JP2003535670A - 産業廃ガスの浄化方法 - Google Patents
産業廃ガスの浄化方法Info
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- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
- B01D53/74—General processes for purification of waste gases; Apparatus or devices specially adapted therefor
- B01D53/86—Catalytic processes
- B01D53/8668—Removing organic compounds not provided for in B01D53/8603 - B01D53/8665
Abstract
Description
定米国特許出願である。なお、このロシア特許出願明細書は引用によって本明細
書中に組込まれる。
機化学物質を除去するための方法に関する。具体的には、本発明はフェノールタ
ール生成による触媒失活を回避しながら廃ガス流からメタノール及びクメンを除
去するための方法に関する。
密に等温の作業条件が使用される。かかる方法の実施に際しては、反応塊に多量
の熱を加える必要がある。廃ガスから有機不純物を除去するための触媒としては
、各種の触媒系が使用されている。ある種の触媒は、例えばクロム、コバルト、
ジルコニウム(ロシア特許第2050976号)、マグネシウム(米国特許第4
673558号)、マンガン、銅(ロシア特許出願第95102026号)のよ
うな卑金属の酸化物を含有している。別の触媒は、例えば白金(米国特許第57
02836号)、パラジウム及び銀(米国特許第4673556号)のような貴
金属を含有している。最近、複合酸化物担体上の貴金属から成る触媒系が広く使
用されるようになった(米国特許第5585083号)。特に、酸化チタン及び
酸化セリウム上の第VIII族金属(米国特許第4716859号)、例えば酸化セ
リウム上のパラジウム及びロジウム(米国特許第4919903号)が挙げられ
る。
ための最も一般的な方法は、米国特許第5292991号明細書中に開示されて
いる。この特許明細書中には、酸化ジルコニウム及び酸化チタンによって変性さ
れたZSM型ゼオライト上に共沈着させた白金及びパラジウムから成る触媒の存
在下に600℃の温度で実施される方法が記載されている。この方法は98.1
%の炭化水素転化率を達成する。この方法の欠点は、水蒸気及びガスから成る流
れ(概して窒素及び水蒸気に富む流れ)を高温に加熱する必要のあることである
。また、この方法は触媒の樹脂化を引起こさない軽い炭化水素を流れから除去す
るためにしか有効でない。
ている。例えば、廃ガスから有機臭素化合物を除去するための、米国特許第56
53949号に係る公知の低温法では、ジルコニウム、マンガン、セリウム及び
コバルトの酸化物上に白金族の金属を含有する触媒が使用されている。なお、ガ
ス流からメタノール及びホルムアルデヒドを除去する場合にガス流を加熱する温
度を低下させるため、酸化セリウム上の白金/パラジウム触媒を使用することが
推奨されている。この方法は、反応温度を150℃に低下させることができる。
この方法の欠点は、それが廃ガスからメタノール及びホルムアルデヒドだけしか
除去できないことである。従って、ガス流が触媒の樹脂化を引起こす芳香族ヒド
ロペルオキシドを含有する場合、この方法は有効でない。
22%までの2種以上の貴金属を含む触媒系を使用しながら、5個までの炭素原
子を有するアルデヒド、アルコール及びケトンを含有する産業廃ガスを(150
℃以下の)低い温度で浄化するための方法が記載されている。この方法は、廃ガ
ス流から90%のエタノール及び93%のホルムアルデヒドを除去する。この方
法の欠点は、やはり、その存在が触媒の樹脂化を引起こさない小さな有機化合物
(例えば、メタノール、エタノール、アセトン及びホルムアルデヒド)を廃ガス
から除去することしかできないことである。
法に最も近い方法は、酸化アルミニウムを含む担体上に0.03〜3.0%のパ
ラジウムを沈着させて成る触媒上に廃ガスを通過させるものである。この方法は
、米国特許第4450244号明細書中に記載されている。米国特許第4450
244号に係る方法は、酸素の存在下に高温(すなわち、350又は400℃)
で実施される。これにより、各種の有機酸素含有化合物を350℃では88〜9
6%のレベルまで、また400℃では98〜100%のレベルまで除去すること
が保証される。この方法の利点は、一部の先行特許に記載された触媒に比べて貴
金属の含量が低いこと、及びそれによって達成される有機酸素含有化合物の除去
の程度が高いことである。この方法の欠点は、(1)ガス流を高温に加熱する必
要があること、及び(2)触媒の樹脂化の結果として有機ヒドロペルオキシドの
存在下ではガス流から上記の化合物を除去することができないことである。
物を含む産業廃ガスを浄化するための有効な方法を開発することが課題である。
ジオキサン(DMD)の合成中に生成する副生物の熱分解並びに(2)ホルムア
ルデヒド及びイソブチレンからイソプレンを合成する方法中でDMDの分解時に
得られるピラン画分の熱分解のために使用されていた(ロシア特許第16956
31号及び1983年7月14日付けのルーマニア特許第88186号)。これ
らの特許では、熱分解を受ける生成物はピラン型及びジオキサン型の化合物から
成っているが、それらの性質は廃ガス中に見出される芳香族ヒドロペルオキシド
の性質と大きく異なっている。
せることによって処理技術を簡易化するため、下記のような方法を実施すること
が提唱される。
、クメンヒドロペルオキシド)を含んでいる。典型的な廃ガスは、クメン、クメ
ンヒドロペルオキシド、メタノール及びギ酸を含んでいる。
触媒に通される。保護層は、タール生成のためにパラジウム触媒の失活を招くこ
とのある有機不純物を分解することによってパラジウム触媒を保護する。パラジ
ウム触媒は高価であって、経済的な方法では頻繁に交換することはできないから
、これによって上記の方法は実行可能となる。
350℃の温度でか焼される。か焼後、保護層はアルミニウム、鉄(II)、マグ
ネシウム、カルシウム、カリウム、ナトリウム、酸化チタン(IV)及びケイ素の
酸化物を含有する。それらの質量比は、5.0〜30.0%の酸化アルミニウム
、0.1〜5.0%の酸化鉄(II)、0.1〜5.0%の酸化マグネシウム、0
.1〜5.0%の酸化カルシウム、0.1〜3.0%の酸化カリウム、0.1〜
3.0%の酸化ナトリウム、0.1〜3.0%の酸化チタン(IV)及び残部の酸
化ケイ素である。
パラジウムを含有している。この種の好適な触媒は、1/20インチのアルミナ
押出物上に支持された0.7重量%のパラジウムを含みかつ予備還元状態で35
ポンド/立法フィートの嵩密度を有するSud Chemie T−2864F
触媒である。
.5:1〜2:1の範囲内にある。
施することが好ましい。
スがパラジウム触媒に通される。ギ酸を含有する廃ガスの場合、保護層はギ酸を
除去し、それによってパラジウム触媒層上でのタール生成を回避させると考えら
れる。パラジウム触媒層は、クメンヒドロペルオキシドを除去するために有効で
ある。
)を除去することを可能にすると共に、それらの分解率は他の触媒組成物上に樹
脂生成を引起こす化合物(例えば、芳香族ヒドロペルオキシド)の存在下でも9
7〜98%を下回らない。
0.1%のパラジウムを含有する触媒12mlと、22.4質量%の酸化アルミ
ニウム、0.42質量%の酸化鉄(II)、0.43質量%の酸化マグネシウム、
0.67質量%の酸化カルシウム、2.4質量%の酸化カリウム、1.2質量%
の酸化ナトリウム、0.47質量%の酸化チタン(IV)及び残部の酸化ケイ素か
ら成る保護層6mlとを順次に配置する。保護層は最初に800℃の温度でか焼
されていて、その比表面積は1m2・g-1 である。反応容器を電気炉で加熱する
ことにより、反応容器の高さに沿って両層は一様に加熱される。反応温度は12
0±1℃である。水蒸気及びガスの流れを63.0L・h-1 の速度で反応容器
に供給する。かかる流れの組成は、91.0容量%の窒素、6.0容量%の酸素
、3.0容量%の水蒸気、0.02容量%のメタノール、0.002容量%のギ
酸、0.002容量%のクメン及び0.002容量%のクメンヒドロペルオキシ
ドから成っている。浄化すべき流れの体積供給量は3500h-1である。500
時間の触媒使用後、4時間にわたって実験を行う。実験中には、水蒸気及びガス
の流れと共に0.06720gのメタノール、0.00966gのギ酸、0.0
2520gのクメン及び0.03196gのクメンヒドロペルオキシドを供給す
る。反応生成物は、直列に連結されかつ二酸化炭素とアセトンとの混合物(温度
−70〜−80℃)で冷却された4基のトラップ(吸収器)から成るシステムに
導かれる。最初及び最後のトラップは空である一方、第2及び第3のトラップは
n−ブタノールで満たされている。実験の完了後、反応生成物の含量が気液クロ
マトグラフィー(GLC)によって測定される。この実験中に吸収器内に得られ
た生成物の総量は、メタノール0.00100g、ギ酸0.00000g、クメ
ン0.00008g及びクメンヒドロペルオキシド0.00510gであって、
これらに対応する物質転化率はメタノール98.5%、ギ酸100%、クメン9
9.7%及びクメンヒドロペルオキシド84.4%である。触媒を取出したとこ
ろ、樹脂化は認められなかった。
ムを含有する触媒3mlと、実施例1に記載した保護層6ml以上とを装入する
。ただし、保護層は1350℃の温度で加熱されていて、その比表面積は0.2
m2・g-1 である。いずれの層でも、反応温度は160±1℃に維持される。反
応容器には、水蒸気及びガスの流れを90L・h-1 の速度で供給する。かかる
流れの組成は、91.0容量%の窒素、6.0容量%の酸素、3.0容量%の水
蒸気、0.04容量%のメタノール、0.002容量%のギ酸、0.01容量%
のクメン及び0.01容量%のクメンヒドロペルオキシドから成っている。浄化
すべき流れの体積供給量は10000h-1である。500時間の触媒使用後に行
う4時間の平衡実験中には、0.192gのメタノール、0.013gのギ酸、
0.1803gのクメン及び0.2283gのクメンヒドロペルオキシドを供給
する。この実験中に吸収器内に得られた生成物の総量は、メタノール0.001
73g、ギ酸0.00000g、クメン0.0011g及びクメンヒドロペルオ
キシド0.00730gであって、これらに対応する物質転化率はメタノール9
9.1%、ギ酸100%、クメン99.4%及びクメンヒドロペルオキシド96
.9%である。触媒を取出したところ、樹脂化は認められなかった。
ムを含有する触媒12mlを装入する。保護層は反応容器内に装入しない。実施
例1に記載した水蒸気及びガスの流れを24L・h-1の速度で供給する。反応温
度は160±1℃である。浄化すべき流れの体積供給量は2000h-1である。
75時間の触媒使用後に行う4時間の平衡実験中には、0.0256gのメタノ
ール、0.00368gのギ酸、0.009616gのクメン及び0.0121
8gのクメンヒドロペルオキシドを供給する。この実験中に吸収器内に得られた
生成物の総量は、メタノール0.014g、ギ酸0.000g、クメン0.00
377g及びクメンヒドロペルオキシド0.00509gであって、これらに対
応する物質転化率はメタノール45.3%、ギ酸100%、クメン60.8%及
びクメンヒドロペルオキシド58.2%である。パラジウム触媒を取出したとこ
ろ、その半分以上が樹脂状生成物で覆われていることが判明した。
mlを装入する。パラジウム含有触媒は反応容器内に装入しない。実施例1に記
載した水蒸気及びガスの流れを90L・h-1の速度で反応容器に供給する。反応
温度は160±1℃である。浄化すべき流れの体積供給量は7500h-1である
。500時間の触媒使用後に行う4時間の平衡実験中には、0.192gのメタ
ノール、0.0138gのギ酸、0.1803gのクメン及び0.2283gの
クメンヒドロペルオキシドを供給する。この実験中に吸収器内に得られた生成物
の総量は、メタノール0.162g、ギ酸0.000g、クメン0.1554g
及びクメンヒドロペルオキシド0.2011gであって、これらに対応する物質
転化率はメタノール15.6%、ギ酸100%、クメン13.8%及びクメンヒ
ドロペルオキシド11.9%である。
800〜1350℃の温度でか焼された保護層及び0.1〜3%の金属含量を有
するパラジウム触媒と共に触媒組成物を使用することにより、水蒸気及びガスの
流れが酸素の存在下で3500〜10000 1・h-1 の体積流量及び120〜
160℃の温度で500時間以上にわたり効果的に浄化されることがわかる。 触媒の樹脂化は認められない。保護層が存在しなければ、パラジウム含量を増加
させ(3%)、体積流量を低下させ(2000 1・h-1 )、かつ反応温度を上
昇させた(160℃)場合でも、触媒は75時間の使用後には早くも樹脂化し、
有機化合物を含有する流れの浄化に関するその効果は顕著に低下する。パラジウ
ム触媒が存在しなければ、長時間(500時間)の運転後も保護層の樹脂化は起
こらない。しかし、有害な有機物質の転化は不十分であって、ガス流の浄化は行
われない。
Claims (6)
- 【請求項1】 芳香族ヒドロペルオキシド不純物を含有する廃ガスを先ず酸
素の存在下で保護層に通す工程と、次いで活性酸化アルミニウム担体上に支持さ
れた0.1〜3重量%のパラジウムを含有するパラジウム触媒層に前記廃ガスを
通す工程とを含んでいて、前記ガスは120〜160℃の温度に維持される、産
業廃ガスから有機化合物を除去するための方法。 - 【請求項2】 前記保護層が使用前に800〜1350℃でか焼される請求
項1記載の方法。 - 【請求項3】 前記保護層が0.2〜1.0m2g-1 の比表面積を有する請
求項2記載の方法。 - 【請求項4】 前記保護層触媒と前記パラジウム触媒との重量比が0.5:
1〜2:1の範囲内にある請求項1記載の方法。 - 【請求項5】 前記保護層が5.0〜30.0%の酸化アルミニウム、0.
1〜5.0%の酸化鉄(II)、0.1〜5.0%の酸化マグネシウム、0.1〜
5.0%の酸化カルシウム、0.1〜3.0%の酸化カリウム、0.1〜3.0
%の酸化ナトリウム、0.1〜3.0%の酸化チタン(IV)及び残部の酸化ケイ
素から成る質量組成を有する請求項3記載の方法。 - 【請求項6】 前記産業廃ガスがクメン、クメンヒドロペルオキシド、メタ
ノール及びギ酸を含有する請求項1記載の方法。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009136841A (ja) * | 2007-12-10 | 2009-06-25 | Chubu Electric Power Co Inc | 触媒酸化処理装置および触媒酸化処理方法 |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5248563A (en) * | 1975-10-16 | 1977-04-18 | Nitto Chem Ind Co Ltd | Process for treatment of exhaust gas |
JPS55137030A (en) * | 1979-04-11 | 1980-10-25 | Mitsui Petrochem Ind Ltd | Treating method for exhaust gas |
JPS5697525A (en) * | 1979-12-21 | 1981-08-06 | Uss Eng & Consult | Method of catalytically oxidizing pollutant in exhaust gas and device used for said method |
JPS6342619B2 (ja) * | 1980-04-28 | 1988-08-24 | Mitsui Petrochemical Ind | |
JPH0259020A (ja) * | 1988-08-26 | 1990-02-28 | Nippon Shokubai Kagaku Kogyo Co Ltd | 排ガスの前処理方法 |
JPH04334528A (ja) * | 1991-05-08 | 1992-11-20 | Mitsubishi Petrochem Co Ltd | クメン法フェノール製造工程廃ガスの処理方法 |
US5298667A (en) * | 1991-12-26 | 1994-03-29 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Process for producing phenol and methyl ethyl ketone |
US5371305A (en) * | 1992-12-31 | 1994-12-06 | Hercules Incorporated | Process for producing phenol from cumene |
JPH1087609A (ja) * | 1996-06-27 | 1998-04-07 | General Electric Co <Ge> | クメン酸化プロセス |
JP2000290248A (ja) * | 1999-04-01 | 2000-10-17 | Mitsui Chemicals Inc | ヒドロペルオキシド類の製造方法 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3384659A (en) * | 1964-04-06 | 1968-05-21 | Celanese Corp | Catalytic decomposition of formic acid in acetic acid mixtures |
US4919930A (en) * | 1983-06-10 | 1990-04-24 | University Of Tennessee Research Corporation | Synthetic M proteins-streptococci type 5 |
FR2765493B1 (fr) * | 1997-07-04 | 1999-08-06 | Air Liquide | Procede et dispositif de traitement de flux gazeux par oxydation et/ou reduction catalytique |
-
2000
- 2000-11-09 AU AU17642/01A patent/AU1764201A/en not_active Abandoned
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Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5248563A (en) * | 1975-10-16 | 1977-04-18 | Nitto Chem Ind Co Ltd | Process for treatment of exhaust gas |
JPS55137030A (en) * | 1979-04-11 | 1980-10-25 | Mitsui Petrochem Ind Ltd | Treating method for exhaust gas |
JPS5697525A (en) * | 1979-12-21 | 1981-08-06 | Uss Eng & Consult | Method of catalytically oxidizing pollutant in exhaust gas and device used for said method |
JPS6342619B2 (ja) * | 1980-04-28 | 1988-08-24 | Mitsui Petrochemical Ind | |
JPH0259020A (ja) * | 1988-08-26 | 1990-02-28 | Nippon Shokubai Kagaku Kogyo Co Ltd | 排ガスの前処理方法 |
JPH04334528A (ja) * | 1991-05-08 | 1992-11-20 | Mitsubishi Petrochem Co Ltd | クメン法フェノール製造工程廃ガスの処理方法 |
US5298667A (en) * | 1991-12-26 | 1994-03-29 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Process for producing phenol and methyl ethyl ketone |
US5371305A (en) * | 1992-12-31 | 1994-12-06 | Hercules Incorporated | Process for producing phenol from cumene |
JPH1087609A (ja) * | 1996-06-27 | 1998-04-07 | General Electric Co <Ge> | クメン酸化プロセス |
JP2000290248A (ja) * | 1999-04-01 | 2000-10-17 | Mitsui Chemicals Inc | ヒドロペルオキシド類の製造方法 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009136841A (ja) * | 2007-12-10 | 2009-06-25 | Chubu Electric Power Co Inc | 触媒酸化処理装置および触媒酸化処理方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2001037976A1 (en) | 2001-05-31 |
EP1237644B1 (en) | 2004-02-25 |
ATE260136T1 (de) | 2004-03-15 |
DE60008585D1 (de) | 2004-04-01 |
AU1764201A (en) | 2001-06-04 |
CN1390152A (zh) | 2003-01-08 |
DE60008585T2 (de) | 2004-12-16 |
CN1207085C (zh) | 2005-06-22 |
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EP1237644A1 (en) | 2002-09-11 |
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