより、水とガスとの反応工程による物性の変化に対応した攪拌混合が可能となるため、ガスハイドレートの生成をより促進でき、より効率よく、ガスハイドレート化の反応を促進できる。
【0025】
更に、前記チューブラリアクターユニットの少なくとも一つにおいて、該チューブラリアクターユニットのチューブ内に、生成されたガスハイドレートスラリーを攪拌する攪拌手段、又は、生成されたガスハイドレートスラリーを移送する移送手段の少なくとも一方を設けることにより、水とガスとの反応工程による物性の変化に対応した攪拌混合が可能となるため、ガスハイドレートの生成をより促進でき、より効率よく、ガスハイドレート化の反応を促進できる。
【0026】
なお、これらの攪拌手段や移送手段は、ガスハイドレートスラリー中のガスハイドレート成分が増加し、流動性が低下してくるチューブラリアクターの出口側に設けることが好ましい。このような構成によるガスハイドレート製造装置によれば、チューブラリアクター内で生成した比較的水分の少ないガスハイドレートスラリーを容易にチューブラリアクターから抜き出すことができる。
【0027】
そして、前記チューブラリアクターの出口側に、該チューブラリアクターにより生成されたガスハイドレートスラリーを導入してガスハイドレートを分離排出するセパレータを配設したことにより、水分を分離したガスハイドレートを得ることができる。
【0028】
また、前記セパレータのガスハイドレートの排出側に、スクリューコンベアを配置したり、あるいは、前記チューブラリアクターの出口側に、スクリューコンベアを配置したりすることにより、セパレータで水分が分離されたガスハイドレートやチューブラリアクターで生成された直後のガスハイドレートを容易に取り出すことができる。
【0029】
その上、前記チューブラリアクターの入口側に、前記液体と前記ガスハイドレート形成物質を混合する混合手段を設けることにより、予め液体とガスハイドレート形成物質とが攪拌混合されてチューブラリアクター内に供給されるためガスハイドレートの生成をより速めることができる。
【0030】
そして、単位チューブラリアクターの配置方向に関しては、垂直方向のみならず、水平方向にも配置でき、また、一部を垂直方向にし、残りを水平方向にすることもできるが、単位チューブラリアクターを、略水平方向に配置することにより、チューブラリアクターを地上等の比較的低い位置に配設できるので、製造装置の建設費の低減と建設作業における安全性を向上させることができる。
【0031】
また、前記チューブラリアクターを、スパイラル状に形成することにより、据付に必要な面積を少なくすることができる。
【0032】
そして、本発明のガスハイドレートの製造方法は、上記のガスハイドレート製造装置を使用して、前記液体供給手段で供給された前記液体と前記ガスハイドレート形成物質供給手段で供給された前記ガスハイドレート形成物質を、前記チューブラリアクター内を一方向に流通させながら、加圧下で冷却してガスハイドレートを生成させる製造方法であり、これにより、効率よくガスハイドレートを製造することができる。
【0033】
そして、本発明におけるハイドレート形成物質としては、所定の圧力、温度条件でハイドレートを形成するものであればよく、例えば、メタンガス、メタンを主成分とし、エタン、プロパン、ブタン等を含む混合ガスである天然ガス、炭酸ガス、フロン等の常温・常圧で気体である物質や、更に、テトラヒドロフラン、フラン、シクロペンタノール、シクロペンタノン、エチレンオキサイド等の常温・常圧で液体である物質も含む。また、液化ガスやフロンなどを液体にした状態でハイドレート形成物質として使用することもできる。
【0034】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して、本発明に係るガスハイドレート製造装置の実施の形態について説明する。以下の説明では、メタンガス等の気体を原料とする場合に適した装置を示しているが、必要な修正を加えることによって液体を原料とする場合にも適用可能となる。
【0035】
図1に示すように、このガスハイドレート製造装置1は、チューブラリアクター11、水供給手段(液体供給手段)14、ガス供給手段(ガスハイドレート形成物質供給手段)15、スタティックミキサー(混合手段)16、セパレータ17、及び、スクリューコンベア18を有して構成される。
【0036】
チューブラリアクター11は、混合されたガス(ガスハイドレート形成物質)Gと水(液体)WからガスハイドレートHを生成するためのものであり、長尺筒状体で形成される。このチューブラリアクター11は、一体で形成することもできるが、製造等を考慮して、直列に連結した複数(図1では4個)のチューブラリアクターユニット11uで形成し、この各チューブラリアクターユニット11uは、水WとガスGの混合物が流れるチューブ12の外周に、冷却媒体が流れるジャケット13を配置して形成する。
【0037】
なお、チューブラリアクター11の連結に関しては、図1等に示す直列の連結以外にも、並列の連結や、並列の連結と直列の連結との組合せで構成する場合もあるが、以下では、直列の連結を例にして説明する。
【0038】
また、水供給手段14はチューブラリアクター11に水Wを供給するためのものであり、ポンプ等で形成され、水供給管21でスタティックミキサー16に接続される。また、ガス供給手段15は、チューブラリアクター11にガスGを供給するためのものであり、コンプレッサー等で形成され、ガス供給管22で水供給管21に接続される。
【0039】
なお、チューブラリアクター11の内圧をコントロールするために、チューブラリアクター11に連通する配管(例えば、水供給管21やガス供給管22等)に窒素ガス等の定圧ガス圧力維持装置(図示せず)を設けてもよいし、又は、スクリューコンベア18にガスGによる圧力維持装置(図示せず)を設けてもよい。
【0040】
スタティックミキサー16はガスGと水Wを混合するためのものであり、混合物移送管23によりチューブラリアクター11の入口側に接続される。チューブラリアクター11の出口側は、スラリー移送管24によりセパレータ17に接続されるが、このセパレータ17は、チューブラリアクター11で生成したガスハイドレートHを分離して、スクリューコンベア18に送り出すものであり、セパレータ17の出口側は、スクリューコンベア18に接続されている。スクリューコンベア18は、ガスハイドレートHを貯蔵タンク(図示しない)等に移送するためのものである。
【0041】
この構成のガスハイドレート製造装置1において、供給される水WとガスGは、図示しない冷却装置で所定の温度、例えば、1〜10℃に冷却された後に、所定の圧力、例えば、3MPa〜10MPa(30気圧〜100気圧)で、水Wは水供給手段14によって水供給管21経由で、ガスGはガス供給手段15によってガス供給管22で水供給管21に供給されて、混合流体Mとなって、チューブラリアクター11に入る。
【0042】
この水WとガスGは均一に混合されることが好ましいので、図2に示すように、チューブラリアクター11の入口側にスタティックミキサー(又はスパージャー)16を設ける。このスタティックミキサー16は、多数でかつ微小な噴出口を有するノズル16aを有して構成され、水W内にノズル16aからガスGを微細な気泡にして噴出し水WとガスGを混合する。このノズル16aとしては、パイプに微小孔を設けたり、多数の分散ノズルを配置したり、微小孔を有する多孔体や焼結金属等の多孔質体を、ガス出口に配設したりして形成することができる。
【0043】
この水WとガスGの混合物Mは、各チューブラリアクターユニット11uのチューブ12内を通過しながら反応し、その組成が変化してガスハイドレードHとなり、水分の少ないガスハイドレートスラリーSが生成される。
【0044】
このガスハイドレートスラリーSの生成過程において発生する多量の反応熱は、チューブ12の外側のジャケット13内を流れるEG水溶液等の冷媒媒体(ブライン)Cにより除去され、この冷却媒体Cの温度や流量を調整制御することにより、各チューブラリアクターユニット11uのチューブ12内の温度と圧力は、所定の温度(例えば、1℃〜10℃程度)及び所定の圧力(例えば3.0MPa〜10.0MPa)となるように制御される。
【0045】
従って、各チューブラリアクターユニット11uの場所によって、冷却媒体Cの温度が異なる場合も生じる。例えば、入口側に供給される冷却媒体Cの温度よりも、出口側に供給される冷却媒体Cの温度の方が低くなる。
【0046】
この生成されたガスハイドレートスラリーSは、チューブ12内を通過して、スラリー移送管24経由でセパレータ17に導入される。このセパレータ17によりガスハイドレートHは水W及びガスGと分離され、スクリューコンベア18により図示しない貯蔵タンク等に移送され貯蔵される。
【0047】
このセパレータ17における水WとガスハイドレートHとの分離は、ガスハイドレートHの比重が水Wの比重より小さい点を利用した比重差分離等により行う。
【0048】
次に、図3に示す第2の実施の形態のガスハイドレート製造装置1Aについて説明する。
【0049】
このガスハイドレート製造装置1Aでは、セパレータ17により分離された水Wを水供給手段14に循環する排水管25と、セパレータ17の上部に残留するガスGを、ガス供給手段15に循環するガス抜き管26とが設けられている。この構成以外は第1の実施の形態のガスハイドレート製造装置1と同じである。
【0050】
この第2の実施の形態の構成により、冷却されている分離された水WやガスGをガスハイドレートHの原料として再利用できるので、熱効率及び原料原単位が向上する。
【0051】
次に、チューブラリアクター11について、より詳細に説明する。
【0052】
このチューブラリアクター11は、一体で形成しても良いが、ガスハイドレート製造装置を実装置として実施する場合、このチューブラリアクターは、チューブ内径が2cmφ〜60cmφ程度で、長さは、数百メートルに達することがあるので、このようなチューブラリアクターを工場で製作して輸送し、かつ、現地に据え付ける構成では、輸送と据付作業が困難になる。なお、チューブラリアクターユニットのサイズは途中で変更することもでき、例えば、反応が遅いところでは太くする。
【0053】
そのため、図1や図3に示すように、チューブラリアクター11を直列に接続した複数の短尺のチューブラリアクターユニット11uで構成し、これらのチューブラリアクターユニット11uを工場で製作し、据付現場で直列に(又は、並列に、あるいは、並列と直列の組合せで)連結することにより、製造、輸送、据付作業が容易となる。
【0054】
しかし、このチューブラリアクターユニット11uにおけるチューブラリアクターユニット11uの形状、配置、個数は、図1や図3の例示に限定されるものではなく、必要に応じてその個数を変えることができる。
【0055】
図4は、チューブラリアクターユニット11uを水平に配置したチューブラリアクター11Aの構成を示す図であり、このチューブラリアクター11Aは、複数のチューブラリアクターユニット11uが略水平方向に配置され、直列に(又は、並列に、あるいは、並列と直列の組合せで)連結されて構成される。
【0056】
そして、このチューブラリアクター11Aの入口側のチューブラリアクターユニット11uでは、ガスハイドレートHの生成量が少ないので、流動性に富み、移送が容易であるが、出口側のチューブラリアクターユニット11uでは、ガスハイドレートHの生成量が多くなり、生成されたガスハイドレートスラリーSの流動性が悪くなり、移送が難しくなってくるので、チューブ12内に移送手段であるスクリュー(又は移送翼付き攪拌翼)31を設け、このスクリュー31で移送するように構成するのが好ましい。更に好ましくはこのスクリュー31の全体又は一部に攪拌翼等を設け、攪拌手段としても機能させ混合効果も発揮させるように構成する。
【0057】
また、同時にその後流側のガスハイドレート抜き出し器であるスクリューコンベア18で抜き出すように構成する。
【0058】
図5は、正方形形状のチューブラリアクター11Bの構成を示す斜視図であり、このチューブラリアクター11Bは、複数のチューブラリアクターユニット11uが略水平に正方形に配置され、直列に(又は、並列に、あるいは、並列と直列の組合せで)螺旋状に連結されて構成される。
【0059】
そして、図4の構成と同様に、チューブラリアクター11Bの出口側のチューブラリアクターユニット11uのチューブ12内にスクリュー31を設け、このスクリュー31で生成されたガスハイドレートスラリーSを攪拌しながら移送するように構成する。また、同時にその後流側のスクリューコンベア18でガスハイドレートスラリーSを抜き出すように構成する。
【0060】
図6は、螺旋形状のチューブラリアクター11Cの構成を示す斜視図であり、このチューブラリアクター11Cでは、屈曲した複数のチューブラリアクターユニット11uが垂直軸回りに、螺旋状(スパイラル状)に配置され、連結されて構成される。
【0061】
そして、図4及び図5の構成と同様に、出口側のチューブラリアクターユニット11uを直線状に形成すると共に、チューブ12内にスクリュー31を設け、このスクリュー31で攪拌しながら移送し、スクリューコンベア18で抜き出すように構成する。
【0062】
なお、図4〜図6で示すように、生成されたガスハイドレートスラリーSから水WやガスGを特に分離する必要がない場合や後の工程で分離する場合には、チューブラリアクター11A,11B,11Cの出口側にスクリューコンベア18を設け、セパレータ17を省略してもよい。
【0063】
なお、チューブラリアクターユニット11uのチューブ12の内部にスクリュー31を設ける代りに、図7に示すように、チューブラリアクターユニット11uの間にスクリュー式等の攪拌移送機32を設けてガスハイドレートスラリーSを移送するように構成してもよい。
【0064】
【発明の効果】
以上の説明から明らかなように、本発明によるガスハイドレート製造装置によれば、次のような効果を奏することができる。
【0065】
チューブラリアクター内を通過させる過程(ピストンフロー型)で、ハイドレート形成物質と水とを混合した混合流体を反応させてガスハイドレートを生成するため、ガスハイドレートの生成速度を速めることができる。
【0066】
また、供給する水とハイドレート形成物質の量を調整制御することにより、チューブラリアクターから抜き出されるガスハイドレートスラリー中の水分量を調整でき、この調整によりガスハイドレートスラリー中の水分量を極めて少なくすることができ、また、容易にガスハイドレートと水を分離することができる。
【0067】
更に、チューブラリアクター内で発生する反応熱をチューブの外周のジャケットに供給される冷却媒体で容易に除去することができるので、伝熱効率が向上し、これにより熱除去設備の小型化と建設費の低減を図ることができる。
【0068】
その上、脱水付きセパレータを使用したり、供給水分量をガス量の等量より少なくしたりした場合には、スクリューコンベアで、脱水されたガスハイドレートの次の工程への移送もできる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係るガスハイドレート製造装置の第1の実施の形態の構成を示す図である。
【図2】スタティックミキサー又はスパージャーの構成を示す断面図である。
【図3】本発明に係るガスハイドレート製造装置の第2の実施の形態の構成を示す図である。
【図4】チューブラリアクターの他の構成を示す図である。
【図5】チューブラリアクターの他の構成を示す図である。
【図6】チューブラリアクターの他の構成を示す図である。
【図7】リアクターの他の構成を示す図である。
【図8】従来技術の気泡攪拌法によるガスハイドレート製造装置の構成を示す図である。
【図9】従来技術のスプレー法によるガスハイドレート製造装置の構成を示す図である。
【符号の説明】
1,1A ガスハイドレート製造装置
11,11A,11B,11C,11D チューブラリアクター
11u チューブラリアクターユニット
12 チューブ
13 ジャケット
14 水供給手段(液体供給手段)
15 ガス供給手段(ガスハイドレート形成物質供給手段)
16 スタティックミキサー(混合手段)
17 セパレータ
18 スクリューコンベア
31 スクリュー又は移送翼付き攪拌翼(攪拌手段、移送手段)
32 スクリュー又は移送翼付き攪拌翼(攪拌手段、移送手段)
Claims (13)
- 液体とガスハイドレート形成物質を混合し、加圧下で冷却してガスハイドレートを生成させるガスハイドレート製造装置であって、長尺筒状体からなるチューブラリアクターと、該チューブラリアクターに前記液体を供給する液体供給手段と、該チューブラリアクターに前記ガスハイドレート形成物質を供給するガスハイドレート形成物質供給手段とを備えて形成したことを特徴とするガスハイドレート製造装置。
- 前記チューブラリアクターを、複数のチューブラリアクターユニットを直列に連結して形成したことを特徴とする請求項1記載のガスハイドレート製造装置。
- 前記チューブラリアクターユニットが、前記液体と前記ガスハイドレート形成物質が通過するチューブと、該チューブの外側に設けられ冷却媒体が流通するジャケットとからなることを特徴とする請求項2記載のガスハイドレート製造装置。
- 前記チューブラリアクターの一部に、生成されたガスハイドレートスラリーを攪拌する攪拌手段、又は、生成されたガスハイドレートスラリーを移送する移送手段の少なくとも一方を設けたことを特徴とする請求項1記載のガスハイドレート製造装置。
- 前記チューブラリアクターを構成する前記ジャケット付チューブラリアクターユニット間に、生成されたガスハイドレートスラリーを攪拌する攪拌手段、又は、生成されたガスハイドレートスラリーを移送する移送手段の少なくとも一方を設けたことを特徴とする請求項2又は3に記載のガスハイドレート製造装置。
- 前記チューブラリアクターユニットの少なくとも一つにおいて、該チューブラリアクターユニットのチューブ内に、生成されたガスハイドレートスラリーを攪拌する攪拌手段、又は、生成されたガスハイドレートスラリーを移送する移送手段の少なくとも一方を設けたことを特徴とする請求項3又は5に記載のガスハイドレート製造装置。
- 前記チューブラリアクターの出口側に、該チューブラリアクターにより生成されたガスハイドレートスラリーを導入してガスハイドレートを分離排出するセパレータを配設したことを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載のガスハイドレート製造装置。
- 前記セパレータのガスハイドレートの排出側に、スクリューコンベアを配設したことを特徴とする請求項7記載のガスハイドレート製造装置。
- 前記チューブラリアクターの出口側に、スクリューコンベアを配設したことを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載のガスハイドレート製造装置。
- 前記チューブラリアクターの入口側に、前記液体と前記ガスハイドレート形成物質を混合する混合手段を設けたことを特徴とする請求項1〜9のいずれか1項に記載のガスハイドレート製造装置。
- 前記チューブラリアクターを、略水平方向に配置することを特徴とする請求項1〜10のいずれか1項に記載のガスハイドレート製造装置。
- 前記チューブラリアクターを、スパイラル状に形成することを特徴とする請求項1〜10のいずれか1項に記載のガスハイドレート製造装置。
- 前記請求項1〜12のいずれか1項に記載のガスハイドレート製造装置を使用して、前記液体供給手段により供給された前記液体と前記ガスハイドレート形成物質供給手段により供給された前記ガスハイドレート形成物質を、前記チューブラリアクター内を一方向に流通させながら、加圧下で冷却してガスハイドレートを生成させることを特徴とするガスハイドレートの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002235705A JP4285600B2 (ja) | 2002-08-13 | 2002-08-13 | ガスハイドレート製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002235705A JP4285600B2 (ja) | 2002-08-13 | 2002-08-13 | ガスハイドレート製造装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004075771A true JP2004075771A (ja) | 2004-03-11 |
JP4285600B2 JP4285600B2 (ja) | 2009-06-24 |
Family
ID=32020116
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002235705A Expired - Fee Related JP4285600B2 (ja) | 2002-08-13 | 2002-08-13 | ガスハイドレート製造装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4285600B2 (ja) |
Cited By (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005264105A (ja) * | 2004-03-22 | 2005-09-29 | Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd | ガスハイドレートの製造方法とその装置 |
JP2005320438A (ja) * | 2004-05-10 | 2005-11-17 | Jfe Engineering Kk | ガスクラスレート製造方法及び装置 |
JP2006095417A (ja) * | 2004-09-29 | 2006-04-13 | Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd | ガスハイドレートスラリーの脱水塔 |
JP2006095438A (ja) * | 2004-09-29 | 2006-04-13 | Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd | ガスハイドレートスラリーの流動層反応塔 |
JP2006104386A (ja) * | 2004-10-07 | 2006-04-20 | Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd | ガスハイドレート製造装置 |
JP2006111774A (ja) * | 2004-10-15 | 2006-04-27 | Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd | ハイドレート生成装置 |
JP2006111775A (ja) * | 2004-10-15 | 2006-04-27 | Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd | ガスハイドレート製造装置 |
JP2006111769A (ja) * | 2004-10-15 | 2006-04-27 | Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd | ガスハイドレート製造装置における脱水装置 |
JP2006111776A (ja) * | 2004-10-15 | 2006-04-27 | Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd | ガスハイドレート製造装置 |
JP2006111773A (ja) * | 2004-10-15 | 2006-04-27 | Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd | ハイドレート生成装置 |
JP2006111819A (ja) * | 2004-10-18 | 2006-04-27 | Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd | ガスハイドレート払出し装置 |
JP2006111816A (ja) * | 2004-10-18 | 2006-04-27 | Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd | ガスハイドレート製造方法 |
JP2006124431A (ja) * | 2004-10-26 | 2006-05-18 | Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd | ガスハイドレート生成装置 |
JP2006257359A (ja) * | 2005-03-18 | 2006-09-28 | Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd | 重力脱水式の脱水装置 |
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US10179884B2 (en) | 2013-02-22 | 2019-01-15 | Daewoo Engineering & Construction Co., Ltd. | Device and method for manufacturing natural gas hydrate |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101213770B1 (ko) | 2010-10-05 | 2012-12-18 | 한국생산기술연구원 | 이중나선 가스하이드레이트 반응기 |
-
2002
- 2002-08-13 JP JP2002235705A patent/JP4285600B2/ja not_active Expired - Fee Related
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JP4653993B2 (ja) * | 2004-09-29 | 2011-03-16 | 三井造船株式会社 | ガスハイドレートスラリーの脱水塔 |
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JP4653998B2 (ja) * | 2004-10-15 | 2011-03-16 | 三井造船株式会社 | ガスハイドレート製造装置における脱水装置 |
JP4564326B2 (ja) * | 2004-10-15 | 2010-10-20 | 三井造船株式会社 | ガスハイドレート製造装置 |
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JP4676187B2 (ja) * | 2004-10-18 | 2011-04-27 | 三井造船株式会社 | ガスハイドレート払出し装置 |
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JP2008274129A (ja) * | 2007-04-27 | 2008-11-13 | Mitsui Zosen Akishima Kenkyusho:Kk | ガスハイドレート洗浄塔 |
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JP2013540706A (ja) * | 2010-08-23 | 2013-11-07 | ドングク・ユニヴァーシティー・インダストリー−アカデミック・コーオペレーション・ファンデーション | 天然ガスハイドレート製造装置及び天然ガスハイドレート製造方法 |
KR101495221B1 (ko) | 2010-08-23 | 2015-02-24 | 동국대학교 산학협력단 | 천연가스 하이드레이트 제조 장치 및 천연가스 하이드레이트 제조 방법 |
US9255234B2 (en) | 2010-08-23 | 2016-02-09 | Dongguk University Industry-Academic Cooperation Foundation | Device and method for manufacturing natural gas hydrate |
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CN108514855A (zh) * | 2018-06-04 | 2018-09-11 | 山东豪迈机械制造有限公司 | 一种反应装置 |
CN108514855B (zh) * | 2018-06-04 | 2024-05-24 | 山东豪迈机械制造有限公司 | 一种反应装置 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP4285600B2 (ja) | 2009-06-24 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050607 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20070907 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070918 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20071116 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20081224 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090219 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090310 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090317 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120403 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent (=grant) or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120403 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130403 Year of fee payment: 4 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130403 Year of fee payment: 4 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130403 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140403 Year of fee payment: 5 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |