JP2004012413A - 放射線画像変換パネル及び放射線画像変換パネルの製造方法 - Google Patents

放射線画像変換パネル及び放射線画像変換パネルの製造方法 Download PDF

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Satoru Honda
本田 哲
Takafumi Yanagida
柳多 貴文
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Abstract

【課題】輝尽性蛍光体層の封止ミミ幅が狭くコンパクトな放射線画像変換パネル及びその製造方法を提供する。
【解決手段】支持体トレー上に、少なくとも支持体と輝尽性蛍光体層とをこの順で有する輝尽性蛍光体シートを有する放射線画像変換パネルにおいて、
該輝尽性蛍光体層が保護層を有し、該輝尽性蛍光体シートのエッジ部と該エッジ部近傍の該支持体トレーの表面部位とが封止部材により被覆されていることを特徴とする放射線画像変換パネル。
【選択図】    なし

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、放射線画像変換パネル及び、放射線画像変換パネルの製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
X線画像のような放射線画像は病気診断用などに多く用いられている。このX線画像を得るために被写体を通過したX線を蛍光体(蛍光スクリーン)に照射し、これにより可視光を生じさせてこの可視光を通常の写真をとるときと同じように銀塩を使用したフィルムに照射して現像した、いわゆる放射線写真が利用されている。
【0003】
しかし、近年、銀塩を塗布したフィルムを使用しないで蛍光体から直接画像を取り出す方法が工夫されるようになった。
【0004】
この方法としては被写体を透過した放射線を蛍光体に吸収せしめ、しかる後この蛍光体を例えば光または熱エネルギーで励起することによりこの蛍光体が上記吸収により蓄積している放射線エネルギーを蛍光として放射せしめ、この蛍光を検出し画像化する方法がある。
【0005】
具体的には、例えば米国特許第3,859,527号及び特開昭55−12144号等に記載されているような輝尽性蛍光体を用いる放射線画像変換方法が知られている。この方法はプレート上に輝尽性蛍光体層を形成した輝尽性蛍光体プレートを使用するもので、この輝尽性蛍光体プレートの輝尽性蛍光体層に被写体を透過した放射線を当てて被写体各部の放射線透過密度に対応する放射線エネルギーを蓄積させて、その後に輝尽性蛍光体層を可視光線、赤外線などの電磁波(励起光)で時系列的に励起することにより、該輝尽性蛍光体層中に蓄積されている放射線エネルギーを輝尽発光として放出させ、この光の強弱による信号をたとえば光電変換し、電気信号を得て、この信号を感光フィルムなどの記録材料、CRTなどの表示装置上に可視像として再生するものである。
【0006】
この放射線像記録再生方法によれば、従来の放射線写真フィルムと増感紙との組合せを用いる放射線写真法による場合に比較して、はるかに少ない被曝線量で情報量の豊富な放射線画像を得ることができるという利点がある。
【0007】
このような輝尽性蛍光体は、放射線を照射した後、励起光を照射すると輝尽発光を示す輝尽性蛍光体であるが、実用上では、波長が400nm〜900nmの範囲にある励起光によって300nm〜500nmの波長範囲の輝尽発光を示す輝尽性蛍光体が一般的に利用される。
【0008】
輝尽性蛍光体は一般的に吸湿性であり、水分を吸湿することにより、発光輝度の低下、粒状性、鮮鋭性等の劣化を起こしやすいという問題点がある。そこで、従来、輝尽性蛍光体層の保護のために、輝尽性蛍光体層が形成された支持体を、積層された二枚の封止フィルム(封止部材)の三辺をヒートシール等の手法で接着して作製した袋に挿入し、内部を脱気しながら開口部をヒートシール等の手法で封止(真空封止)した輝尽性蛍光体プレートが提案されている。
【0009】
しかし、上記構成の輝尽性蛍光体プレートは、内部が脱気されているので、長期間使用すると、封止フィルムを透過した水蒸気により輝尽性蛍光体層の表面がぬれ、封止フィルムと密着しやすい等の問題点がある。
【0010】
また、特開平11−249243号には、輝尽性蛍光体層が形成された輝尽性蛍光体シートと、該輝尽性蛍光体シート全体を封止する封止部材とからなる輝尽性蛍光体プレートが提案されている。また、前記の特開平11−249243号には、封止部材として、水蒸気や酸素を透過しにくい材質の封止部材を用いることにより、画質の劣化を防止する技術も開示されている。
【0011】
しかしながら、支持体上に形成された輝尽性蛍光体層の表面のみならず、前記輝尽性蛍光体層及び支持体の全体を封止部材により封止する処理を行う必要があるため、封止処理時に生じる封止ミミ幅(輝尽性蛍光体層、支持体の周辺部に生成する封止部材の融着部位を表す)が大きく、放射線画像変換パネルのコンパクト化の障害になっていた。更に封止加工の工数が大きく製品のコストアップ等を招来していた。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、輝尽性蛍光体層の封止ミミ幅が狭くコンパクトな放射線画像変換パネル及びその製造方法を提供することである。
【0013】
【課題を解決するための手段】
本発明の上記目的は下記の構成1〜4により達成された。
【0014】
1.支持体トレー上に、少なくとも支持体と輝尽性蛍光体層とをこの順で有する輝尽性蛍光体シートを有する放射線画像変換パネルにおいて、
該輝尽性蛍光体層が保護層を有し、該輝尽性蛍光体シートのエッジ部と該エッジ部近傍の該支持体トレーの表面部位とが封止部材により被覆されていることを特徴とする放射線画像変換パネル。
【0015】
2.封止部材が、アクリル樹脂系接着剤、エポキシ樹脂系接着剤、シリコーン樹脂系接着剤及びイソシアナート系接着剤からなる群から選択される少なくとも1種の接着剤を含むことを特徴とする前記1に記載の放射線画像変換パネル。
【0016】
3.封止部材の厚さa(mm)、該封止部材の塗布幅をb(mm)とした時、厚さaと塗布幅bが前記一般式(1)を満たすことを特徴とする前記1または2に記載の放射線画像変換パネル。
【0017】
4.前記1〜3のいずれか1項に記載の放射線画像変換パネルを製造するにあたり、輝尽性蛍光体シートのエッジ部と該エッジ部近傍の支持体トレーの表面部位とを封止部材により封着する工程を有することを特徴とする放射線画像変換パネルの製造方法。
【0018】
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明者等は上記記載の問題点を種々検討した結果、請求項1に記載のように、支持体トレー上に、少なくとも支持体と輝尽性蛍光体層とをこの順で有する輝尽性蛍光体シートを有する放射線画像変換パネルにおいて、該輝尽性蛍光体層が保護層を有し、該輝尽性蛍光体シートのエッジ部と該エッジ部近傍の該支持体トレーの表面部位とに封止部材を設けることにより、本発明に記載の効果、すなわち、輝尽性蛍光体層の封止ミミ幅が狭くコンパクトな放射線画像変換パネル及びその製造方法を提供することができることを見出した。
【0019】
【発明の実施の形態】
本発明の放射線画像変換パネルの一態様を図1により説明する。また、図2で、従来の放射線画像変換パネルの代表的なものの一態様を示し、本発明の放射線画像変換パネルと従来公知の放射線画像変換パネルとを比較検討する。
【0020】
図1は、本発明の放射線画像変換パネルの一態様を示す模式図である。
図1において、放射線画像変換パネル1は、支持体トレー2上に、輝尽性蛍光体層3aと前記輝尽性蛍光体層上に設けられた保護層3bとを有する輝尽性蛍光体シート3が配設されている。更に、前記輝尽性蛍光体シート3の末端部(エッジ部ともいう)と該エッジ部の近傍の支持体トレー2の表面部位が封止部材4により被覆され、封着処理される。
【0021】
前記封止部材4において、4a2は支持体トレー2上の封止部材4の厚みであり、4a1は、輝尽性蛍光体シート3上の封止部材4の厚みを各々表し、4a1と4a2は同一でも異なっていてもよいが、前記一般式(1)で表される厚みa(mm)の範囲を満たすことが好ましい。
【0022】
また、4b2は支持体トレー2上の封止部材4の塗布幅であり、4b1は、輝尽性蛍光体シート3上の封止部材4の塗布幅を各々表し、4b1と4b2は同一でも異なっていてもよいが、前記一般式(1)で表される塗布幅b(mm)の範囲を満たすことが好ましい。
【0023】
図2は、従来公知の放射線画像変換パネルの代表的なものの一態様を示す模式図である。
【0024】
図2に示すように、従来公知の放射線画像変換パネル11は、通常、輝尽性蛍光体プレート10と、剛性の高い支持体である支持体トレー20とから構成されることが多い。輝尽性蛍光体プレート10は、プラスチックフィルム12上に形成された輝尽性蛍光体層13が形成された輝尽性蛍光体シート14と、この輝尽性蛍光体シート14を封止する二枚の封止フィルム(封止部材)15、15′とからなっている。
【0025】
輝尽性蛍光体プレート10の輝尽性蛍光体層13側の面と反対側の面には、X線吸収率が高い重金属を含むシート21を介して剛性の高い支持体トレー20が設けられている。尚、22は、封着処理部位を表す。
【0026】
図2に示す形態例の作製を行うための代表的手順の一例は下記のようになる。手順(1):積層した二枚の封止フィルム(封止部材)15,15′の三辺をヒートシール等の手法で接着した袋内に輝尽性蛍光体シート14を挿入し、更に、内部を脱気しながら袋の開口部をヒートシール等で接着する(真空封止)。
【0027】
手順(2):次いで、輝尽性蛍光体層13の周縁部に沿ってヒートシールを行い、所定の幅を残しながらシール部を断裁する。
【0028】
図1に示した、本発明の放射線画像変換パネルの一態様と、図2に示した、従来公知の放射線画像変換パネルの代表的な一態様との構成から、本発明の放射線画像変換パネルは下記のような差別化が図られていることが判る。
【0029】
(a)本発明の放射線画像変換パネルの作製では、封止部材の封着処理にあたっては、上記記載のような2工程の手順(1)、(2)は不要である。
【0030】
(b)図2から、従来の放射線画像変換パネルでは、封止部材と輝尽性蛍光体シートとの近傍には隙間が発生すると同時に、封着の為の封止部材の封着処理部位が長くなり(封止ミミ幅が長くなるともいう)、コンパクトなパネル設計の障害になるが、本発明の放射線画像変換パネルでは、輝尽性蛍光体層の末端部位と該末端部位の近傍にある支持体トレーの表面部位のみを封止部材により封着処理すればよいので、従来よりも工程が省略化され、且つ、コンパクト設計が可能になる。
【0031】
《封止部材》
本発明に係る封止部材について説明する。
【0032】
本発明に係る封止部材用の素材としては、アクリル樹脂系接着剤、エポキシ樹脂系接着剤、シリコーン樹脂系接着剤及びイソシアナート樹脂系接着剤からなる群から選択される少なくとも1種の接着剤を含むものが好ましく用いられる。
【0033】
アクリル樹脂系接着剤に用いられるアクリル樹脂としては、例えば、有機溶剤系の疎水性アクリル系樹脂でも、水分散系の親水性アクリル系樹脂(アクリル系ポリマーラテックス)であってもよく、各々の適性に応じて使い分ければよい。
【0034】
疎水性アクリル系樹脂である場合は、例えば、メチルメタクリレート、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、t−ブチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、グリシジルアクリレート等のアクリル系の単量体からなる単独重合体、または、これらの単量体を含む共重合体、好ましくはメチルメタクリレートの単独重合体又はメチルメタクリレートを共重合成分とする共重合体が用いられる。
【0035】
また、水分散系の親水性アクリル系樹脂が用いられる場合は、上記アクリル系単量体、又は該単量体を含む共重合成分を水溶媒中で乳化重合又は懸濁重合して得られるポリマーラテックス等が挙げられる。
【0036】
また、市販されている、下記のようなアクリル樹脂、例えば、セビアンA−4635、46583、4601(以上ダイセル化学工業(株)製)、NipolLX811、814、820、821、857(以上日本ゼオン(株)製)等も使用できる。
【0037】
エポキシ樹脂系接着剤に用いられるエポキシ樹脂としては、1分子中に2個以上のエポキシ基を含有するものが好ましく、更に、封止部材料の流動性、成形後の封止部材の耐湿性の観点から、ビフェニル型エポキシ樹脂、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂等を用いることが好ましい。
【0038】
シリコーン樹脂系接着剤に用いられるシリコーン樹脂としては、例えば、市販品である、信越化学製のKR271、KR255、東レダウコーニングシリコーン製のSR2400、SR2406、SR2410、SR2411、東芝シリコーン製のTSR116等があり、変性シリコーン樹脂は信越化学製のKR206(アルキッド変性)、KR9706(アクリル変性)、ES1001N(エポキシ変性)、KR5203(ポリエステル変性)、東レシリコーン製のSR2115(エポキシ変性)、SR2107(アルキッド変性)、東芝シリコーン製のTSR175(ウレタン変性)、TSR171(アクリル変性)などがある。
【0039】
また、上記のシリコーン樹脂の使用にあたっては、下記に示すようなアミノシランカップリング剤を用いてもよい、前記アミノシランカップリング剤の具体例としては、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノエチル−アミノプロピルトリメトキシシラン、メチル−γ−アミノプロピルジメトキシシラン、メチル−γ−アミノエチルアミノプロピルジメトキシシラン、γ−ジメチルアミノ−プロピルトリメトキシシラン、γ−アニリノプロピルトリメトキシシラン、γ−モルホリノプロピルトリメトキシシラン、N,N′−ビス(3−トリメトキシシリル)エチレンジアミン及びこれらの部分縮合物を使用できる。更に2種以上のアミノシランカップリング剤を混合して使用しても良い。
【0040】
イソシアナート系接着剤に用いられる化合物としては、多官能イソシアナートとポリオールとが反応して生成するポリウレタン(ウレタン樹脂ともいう)が好ましく用いられる。
【0041】
前記ポリウレタンの調製に用いる、ポリオールとしては、ジオール(例えば、エチレングリコール、ブチレングリコール、ネオペンチルグリコール、ヘキサンジオールまたはこれらのいずれかの混合物)とジカルボン酸もしくはその無水物(例えば、コハク酸、アジピン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、フタル酸、イソフタル酸、マレイン酸およびこれら酸の無水物等)から製造されるポリエステルポリオール;カプロラクトンのようなラクトンとジオールとを反応させたポリラクトン;ポリプロピレングリコールのようなポリエーテル;アルキルアクリレートまたはアルキルメタクリレートのようなアクリル系エステルとカルボキシル、ヒドロキシル、シアノ基および/またはグリシジル基のような官能基を含むエチレン系不飽和モノマーとの付加重合によって製造されたヒドロキシル末端ポリアクリル系誘導体が含まれる。
【0042】
前記ポリウレタンの調製に用いる多官能イソシアナートとしては、例えば、トルエンジイソシアネート、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、エチルエチレンジイソシアネート、2,3−ジメチルエチレンジイソシアネート、1−メチルトリメチレンジイソシアネート、1,3−シクロペンチレンジイソシアネート、1,4−シクロヘキシレンジイソシアネート、1,3−フェニレンジイソシアネート、4,4′−ビフェニレンジイソシアネート、1,5−ナフタレンジイソシアネート、ビス−(4−イソシアナトシクロヘキシル)−メタン、4,4′−ジイソシアナトジフェニルエーテル、テトラメチルキシレンジイソシアネート等が挙げられる。
【0043】
また、製造元から入手できる特定のイソシアナート化合物例を以下に示すが、これらに限定されない。これには、脂肪族、芳香族及びポリマーイソシアナートが含まれる。
【0044】
(a)デスモデュ(Desmodur)N100:モーベイ社製、脂肪族イソシアナート
(b)デスモデュN3300:モーベイ社製、脂肪族イソシアナート
(c)モンデュー(Mondur)TD−80:モーベイ社製、芳香族イソシアナート
(d)モンデューM:モーベイ社製、芳香族イソシアナート
(e)モンデューMRS:モーベイ社製、ポリマーイソシアナート
(f)デスモデュW:モーベイ社製、脂肪族イソシアナート
(g)パピ(Papi)27:ダウ社製、ポリマーイソシアナート
(h)イソシアナートT1890:ヒュルス(Huels)社製、脂肪族イソシアナート
(i)オクタデシルイソシアネート:アルドリッヒ社、脂肪族イソシアナート本発明に用いられるポリウレタンとしては、米国特許第5,876,910号および同第5,932,405号に記載されるような水性分散性シロキサン含有ポリウレタン、米国特許第5,804,360号に記載される水性分散性ポリウレタン/ビニルポリマーの分散液、カルボキシル基を有するポリウレタン化合物として、特開平8−95190号の段落番号〔0048〕〜〔0056〕に記載のものが挙げられる。
【0045】
また、水系ポリウレタンは市販されており、これら市販されている水性分散性ポリウレタンとしては、例えば、Witco社より入手可能なWitcobond W232およびW242、B.F.Goodrich社から入手可能なSancure 898、815D、2260および12684、及びZeneca
Resins社より入手可能なNeorez R966等が挙げられる。
【0046】
また、後述する、封止部材中に含まれる充填材表面と上記記載の接着剤との濡れ性や接着性を向上させるために、充填材表面にカップリング処理を施してもよく、前記カップリング処理に用いるカップリング剤としては、シラン系、チタン系、アルミニウム系等が用いられる。特に、充填材としてシリカ粉末を用いる場合、シラン系カップリング材を用いることが望ましい。また、アルコキシシラン系のカップリング材を用いる場合、予めアルコキシ基を脱アルコール反応させて、水酸基に変換させてから処理を行ってもかまわない。
【0047】
本発明では、輝尽性蛍光体の吸湿劣化を防止する観点から、本発明に係る封止部材には高い防湿性(耐湿性)を付与されていることが好ましく、具体的には封止部材の透湿度が50g/m・day以下であることが好ましく、更に好ましくは10g/m・day以下であり、特に好ましくは1g/m・day以下である。
【0048】
ここで、封止部材の透湿度は、上記記載の保護層と同様にJIS Z 0208により規定された方法を参照して測定出来る。
【0049】
また、図1で示した、封止部材の厚さa(mm)は、0.01mm〜1.0mmの範囲が好ましい、また、封止部材の塗布幅b(mm)は、0.1mm〜5.0mmの範囲が好ましい。ここで、封止部材の膜厚は、輝尽性蛍光体層のエッジ部から封止部材の最表面までの最短距離として定義する。
【0050】
本発明に係る封止部材中には、無機充填材を含んでいてもよい。前記無機充填材としては、表面にシラノール基を有するシリカ粉末を用いてもよい。表面にシラノール基を有するシリカは、一般にはゾルーゲル法により化学合成される。そのシリカ表面のシラノール基が封止部材中の樹脂成分と化学反応することで結合、架橋する。したがって、表面にシラノール基を有するシリカを含有する樹脂は強固に硬化することに機械的強度が向上し、樹脂突起部の破損を防止することが可能となる。
【0051】
シリカ粉末におけるシラノール基が、0.001mmol/g以上10mmol/g以下であることが望ましい。0.001mmol/g未満ではその効果が現れず、10mmol/gを超えると、樹脂との反応が急速に進行するため、封止用樹脂としての保存安定性が劣り、吸湿性が高くなり信頼性が低下する。
【0052】
表面にシラノール基を有するシリカ粉末の平均粒径はφ0.01μm以上200μ以下、望ましくは0.1μm以上100μ以下、更に、1μm以上20μm以下であることが望ましい。φ0.01μm未満では、溶融粘度(液状樹脂の場合は粘度)が急激に上昇して、樹脂成形不良、半導体素子との密着性が低下してしまう。このため、パッケージの信頼性が低下する。また、φ200μmを超えると、成形時の樹脂の流動性により、半導体素子表面にスクラッチが発生し、半導体素子を破損させる。また、分級により、粒径の最大置をφ150μm以下、望ましくは、φ75μm以下、更に、φ20μmにすることが望ましい。
【0053】
無機充填材として、表面にシラノール基を有するシリカ粉末と、他の種類の無機充填材とを混合しても差し支えない。他の無機充填材として、シリカ粉末、アルミナ粉末、窒化珪素、窒化ホウ素、グラファイト、窒化アルミなどの絶縁性粉末を添加しても差し支えないが、特に、耐湿性の観点からシリカ粉末を用いることが望ましい。シリカ粉末としては、溶融シリカ、結晶シリカ、化学合成シリカが挙げられるが、特に、溶融シリカであることが望ましい。他の無機充填材の粒径としては、上記シラノール基を有するシリカ粉末同様、φ0.01μm以上φ200μm以下であることが好ましい。他の無機充填材と表面にシラノール基を有するシリカ粉末を併用する場合の混合比は、特に限定されないが、僅かな添加でもそれなりの効果が発現するが、混合する割合は、他の無機充填材:表面にシラノール基を有するシリカ粉末=99:1以上であれば、その効果を奏する。
【0054】
封止部材中の充填材全体の充填量は特に限定されないが、機械的強度、半導体素子との間の熱膨張差による応力発生、吸湿立、流動性、耐熱衝撃性の点から、樹脂組成物中に20〜97質量%(質量%)添加されていることが望ましい。
【0055】
充填材の形状は特に限定されないが、高充填化、高流動性の点から、球状又はそれ以外の形状との併用が望ましい。
【0056】
また、本発明に係る封止部材としては、特開平7−140300号、同2001−056398号に記載の、シリコーン系ポリマーとポリイソシアナートの硬化皮膜、特開2001−250891号、同2001−335681号等に記載の半導体封止用樹脂等も用いることが出来る。
【0057】
《支持体》
本発明に係る支持体について説明する。
【0058】
支持体としては、各種高分子材料、ガラス、金属等が用いられ、例えば、石英、ホウ珪酸ガラス、化学的強化ガラスなどの板ガラス、あるいは、セルロースアセテートフィルム、ポリエステルフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリアミドフィルム、ポリイミドフィルム、トリアセテートフィルム、ポリカーボネートフィルム等のプラスチックフィルム、アルミニウム、鉄、銅、クロム等の金属シートあるいは親水性微粒子の被覆層を有する金属シートが好ましい。これら支持体の表面は滑面であってもよいし、輝尽性蛍光体層との接着性を向上させる目的でマット面としてもよい。また、本発明においては、支持体と輝尽性蛍光体層の接着性を向上させるために、必要に応じて支持体の表面に予め接着層を設けてもよい。
【0059】
これら支持体の厚みは用いる支持体の材質等によって異なるが、一般的には80μm〜2000μmであり、取り扱い上の観点から、更に好ましいのは80μm〜1000μmである。
【0060】
これらの支持体の表面は滑面であってもよいし、輝尽性蛍光体層との接着性を向上させる目的でマット面としてもよい。
【0061】
さらに、これら支持体は、輝尽性蛍光体層との接着性を向上させる目的で輝尽性蛍光体層が設けられる面に下引層を設けてもよい。
【0062】
《保護層》
本発明に係る保護層について説明する。
【0063】
本発明に係る輝尽性蛍光体層の防湿性(耐湿性ともいう)を更に向上させる観点から、輝尽性蛍光体層上に保護層を設けることが好ましい。
【0064】
本発明に係る保護層としては、ASTMD−1003に記載の方法により測定したヘイズ率が、5%以上60%未満のポリエステルフィルム、ポリメタクリレートフィルム、ニトロセルロースフィルム、セルロースアセテートフィルム等が使用できるが、ポリエチレンテレフタレートフィルムやポリエチレンナフタレートフィルム等の延伸加工されたフィルムが、透明性、強さの面で保護層として好ましく、更には、これらのポリエチレンテレフタレートフィルムやポリエチレンテレフタレートフィルム上に金属酸化物、窒化珪素などの薄膜を蒸着した蒸着フィルム(アルミナ蒸着PETフィルム、シリカ蒸着PETフィルム等)が防湿性の面からより好ましい。
【0065】
保護層で用いるフィルムのヘイズ率は、使用する樹脂フィルムのヘイズ率を選択することで容易に調整でき、また任意のヘイズ率を有する樹脂フィルムは工業的に容易に入手することができる。放射線画像変換パネルの保護フィルムとしては、光学的に透明度の非常に高いものが好ましく、そのような透明度の高い保護フィルム材料として、ヘイズ値が2%〜3%の範囲にある各種のプラスチックフィルムが市販されている。
【0066】
画像ムラや線状ノイズを低減し、且つ、高鮮鋭性の画像を得る観点から、ヘイズ率としては5%以上60%未満が好ましく、更に好ましくは10%以上50%未満である。
【0067】
また、輝尽性蛍光体の防湿性をより向上させる観点から、防湿性保護フィルムの透湿度は50g/m・day以下であることが好ましく、更に好ましくは10g/m・day以下であり、特に好ましくは1g/m・day以下である。
【0068】
ここで、上記記載の保護フィルムの透湿度はJIS Z 0208により規定された方法を参照して測定することが出来る。
【0069】
保護フィルムの透湿度を上記記載の範囲に調整し、保護フィルムの防湿性を向上させる観点から、ポリエチレンテレフタレートフィルムやポリエチレンテレフタレートフィルム上に金属酸化物、窒化珪素などの薄膜を蒸着した蒸着フィルムの使用が好ましい。
【0070】
また、保護層の膜厚としては、50μm〜1000μmが好ましく、より好ましくは50μm〜500μmである。
【0071】
《輝尽性蛍光体層》
本発明に係る輝尽性蛍光体層について説明する
本発明に係る輝尽性蛍光体層は蛍光体粒子と高分子樹脂を含む塗布液を用いて塗設、形成される塗布型蛍光体層と、蒸着、スパッタリング等の方法により形成される蒸着型蛍光体層とがある。
【0072】
(塗布型蛍光体層の作製)
塗布型蛍光体層は、主に蛍光体粒子と高分子樹脂(結合剤ともいう)より構成され、支持体上にコータを用いて塗設、形成されることが好ましい。塗布型蛍光体層で用いることのできる輝尽性蛍光体としては、波長が400nm〜900nmの範囲にある励起光によって、300nm〜500nmの波長範囲の輝尽発光を示す蛍光体が好ましい。
【0073】
ここで、用いられる結合剤(バインダー)の例としては、ゼラチン等の蛋白質、デキストラン等のポリサッカライド、またはアラビアゴムのような天然高分子物質;および、ポリビニルブチラール、ポリ酢酸ビニル、ニトロセルロース、エチルセルロース、塩化ビニリデン・塩化ビニルコポリマー、ポリアルキル(メタ)アクリレート、塩化ビニル・酢酸ビニルコポリマー、ポリウレタン、セルロースアセテートブチレート、ポリビニルアルコール、線状ポリエステルなどのような合成高分子物質などにより代表される結合剤を挙げることができる。
【0074】
上記記載の結合剤の中で特に好ましいものは、ニトロセルロース、線状ポリエステル、ポリアルキル(メタ)アクリレート、ニトロセルロースと線状ポリエステルとの混合物、ニトロセルロースとポリアルキル(メタ)アクリレートとの混合物およびポリウレタンとポリビニルブチラールとの混合物である。なお、これらの結合剤は架橋剤によって架橋されたものであってもよい。輝尽性蛍光体層は、例えば、次のような方法により下塗層上に形成することができる。
【0075】
まず輝尽性蛍光体、および結合剤を適当な溶剤に添加し、これらを充分に混合して結合剤溶液中に蛍光体粒子および該化合物の粒子が均一に分散した塗布液を調製する。
【0076】
結合剤は輝尽性蛍光体1質量部に対して0.01質量部〜1質量部の範囲で使用されることが好ましい。しかしながら得られる放射線画像変換パネルの感度と鮮鋭性向上の観点からは、結合剤は少ない方が好ましく、塗布の容易さとの兼合いから0.03質量部〜0.2質量部の範囲がより好ましい。
【0077】
輝尽性蛍光体層用塗布液の調製に用いられる溶剤の例としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール、n−ブタノール等の低級アルコール、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸n−ブチル等の低級脂肪酸と低級アルコールとのエステル、ジオキサン、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルなどのエーテル、トリオール、キシロールなどの芳香族化合物、メチレンクロライド、エチレンクロライドなどのハロゲン化炭化水素およびそれらの混合物などが挙げられる。
【0078】
尚、塗布液には、該塗布液中における蛍光体の分散性を向上させるための分散剤、また、形成後の輝尽性蛍光体層中における結合剤と蛍光体との間の結合力を向上させるための可塑剤などの種々の添加剤が混合されていてもよい。そのような目的に用いられる分散剤の例としては、フタル酸、ステアリン酸、カプロン酸、親油性界面活性剤などを挙げることができる。そして可塑剤の例としては、燐酸トリフェニル、燐酸トリクレジル、燐酸ジフェニルなどの燐酸エステル;フタル酸ジエチル、フタル酸ジメトキシエチル等のフタル酸エステル;グリコール酸エチルフタリルエチル、グリコール酸ブチルフタリルブチルなどのグリコール酸エステル;そして、トリエチレングリコールとアジピン酸とのポリエステル、ジエチレングリコールとコハク酸とのポリエステルなどのポリエチレングリコールと脂肪族二塩基酸とのポリエステルなどを挙げることができる。
【0079】
上記のようにして調製された塗布液を、次に下塗層の表面に均一に塗布することにより塗布液の塗膜を形成する。この塗布操作は、通常の塗布手段、例えば、ドクターブレード、ロールコータ、ナイフコータなどを用いることにより行なうことができる。
【0080】
次いで、形成された塗膜を徐々に加熱することにより乾燥して、下塗層上への輝尽性蛍光体層の形成を完了する。
【0081】
輝尽性蛍光体層用塗布液の調製は、ボールミル、サンドミル、アトライター、三本ロールミル、高速インペラー分散機、Kadyミル、および超音波分散機などの分散装置を用いて行なわれる。調製された塗布液をドクターブレード、ロールコータ、ナイフコータなどの塗布液を用いて支持体上に塗布し、乾燥することにより輝尽性蛍光体層が形成される。
【0082】
塗布型輝尽性蛍光体層の膜厚は目的とする放射線画像変換パネルの特性、輝尽性蛍光体の種類、結合剤と輝尽性蛍光体との混合比等によって異なるが、10μm〜1000μmの範囲から選ばれるのが好ましく、10μm〜500μmの範囲から選ばれるのがより好ましい。
【0083】
以下に、塗布型蛍光体層で好ましく用いることのできる蛍光体の例を挙げるが、本発明はこれらに限定されない。
【0084】
(1)特開昭55−12145号に記載されている(Ba1−X,M(II))FX:yA、(式中、M(II)はMg、Ca、Sr、ZnおよびCdのうちの少なくとも一つ、XはCl、Br、およびIのうち少なくとも一つ、AはEu、Tb、Ce、Tm、Dy、Pr、Ho、Nd、Yb、およびErのうちの少なくとも一つ、そしては、0≦x≦0.6、yは、0≦y≦0.2である)の組成式で表される希土類元素賦活アルカリ土類金属弗化ハロゲン化物蛍光体;また、この蛍光体には以下のような添加物が含まれていてもよい。
【0085】
a)特開昭56−74175号に記載されている、X′、BeX″、M(III)X′″、式中、X′、X″、およびX′″はそれぞれCl、BrおよびIの少なくとも一種であり、M(III)は三価金属である
b)特開昭55−160078号に記載されているBeO、MgO、CaO、SrO、BaO、ZnO、Al、Y、La、In、SiO、TiO、ZrO、GeO、SnO、Nb、TaおよびThOなどの金属酸化物
c)特開昭56−116777号に記載されているZr、Sc
d)特開昭57−23673号に記載されているB
e)特開昭57−23675号に記載されているAs、Si
f)特開昭58−206678号に記載されているM・L、式中、MはLi、Na、K、Rb、およびCsからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属であり、LはSc、Y、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、Al、Ga、In、およびTlからなる群より選ばれる少なくとも一種の三価金属である
g)特開昭59−27980号に記載されているテトラフルオロホウ酸化合物の焼成物;特開昭59−27289号に記載されているヘキサフルオロケイ酸、ヘキサフルオロチタン酸およびヘキサフルオロジルコニウム酸の一価もしくは二価金属の塩の焼成物;特開昭59−56479号に記載されているNaX′、式中、X′はCl、BrおよびIのうちの少なくとも一種である
h)特開昭59−56480号に記載されているV、Cr、Mn、Fe、CoおよびNiなどの遷移金属;特開昭59−75200号に記載されているM(I)X′、M′(II)X″、M(III)X′″、A、式中、M(I)はLi、Na、K、Rb、およびCsからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属であり、M′(II)はBeおよびMgからなる群より選ばれる少なくとも一種の二価金属を表し、M(III)はAl、Ga、In、およびTlからなる群より選ばれる少なくとも一種の三価金属であり、Aは金属酸化物であり、X′、X″、およびX′″はそれぞれF、Cl、BrおよびIからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンである
i)特開昭60−101173号に記載されているM(I)X′、式中、M(I)はRbおよびCsからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属であり、X′はF、Cl、BrおよびIからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンである
j)特開昭61−23679号に記載されているM(II)′X′・M(II)′X″、式中、M(II)′はBa、SrおよびCaからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ土類金属であり;X′およびX″はそれぞれCl、BrおよびIからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであって、かつX′≠X″である;更に、特開昭61−264084号明細書に記載されているLnX″、式中、LnはSc、Y、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、YbおよびLuからなる群より選ばれる少なくとも一種の希土類元素であり;X″はF、Cl、BrおよびIからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンである。
【0086】
(2)特開昭60−84381号に記載されているM(II)X・aM(II)X′:xEu2+(式中、M(II)はBa、SrおよびCaからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ土類金属であり;XおよびX′はCl、BrおよびIからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであって、かつX≠X′であり;そしてaは0.1≦a≦10.0、xは0<x≦0.2である)の組成式で表される二価ユーロピウム賦活アルカリ土類金属ハロゲン化物蛍光体;また、この蛍光体には以下のような添加物が含まれていてもよい。
【0087】
a)特開昭60−166379号に記載されているM(I)X′、式中、M(I)はRbおよびCsからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属であり;X′はF、Cl、BrおよびIからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンである
b)特開昭60−221483号に記載されているKX″、MgX′″、M(III)X″″、式中、M(III)はSc、Y、La、GdおよびLuからなる群より選ばれる少なくとも一種の三価金属であり;X″、X′″およびX″″はいずれもF、Cl、BrおよびIからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンである
c)特開昭60−228592号に記載されているB、特開昭60−228593号に記載されているSiO、P等の酸化物、特開昭61−120882号に記載されているLiX″、NaX″、式中、X″はF、Cl、BrおよびIからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンである
d)特開昭61−120883号に記載されているSiO;特開昭61−120885号に記載されているSnX″、式中、X″はF、Cl、BrおよびIからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンである
e)特開昭61−235486号に記載されているCsX″、SnX′″、式中、X″およびX′″はそれぞれF、Cl、BrおよびIからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンである;更に、特開昭61−235487号に記載されているCsX″、Ln3+、式中、X″はF、Cl、BrおよびIからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり;LnはSc、Y、Ce、Pr、Nd、Sm、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、YbおよびLuからなる群より選ばれる少なくとも一種の希土類元素である。
【0088】
(3)特開昭55−12144号に記載されているLnOX:xA(式中、LnはLa、Y、Gd、およびLuのうち少なくとも一つ;XはCl、Br、およびIのうち少なくとも一つ;AはCeおよびTbのうち少なくとも一つ;xは、0<x<0.1である)の組成式で表される希土類元素賦活希土類オキシハライド蛍光体。
【0089】
(4)特開昭58−69281号に記載されているM(II)OX:xCe(式中、M(II)はPr、Nd、Pm、Sm、Eu、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、およびBiからなる群より選ばれる少なくとも一種の酸化金属であり;XはCl、Br、およびIのうち少なくとも一つであり;xは0<x<0.1である)の組成式で表されるセリウム賦活三価金属オキシハライド蛍光体。
【0090】
(5)特開昭62−25189号明細書に記載されているM(I)X:xBi(式中、M(I)はRbおよびCsからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属であり;XはCl、BrおよびIからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり;そしてxは0<x≦0.2の範囲の数値である)の組成式で表されるビスマス賦活アルカリ金属ハロゲン化物蛍光体。
【0091】
(6)特開昭60−141783号に記載されているM(II)(POX:xEu2+(式中、M(II)はCa、SrおよびBaからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ土類金属であり;XはF、Cl、BrおよびIからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり;xは0<x≦0.2の範囲の数値である)の組成式で表される二価ユーロピウム賦活アルカリ土類金属ハロリン酸塩蛍光体。
【0092】
(7)特開昭60−157099号に記載されているM(II)BOX:xEu2+(式中、M(II)はCa、SrおよびBaからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ土類金属であり;XはCl、BrおよびIからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり;xは0<x≦0.2の範囲の数値である)の組成式で表される二価ユーロピウム賦活アルカリ土類金属ハロホウ酸塩蛍光体。
【0093】
(8)特開昭60−157100号に記載されているM(II)(POX:xEu2+(式中、M(II)はCa、SrおよびBaからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ土類金属であり;XはCl、Br及びIからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり;xは0<x≦0.2の範囲の数値である)の組成式で表される二価ユーロピウム賦活アルカリ土類金属ハロリン酸塩蛍光体。
【0094】
(9)特開昭60−217354号に記載されているM(II)HX:xEu2+(式中、M(II)はCa、SrおよびBaからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ土類金属であり;XはCl、BrおよびIからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり;xは0<x≦0.2の範囲の数値である)の組成式で表される二価ユーロピウム賦活アルカリ土類金属水素化ハロゲン化物蛍光体。
【0095】
(10)特開昭61−21173号に記載されているLnX・aLn′X′:xCe3+、(式中、LnおよびLn′はそれぞれY、La、GdおよびLuからなる群より選ばれる少なくとも一種の希土類元素であり;XおよびX′はそれぞれF、Cl、BrおよびIからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであって、かつX≠X′であり;そしてaは0.1<a≦10.0の範囲の数値であり、xは0<x≦0.2の範囲の数値である)の組成式で表されるセリウム賦活希土類複合ハロゲン化物蛍光体。
【0096】
(11)特開昭61−21182号に記載されているLnX・aM(I)X′3:xCe3+、(式中、LnはY、La、GdおよびLuからなる群より選ばれる少なくとも一種の希土類元素であり;M(I)はLi、Na、K、CsおよびRbからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属であり;XおよびX′はそれぞれCl、BrおよびIからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり;そしてaは0<a≦10.0の範囲の数値であり、xは0<x≦0.2の範囲の数値である)の組成式で表されるセリウム賦活希土類複合ハロゲン化物系蛍光体。
【0097】
(12)特開昭61−40390号に記載されているLnPO・aLnX:xCe3+、(式中、LnはY、La、GdおよびLuからなる群より選ばれる少なくとも一種の希土類元素であり;XはF、Cl、BrおよびIからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり;そしてaは0.1≦a≦10.0の範囲の数値であり、xは0<x≦0.2の範囲の数値である)の組成式で表されるセリウム賦活希土類ハロ燐酸塩蛍光体。
【0098】
(13)特開昭61−236888号明細書に記載されているCsX:aRbX′:xEu2+、(式中、XおよびX′はそれぞれCl、BrおよびIからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり;そしてaは0<a≦10.0の範囲の数値であり、xは0<x≦0.2の範囲の数値である)の組成式で表される二価ユーロピウム賦活ハロゲン化セシウム・ルビジウム蛍光体。
【0099】
(14)特開昭61−236890号に記載されているM(II)X・aM(I)X′:xEu2+、(式中、M(II)はBa、SrおよびCaからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ土類金属であり;M(I)はLi、RbおよびCsからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属であり;XおよびX′はそれぞれCl、BrおよびIからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり;そしてaは0.1≦a≦20.0の範囲の数値であり、xは0<x≦0.2の範囲の数値である)の組成式で表される二価ユーロピウム賦活複合ハロゲン化物蛍光体。
【0100】
上記の輝尽性蛍光体のうちで、輝尽性蛍光体粒子がヨウ素を含有していることが好ましく、例えば、ヨウ素を含有する二価ユーロピウム賦活アルカリ土類金属弗化ハロゲン化物系蛍光体、ヨウ素を含有する二価ユーロピウム賦活アルカリ土類金属ハロゲン化物系蛍光体、ヨウ素を含有する希土類元素賦活希土類オキシハロゲン化物系蛍光体、およびヨウ素を含有するビスマス賦活アルカリ金属ハロゲン化物系蛍光体は、高輝度の輝尽発光を示すため好ましく、特に、輝尽性蛍光体がEu付加BaFI化合物であることが好ましい。
【0101】
(蒸着型蛍光体層の作製)
蒸着型蛍光体層は、蒸着、スパッタリング等の方法を用いて作製される。ここで、蒸着型蛍光体層の作製に用いられる輝尽性蛍光体としては、例えば、特開昭48−80487号に記載されているBaSO:Axで表される蛍光体、特開昭48−80488号記載のMgSO:Axで表される蛍光体、特開昭48−80489号に記載されているSrSO:Axで表される蛍光体、特開昭51−29889号に記載されているNaSO、CaSO及びBaSO等にMn、Dy及びTbの中少なくとも1種を添加した蛍光体、特開昭52−30487号に記載されているBeO、LiF、MgSO及びCaF等の蛍光体、特開昭53−39277号に記載されているLi:Cu,Ag等の蛍光体、特開昭54−47883号に記載されているLiO・(Be)x:Cu,Ag等の蛍光体、米国特許第3,859,527号に記載されているSrS:Ce,Sm、SrS:Eu,Sm、LaS:Eu,Sm及び(Zn,Cd)S:Mnxで表される蛍光体があげられる。又、特開昭55−12142号に記載されているZnS:Cu,Pb蛍光体、一般式がBaO・xAl:Euであげられるアルミン酸バリウム蛍光体、及び、一般式がM(II)O・xSiO:Aで表されるアルカリ土類金属珪酸塩系蛍光体があげられる。
【0102】
又、特開昭55−12143号に記載されている一般式が(Ba1−x−yMgCa)F:Eu2+で表されるアルカリ土類フッ化ハロゲン化物蛍光体、特開昭55−12144号に記載されている一般式がLnOX:xAで表される蛍光体、特開昭55−12145号に記載されている一般式が(Ba1−xM(II))F:yAで表される蛍光体、特開昭55−84389号に記載されている一般式がBaFX:xCe,yAで表される蛍光体、特開昭55−160078号に記載されている一般式がM(II)FX・xA:yLnで表される希土類元素賦活二価金属フルオロハライド蛍光体、一般式ZnS:A、CdS:A、(Zn,Cd)S:A,Xで表される蛍光体、特開昭59−38278号に記載されている下記いずれかの一般式
xM(PO・NX:yA
xM(PO:yA
で表される蛍光体、特開昭59−155487号に記載されている下記いずれかの一般式
nReX・mAX′:xEu
nReX・mAX′:xEu,ySm
で表される蛍光体、特開昭61−72087号に記載されている下記一般式
M(I)X・aM(II)X′・bM(III)X″:cA
で表されるアルカリハライド蛍光体、及び特開昭61−228400号に記載されている一般式M(I)X:xBiで表されるビスマス賦活アルカリハライド蛍光体等があげられる。
【0103】
特に、アルカリハライド蛍光体は、蒸着、スパッタリング等の方法で、高感度、高鮮鋭性の画像が得られる柱状結晶から構成される輝尽性蛍光体層の形成が出来るので好ましく用いられる。又、前述のように、アルカリハライド蛍光体の中でもRbBr及びCsBr系蛍光体が高輝度、高画質である点で好ましく、中でもCsBr系蛍光体が特に、好ましい。
【0104】
(蒸着型蛍光体層の形成方法)
支持体上に、蒸着型の輝尽性蛍光体層を形成する方法としては、例えば、支持体上に特定の入射角で輝尽性蛍光体の蒸気又は該原料を供給し、蒸着等の気相成長(堆積)させる方法によって独立した細長い柱状結晶からなる輝尽性蛍光体層を得ることができる。蒸着時の輝尽性蛍光体の蒸気流の入射角に対し約半分の成長角で該柱状結晶は結晶成長することができる。また、常温近傍で蒸着することにより分子状の蒸着膜を設けることもできる。
【0105】
輝尽性蛍光体の蒸気流を支持体面に対しある入射角をつけて供給する方法には、支持体を蒸発源を仕込んだ坩堝に対し互いに傾斜させる配置を取る、或いは、支持体と坩堝を互いに平行に設置し、蒸発源を仕込んだ坩堝の蒸発面からスリット等により斜め成分のみ支持体上に蒸着させる様規制する等の方法をとることができる。
【0106】
これらの場合において、支持体と坩堝との最短部の間隔は輝尽性蛍光体の平均飛程に合わせて概ね10cm〜60cmに設置するのが適当である。尚、柱状結晶の太さは、支持体の温度が低くなるほど細くなる傾向にある。
【0107】
蒸発源となる輝尽性蛍光体は、均一に溶解させるか、プレス、ホットプレスによって成形して坩堝に仕込まれる。この際、脱ガス処理を行うことが好ましい。蒸発源から輝尽性蛍光体を蒸発させる方法は電子銃により発した電子ビームの走査により行われるが、これ以外の方法にて蒸発させることもできる。
【0108】
また、蒸発源は必ずしも輝尽性蛍光体である必要はなく、輝尽性蛍光体原料を混和したものであってもよい。
【0109】
また、蛍光体の母体に対して賦活剤をあとからドープしてもよい。例えば、母体であるRbBrのみを蒸着した後、賦活剤であるTlをドープしてもよい。即ち、結晶が独立しているため、膜が厚くとも充分にドープ可能であるし、結晶成長が起こりにくいので、MTFは低下しないからである。
【0110】
ドーピングは形成された蛍光体の母体層中にドーピング剤(賦活剤)を熱拡散、イオン注入法によって行うことが出来る。
【0111】
これらの柱状結晶からなる輝尽性蛍光体層において、ヘイズ率を低下するためには、柱状結晶の大きさ(柱状結晶を支持体と平行な面から観察したときの各柱状結晶の断面積の円換算した直径の平均値であり、少なくとも100個以上の柱状結晶を視野中に含む顕微鏡写真から計算する)は1μm〜50μm程度がよく、更に好ましくは、1μm〜30μmである。
【0112】
又各柱状結晶間の間隙の大きさは30μm以下がよく、更に好ましくは5μm以下がよい。即ち、間隙が30μmを越える場合は蛍光体層中のレーザー光の散乱が増加し、鮮鋭性が低下してしまう。
【0113】
又、輝尽性蛍光体の斜め柱状結晶の成長角は0°より大きく、90°より小であれば特に問わないが、10°〜70°がよく、好ましくは20°〜55°である。成長角を10°〜70°にするには、入射角を20°〜80°にすればよく20°〜55°にするには入射角を40°〜70°にすればよい。成長角が大きいと支持体に対して柱状結晶が倒れすぎ、膜が脆くなる。
【0114】
該輝尽性蛍光体を気相成長(堆積)させる方法としては蒸着法、スパッタ法及びCVD法がある。
【0115】
蒸着法は、支持体を蒸着装置内に設置したのち、装置内を排気して1.333×10−4Pa程度の真空とし、次いで、輝尽性蛍光体の少なくとも1つを抵抗加熱法、エレクトロンビーム法などの方法で加熱蒸発させて支持体表面に輝尽性蛍光体を所望の厚みに斜め堆積させる。この結果、結着剤を含有しない輝尽性蛍光体層が形成されるが、前記蒸着工程では複数回に分けて輝尽性蛍光体層を形成することも可能である。また、前記蒸着工程では複数の抵抗加熱器或いはエレクトロンビームを用いて蒸着を行うことも可能である。また蒸着法においては、輝尽性蛍光体原料を複数の抵抗加熱器或いはエレクトロンビームを用いて蒸着し、支持体上で目的とする輝尽性蛍光体を合成すると同時に輝尽性蛍光体層を形成することも可能である。更に蒸着法においては、蒸着時に必要に応じて被蒸着物を冷却或いは加熱してもよい。また、蒸着終了後、輝尽性蛍光体層を加熱処理してもよい。
【0116】
スパッタ法は前記蒸着法と同様に支持体をスパッタ装置内に設置した後、装置内を一旦排気して1.333×10−4Pa程度の真空度とし、次いでスパッタ用のガスとしてAr、Ne等の不活性ガスを装置内に導入して1.333×10−1Pa程度のガス圧とする。次に、前記輝尽性蛍光体をターゲットとして、斜めにスパッタリングすることにより支持体表面に輝尽性蛍光体を所望の厚さに斜めに堆積させる。このスパッタ工程では蒸着法と同様に複数回に分けて輝尽性蛍光体層を形成することも可能であるし、それぞれを用いて同時或いは順次、前記ターゲットをスパッタリングして輝尽性蛍光体層を形成することも可能である。また、スパッタ法では、複数の輝尽性蛍光体原料をターゲットとして用い、これを同時或いは順次スパッタリングして、支持体上で目的とする輝尽性蛍光体層を形成する事も可能であるし、必要に応じてO、H等のガスを導入して反応性スパッタを行ってもよい。更に、スパッタ法においては、スパッタ時必要に応じて被蒸着物を冷却或いは加熱してもよい。また、スパッタ終了後に輝尽性蛍光体層を加熱処理してもよい。
【0117】
CVD法は目的とする輝尽性蛍光体或いは輝尽性蛍光体原料を含有する有機金属化合物を熱、高周波電力等のエネルギーで分解することにより、支持体上に結着剤を含有しない輝尽性蛍光体層を得るものであり、いずれも輝尽性蛍光体層を支持体の法線方向に対して特定の傾きをもって独立した細長い柱状結晶に気相成長させることが可能である。
【0118】
(蒸着型輝尽性蛍光体層の膜厚)
これらの方法により形成した輝尽性蛍光体層の膜厚は目的とする放射線像変換パネルの放射線に対する感度、輝尽性蛍光体の種類等によって異なるが、10μm〜1000μmの範囲から選ばれるのが好ましく、20μm〜800μmから選ばれるのがより好ましい。
【0119】
【実施例】
以下、本発明を実施例により説明するが、本発明はこれらに限定されない。
【0120】
実施例1
《塗布型タイプの放射線画像変換パネルの作製》
下記に記載のように、蛍光体粒子の作製、支持体上への蛍光体層を有するシートの作製、前記シートの蛍光体面側、支持体面側に、各々保護層を形成して、輝尽性蛍光体シートを作製し、次いで、輝尽性蛍光体シートと支持体トレーとを貼合した後、表1に記載のような封止部材を用いて図1に記載のような被覆処理を行い、放射線画像変換パネルを作製した。
【0121】
《蛍光体粒子の作製》
ユーロピウム賦活弗化ヨウ化バリウムの輝尽性蛍光体前駆体を合成するために、BaI水溶液(3.6mol/L)2780mlとEuI水溶液(0.2mol/L)27mlを反応器に入れた。この反応器中の反応母液を撹拌しながら83℃で保温した。弗化アンモニウム水溶液(8mol/L)322mlを反応母液中にローラーポンプを用いて注入し、沈澱物を生成させた。注入終了後も保温と撹拌を2時間続けて沈澱物の熟成を行なった。次に沈澱物をろ別後、エタノールにより洗浄した後真空乾燥させてユーロピウム賦活弗化ヨウ化バリウムの結晶を得た。焼成時の焼結により粒子形状の変化、粒子間融着による粒子サイズ分布の変化を防止するために、アルミナの超微粒子粉体を0.2質量%添加し、ミキサーで充分撹拌して、結晶表面にアルミナの超微粒子粉体を均一に付着させた。これを石英ボートに充填して、チューブ炉を用いて水素ガス雰囲気中、850℃で2時間焼成してユーロピウム賦活弗化ヨウ化バリウム蛍光体粒子を得た。次に上記蛍光体粒子を分級することにより平均粒径7μmの粒子を得た。
【0122】
《蛍光体層を有するシートの作製》
蛍光体層形成材料として、上記で得たユーロピウム賦活弗化ヨウ化バリウム蛍光体427g、ポリウレタン樹脂(住友バイエルウレタン社製、デスモラック4125)15.8g、ビスフェノールA型エポキシ樹脂2.0gをメチルエチルケトン−トルエン(1:1)混合溶媒に添加し、プロペラミキサーによって分散し、粘度25Pa・s〜30Pa・sの塗布液を調製した。この塗布液をドクターブレードを用いて厚さ100μmの黒色PET支持体上に塗布したのち、100℃で15分間乾燥させて、270μmの厚さの蛍光体層を形成した。
【0123】
《輝尽性蛍光体シートの作製》
蛍光体層を有するシートの蛍光体面側に下記のように保護フィルムを配設し、輝尽性蛍光体シートを作製した。
【0124】
(保護フィルムの作製)
輝尽性蛍光体シートの蛍光体面に表1に示す酸化アルミナ蒸着フィルム(酸化アルミナ蒸着膜(蒸着膜の厚さは30nm)を設けたポリエチレンテレフタレートフィルム(厚さ12μm))を市販の2液反応型のウレタン系接着剤を用いて接着層が3μmとなるようにラミネートし、保護層を設けた。
【0125】
《放射線画像変換パネル1の作製》:塗布型タイプ
上記で作製した輝尽性蛍光体シートに表1に記載のトレー材質を有する支持体トレーとを貼合した。貼合にあたり、上記トレー上にトレー側から順に両面接着シート、鉛箔、両面接着シートとなるように積層し、次いで、輝尽性蛍光体プレートを貼合、積層、圧着、次いで、下記に示すように封止部材を用いて図1に記載のように被覆処理(封止部材の厚み、塗布幅は表1に示す)することにより、放射線画像変換パネル1を作製した。
【0126】
(封止部材による蛍光体シートと支持体トレーの被覆処理)
封止部材として、表1に記載の変性アクリル樹脂系紫外線硬化樹脂TB3025G(スリーボンド(株)製)を用い、前記封止部材の塗設は、ディスペンサーAD3000VH(岩下エンジニアリング社製)をコントローラーとして用い、XYステージディスペンスロボットASC2000(岩下エンジニアリング社製)を用いて被覆処理を行った。
【0127】
尚、紫外線硬化樹脂硬化用の光源としては、UV照射装置:住田光学ガラス社製LS−140UVを用いた。
【0128】
《放射線画像変換パネル2〜5の作製方法》:塗布型タイプ
放射線画像変換パネル1の作製において、支持体トレー、封止部材の材質等を表1に記載のように変更し、封止部材の硬化用に、熱硬化用クリーンオーブン:タバイエスペック社製PV(H)C−330を用いた以外は同様にして、塗布型タイプの放射線画像変換パネル2〜5を各々作製した。
【0129】
《比較の放射線画像変換パネル11の作製》:塗布型タイプ
放射線画像変換パネル1の作製において、下記に記載のように、予め蛍光体シート全体に封止処理を施して輝尽性蛍光体プレートを作製し、次いで、得られた輝尽性蛍光体プレートと表1に記載の支持体トレーとを貼合して図2に記載のような、比較の放射線画像変換パネル11を作製した。
【0130】
(蛍光体シートの封止による輝尽性蛍光体プレートの作製)
放射線画像変換パネル1の作製において得られた輝尽性蛍光体シートを20cm×20cmの正方形に断裁し、上記の保護フィルムを使用し、減圧下で周縁部をインパルスシーラを用いて融着することで封止した。尚、融着部から輝尽性蛍光体シートの周縁部までの距離は1mmとなるように融着した。融着に使用したインパルスシーラのヒータは8mm幅のものを使用した。
【0131】
(パネルの作製)
上記の輝尽性蛍光体プレートに表1に記載のトレー材質を有する支持体トレーを貼合した。貼合にあたり、トレー上にトレー側から順に両面接着シート、鉛箔、両面接着シートとなるように積層し、次いで、輝尽性蛍光体プレートを貼合、積層、圧着することにより、比較の放射線画像変換パネル11を作製した。
【0132】
《比較の放射線画像変換パネル12の作製》:塗布型タイプ
比較の放射線画像変換パネル11の作製において、表1に記載の支持体トレーを用いた以外は同様にして、比較の放射線画像変換パネル12を作製した。
【0133】
《蒸着型タイプの放射線画像変換パネルの作製》
《放射線画像変換パネル6の作製》:蒸着タイプ
以下に記載の方法に従って、蒸着型蛍光体層を有する放射線画像変換パネル6を作製した。
【0134】
(支持体1の作製)
厚さ500μm厚の結晶化ガラス上の下記のようにして光反射層を設け、支持体1を作製した。
【0135】
(光反射層の形成)
フルウチ化学社製酸化チタンとフルウチ化学社製酸化ジルコニウムとを、400nmでの反射率が85%、660nmでの反射率が20%となるように、蒸着装置を用いて支持体表面に膜形成を行った。
【0136】
(輝尽性蛍光体シートの作製)
上記作製した支持体1を240℃加温し、真空チャンバー中に窒素ガスを導入し、真空度を0.1Paとした後、支持体の一方の面に、公知の蒸着装置を用いて、CsBr:Eu2+からなるアルカリハライド蛍光体を支持体表面の法線方向に対して略0°(ここで、略とは0±5°の範囲を表す)の入射角度で、アルミニウム製のスリットを用いて、支持体とスリット(蒸着源)の距離を60cmとして、支持体と平行な方向に支持体を搬送しながら蒸着を行って、300μm厚の柱状構造を有する蛍光体層を形成した。
【0137】
(輝尽性蛍光体層上への保護層の作製)
次いで、蛍光体蒸着面に保護フィルム(表面上に酸化アルミナ蒸着膜(蒸着膜の厚さは30nm)を設けたポリエチレンテレフタレートフィルム(厚さ12μm))を市販の2液反応型のウレタン系接着剤を用いて接着層が3μmとなるようにラミネートし、保護層を設けた。
【0138】
(封止部材による被覆処理とパネルの作製)
塗布型の放射線画像変換パネル1の作製と同様にして、封止部材による蛍光体シートと支持体トレーの被覆処理を行い、蒸着型タイプの放射線画像変換パネル6を作製した。
【0139】
《放射線画像変換パネル7〜10の作製》:蒸着タイプ
放射線画像変換パネル1の作製において、保護層を表1に記載のガラス板(厚さ0.7mm(日本電気硝子(株)製))に変更し、封止部材の硬化用に、熱硬化用クリーンオーブン:タバイエスペック社製PV(H)C−330を用いた以外は同様にして放射線画像変換パネル7〜10を各々作製した。
【0140】
得られた放射線画像変換パネル1〜10の各々について、下記のようにして、放射線画像変換パネルの扱い易さを評価した。
【0141】
《パネルの扱い易さ(操作性)》
放射線画像変換パネルの扱い易さ(操作性)とは、社外のX線技術者をランダムに10人選び、パネルの設置、トレー設置時のパネルの耐震性(振動に対する耐久性)、X線撮影〜輝尽励起光による画像読取、読取後の後処理の一連の操作における、パネルの可撓性と扱い易さ(操作性)、コンパクト性を総合評価し、下記のように3段階にランク評価した。
【0142】
◎:軽く扱いやすく、また、トレー設置時の耐久性が良好
○:重さを少し感じるが、トレー設置時の耐久性は良好
△:パネル全体が重く、トレー設置時の耐久性が不十分である
本発明では、○以上を実用可とした。
【0143】
得られた結果を表1に示す。
【0144】
【表1】
Figure 2004012413
【0145】
表1から、比較に比べて、本発明の試料はパネルの扱い易さ(操作性)が格段に向上していることが明らかである。併せて、従来のように輝尽性蛍光体シートの全体を封止部材により被覆処理しなければならないパネルに比べて、封止部材の被覆が輝尽性蛍光体シートのエッジ部と該エッジ部近傍の該支持体トレーの表面部位に行われるため、パネル自体を大幅にコンパクトに出来ることが判る。
【0146】
【発明の効果】
本発明により、輝尽性蛍光体層の封止ミミ幅が狭くコンパクトな放射線画像変換パネル及びその製造方法を提供することが出来た。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の放射線画像変換パネルの一態様を示す模式図である。
【図2】従来公知の放射線画像変換パネルの代表的な一態様を示す模式図である。
【符号の説明】
1 放射線画像変換パネル
2 支持体トレー
3 輝尽性蛍光体シート
3a 輝尽性蛍光体層
3b 保護層
4 封止部材

Claims (4)

  1. 支持体トレー上に、少なくとも支持体と輝尽性蛍光体層とをこの順で有する輝尽性蛍光体シートを有する放射線画像変換パネルにおいて、
    該輝尽性蛍光体層が保護層を有し、該輝尽性蛍光体シートのエッジ部と該エッジ部近傍の該支持体トレーの表面部位とが封止部材により被覆されていることを特徴とする放射線画像変換パネル。
  2. 封止部材が、アクリル樹脂系接着剤、エポキシ樹脂系接着剤、シリコーン樹脂系接着剤及びイソシアナート系接着剤からなる群から選択される少なくとも1種の接着剤を含むことを特徴とする請求項1に記載の放射線画像変換パネル。
  3. 封止部材の厚さをa(mm)、該封止部材の塗布幅をb(mm)とした時、厚さaと塗布幅bが下記一般式(1)を満たすことを特徴とする請求項1または2に記載の放射線画像変換パネル。
    一般式(1)
    0.01mm≦a≦1.0mm、0.1mm≦b≦5.0mm
  4. 請求項1〜3のいずれか1項に記載の放射線画像変換パネルを製造するにあたり、輝尽性蛍光体シートのエッジ部と該エッジ部近傍の支持体トレーの表面部位とを封止部材により封着する工程を有することを特徴とする放射線画像変換パネルの製造方法。
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