JP2006111816A - ガスハイドレート製造方法 - Google Patents

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新井  敬
Toshio Yamaki
俊男 八巻
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Abstract

【課題】ガスハイドレートによる水切り部の目詰まりを防止して脱水器の安定的な運転を実現するとともに、定脱水率の運転を実現する。
【解決手段】原料ガスと水とを反応させてガスハイドレートを生成し、該ガスハイドレートと水とが混合したガスハイドレートスラリーを脱水器によって水切りして低含水率のガスハイドレートを製造するガスハイドレート製造方法である。前記脱水器12の水切り部19を所定温度に温めて水切り部19の目詰まりを防止する。
【選択図】 図1

Description

本発明は、原料ガスと水とを反応させてガスハイドレートを生成し、このガスハイドレートを脱水器によって水切りして低含水率のガスハイドレートを製造するガスハイドレート製造方法に関するものである。
メタンなどの炭化水素を主成分とする天然ガスを貯蔵および輸送する方法として、一般に、ガス田から天然ガスを採取した後、液化温度まで冷却し、液化天然ガス(LNG)とした状態で貯蔵および輸送する方法が採られているが、上記のように、天然ガスをLNGとして貯蔵し、または輸送するためには、多大の費用が必要になっている。
従って、近年、天然ガスを水と水和させて固体状態の水和物、すなわち、天然ガスハイドレート(NGH)を生成し、そのままの状態で貯蔵、あるいは輸送することが検討されている。この天然ガスハイドレートは、比較的容易に得られる温度および圧力条件下において製造可能であり、そのため、製造、貯蔵および輸送コストが少なくなり、斯界から注目されている。
ところで、天然ガスハイドレートは、原料ガスと水とを接触させて水和物として固体化させたものであるが、通常、多量の水を含んだスラリー状となる。したがって、このスラリー状の天然ガスハイドレートを貯蔵および輸送すれば、この貯蔵および輸送にかかるコストが膨大になってしまう。
そこで、含水率の低い天然ガスハイドレートを生成し、その貯蔵や輸送にかかるコストを低減することを目的として、スラリー状の天然ガスハイドレートを脱水器に導入して、未反応水を脱水除去する必要がある。そして、この脱水器として、横型スクリュープレス型脱水装置が知られている(例えば、特許文献1参照。)。
特開2003−105362号(第7−10頁、図2)
ところが、このようなスクリュープレス型脱水装置は、メッシュ加工した内壁と、この内壁の外側にあって外殻を構成する筒体との二重構造になっており、内壁内に設置したスクリュー軸によってスラリー状の天然ガスハイドレートを強制的に前進させることによって内壁に加工したメッシュから水を除去するようにしている。
このため、脱水中に天然ガスハイドレートの多くが水と一緒に内壁のメッシュ孔をすり抜け、結果的に天然ガスハイドレートの回収率が低下するという問題がある。
また、スクリュー軸を高トルクで回転させるために、動力費がかかるという問題がある。更に、内部が高圧の状態で高トルクを発生させるため、設備全体が過重になっており、スクリュー軸を高圧から大気圧の領域でシールする必要がある。
このような問題を解決するため、本発明者らは、従来のような機械的な強制脱水ではなく、重力を利用した天然ガスハイドレートスラリーの脱水器について検討した。この脱水器1は、図2に示すように、ガスハイドートスラリーsを導入する導入部4と、ガスハイドレートスラリーsの水wを脱水する水切り部6と、水切り部6で脱水されたガスハイドレートnを導出する導出部5からなる縦型筒状本体2と、水切り部6にてガスハイドレートnから分離した水(濾液)wを集合する脱水集合部3により構成したものである。
ところが、水切り部6で濾過された水(濾液)wが、水切り部6を構成している金網や多孔板の部分で原料ガスと反応してガスハイドレートとなり、このガスハイドレートが水切り部6を構成している金網や多孔板の部分に次第に堆積して金網や多孔板を塞ぐことから、脱水器の脱水性能が次第に低下するという問題がある。
本発明は、このような問題を解決するためになされたものであって、その目的とするところは、ガスハイドレートによる水切り部の目詰まりを防止して脱水器の安定的な運転を実現するとともに、定脱水率の運転を実現するガスハイドレート製造方法を提供することにある。
上記課題を解決するため、本発明は、次のように構成される。
請求項1に記載の発明は、原料ガスと水とを反応させてガスハイドレートを生成し、該ガスハイドレートと水とが混合したガスハイドレートスラリーを脱水器によって水切りして低含水率のガスハイドレートを製造するガスハイドレート製造方法において、前記脱水器の水切り部を所定温度に温めて水切り部の目詰まりを防止することを特徴とするガスハイドレート製造方法である。
請求項2に記載の発明は、前記脱水器の脱水集合部内を、ガスハイドレートの平衡温度よりも高くすることを特徴とする請求項1記載のガスハイドレート製造方法である。
上記のように、請求項1に記載の発明は、原料ガスと水とを反応させてガスハイドレートを生成し、該ガスハイドレートと水とが混合したガスハイドレートスラリーを脱水器によって水切りして低含水率のガスハイドレートを製造するガスハイドレート製造方法において、前記脱水器の水切り部を所定温度に温めて水切り部の目詰まりを防止するため、水切り部を構成している金網や多孔板の目詰まりを未然に防止することが可能になった。
従って、脱水器の安定的な運転を実現することができると共に、定脱水率の運転を実現することが可能となった。
以下、本発明の実施の形態を図面を用いて説明する。
図1において、11はガスハイドレート生成器、12はガスハイドレート生成器11で生成されたスラリー状のガスハイドレートnを脱水する脱水器、13は脱水器12でほぼ脱水されたガスハイドレートnを次工程(図示せず)に横移送するガスハイドレート搬送装置である。
ガスハイドレート生成器11は、耐圧容器14と、原料ガスである天然ガスgを気泡状に噴出するガス噴出ノズル15と、耐圧容器14内を攪拌する攪拌機16により構成されている。
原料ガスには、メタン、エタン、プロパン、ブタンなどの混合ガスである天然ガスのほか、炭酸ガス、フロンガスなどのガスハイドレートを形成するガスを利用することができる。
脱水器12は、ガスハイドレートスラリーsを導入する導入部18と、ガスハイドレートスラリー中の水wを脱水する水切り部19と、水切り部19で脱水されたガスハイドレートnを導出する導出部20からなる縦型筒状本体21と、水切り部19によって濾過された水(濾液)を集合する脱水集合部22により形成されている。
水切り部19は、金網や多孔板を円筒形にしたものであり、その小孔23は、孔径が0.1〜5mmとなるように形成されている。小孔23の孔径が0.1mm未満の場合は、目詰まりが発生し易くなり、逆に、5mmを超えると、ガスハイドレートの流失量が増加し、ガスハイドレートの回収率が低下する。
脱水集合部22は、縦型筒状本体21と同心状になるように、水切り部19の外側に設けられているが、その上部に、例えば、超音波センサーなどの液面センサー35を備え、脱水集合部22内の液面高さhを計測するようになっている。
更に、水切り部19によって濾過された未反応水(濾液)は、ポンプ29を備えた戻しライン28を経てガスハイドレート生成器11に戻されるようになっているが、ポンプ29の手前に流量計36を設け、未反応水(濾液)の戻り量を計測するようになっている。
図中、33は、制御装置であり、脱水集合部22内の液面高さhが設定値よりも低下し、かつ、戻しライン28を戻る未反応水(濾液)の戻り量が設定値よりも減少した場合には、水切り部19が目詰まりしたと判断し、脱水集合部22内に設けた加熱手段としての伝熱部40に温水cをを供給するようになっている。温水供給ライン41は、バルブ42を備え、制御装置33によってオン・オフ制御するようになっている。
次に、このガスハイドレート製造方法について説明する。
ガスハイドレート生成器11にて生成されたガスハイドレートnは、ガスハイドレートの濃度が20%程度のスラリー状である。このガスハイドレートスラリーsは、スラリーポンプ30によって脱水器下端の導入部18内に供給される。
そして、その液面が水切り部19よりも上方に達すると、ガスハイドレートスラリーs中の未反応水wが水切り部19の小孔23から脱水集合部22内に流出する。こうして含水率が約50%程度となったガスハイドレートnは、脱水器12内を上昇して導出部20に至り、ここからガスハイドレート排出装置13によって次工程に移送される。
その間に、脱水集合部22内の液面高さhが設定値よりも低下し、かつ、戻しライン28を戻る未反応水(濾液)wの戻り量が設定値よりも減少した場合には、制御装置33は、水切り部19が目詰まりしたと判断する。
そして、バルブ42を開けてて水噴射ノズル24から脱水集合部22内に清水w’を供給し、脱水集合部22内の液面高さhを水切り部19が水没する高さh’に引き上げる。
その後、ポンプ26を断続運転して伝熱部40に温水cを供給して脱水集合部22内を所定温度、つまり、ガスハイドレートの平衡温度よりも2〜3℃高くなるように加熱する。その結果、水切り部19の表面に付着したガスハイドレートが分解し、水切り部19の目詰まりが解消する。
なお、水切り部19の内側を上昇するガスハイドレートを分解させないために、水切り部表面からの熱伝導を抑えるように水切り部19の材質、厚さを調整すれば、さらに高い温度とすることができる。
以上の説明では、脱水集合部22内に温水cを導入する伝熱部40を設けた場合について説明したが、これに限らず、その他の方法、例えば、脱水集合部22内に所定温度に加熱した原料ガス(例えば、メタン)を供給したり、ライトで脱水集合部22内を加熱したりしてもよい。
本発明の方法を実施するガスハイドレート製造装置の概略構成図である。 従来の脱水器の断面図である。
符号の説明
g 原料ガス
n ガスハイドレート
s ガスハイドレートスラリー
w 水
濾液
1,12 脱水器
19 水切り部
22 脱水集合部

Claims (2)

  1. 原料ガスと水とを反応させてガスハイドレートを生成し、該ガスハイドレートと水とが混合したガスハイドレートスラリーを脱水器によって水切りして低含水率のガスハイドレートを製造するガスハイドレート製造方法において、前記脱水器の水切り部を所定温度に温めて水切り部の目詰まりを防止することを特徴とするガスハイドレート製造方法。
  2. 前記脱水器の脱水集合部内を、ガスハイドレートの平衡温度よりも高くすることを特徴とする請求項1記載のガスハイドレート製造方法。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2007113912A1 (ja) * 2006-04-05 2007-10-11 Mitsui Engineering & Shipbuilding Co., Ltd. ガスハイドレート製造装置及び脱水装置
JP2008232258A (ja) * 2007-03-20 2008-10-02 Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd ガスハイドレート再ガス化装置
JP2008274129A (ja) * 2007-04-27 2008-11-13 Mitsui Zosen Akishima Kenkyusho:Kk ガスハイドレート洗浄塔
RU2488625C2 (ru) * 2011-11-03 2013-07-27 федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Тюменский государственный университет" Способ утилизации попутного нефтяного газа
JP2018146203A (ja) * 2017-03-08 2018-09-20 三菱電機株式会社 自動製氷装置及び冷凍冷蔵庫

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001010988A (ja) * 1999-06-30 2001-01-16 Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd メタンハイドレートの製造方法
JP2001029705A (ja) * 1999-07-21 2001-02-06 Shin Nippon Air Technol Co Ltd 氷スラリーの固液分離装置
JP2001342473A (ja) * 2000-03-30 2001-12-14 Mitsubishi Heavy Ind Ltd ガスハイドレート製造装置およびガスハイドレート脱水装置
JP2003073678A (ja) * 2001-08-31 2003-03-12 Mitsubishi Heavy Ind Ltd ガスハイドレートスラリーの脱水装置及び脱水方法
JP2004075771A (ja) * 2002-08-13 2004-03-11 Mitsui Zosen Plant Engineering Inc ガスハイドレート製造装置
JP2006111784A (ja) * 2004-10-15 2006-04-27 Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd ガスハイドレート製造方法
JP2006111775A (ja) * 2004-10-15 2006-04-27 Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd ガスハイドレート製造装置
JP2006111776A (ja) * 2004-10-15 2006-04-27 Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd ガスハイドレート製造装置

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001010988A (ja) * 1999-06-30 2001-01-16 Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd メタンハイドレートの製造方法
JP2001029705A (ja) * 1999-07-21 2001-02-06 Shin Nippon Air Technol Co Ltd 氷スラリーの固液分離装置
JP2001342473A (ja) * 2000-03-30 2001-12-14 Mitsubishi Heavy Ind Ltd ガスハイドレート製造装置およびガスハイドレート脱水装置
JP2003073678A (ja) * 2001-08-31 2003-03-12 Mitsubishi Heavy Ind Ltd ガスハイドレートスラリーの脱水装置及び脱水方法
JP2004075771A (ja) * 2002-08-13 2004-03-11 Mitsui Zosen Plant Engineering Inc ガスハイドレート製造装置
JP2006111784A (ja) * 2004-10-15 2006-04-27 Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd ガスハイドレート製造方法
JP2006111775A (ja) * 2004-10-15 2006-04-27 Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd ガスハイドレート製造装置
JP2006111776A (ja) * 2004-10-15 2006-04-27 Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd ガスハイドレート製造装置

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2007113912A1 (ja) * 2006-04-05 2007-10-11 Mitsui Engineering & Shipbuilding Co., Ltd. ガスハイドレート製造装置及び脱水装置
JP2008232258A (ja) * 2007-03-20 2008-10-02 Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd ガスハイドレート再ガス化装置
JP2008274129A (ja) * 2007-04-27 2008-11-13 Mitsui Zosen Akishima Kenkyusho:Kk ガスハイドレート洗浄塔
RU2488625C2 (ru) * 2011-11-03 2013-07-27 федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Тюменский государственный университет" Способ утилизации попутного нефтяного газа
JP2018146203A (ja) * 2017-03-08 2018-09-20 三菱電機株式会社 自動製氷装置及び冷凍冷蔵庫

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