JP2005276689A - 有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法、導電酸化物膜を含む電極または配線の形成方法、電子装置の製造方法、有機エレクトロルミネッセンス素子および電子装置 - Google Patents
有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法、導電酸化物膜を含む電極または配線の形成方法、電子装置の製造方法、有機エレクトロルミネッセンス素子および電子装置 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】 有機物材料膜の上に非反応性スパッタリング法で導電性材料保護膜を積層し、その後、この膜の表面から低電子温度高密度プラズマ装置による酸素ラジカルイオンを使ったプラズマ酸化法を利用して酸化物膜へと変換させて、電極を形成する。このように、有機物材料膜を導電性保護膜で覆った状態で酸化物膜へ変換することにより、有機物材料膜に生じる欠陥準位形成ダメージを抑制できる。
【選択図】 図2
Description
12 第1の金属電極膜
14 有機物材料膜
18 金属合金材料膜
18’ 金属酸化物材料膜
20 金属酸化物材料膜
Claims (48)
- 基材上に第1の電極層を設ける工程と、前記第1の電極層上に発光層を有する有機物材料膜を設ける工程と、前記有機材料膜の上に第2の電極層を設ける工程とを含む有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法において、前記第1の電極を設ける工程と前記第2の電極を設ける工程との少なくとも一方は、金属膜を少なくとも1層成膜し、該金属膜の表面から酸素ラジカルイオンを使ったプラズマ酸化法を利用して酸化し、該金属膜を全体的にあるいは部分的に金属酸化膜へ変換させて該金属酸化膜を前記電極の少なくとも一部とする工程を有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
- 前記金属膜は、単元素金属材料、金属合金材料、および窒化金属材料の少なくとも一つを非反応性スパッタリングで成膜したものであることを特徴とする請求項1に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
- 前記金属膜は、インジウム、錫、亜鉛、アルミニウム、イリジウム、ルテニウム、希土類金属およびアルカリ土類金属からなる群から選ばれた単元素金属、前記群から選ばれた単元素金属の少なくともひとつを含む合金、および前記群から選ばれた単元素金属の少なくともひとつを含む窒化金属のすくなくとも一つからなり、その膜厚が0.1nm〜10nmであることを特徴とする請求項1または2に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
- 前記金属膜は、前記有機材料膜に対する保護膜として用いられることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1つに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
- 前記金属酸化膜は実質的に透明であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1つに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
- 前記酸化は、毎分0.05から0.5nmの酸化レートで行うことを特徴とする請求項1〜5のいずれか1つに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
- 前記第1の電極を設ける工程と前記第2の電極を設ける工程との少なくとも一方は、金属膜を成膜し、該金属膜の表面から酸素ラジカルイオンを使ったプラズマ酸化法を利用して毎分0.05から0.5nmの酸化レートで酸化し、該金属膜を全体的にあるいは部分的に金属酸化膜へ変換させ、該金属酸化膜上に反応性スパッタリング法で毎分1〜5nmのスパッタリングレートで金属酸化膜を積層する工程を含んでいることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1つに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
- 同一材料もしくは異なる材料の前記金属膜を2層成膜し、該金属膜の上層膜を酸素ラジカルイオンを使ったプラズマ酸化法で酸化して金属酸化膜とすることによって、下層の金属膜と上層の金属酸化膜とからなる2層を前記電極の少なくとも一部とするか、または前記金属膜を1層成膜し、該金属膜の表面部のみを酸素ラジカルイオンを使ったプラズマ酸化法で酸化して金属酸化膜とすることによって、前記金属膜の非酸化部分と酸化部分とからなる2層を前記電極の少なくとも一部とすることを特徴とする請求項1〜7のいずれか1つに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
- 前記プラズマ酸化法は、マイクロ波励起低電子温度高密度プラズマによる酸化であることを特徴とする請求項1〜8のいずれか1つに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
- 前記プラズマ酸化法は、前記基材に対して13.56MHz以下の高周波を印加することにより、前記金属膜の表面に入射するイオンエネルギとイオン照射量を制御してプラズマ酸化レートを精密制御することを特徴とする請求項9に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
- 前記金属膜は、非晶質の単元素金属材料または窒化金属材料を1nm以下の膜厚に形成し、その後非晶質の金属合金材料を形成して成膜することを特徴とする請求項8に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
- 前記非晶質の単元素金属材料または窒化金属材料、および前記非晶質の金属合金材料をそれぞれスパッタリング法で形成することを特徴とする請求項11に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
- 前記金属膜の成膜の後、減圧雰囲気のもとで、あるいは、水分濃度を制御した不活性ガスまたはドライエアーガスに雰囲気を置換して大気圧から100Torrまでの範囲の圧力のもとで前記基材が搬送され、連続して前記酸化処理が行われることを特徴とする請求項1〜8のいずれか1つに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
- 発光層を含む有機物材料膜と導電性の酸化物を含む電極膜とを備えた有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法において、前記電極膜の材料となる導電材料膜を形成する第1の工程と、当該導電材料膜の一部または全部を前記導電性の酸化物を含む電極膜に変換する第2の工程とを含むことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
- 請求項14において、前記第2の工程では、前記導電材料膜の一部のみを前記電極膜に変換し、前記電極膜と前記有機物材料膜との間に、前記導電材料膜によって形成された膜を残すことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
- 請求項14において、前記第1の工程の前に、前記有機物材料膜上に、少なくとも一層の導電材料膜を形成する工程を有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
- 発光層を含む有機物材料膜と導電性の酸化物を含む透明電極膜とを備えた有機エレクトロルミネッセンス素子において、前記透明電極膜と前記有機物材料膜との間には、前記透明電極膜を形成する材料と同一の保護膜が形成されていることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。
- 基板上に導電材料膜を少なくとも1層成膜する工程と、該導電材料膜をその表面から酸素ラジカルイオンを使ったプラズマ酸化法を利用して酸化し、該導電材料膜の一部または全部を導電酸化物膜へ変換させる工程とを含むことを特徴とする導電酸化物膜を含む電極または配線の形成方法。
- 前記導電材料膜は、単元素金属材料、金属合金材料、および窒化金属材料の少なくとも一つを非反応性スパッタリングで成膜したものであることを特徴とする請求項18に記載の導電酸化物膜を含む電極または配線の形成方法。
- 前記導電材料膜は、インジウム、錫、亜鉛、アルミニウム、イリジウム、ルテニウム、希土類金属およびアルカリ土類金属からなる群から選ばれた単元素金属、前記群から選ばれた単元素金属の少なくともひとつを含む合金、および前記群から選ばれた単元素金属の少なくともひとつを含む窒化金属のすくなくとも一つからなり、その膜厚が0.1nm〜10nmであることを特徴とする請求項18または19に記載の導電酸化物膜を含む電極または配線の形成方法。
- 前記導電材料膜は、前記有機材料膜に対する保護膜として用いられることを特徴とする請求項18〜20のいずれか1つに記載の導電酸化物膜を含む電極または配線の形成方法。
- 前記導電酸化物膜は実質的に透明であることを特徴とする請求項18〜21のいずれか1つに導電酸化物膜を含む電極または配線の形成方法。
- 前記酸化は、毎分0.05から0.5nmの酸化レートで行うことを特徴とする請求項18〜22のいずれか1つに記載の導電酸化物膜を含む電極または配線の形成方法。
- 前記導電材料膜を少なくとも1層成膜する工程は、導電材料膜を成膜し、該導電材料膜の表面から酸素ラジカルイオンを使ったプラズマ酸化法を利用して毎分0.05から0.5nmの酸化レートで酸化し、該導電材料膜を全体的にあるいは部分的に金属酸化膜へ変換させ、該金属酸化膜上に反応性スパッタリング法で毎分1〜5nmのスパッタリングレートで導電酸化物膜を積層する工程を含んでいることを特徴とする請求項18〜23のいずれか1つに記載の導電酸化物膜を含む電極または配線の形成方法。
- 前記導電材料膜を少なくとも1層成膜する工程は、同一材料もしくは異なる材料の導電材料の上層膜および下層膜を成膜する工程を含み、また前記変換工程は前記上層膜を酸素ラジカルイオンを使ったプラズマ酸化法で酸化して導電酸化物膜とする工程を含み、下層の導電材料膜と上層の導電酸化物膜とからなる2層を電極またじは配線の少なくとも一部とすることを特徴とする請求項18〜24のいずれか1つに記載の導電酸化物膜を含む電極または配線の形成方法。
- 前記変換工程は前記導電材料膜の表面部のみを酸素ラジカルイオンを使ったプラズマ酸化法で酸化して電酸化物膜とすることによって、前記導電材料膜の非酸化部分と酸化部分とからなる2層を電極または配線の少なくとも一部とすることを特徴とする請求項18〜24のいずれか1つに記載の導電酸化物膜を含む電極または配線の形成方法。
- 前記プラズマ酸化法は、マイクロ波励起低電子温度高密度プラズマによる酸化であることを特徴とする請求項18〜26のいずれか1つに記載の導電酸化物膜を含む電極または配線の形成方法。
- 前記プラズマ酸化法は、前記基板に対して13.56MHz以下の高周波を印加することにより、前記導電材料膜の表面に入射するイオンエネルギとイオン照射量を制御してプラズマ酸化レートを精密制御することを特徴とする請求項27に記載の導電酸化物膜を含む電極または配線の形成方法。
- 前記導電材料膜は、非晶質の単元素金属材料または窒化金属材料を1nm以下の膜厚に形成し、その後非晶質の金属合金材料を形成して成膜することを特徴とする請求項25に記載の導電酸化物膜を含む電極または配線の形成方法。
- 前記非晶質の単元素金属材料または窒化金属材料、および前記非晶質の金属合金材料をそれぞれスパッタリング法で形成することを特徴とする請求項29に記載の導電酸化物膜を含む電極または配線の形成方法。
- 前記導電材料膜の成膜の後、減圧雰囲気のもとで、あるいは、水分濃度を制御した不活性ガスまたはドライエアーガスに雰囲気を置換して大気圧から100Torrまでの範囲の圧力のもとで前記基板が搬送され、連続して前記酸化処理が行われることを特徴とする請求項18〜30のいずれか1つに記載の導電酸化物膜を含む電極または配線の形成方法。
- 前記導電材料膜は、有機材料膜に密着して成膜されることを特徴とする請求項18〜31のいずれか1つに記載の導電酸化物膜を含む電極または配線の形成方法。
- 請求項18〜32のいずれか1つに記載の形成方法を用いて電極または配線を形成する工程を含むことを特徴とする有機光電装置の製造方法。
- 請求項18〜32のいずれか1つに記載の形成方法を用いて電極または配線を形成する工程を含むことを特徴とする太陽電池の製造方法。
- 請求項18〜32のいずれか1つに記載の形成方法を用いて電極または配線を形成する工程を含むことを特徴とする有機半導体装置の製造方法。
- 請求項18〜32のいずれか1つに記載の形成方法を用いて電極または配線を形成する工程を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。
- 請求項18〜32のいずれか1つに記載の形成方法を用いて電極または配線を形成する工程を含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
- 請求項18〜32のいずれか1つに記載の形成方法を用いて電極または配線を形成する工程を含むことを特徴とする回路基板の製造方法。
- 請求項18〜32のいずれか1つに記載の形成方法を用いて電極または配線を形成する工程を含むことを特徴とする電子装置の製造方法。
- 導電酸化物膜を含む電極または配線を備えた電子装置において、前記導電酸化物膜は導電性材料膜をラジカル酸化したものであることを特徴とする電子装置。
- 請求項39に記載の製造方法によって製造された電子装置。
- 請求項33に記載の製造方法によって製造された有機光電装置。
- 請求項34に記載の製造方法によって製造された太陽電池。
- 請求項35に記載の製造方法によって製造された有機半導体装置。
- 請求項36に記載の製造方法によって製造された半導体装置。
- 請求項37に記載の製造方法によって製造された液晶表示装置。
- 請求項38に記載の製造方法によって製造された液晶回路基板。
- 請求項1〜16のいずれか1つに記載の製造方法によって製造された有機エレクトロルミネッセンス素子。
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