JP4578930B2 - ガスハイドレート製造方法 - Google Patents

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本発明は、原料ガスと水とを反応させてガスハイドレートを生成し、このガスハイドレートを脱水器によって水切りして低含水率のガスハイドレートを製造するガスハイドレート製造方法に関するものである。
メタンなどの炭化水素を主成分とする天然ガスを貯蔵および輸送する方法として、一般に、ガス田から天然ガスを採取した後、液化温度まで冷却し、液化天然ガス(LNG)とした状態で貯蔵および輸送する方法が採られているが、上記のように、天然ガスをLNGとして貯蔵し、または輸送するためには、多大の費用が必要になっている。
従って、近年、天然ガスを水と水和させて固体状態の水和物、すなわち、天然ガスハイドレート(NGH)を生成し、そのままの状態で貯蔵、あるいは輸送することが検討されている。この天然ガスハイドレートは、比較的容易に得られる温度および圧力条件下において製造可能であり、そのため、製造、貯蔵および輸送コストが少なくなり、斯界から注目されている。
ところで、天然ガスハイドレートは、原料ガスと水とを接触させて水和物として固体化させたものであるが、通常、多量の水を含んだスラリー状となる。したがって、このスラリー状の天然ガスハイドレートを貯蔵および輸送すれば、この貯蔵および輸送にかかるコストが膨大になってしまう。
そこで、含水率の低い天然ガスハイドレートを生成し、その貯蔵や輸送にかかるコストを低減することを目的として、スラリー状の天然ガスハイドレートを脱水器に導入して、未反応水を脱水除去する必要がある。そして、この脱水器として、横型スクリュープレス型脱水装置が知られている(例えば、特許文献1参照。)。
特開2003−105362号(第7−10頁、図2)
ところが、このようなスクリュープレス型脱水装置は、メッシュ加工した内壁と、この内壁の外側にあって外殻を構成する筒体との二重構造になっており、内壁内に設置したスクリュー軸によってスラリー状の天然ガスハイドレートを強制的に前進させることによって内壁に加工したメッシュから水を除去するようにしている。
このため、脱水中に天然ガスハイドレートの多くが水と一緒に内壁のメッシュ孔をすり抜け、結果的に天然ガスハイドレートの回収率が低下するという問題がある。
また、スクリュー軸を高トルクで回転させるために、動力費がかかるという問題がある。更に、内部が高圧の状態で高トルクを発生させるため、設備全体が過重になっており、スクリュー軸を高圧から大気圧の領域でシールする必要がある。
このような問題を解決するため、本発明者らは、従来のような機械的な強制脱水ではなく、重力を利用した天然ガスハイドレートスラリーの脱水器について検討した。この脱水器1は、図2に示すように、ガスハイドートスラリーsを導入する導入部4と、ガスハイドレートスラリーsの水wを脱水する水切り部6と、水切り部6で脱水されたガスハイドレートnを導出する導出部5からなる縦型筒状本体2と、水切り部6にてガスハイドレートnから分離した水(濾液)wを集合する脱水集合部3により構成したものである。
ところが、水切り部6で濾過された水(濾液)wが、水切り部6を構成している金網や多孔板の部分で原料ガスと反応してガスハイドレートとなり、このガスハイドレートが水切り部6を構成している金網や多孔板の部分に次第に堆積して金網や多孔板を塞ぐことから、脱水器の脱水性能が次第に低下するという問題がある。
本発明は、このような問題を解決するためになされたものであって、その目的とするところは、ガスハイドレートによる水切り部の目詰まりを防止して脱水器の安定的な運転を実現するとともに、定脱水率の運転を実現するガスハイドレート製造方法を提供することにある。
上記課題を解決するため、本発明は、次のように構成される。
請求項1に係る発明は、ガスハイドレート生成器内で原料ガスと水を反応させてガスハイドレートを生成し、該ガスハイドレートと水が混合したガスハイドレートスラリーを脱水器によって水切りして低含水率のガスハイドレートを製造するガスハイドレート製造方法において、
前記脱水器は、ガスハイドレートスラリー導入部と水切り部とガスハイドレート導出部とをこの順に積み重ねた構造の縦型筒状本体と、該縦型筒状本体と同心状になるように前記水切り部の外側に設けた脱水集合部より構成され、
前記脱水集合部には、脱水集合部内の液面高さhを計測する液面センサーと、ポンプ及び流量計を備え水切り部で濾過された濾液をガスハイドレート生成器に戻す戻しラインと、給水手段が設けられ、脱水集合部内の液面高さhが設定値よりも低下すると共に濾液の戻り量が設定値よりも減少した時に、前記給水手段から脱水集合部内に給水して脱水集合部内の液面高さhを水切り部が水没する高さh’に引き上げ、
その後、前記ポンプを断続運転して脱水集合部内の液面を通常の液面高さhと水切り部が水没する液面高さh’の間で上下させて水切り部を洗浄することを特徴とするものである。
上記したように、請求項1に記載の発明は、原料ガスと水とを反応させてガスハイドレートを生成し、該ガスハイドレートと水とが混合したガスハイドレートスラリーを脱水器によって水切りして低含水率のガスハイドレートを製造するガスハイドレート製造方法において、前記脱水器内の液面を上下させて水切り部を洗浄するので、水切り部を構成している金網や多孔板の目詰まりを未然に防止することが可能になった。その結果、脱水器の安定的な運転を実現することができると共に、定脱水率の運転を実現することが可能となった。
以下、本発明の実施の形態を図面を用いて説明する。
図1において、11はガスハイドレート生成器、12はガスハイドレート生成器11で生成されたスラリー状のガスハイドレートを脱水する脱水器、13は脱水器12でほぼ脱水されたガスハイドレートnを次工程(図示せず)に横移送するガスハイドレート搬送装置である。
ガスハイドレート生成器11は、耐圧容器14と、原料ガスである天然ガスgを気泡状に噴出するガス噴出ノズル15と、耐圧容器14内を攪拌する攪拌機16により構成されている。
原料ガスには、メタン、エタン、プロパン、ブタンなどの混合ガスである天然ガスのほか、炭酸ガス、フロンガスなどのガスハイドレートを形成するガスを利用することができる。
脱水器12は、ガスハイドレートスラリーsを導入する導入部18と、ガスハイドレートスラリー中の水wを脱水する水切り部19と、水切り部19で脱水されたガスハイドレートnを導出する導出部20からなる縦型筒状本体21と、水切り部19によって濾過された水(濾液)を集合する脱水集合部22により形成されている。
水切り部19は、金網や多孔板を円筒形にしたものであり、その小孔23は、孔径が0.1〜5mmとなるように形成されている。小孔23の孔径が0.1mm未満の場合は、目詰まりが発生し易くなり、逆に、5mmを超えると、ガスハイドレートの流失量が増加し、ガスハイドレートの回収率が低下する。
脱水集合部22は、縦型筒状本体21と同心状になるように、水切り部19の外側に設けられているが、その上部に、例えば、超音波センサーなどの液面センサー35を備え、脱水集合部22内の液面高さhを計測するようになっている。
更に、水切り部19によって濾過された未反応水(濾液)は、ポンプ29を備えた戻しライン28を経てガスハイドレート生成器11に戻されるようになっているが、ポンプ29の手前に流量計36を設け、未反応水(濾液)の戻り量を計測するようになっている。
図中、33は、制御器であり、脱水集合部22内の液面高さhが設定値よりも低下し、かつ、戻しライン28を戻る未反応水(濾液)の戻り量が設定値よりも減少した場合には、水切り部19が目詰まりしたと判断し、後述する水噴射ノズル24から脱水集合部22内に清水w’を供給するようになっている。
脱水集合部22は、その上部に水供給ノズル24を設けると共に、水供給ノズル24と、清水タンク25と、給水ポンプ26とを給水ライン27によって接続し、清水タンク25内の清水(フレッシュ水)w’を給水ポンプ26によって水噴射ノズル24に供給するようになっている。
次に、このガスハイドレート製造方法について説明する。
ガスハイドレート生成器11にて生成されたガスハイドレートnは、ガスハイドレートの濃度が20%程度のスラリー状である。このガスハイドレートスラリーsは、スラリーポンプ30によって脱水器下端の導入部18内に供給される。
そして、その液面が水切り部19よりも上方に達すると、ガスハイドレートスラリーs中の未反応水wが水切り部19の小孔23から脱水集合部22内に流出する。こうして含水率が約50%程度となったガスハイドレートnは、脱水器12内を上昇して導出部20に至り、ここからガスハイドレート排出装置13によって次工程に移送される。
その間に、脱水集合部22内の液面高さhが設定値よりも低下し、かつ、戻しライン28を戻る未反応水(濾液)wの戻り量が設定値よりも減少した場合には、制御器33は、水切り部19が目詰まりしたと判断する。
そして、ポンプ26を運転して水噴射ノズル24から脱水集合部22内に清水w’を供給し、脱水集合部22内の液面高さhを水切り部19が水没する高さh’に引き上げる。
その後、ポンプ26を断続運転して脱水集合部22内の液面高さを、液面高さhと液面高さh’との間で変動させ、水切り部19を濾液自体で洗浄する。
本発明に係る第1のガスハイドレート製造装置の概略構成図である。 重力を利用した脱水器の断面図である。
符号の説明
g 原料ガス
n ガスハイドレート
s ガスハイドレートスラリー
w 水
濾液
1,12 脱水器
19 水切り部
22 脱水集合部

Claims (1)

  1. ガスハイドレート生成器内で原料ガスと水を反応させてガスハイドレートを生成し、該ガスハイドレートと水が混合したガスハイドレートスラリーを脱水器によって水切りして低含水率のガスハイドレートを製造するガスハイドレート製造方法において、
    前記脱水器は、ガスハイドレートスラリー導入部と水切り部とガスハイドレート導出部とをこの順に積み重ねた構造の縦型筒状本体と、該縦型筒状本体と同心状になるように前記水切り部の外側に設けた脱水集合部より構成され、
    前記脱水集合部には、脱水集合部内の液面高さhを計測する液面センサーと、ポンプ及び流量計を備え水切り部で濾過された濾液をガスハイドレート生成器に戻す戻しラインと、給水手段が設けられ、脱水集合部内の液面高さhが設定値よりも低下すると共に濾液の戻り量が設定値よりも減少した時に、前記給水手段から脱水集合部内に給水して脱水集合部内の液面高さhを水切り部が水没する高さh’に引き上げ、
    その後、前記ポンプを断続運転して脱水集合部内の液面を通常の液面高さhと水切り部が水没する液面高さh’の間で上下させて水切り部を洗浄することを特徴とするガスハイドレート製造方法。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110846095A (zh) * 2019-11-30 2020-02-28 广东石油化工学院 一种沼气净化提纯用的立式脱水装置

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006111775A (ja) * 2004-10-15 2006-04-27 Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd ガスハイドレート製造装置
JP2006111816A (ja) * 2004-10-18 2006-04-27 Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd ガスハイドレート製造方法
EP2006363A4 (en) * 2006-04-05 2012-11-28 Mitsui Shipbuilding Eng APPARATUS FOR GENERATING GASEOUS HYDRATE AND WATER EXTRACTING UNIT
JP5129508B2 (ja) * 2007-04-27 2013-01-30 三井造船株式会社 ガスハイドレート洗浄塔

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001029705A (ja) * 1999-07-21 2001-02-06 Shin Nippon Air Technol Co Ltd 氷スラリーの固液分離装置
JP2005248124A (ja) * 2004-03-08 2005-09-15 Chubu Electric Power Co Inc ガスハイドレートの製造方法及び装置
JP2006095417A (ja) * 2004-09-29 2006-04-13 Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd ガスハイドレートスラリーの脱水塔
JP2006111776A (ja) * 2004-10-15 2006-04-27 Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd ガスハイドレート製造装置

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001029705A (ja) * 1999-07-21 2001-02-06 Shin Nippon Air Technol Co Ltd 氷スラリーの固液分離装置
JP2005248124A (ja) * 2004-03-08 2005-09-15 Chubu Electric Power Co Inc ガスハイドレートの製造方法及び装置
JP2006095417A (ja) * 2004-09-29 2006-04-13 Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd ガスハイドレートスラリーの脱水塔
JP2006111776A (ja) * 2004-10-15 2006-04-27 Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd ガスハイドレート製造装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110846095A (zh) * 2019-11-30 2020-02-28 广东石油化工学院 一种沼气净化提纯用的立式脱水装置
CN110846095B (zh) * 2019-11-30 2021-04-16 广东石油化工学院 一种沼气净化提纯用的立式脱水装置

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