JP2004006329A - 導体ワイヤを被覆するための装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】エナメル炉内においてワイヤの表面に火炎を生じることなく、被覆されたワイヤを得ることができる、導体ワイヤを被覆するための装置を提供する。
【解決手段】導体ワイヤを被覆するための装置であって、装置はエナメル炉からなっており、炉はエナメルニスが塗布されたワイヤがその中を通過するチャンバからなっており、チャンバにはワイヤ入口およびワイヤ出口が備えられ、ニスから溶剤を蒸発させワイヤ上でニスを焼成するための、チャンバ内における通路に沿ってワイヤを加熱する手段が備えられ、チャンバ内の雰囲気は低酸素濃度であり、チャンバは、ファン、チャンバに通じる空気供給口および前記酸素濃度を測定するためのサーボ制御手段を更に備えており、
ファンおよび空気供給口は、相互に離れた、異なる位置に配置され、ファンは、溶剤蒸発ゾーンと空気供給口との間に溶剤を空気供給口に向かって運ぶように配置され、溶剤は、ニスが焼成されるゾーンＡの外側で燃焼により処理される装置。
【選択図】図１
【解決手段】導体ワイヤを被覆するための装置であって、装置はエナメル炉からなっており、炉はエナメルニスが塗布されたワイヤがその中を通過するチャンバからなっており、チャンバにはワイヤ入口およびワイヤ出口が備えられ、ニスから溶剤を蒸発させワイヤ上でニスを焼成するための、チャンバ内における通路に沿ってワイヤを加熱する手段が備えられ、チャンバ内の雰囲気は低酸素濃度であり、チャンバは、ファン、チャンバに通じる空気供給口および前記酸素濃度を測定するためのサーボ制御手段を更に備えており、
ファンおよび空気供給口は、相互に離れた、異なる位置に配置され、ファンは、溶剤蒸発ゾーンと空気供給口との間に溶剤を空気供給口に向かって運ぶように配置され、溶剤は、ニスが焼成されるゾーンＡの外側で燃焼により処理される装置。
【選択図】図１
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、導体ワイヤを被覆するための装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
特許文献ＥＰ−０８７５２９９は、ワイヤにニスを塗布する塗布器およびワイヤがその中を通過するエナメル炉からなる導体ワイヤを被覆するための装置を開示している。そのために、炉は、ニスから溶剤を蒸発させ、そして、ニスを焼成するために、ワイヤが通過する通路に面して取り付けられた加熱装置を備えている。蒸発した溶剤は、火炎を生じることなく、低酸素濃度の雰囲気に制御されて、加熱装置に接触させる焼成によって処理される。このために、チャンバは酸素濃度を測定するプローブ、および、プローブによって行なわれる測定に対してサーボ制御される空気入口の開放を備えている。
【０００３】
【特許文献】
欧州特許公開公報ＥＰ−０８７５２９９
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
上述した特許文献によると、ファンは空気供給口に面して搭載されている。このように、空気がチャンバを通過し、そして、入ってくる空気の流れが既にチャンバ内に存在する空気および蒸気の流れと混合する。
上述した装置は数多くの利点を有しているが、十分に満足するものではない。
【０００５】
入ってくる空気の一部が、ファンによって、ニス塗布器に向かって進められ、その結果、被覆の品質を劣化し、溶剤を速やかに酸化させて、ワイヤの表面に火炎を生じ、被覆の品質を劣化させる。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
この発明の目的は、上述した問題点を解決することにあり、特に、エナメル炉内においてワイヤの表面に火炎を生じることなく、被覆されたワイヤを得ることができる、導体ワイヤを被覆するための装置を提供することにある。
【０００７】
この目的のために、この発明は、導体ワイヤを被覆するための装置であって、前記装置はエナメル炉からなっており、前記炉はエナメルニスが塗布されたワイヤがその中を通過するチャンバからなっており、チャンバにはワイヤ入口およびワイヤ出口が備えられ、ニスから溶剤を蒸発させワイヤ上でニスを焼成するための、チャンバ内における通路に沿ってワイヤを加熱する手段が備えられ、前記チャンバ内の雰囲気は低酸素濃度であり、前記チャンバは、ファン、チャンバに通じる空気供給口および前記酸素濃度を測定するためのサーボ制御手段を更に備えており、
前記ファンおよび前記空気供給口は、相互に離れた、異なる位置に配置され、前記ファンは、溶剤蒸発ゾーンと前記空気供給口との間に前記溶剤を前記空気供給口に向かって運ぶように配置され、前記溶剤は、前記ニスが焼成されるゾーンＡの外側で燃焼により処理されることを特徴とする装置である。
【０００８】
この発明によって、蒸発した溶剤がワイヤに向かって移動することは無く、その結果、被覆されたワイヤの表面に火炎が形成されるのを防止することを確実にする。この結果、被覆の品質を非常に著しく向上させることができる。
【０００９】
最も好ましい態様において、燃焼による前記溶剤の処理が、前記溶剤を焼成し、前記チャンバに連絡するための燃焼ゾーンＣにおいて行なわれる。
前記ファンが前記溶剤の流れる方向に関して、前記空気供給口の前に配置されている。
【００１０】
この発明の好ましい態様において、２つの端部が前記チャンバと連絡し、そして、前記空気供給口とも連絡する空気供給ダクトが、前記炉内に設けられて、閉鎖されたガス循環回路を形成し、前記ガス循環回路は、前記ニス焼成ゾーンＡ、溶剤蒸発ゾーンＢ、および前記溶剤燃焼ゾーンＣからなっており、ガスは、前記チャンバ内おけるワイヤの移動方向と反対方向に前記回路内を循環する。
【００１１】
この発明の他の特徴および利点は、以下に説明するが、これらは説明のためになされるもので、これらに限定されるものではない。
【００１２】
【発明の実施の形態】
装置１００は、ニス塗布器１、および、ニス塗布器の後方に搭載されて結合され、その中を導体ワイヤが通過する、水平に例示されたエナメル炉からなっている。当然のことながら、装置１００は、別の態様において、垂直に配置されてもよい。ニス塗布器１は、溶剤に溶解されたニスを含み、ワイヤがニス塗布器を通過するときに、ワイヤの上にニス層を形成する。
【００１３】
エナメル炉２は、ワイヤがチャンバ内を通過するときに、ワイヤ上のニス層から溶剤を蒸発させ、蒸発した溶剤を処理し、そして、ワイヤ上のニスを高温で焼成するための単一のチャンバ４からなっている。
炉２は、チャンバ内を出入りするワイヤ３のための、チャンバの両端に位置する入口５および出口６を備えている。炉は更に縦長底壁８および縦長上壁９（好ましくは２重の壁９Ａ、９Ｂ）を備えている。炉２には、更に、チャンバ内に、例えば壁９Ａにおいて、その中をワイヤが続く通路に面して（図示されない）放射加熱器が取り付けられている。これらの加熱器は、チャンバを約１０００℃の温度に高めることができるように設計された電気レジスタである。
【００１４】
文献ＥＰ−０ ８７５ ２９９に記載されたように、チャンバ４は、好ましくは、内部雰囲気が６％以下、好ましくは、３％以下の低酸素濃度であるチャンバである。酸素濃度はモニタされる。この目的のために、チャンバ４には、チャンバ４内の雰囲気の酸素濃度を測定するためのプローブ１０が取り付けられている。制御された空気入口１１は、プローブ１０にサーボ制御されて、チャンバ内の酸素濃度を所望の値に維持することができる。
【００１５】
空気供給口１１は、供給ダクト１２内に開放されており、供給ダクトは、好ましくは、しかし必ずしもそれに限定されないが、炉２の壁９Ａ、９Ｂ間に形成され、そして、チャンバ４の入口端部５および出口端部６に、その両端部が開放されている。ファン１３が空気供給口１２内に搭載されている。
炉内に幾つかのゾーンが形成されている。即ち、ニス焼成ゾーンＡ、ワイヤ３の位置口５に近接して設けられた溶剤蒸発ゾーンＢ、および、蒸発した溶剤を燃焼によって処理するゾーンＣ。
【００１６】
この発明によると、ファン１３および空気供給口１１は、相互に離れた、異なる位置に配置されている。即ち、ファン１３は、溶剤蒸発ゾーンＢと空気供給口１１との間に溶剤を空気供給口１１に向かって運ぶように配置され、溶剤は、ニス焼成ゾーンＡから離れた、溶剤処理ゾーンＣにおける燃焼により処理されることができる。
換言すれば、ニス層に被覆されたワイヤ３がチャンバ内を通って、図中矢印Ｆによって示されるように右から左に移動すると、溶剤はゾーンＢにおいてニス層から蒸発する。
【００１７】
ゾーンＢにおいて蒸発した溶剤は、ファン１３によって、空気供給口１１、およびゾーンＣに向かって移動し、次いで、ゾーンＣにおいて完全に燃焼される。炉２内におけるガスの流れは、矢印Ｇで示され、ゾーンＡ内において、方向Ｆと逆方向に起きる。
上述したように、この発明においては、ファン１３がガスの流れる方向Ｇに関して、空気供給口１１の前方に配置されている。
当然のことながら、この発明は、上述した態様に限定されるものではない。
【００１８】
特に、チャンバ内への空気の制御された供給は、示した以外の方法によって行うことができ、供給ダクトは炉の１つの壁に一体となる必要はない。
更に、被覆する装置は、塗布器１および炉２の組合せ体に類似の複数の組合せ体からなっていてもよく、組合せ体は、順次搭載されていてもよい。
【００１９】
最後に、この発明の範囲を超えることなく、あらゆる手段は、均等な手段によって置きかえることができる。
【発明の効果】
エナメル炉内においてワイヤの表面に火炎を生じることなく、被覆されたワイヤを得ることができる、導体ワイヤを被覆するための装置を提供することにある。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１は、この発明の導体ワイヤを被覆するための装置の断面の概要を示した図である。
【符号の説明】
１ニス塗布器
２エナメル炉
３導体ワイヤ
４チャンバ
５入口
６出口
８縦長底壁
９縦長上壁
１０プローブ
１１制御された空気供給口
１２空気供給ダクト
１３ファン
１００装置
Ａニス燃焼ゾーン
Ｂ溶剤蒸発ゾーン
Ｃ燃焼による蒸発した溶剤処理ゾーン
【発明の属する技術分野】
この発明は、導体ワイヤを被覆するための装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
特許文献ＥＰ−０８７５２９９は、ワイヤにニスを塗布する塗布器およびワイヤがその中を通過するエナメル炉からなる導体ワイヤを被覆するための装置を開示している。そのために、炉は、ニスから溶剤を蒸発させ、そして、ニスを焼成するために、ワイヤが通過する通路に面して取り付けられた加熱装置を備えている。蒸発した溶剤は、火炎を生じることなく、低酸素濃度の雰囲気に制御されて、加熱装置に接触させる焼成によって処理される。このために、チャンバは酸素濃度を測定するプローブ、および、プローブによって行なわれる測定に対してサーボ制御される空気入口の開放を備えている。
【０００３】
【特許文献】
欧州特許公開公報ＥＰ−０８７５２９９
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
上述した特許文献によると、ファンは空気供給口に面して搭載されている。このように、空気がチャンバを通過し、そして、入ってくる空気の流れが既にチャンバ内に存在する空気および蒸気の流れと混合する。
上述した装置は数多くの利点を有しているが、十分に満足するものではない。
【０００５】
入ってくる空気の一部が、ファンによって、ニス塗布器に向かって進められ、その結果、被覆の品質を劣化し、溶剤を速やかに酸化させて、ワイヤの表面に火炎を生じ、被覆の品質を劣化させる。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
この発明の目的は、上述した問題点を解決することにあり、特に、エナメル炉内においてワイヤの表面に火炎を生じることなく、被覆されたワイヤを得ることができる、導体ワイヤを被覆するための装置を提供することにある。
【０００７】
この目的のために、この発明は、導体ワイヤを被覆するための装置であって、前記装置はエナメル炉からなっており、前記炉はエナメルニスが塗布されたワイヤがその中を通過するチャンバからなっており、チャンバにはワイヤ入口およびワイヤ出口が備えられ、ニスから溶剤を蒸発させワイヤ上でニスを焼成するための、チャンバ内における通路に沿ってワイヤを加熱する手段が備えられ、前記チャンバ内の雰囲気は低酸素濃度であり、前記チャンバは、ファン、チャンバに通じる空気供給口および前記酸素濃度を測定するためのサーボ制御手段を更に備えており、
前記ファンおよび前記空気供給口は、相互に離れた、異なる位置に配置され、前記ファンは、溶剤蒸発ゾーンと前記空気供給口との間に前記溶剤を前記空気供給口に向かって運ぶように配置され、前記溶剤は、前記ニスが焼成されるゾーンＡの外側で燃焼により処理されることを特徴とする装置である。
【０００８】
この発明によって、蒸発した溶剤がワイヤに向かって移動することは無く、その結果、被覆されたワイヤの表面に火炎が形成されるのを防止することを確実にする。この結果、被覆の品質を非常に著しく向上させることができる。
【０００９】
最も好ましい態様において、燃焼による前記溶剤の処理が、前記溶剤を焼成し、前記チャンバに連絡するための燃焼ゾーンＣにおいて行なわれる。
前記ファンが前記溶剤の流れる方向に関して、前記空気供給口の前に配置されている。
【００１０】
この発明の好ましい態様において、２つの端部が前記チャンバと連絡し、そして、前記空気供給口とも連絡する空気供給ダクトが、前記炉内に設けられて、閉鎖されたガス循環回路を形成し、前記ガス循環回路は、前記ニス焼成ゾーンＡ、溶剤蒸発ゾーンＢ、および前記溶剤燃焼ゾーンＣからなっており、ガスは、前記チャンバ内おけるワイヤの移動方向と反対方向に前記回路内を循環する。
【００１１】
この発明の他の特徴および利点は、以下に説明するが、これらは説明のためになされるもので、これらに限定されるものではない。
【００１２】
【発明の実施の形態】
装置１００は、ニス塗布器１、および、ニス塗布器の後方に搭載されて結合され、その中を導体ワイヤが通過する、水平に例示されたエナメル炉からなっている。当然のことながら、装置１００は、別の態様において、垂直に配置されてもよい。ニス塗布器１は、溶剤に溶解されたニスを含み、ワイヤがニス塗布器を通過するときに、ワイヤの上にニス層を形成する。
【００１３】
エナメル炉２は、ワイヤがチャンバ内を通過するときに、ワイヤ上のニス層から溶剤を蒸発させ、蒸発した溶剤を処理し、そして、ワイヤ上のニスを高温で焼成するための単一のチャンバ４からなっている。
炉２は、チャンバ内を出入りするワイヤ３のための、チャンバの両端に位置する入口５および出口６を備えている。炉は更に縦長底壁８および縦長上壁９（好ましくは２重の壁９Ａ、９Ｂ）を備えている。炉２には、更に、チャンバ内に、例えば壁９Ａにおいて、その中をワイヤが続く通路に面して（図示されない）放射加熱器が取り付けられている。これらの加熱器は、チャンバを約１０００℃の温度に高めることができるように設計された電気レジスタである。
【００１４】
文献ＥＰ−０ ８７５ ２９９に記載されたように、チャンバ４は、好ましくは、内部雰囲気が６％以下、好ましくは、３％以下の低酸素濃度であるチャンバである。酸素濃度はモニタされる。この目的のために、チャンバ４には、チャンバ４内の雰囲気の酸素濃度を測定するためのプローブ１０が取り付けられている。制御された空気入口１１は、プローブ１０にサーボ制御されて、チャンバ内の酸素濃度を所望の値に維持することができる。
【００１５】
空気供給口１１は、供給ダクト１２内に開放されており、供給ダクトは、好ましくは、しかし必ずしもそれに限定されないが、炉２の壁９Ａ、９Ｂ間に形成され、そして、チャンバ４の入口端部５および出口端部６に、その両端部が開放されている。ファン１３が空気供給口１２内に搭載されている。
炉内に幾つかのゾーンが形成されている。即ち、ニス焼成ゾーンＡ、ワイヤ３の位置口５に近接して設けられた溶剤蒸発ゾーンＢ、および、蒸発した溶剤を燃焼によって処理するゾーンＣ。
【００１６】
この発明によると、ファン１３および空気供給口１１は、相互に離れた、異なる位置に配置されている。即ち、ファン１３は、溶剤蒸発ゾーンＢと空気供給口１１との間に溶剤を空気供給口１１に向かって運ぶように配置され、溶剤は、ニス焼成ゾーンＡから離れた、溶剤処理ゾーンＣにおける燃焼により処理されることができる。
換言すれば、ニス層に被覆されたワイヤ３がチャンバ内を通って、図中矢印Ｆによって示されるように右から左に移動すると、溶剤はゾーンＢにおいてニス層から蒸発する。
【００１７】
ゾーンＢにおいて蒸発した溶剤は、ファン１３によって、空気供給口１１、およびゾーンＣに向かって移動し、次いで、ゾーンＣにおいて完全に燃焼される。炉２内におけるガスの流れは、矢印Ｇで示され、ゾーンＡ内において、方向Ｆと逆方向に起きる。
上述したように、この発明においては、ファン１３がガスの流れる方向Ｇに関して、空気供給口１１の前方に配置されている。
当然のことながら、この発明は、上述した態様に限定されるものではない。
【００１８】
特に、チャンバ内への空気の制御された供給は、示した以外の方法によって行うことができ、供給ダクトは炉の１つの壁に一体となる必要はない。
更に、被覆する装置は、塗布器１および炉２の組合せ体に類似の複数の組合せ体からなっていてもよく、組合せ体は、順次搭載されていてもよい。
【００１９】
最後に、この発明の範囲を超えることなく、あらゆる手段は、均等な手段によって置きかえることができる。
【発明の効果】
エナメル炉内においてワイヤの表面に火炎を生じることなく、被覆されたワイヤを得ることができる、導体ワイヤを被覆するための装置を提供することにある。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１は、この発明の導体ワイヤを被覆するための装置の断面の概要を示した図である。
【符号の説明】
１ニス塗布器
２エナメル炉
３導体ワイヤ
４チャンバ
５入口
６出口
８縦長底壁
９縦長上壁
１０プローブ
１１制御された空気供給口
１２空気供給ダクト
１３ファン
１００装置
Ａニス燃焼ゾーン
Ｂ溶剤蒸発ゾーン
Ｃ燃焼による蒸発した溶剤処理ゾーン
Claims (4)
- 導体ワイヤを被覆するための装置であって、前記装置はエナメル炉からなっており、前記炉はエナメルニスが塗布されたワイヤがその中を通過するチャンバからなっており、チャンバにはワイヤ入口およびワイヤ出口が備えられ、ニスから溶剤を蒸発させワイヤ上でニスを焼成するための、チャンバ内における通路に沿ってワイヤを加熱する手段が備えられ、前記チャンバ内の雰囲気は低酸素濃度であり、前記チャンバは、ファン、チャンバに通じる空気供給口および前記酸素濃度を測定するためのサーボ制御手段を更に備えており、
前記ファンおよび前記空気供給口は、相互に離れた、異なる位置に配置され、前記ファンは、溶剤蒸発ゾーンと前記空気供給口との間に前記溶剤を前記空気供給口に向かって運ぶように配置され、前記溶剤は、前記ニスが焼成されるゾーンＡの外側で燃焼により処理されることを特徴とする装置。 - 燃焼による前記溶剤の処理が、前記溶剤を焼成し、前記チャンバに連絡するための燃焼ゾーンＣにおいて行なわれる、請求項１に記載の装置。
- 前記ファンが前記溶剤の流れる方向に関して、前記空気供給口の前に配置されている、請求項１または２に記載の装置。
- ２つの端部が前記チャンバと連絡し、そして、前記空気供給口とも連絡する空気供給ダクトが、前記炉内に設けられて、閉鎖されたガス循環回路を形成し、前記ガス循環回路は、前記ニス焼成ゾーンＡ、溶剤蒸発ゾーンＢ、および前記溶剤燃焼ゾーンＣからなっており、ガスは、前記チャンバ内おけるワイヤの移動方向と反対方向に前記回路内を循環する、請求項１から３の何れか１項に記載の装置。
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