JP2004031102A - 有機el発光素子およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板と、下部電極と、有機EL発光層と、上部電極として機能する低抵抗透明酸化物の層と、高抵抗透明酸化物の層とを含むことを特徴とする有機EL発光素子。
【選択図】 図2
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、有機EL発光素子の構造およびその製法に関する。
【0002】
【従来の技術】
一般的な有機EL発光素子では、ガラス基板上に透明電極を設けて、その上に有機EL発光層を設けて、さらに外部に取り出す光の量を大きくするために裏面に反射膜と電極の機能を併せ持つ層をアルミや銀を用いて形成して、光をガラス面から取り出すのが一般的である。
【0003】
一方、発光素子をディスプレイ等に応用する場合の有力な駆動方法として多結晶シリコンTFTを用いる試みが行われている。このTFT駆動でも従来型と同様に、TFT基板側から光を取り出す方法があるが、トランジスタを発光部の隙間に置かなければいけないので、TFT素子面積が制約される等の問題がある。
【0004】
そこで考えられるのが、トランジスタを発光部の領域まで広げて作り、光は基板の反対側に取り出す方法(トップエミッション方式)である。
【0005】
一般的なトップエミッション方式の有機EL発光素子の構造を図1に示す。該素子は、基板51の上に、TFT52と、下部電極53と、有機EL発光層54と、上部電極55とを有する。ここで、上部電極55は、それを通して光を取り出すために透明であることが求められる。
【0006】
ここで、有機EL発光層54は、酸素または水分などの侵入などにより機能劣化が起こることが知られている。基板51側からの酸素および水分の侵入は、ガラス基板を用いることにより回避することが可能である。したがって、上部電極55の側からの酸素および水分の侵入を防ぐことが、有機EL発光層の機能劣化を防止する点において重要である。
【0007】
現時点においては、上部電極55の上に、充分な光透過性とパッシベーション性とを有する層を別途形成する必要があった。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
TFT駆動を行うトップエミッション方式の有機EL発光素子の場合、上部電極55を素子全面に均一に形成することが一般的である。そこで、上部電極55に対して酸素および水分の侵入を防ぐパッシベーション性を付与することにより、パッシベーション性層の形成の必要性を排除することが好ましい。
【0009】
現在、透明な上部電極55は、主としてITOまたはIZOなどの透明導電性酸化物を用いて形成されている。一般的には、4×10−4Ω・cm程度の抵抗率を有するITOまたはIZOの膜厚200nmの層を上部電極55として用い、導電性と光の透過性とを両立させている。しかし、この膜厚のITOまたはIZOではパッシベーション性が不足し、時間経過と共に、酸素ないし水分による有機EL発光層54の劣化が起こってしまう。
【0010】
しかしながら、ITOまたはIZO膜の膜厚を充分なパッシベーション性を与えるほどに大きくした場合、有機EL発光層からの光の透過量が減少して発光効率が低下する恐れがある。
【0011】
したがって、他の所望される特性に悪影響を与えることなく、パッシベーション性が付与された上部電極が求められている。また、そのような上部電極構造を簡便に作製することができる方法もまた要求されている。
【0012】
【課題を解決するための手段】
本発明の第1の実施形態である有機EL発光素子は、基板と、下部電極と、有機EL発光層と、上部電極として機能する低抵抗透明酸化物の層と、高抵抗透明酸化物の層とを含むことを特徴とする。ここで、前記低抵抗透明酸化物と前記高抵抗透明酸化物とは、酸素含有量が異なる同一成分で構成されていることが好ましい。また、前記低抵抗透明酸化物と前記高抵抗透明酸化物とが、アモルファス構造を有することも好ましい。さらに好ましくは、前記低抵抗透明酸化物と前記高抵抗透明酸化物とは、ITOおよびIZOから成る群から選択される。
【0013】
本発明の第2の実施形態である有機EL発光素子は、基板と、下部電極と、有機EL発光層と、上部電極として機能する透明酸化物の層とを含み、該透明酸化物の層は厚さ方向に酸素濃度勾配を有することを特徴とする。ここで、前記透明酸化物は、アモルファス構造を有していてもよい。さらに、前記透明酸化物は、ITOおよびIZOから成る群から選択されることが好ましい。
【0014】
【発明の実施の形態】
本発明の第1の実施形態である有機EL発光素子は、基板1と、下部電極2と、有機EL発光層3と、低抵抗透明酸化物層4aと、高抵抗透明酸化物層4bとを含むことを特徴とする。ここで、低抵抗透明酸化物層4aと高抵抗透明酸化物層4bとは、酸素含有量が異なる同一成分の透明酸化物から形成されることが好ましい。
【0015】
本発明の下部電極2は、有機EL発光層3に対するキャリア注入性が高いこと、かつ有機EL発光層3における発光を上部電極側に反射することが求められる。また、本発明の有機EL素子において、発光部位は下部電極2の形状で規定される。したがって、多数の発光部位をマトリクス状に配置されるディスプレイに対して本発明の有機EL発光素子を用いる場合、下部電極2は発光部位に対応して多数に分割され、かつTFTのような駆動用素子と1対1に接続されていることが好ましい。一方、有機EL発光素子の全面を均一に発光させる光源としての用途においては、下部電極2は一体として形成することができる。
【0016】
下部電極2を陽極として用いる場合、ホール注入性を向上させるために仕事関数の大きい材料により下部電極を形成する。適当な材料は、ITOまたはIZOのような透明導電性酸化物を含む。トップエミッション方式を採る場合には、下部電極2と基板1との間に反射性金属層(例えば、Alなど)を設けることにより、有機EL発光層3の発光を上部電極に向かって反射させることが好ましい。
【0017】
下部電極2を陰極として用いる場合、電子注入性を付与するために仕事関数が小さい材料により下部電極を形成する。適当な材料は、リチウム、ナトリウム等のアルカリ金属、カリウム、カルシウム、マグネシウム、ストロンチウム等のアルカリ土類金属、またはこれらのフッ化物等からなる電子注入性の金属、その他の金属との合金あるいは化合物を含む。トップエミッション方式を採る場合には、必須ではないが、下部電極2と基板1との間に反射性金属層(例えば、Alなど)を設けることにより反射性を付与することが好ましい。
【0018】
本発明の下部電極2は、蒸着、スパッタ等の方法を用いて基板1上に形成することができる。ここで用いる基板1は、ガラス基板、プラスチック基板などを用いることができ、あるいは駆動用素子としてTFTが既に形成されているTFT基板であってもよい。
【0019】
本発明の下部電極2は、20nm以上、好ましくは70〜150nmの厚さを有する。このような厚さを有することにより、良好な反射性と、TFTへの遮光性(TFTを用いる場合)とを実現することができる。
【0020】
以上のように形成された下部電極2上に、有機EL発光層3が形成される。本発明の有機EL発光素子においては、有機EL発光層3は、少なくとも有機発光層を含み、必要に応じて、正孔注入層、正孔輸送層、および/または電子注入層を介在させた構造を有する。具体的には、下記のような層構成からなるものが採用される(ただし、陽極は有機発光層または正孔注入層に接続され、陰極は有機発光層または電子注入層に接続される)。
【0021】
(1)有機発光層
(2)正孔注入層/有機発光層
(3)有機発光層/電子注入層
(4)正孔注入層/有機発光層/電子注入層
(5)正孔注入層/正孔輸送層/有機発光層/電子注入層
(6)正孔注入層/正孔輸送層/有機発光層/電子輸送層/電子注入層
【0022】
上記各層の材料としては、公知のものが使用される。青色から青緑色の発光を得るためには、有機発光層中に、例えばベンゾチアゾール系、ベンゾイミダゾール系、べンゾオキサゾール系などの蛍光増白剤、金属キレート化オキソニウム化合物、スチリルベンゼン系化合物、芳香族ジメチリディン系化合物などが好ましく使用される。また、電子注入層としては、キノリン誘導体(たとえば、8−キノリノールを配位子とする有機金属錯体)、オキサジアゾール誘導体、ペリレン誘導体、ピリジン誘導体、ピリミジン誘導体、キノキサリン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、ニトロ置換フルオレン誘導体などを用いることができる。有機EL発光層3は、蒸着(好ましくは抵抗加熱蒸着)のような任意の既知の手段により形成することが可能である。
【0023】
次に、有機EL発光層3の全面を覆って、低抵抗透明酸化物層4aが形成される。この低抵抗透明酸化物層4aは、上部電極として機能することが求められ、低い抵抗率と高いキャリア注入性とが求められる。透明酸化物としては、IZOまたはITOを用いることができる。
【0024】
これらIZOおよびITOは、高い仕事関数を有するため、陽極として用いるのに適当である。一方、低抵抗透明酸化物層4aを陰極として用いる場合、低抵抗透明酸化物層4aと有機EL発光層3の間に、仕事関数が小さい材料の層を設けて、電子注入効率を向上させてもよい。この場合の仕事関数が小さい材料としては、リチウム、ナトリウム等のアルカリ金属、カリウム、カルシウム、マグネシウム、ストロンチウムなどのアルカリ土類金属、またはこれらのフッ化物等からなる電子注入性の金属、その他の金属との合金や化合物を用いることができる。電子注入効率を向上させるためには、10nm以下の厚さの仕事関数が小さい材料の層があれば充分であり、かつ必要とされる透明性を維持する観点からも好ましい。
【0025】
低抵抗透明酸化物層4aは、1×10−4〜1×10−3Ω・cmの抵抗率を有する透明酸化物から形成されることが好ましい。また、低抵抗透明酸化物層4aは、50〜500nmの膜厚を有することが好ましい。そのような範囲の抵抗率および膜厚を有することにより、有機EL発光層3からの発光を充分に透過させつつ、電極としての機能を十全に果たすことが可能となる。
【0026】
低抵抗透明酸化物層4aの全面を覆って、高抵抗透明酸化物層4bが形成される。好ましくは、低抵抗透明酸化物層4aに用いた透明酸化物の酸素含有量を増大させたものを、高抵抗透明酸化物層4bとして用いる。酸素含有量を増大させることにより、抵抗率が増大する一方で、光に対する透明性が増大する。
【0027】
高抵抗透明酸化物層4bは、所望されるパッシベーション性を与える任意の膜厚を有することができるが、好ましくは50〜500nmの膜厚を有する。このような高抵抗透明酸化物層4bを形成する材料は、1〜1×105Ω・cmの抵抗率を有することが好ましい。酸素含有量を増大させた高抵抗透明酸化物は低抵抗透明酸化物よりも透明性が高いため、有機EL発光層の発光を充分に透過させる。したがって、低抵抗透明酸化物層4aと高抵抗透明酸化物層4bとを合わせた透明酸化物層の膜厚を大きくすることが可能となり、素子の発光効率の低下を伴うことなく、酸素および水分の侵入を防ぐパッシベーション性を付与することが可能となる。
【0028】
高抵抗透明酸化物層4bに用いる透明酸化物は、アモルファス構造を有することが好ましい。何ら理論に束縛されることを意図するものではないが、アモルファス構造には結晶粒界が存在せず、全面にわたって均質な膜を形成されるために、高いパッシベーション性を実現しやすいと考えている。IZOは本質的にアモルファス構造を有する。また、成膜時の基板温度を室温(25℃)以下に制御することにより、アモルファス構造のITOを成膜することができる。
【0029】
低抵抗透明酸化物層4aおよび高抵抗透明酸化物層4bは、蒸着ないしスパッタ法により形成することができる。IZOの場合は、InおよびZnそれぞれの蒸発源、In2O3およびZnOそれぞれの蒸発源、またはIn2O3:ZnO混合物の蒸発源を用い、酸素雰囲気下で蒸着ないしスパッタを行うことができる。好ましくは、In2O3:ZnO混合物をターゲットとして、酸素雰囲気下でのスパッタ法が用いられる。ITOの場合も、Znの代りにSn、ZnOの代りにSnO2を用いることを除いて同様の手法を用いることができる。特にアモルファスITOを形成する場合には、基板を室温以下に冷却して、In2O3:SnO2混合物をターゲットとする酸素雰囲気下でのスパッタ法を用いることが好ましい。低抵抗透明酸化物層4aおよび高抵抗透明酸化物層4bを蒸着法で形成する場合には、酸素ガス中で蒸着を実施し、酸素ガスの圧力を変化させることにより前述の両層を形成することができる。
【0030】
低抵抗透明酸化物層4aは、酸素分圧を5%以下、好ましくは2.5%以下としたO2/Arガス(全圧0.1〜0.5Pa)中でのスパッタにより形成することができる。これに対して、高抵抗透明酸化物層4bは、酸素分圧が20〜60%、好ましくは30〜50%であるO2/Arガス(全圧0.1〜0.5Pa)を用いる。高抵抗透明酸化物層4bの形成条件は、酸素分圧を増大させることを除いて低抵抗透明酸化物層4aの形成条件と同一であるので、同一装置内で順次的に実施することが可能である。したがって、パッシベーション性の高い膜を別途に積層させる場合と比較して、別の蒸着源あるいは装置を準備する必要もなく、簡略化された工程により発光特性の劣化のない優れた有機EL発光素子を製造することが可能となる。
【0031】
本発明の第2の実施形態である有機EL発光素子は、図3に示すように、基板1と、下部電極2と、有機EL発光層3と、上部電極として機能する透明酸化物層5とを含み、該透明酸化物層5は厚さ方向に酸素濃度勾配を有することを特徴とする。ここで、該透明酸化物は、アモルファス構造を有してもよく、好ましくはITOおよびIZOから成る群から選択されてもよい。
【0032】
基板1、下部電極2、および有機EL発光層3は、第1の実施形態のものと同様である。
【0033】
透明酸化物層5は、厚さ方向に酸素濃度勾配を有する。透明酸化物層5は、上部電極として機能すると同時に、酸素および水分が有機EL発光層3に侵入することを防止し、かつ有機EL発光層3の発光を効率よく透過させることを求められる。有機EL発光層3と接触する側は酸素濃度が低い低抵抗領域であり、高い導電性を有し、電極としての機能を果たす。有機EL発光層3と反対側は酸素濃度が高い高抵抗領域であり、高い絶縁性を有し、有機EL発光層3を保護するパッシベーション層としての機能を果たす。透明酸化物層5に対してパッシベーション性を付与する観点からは、該透明酸化物がアモルファス構造を有することが好ましい。アモルファス構造を採ることが可能で、高い透明性を有する観点から、透明酸化物としてIZOないしITOを用いることが好ましい。
【0034】
透明酸化物層5の低抵抗領域は、第1の実施形態の低抵抗透明酸化物層4aと同様に、1×10−4〜1×10−3Ω・cmの抵抗率を有することが好ましい。前記の範囲内の抵抗率を有する低抵抗領域は、50〜500nmの膜厚を有することが好ましい。これによって、良好な導電性と充分な透明性を両立させることが可能となる。
【0035】
透明酸化物層5の高抵抗領域は、第1の実施形態の高抵抗透明酸化物層4bと同様に、1〜1×105Ω・cmの抵抗率を有することが好ましい。前記の範囲内の抵抗率を有する高抵抗領域は、50〜500nmの膜厚を有することが好ましい。高抵抗領域は光透過率が大きいので、透明酸化物層5の膜厚を大きくして、良好なパッシベーション性を付与することが可能となる。
【0036】
透明酸化物層5は、酸素雰囲気下における蒸着ないしスパッタ法において、酸素圧力ないし酸素分圧を連続的に変化させることにより形成することができる。利用可能な蒸着源は、前述と同様である。透明酸化物層5の作成は、最初に低濃度酸素雰囲気下でスパッタを開始し、徐々に酸素分圧を上昇させながら実施される。あるいはまた、最初に一定の低濃度酸素雰囲気下において所望の厚さの低抵抗領域を積層した後に、酸素分圧の上昇を開始してもよい。好ましくは、低濃度分圧のO2/Arガス中での低抵抗領域を作成する。該酸素分圧が全圧の5%以下、好ましくは全圧の2.5%以下であることが好ましい。高抵抗領域の作成時には、酸素分圧が全圧の20〜60%、好ましくは全圧の30〜50%に到達することが好ましい。透明酸化物層5形成時の全圧は、0.1〜0.5Paに保持されることが好ましい。このようにして、パッシベーション性の高い膜を別途に積層させる場合と比較して、別の蒸着源あるいは装置を準備する必要もなく、簡略化された工程により発光特性の劣化のない優れた有機EL発光素子を製造することが可能となる。
【0037】
本発明の有機EL素子は、有機EL発光層3からの光をそのまま用いてもよいし、あるいは蛍光色変換材料の層を設けて有機EL発光層3からの光を波長変換して用いてもよい。蛍光色変換材料の層は、上部電極4の上に積層してもよいし、あるいは別の透明基板の上に積層して色変換フィルターを形成し、該色変換フィルターをEL素子の上に貼り合わせてもよい。これらの層形成および貼り合わせ(貼り合わせに必要な層の形成を含む)は慣用の手段を用いて行ってもよい。
【0038】
また、本発明の有機EL素子は、単一色の光を発してもよいし、あるいは異なる色の複数の光を発してもよい。好ましくは、赤、緑、青の各発光部をマトリクス上に配列した色変換フィルターと組み合わせて、ディスプレイとして用いられる。ディスプレイとして用いる場合、TFTなどのような制御素子を用いてアクティブマトリクス駆動を行うことが好ましい。
【0039】
色変換フィルターの貼り合わせによって形成されるトップエミッション方式の有機ELディスプレイの一例を図4に示す。スイッチング素子としてTFT22があらかじめ形成されている基板21の上に、下部電極23、有機発光層24、低抵抗透明酸化物層25aおよび高抵抗透明酸化物層25bからなる有機EL素子が形成される。この際、下部電極23および有機発光層24を設けた基板21に対して、本発明の方法を用いて低抵抗透明酸化物層24aおよび高抵抗透明酸化物層24bを形成する。低抵抗透明酸化物層24aが上部透明電極として機能する。一方、透明基板32の上に、所望される色変換フィルター層を形成する。図4においては、青色、緑色および赤色の色変換フィルター層が形成されており、青色変換フィルター層は青色カラーフィルター層26Bから構成され、および緑色および赤色変換フィルター層は、それぞれカラーフィルター層26Gおよび26Rと色変換層27Gおよび27Rとの積層体で構成されている。また、各色変換フィルター層の間にはブラックマスク33が形成されている。次に、それら色変換フィルター層およびブラックマスク33上に保護層28を形成し、さらに上記の層を覆うようにカラーフィルタ用パッシベーション層29を形成して、色変換フィルターが得られる。次に有機EL素子と色変換フィルターとを、それらの間に充填剤層30を形成しながら位置合わせをして貼り合わせ、最後に周辺部分を封止樹脂(接着剤)31を用いて封止して、有機ELディスプレイが得られる。
【0040】
【実施例】
(実施例1)
Ni3Pの組成を持つターゲットを用いるスパッタ法にて、100nmの厚さのNi3P膜をガラス基板上に作製した。この上に、仕事関数を有機EL発光層の注入レベルに合わせるためにIZOをスパッタにて10nm作製した。この積層膜を通常のフォトプロセスにて2mm×2mmのパターンが得られるマスクを用いてパターン形成して、下部電極とした。この下部電極を陽極として用いる。その後に、この表面を室温において酸素プラズマを用いてクリーニングした。
【0041】
この陽極上に有機EL発光層を成膜した。その構造は、有機膜として正孔注入層/正孔輸送層/発光層/電子注入層の4構造とし、正孔注入層として銅フタロシアニン(CuPc)を100nm積層し、正孔輸送層として4,4’−ビス[N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ]ビフェニル(α−NPD)を20nm積層した。さらに、発光層として4,4’−ビス(2,2−ジフェニルビニル)ビフェニル(DPVBi)を30nm積層し、電子注入層としてアルミニウムトリス(8−キノリノラート)(Alq)を20nm積層した。さらに上部透明電極を成膜するときのダメージを緩和するために銅フタロシアニン(CuPc)を20nm成膜した。
【0042】
これらの成膜を終了した後、O2ガスを流量1.3sccm、Arガスを流量58.7sccmで流しながら、系の全圧を0.4Pa(O2分圧2.2%)とした。無定形のIn2O3:ZnO(ZnOモル比で5%)をターゲットとするスパッタにより、膜厚200nmのIZO低抵抗透明酸化物層を作成して、スパッタを停止した。次に、系の全圧を0.4Paに維持しながら、O2ガスの流量を24sccm、Arガスの流量を36sccmに変更し、O2分圧を40%とした。そして、スパッタを再開して、膜厚200nmのIZO高抵抗透明酸化物層を作成した。前記低抵抗透明酸化物層を陰極とした。これにより、2mm×2mmの寸法の画素を複数個有する有機EL発光素子が得られた。
【0043】
こうして得られた有機EL発光素子をグローブボックス内の乾燥窒素雰囲気(酸素および水分濃度ともに10ppm以下)下において、封止ガラスとUV硬化接着剤を用いて封止した。
【0044】
得られた有機EL発光素子について、画素中の微小な欠陥について検討した。順方向に2mAの電流を流して100時間の連続駆動を行った後に、画素を顕微鏡で観察して、数μm〜数十μmの非発光の点(ダークスポット)が観察した。本実施例の素子は、2mm×2mmの画素中に、多くて2〜3個程度のダークスポットを有し、大部分の画素にはダークスポットが存在しなかった。
【0045】
(実施例2)
実施例1に記載の条件を用いて、ガラス基板上に膜厚200nmのIZO低抵抗透明酸化物層および膜厚200nmのIZO高抵抗透明酸化物層を作成した。その光透過率を測定したところ、波長470nmの光に対して89%の透過率を有した。
【0046】
(実施例3)
O2ガスを流量24sccm、Arガスを流量36sccmで流しながら、系の全圧を0.4Pa(O2分圧2.2%)とした。無定形のIn2O3:ZnO(ZnOモル比で5%)をターゲットとするスパッタにより、ガラス基板上に膜厚200nmのIZO高抵抗透明酸化物層のみを作成した。この層は、実施例1のIZO高抵抗透明酸化物層と同一の組成を有する。その光透過率を測定したところ、波長470nmの光に対して93%の透過率を有した。
【0047】
(比較例1)
高抵抗透明酸化物層を形成しなかったことを除いて、実施例1を繰り返して有機EL発光素子を得た。得られた有機EL発光素子は、2mm×2mmの画素中に平均でおよそ20個のダークスポットが観察された。この結果から、実施例1の高抵抗透明酸化物層がダークスポットの抑制に極めて効果的であることが分かる。
【0048】
(比較例2)
O2ガスを流量1.3sccm、Arガスを流量58.7sccmで流しながら、系の全圧を0.4Pa(O2分圧2.2%)とした。無定形のIn2O3:ZnO(ZnOモル比で5%)をターゲットとするスパッタにより、ガラス基板上に膜厚400nmのIZO低抵抗透明酸化物層を作成した。その光透過率を測定したところ、波長470nmの光に対して83%の透過率を有した。全膜厚の等しい実施例2の積層体と比較して、光透過率が低下していることが分かる。
【0049】
(比較例3)
O2ガスを流量1.3sccm、Arガスを流量58.7sccmで流しながら、系の全圧を0.4Pa(O2分圧2.2%)とした。無定形のIn2O3:ZnO(ZnOモル比で5%)をターゲットとするスパッタにより、ガラス基板上に膜厚200nmのIZO低抵抗透明酸化物層を作成した。その光透過率を測定したところ、波長470nmの光に対して90%の透過率を有した。膜厚の等しい実施例3のIZO高抵抗透明酸化物層と比較して、光透過率が低下していることが分かる。
【0050】
(実施例4)
実施例1と同様の方法を繰り返して、基板上に下部電極(陽極)および有機EL発光層を形成した。
【0051】
これらの成膜を終了した後、O2ガスを流量1.3sccm、Arガスを流量58.7sccmで流しながら、系を0.4Pa(O2分圧2.2%)まで減圧した。無定形のIn2O3:ZnO(ZnOモル比で5%)をターゲットとするスパッタにより、膜厚200nmのIZO透明酸化物層の低抵抗領域を作成した。次に、スパッタを継続しつつ、系を0.4Paに維持しながら、O2ガスの流量を24sccm、Arガスの流量を36sccmに連続的に変化させて、IZO透明酸化物層の高抵抗領域を作成した。最終的なO2分圧は、40%であった。低抵抗から高抵抗へ変化する領域の厚さは40nmであり、高抵抗領域の厚さは160nmであり、したがってIZO透明酸化物層の全膜厚は400nmであった。これにより、2mm×2mmの寸法の画素を複数個有する有機EL発光素子が得られた。
【0052】
実施例1と同様にダークスポットを観察した。本実施例の素子は、2mm×2mmの画素中に、多くて2〜3個程度のダークスポットを有し、大部分の画素にはダークスポットが存在しなかった。
【0053】
【発明の効果】
以上のように、上部電極として機能する低抵抗透明酸化物層と、パッシベーション層として機能する高抵抗透明酸化物層とを有する本発明の構造を採ることにより、ダークスポットのような微小欠陥が少なく、かつ発光効率の高い有機EL発光素子を得ることができる。さらに、低抵抗透明酸化物層および高抵抗透明酸化物層は、成膜時の酸素分圧を変更するのみで同一の蒸発源から形成することが可能であり、これによって該素子の製造工程を簡略化することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の有機EL発光素子の概略断面図である。
【図2】本発明の第1の実施形態の有機EL発光素子の概略断面図である。
【図3】本発明の第2の実施形態の有機EL発光素子の概略断面図である。
【図4】本発明の第1の実施形態の有機EL発光素子を用いて作成される有機ELディスプレイの一例の概略断面図である。
【符号の説明】
1,21,51 基板
2,23,53 下部電極
3,24,54 有機EL発光層
4a,25a 低抵抗透明酸化物層
4b,25b 高抵抗透明酸化物層
5 透明酸化物層
22,52 TFT
26(R,G,B) カラーフィルター層
27(R,G) 色変換層
28 保護層
29 カラーフィルタ用パッシベーション層
30 充填剤層
31 封止樹脂
32 透明基板
33 ブラックマスク
55 上部電極
Claims (14)
- 基板と、下部電極と、有機EL発光層と、上部電極として機能する低抵抗透明酸化物の層と、高抵抗透明酸化物の層とを含むことを特徴とする有機EL発光素子。
- 前記低抵抗透明酸化物と前記高抵抗透明酸化物とは、同一元素から構成されており、酸素含有量が異なることを特徴とする請求項1に記載の有機EL発光素子。
- 前記低抵抗透明酸化物と前記高抵抗透明酸化物とは、アモルファス構造を有することを特徴とする請求項1に記載の有機EL発光素子。
- 前記低抵抗透明酸化物と前記高抵抗透明酸化物とは、ITOおよびIZOから成る群から選択されることを特徴とする請求項1に記載の有機EL発光素子。
- 基板と、下部電極と、有機EL発光層と、上部電極として機能する透明酸化物の層とを含み、該透明酸化物の層は厚さ方向に酸素濃度勾配を有することを特徴とする有機EL発光素子。
- 前記透明酸化物は、アモルファス構造を有することを特徴とする請求項5に記載の有機EL発光素子。
- 前記透明酸化物は、ITOおよびIZOから成る群から選択されることを特徴とする請求項5に記載の有機EL発光素子。
- 基板上に下部電極を形成する工程と、
前記下部電極上に有機EL発光層を形成する工程と、
酸素雰囲気下において、前記有機EL発光層上に低抵抗透明酸化物層を形成する工程と、
酸素雰囲気下において、前記低抵抗透明酸化物層上に高抵抗透明酸化物層を形成する工程と
を真空を破ることなしに実施することを特徴とする有機EL発光素子の製造方法。 - 前記低抵抗透明酸化物と前記高抵抗透明酸化物は、同一元素から構成されており、酸素含有量が異なることを特徴とする請求項8に記載の有機EL発光素子の製造方法。
- 前記低抵抗透明酸化物および前記高抵抗透明酸化物は、酸素含有量が異なるIZOまたはITOであることを特徴とする請求項9に記載の有機EL発光素子の製造方法。
- 前記低抵抗透明酸化物層を形成する工程の酸素雰囲気は、酸素分圧が全圧の5%以下であり、および
前記高抵抗透明酸化物層を形成する工程の酸素雰囲気は、酸素分圧が全圧の20から60%であることを特徴とする請求項8に記載の有機EL発光素子の製造方法。 - 基板上に下部電極を形成する工程と、
前記下部電極上に有機EL発光層を形成する工程と、
酸素雰囲気下において、酸素分圧を増大させながら前記有機EL発光層上に厚さ方向に酸素濃度勾配を有する透明酸化物層を形成する工程と
を真空を破ることなしに実施することを特徴とする有機EL発光素子の製造方法。 - 前記透明酸化物は、IZOまたはITOであることを特徴とする請求項12に記載の有機EL発光素子の製造方法。
- 前記透明酸化物層の形成を開始する時点の酸素分圧が全圧の5%以下であり、および
前記透明酸化物層を形成する工程の形成の終了時の酸素分圧が全圧の20から60%であることを特徴とする請求項12に記載の有機EL発光素子の製造方法。
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