JP2003535298A - 廃棄物処理装置 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】
プラズマトーチ式廃棄物処理チャンバへの液体導入口を有する液体廃棄物供給システム。本システムは、該チャンバの底部の第一のプラズマトーチ群と上部の生成ガス排出口とを結ぶ中間に配置される。該液体導入口は、該導入口からチャンバに導入された液体廃棄物が廃棄物柱状体の高温ゾーンに向けられるように処理チャンバ内に設けられると共に、典型的には高温ガスジェット手段と協同する。必要な高温ゾーンを提供する高温ガスジェット手段は、高温ガスジェットを導入口の液体排出ゾーンに提供するように構成された一以上の第二のプラズマトーチを含むことができる。また、高温ガスジェットは、前記第一のプラズマトーチ群によって提供されても良く、この場合、液体導入口は、これら第一のプラズマトーチ群中の少なくとも１トーチの上方で且つこれに近接する所定領域内に設けられる。
Description
【０００１】
本発明は廃棄物処理装置に関し、特に、プラズマトーチを用いる廃棄物処理プ
ラント中で液体廃棄物を処理できるように工夫された装置に関する。
ラント中で液体廃棄物を処理できるように工夫された装置に関する。
【０００２】
都市廃棄物、医療廃棄物、有毒・放射性廃棄物等の廃棄物を各種プラズマトー
チ式廃棄物処理プラントで処理することはよく知られている。図１に示すように
、従来技術に係る通常のプラズマ式処理プラント１は処理チャンバ１０を備える
。この処理チャンバは通常竪型シャフトの形状をしており、該チャンバ内で固形
廃棄物や混合（固体と、液体及び／又は半液体及び／又は気体との混合）廃棄物
２０をエアロック機構３０を介してチャンバ上部に導入する。処理チャンバ１０
の下部に設けられた一以上のプラズマトーチ４０は、処理チャンバ１０内の廃棄
物柱状体３５を加熱し、廃棄物を各種ガスや液体材料（通常、溶融金属及び／又
はスラグ）３８に変換する。ガスは排出口５０から排出され、液体材料３８は処
理チャンバ１０の下部から貯槽６０を介して定期的に回収される。空気、酸素、
蒸気等の酸化性流体７０を処理チャンバ１０の下部に供給して、有機廃棄物の処
理において生成される炭素をＣＯ、Ｈ2等の有用なガスに変換することができる
。固形廃棄物を扱う同様の構成が米国特許第５１４３０００号に開示されており
、その内容を本明細書の一部を構成するものとしてここに援用する。
チ式廃棄物処理プラントで処理することはよく知られている。図１に示すように
、従来技術に係る通常のプラズマ式処理プラント１は処理チャンバ１０を備える
。この処理チャンバは通常竪型シャフトの形状をしており、該チャンバ内で固形
廃棄物や混合（固体と、液体及び／又は半液体及び／又は気体との混合）廃棄物
２０をエアロック機構３０を介してチャンバ上部に導入する。処理チャンバ１０
の下部に設けられた一以上のプラズマトーチ４０は、処理チャンバ１０内の廃棄
物柱状体３５を加熱し、廃棄物を各種ガスや液体材料（通常、溶融金属及び／又
はスラグ）３８に変換する。ガスは排出口５０から排出され、液体材料３８は処
理チャンバ１０の下部から貯槽６０を介して定期的に回収される。空気、酸素、
蒸気等の酸化性流体７０を処理チャンバ１０の下部に供給して、有機廃棄物の処
理において生成される炭素をＣＯ、Ｈ2等の有用なガスに変換することができる
。固形廃棄物を扱う同様の構成が米国特許第５１４３０００号に開示されており
、その内容を本明細書の一部を構成するものとしてここに援用する。
【０００３】
このタイプの処理プラントは、固形廃棄物を扱うには適しているが、一般に、
液体廃棄物、特に１００℃未満〜５００℃程度の低中温度域で揮発性を有する液
体有機廃棄物等を扱うには適さない。このような液体廃棄物は、チャンバ上部の
エアロック機構３０を介して処理チャンバ１０に供給されると、処理チャンバ１
０底部の高温部分に達するかなり前に気化する傾向がある。即ち、このような液
体廃棄物はプラズマトーチ４０による処理・変換を受ける前に、気体廃棄物に転
換され、化学的には実質的に変化しないまま、ガス排出口５０から排出される。
従って、このような液体廃棄物に対しては、下流の特殊焼却炉等の処理設備での
更なる処理が必要である。
液体廃棄物、特に１００℃未満〜５００℃程度の低中温度域で揮発性を有する液
体有機廃棄物等を扱うには適さない。このような液体廃棄物は、チャンバ上部の
エアロック機構３０を介して処理チャンバ１０に供給されると、処理チャンバ１
０底部の高温部分に達するかなり前に気化する傾向がある。即ち、このような液
体廃棄物はプラズマトーチ４０による処理・変換を受ける前に、気体廃棄物に転
換され、化学的には実質的に変化しないまま、ガス排出口５０から排出される。
従って、このような液体廃棄物に対しては、下流の特殊焼却炉等の処理設備での
更なる処理が必要である。
【０００４】
更に、固体廃棄物を扱う場合であっても、高温での変換処理で発生した生成ガ
スに粒状物質やピッチが伴出される傾向があり、これらは処理チャンバ１０のガ
ス排出口５０から排出される。このような粒状物質は、プラズマトーチによって
発生された高温ガスによる変換が十分になされないうちに処理チャンバ１０から
排出された他の有機物質を含むこともある。スクラバシステム、特に湿式スクラ
バシステムを用いて生成ガスをクリーンなものとすることができるが、その場合
でもやはり、粒状物質やピッチに対しては更なる処理が必要である。
スに粒状物質やピッチが伴出される傾向があり、これらは処理チャンバ１０のガ
ス排出口５０から排出される。このような粒状物質は、プラズマトーチによって
発生された高温ガスによる変換が十分になされないうちに処理チャンバ１０から
排出された他の有機物質を含むこともある。スクラバシステム、特に湿式スクラ
バシステムを用いて生成ガスをクリーンなものとすることができるが、その場合
でもやはり、粒状物質やピッチに対しては更なる処理が必要である。
【０００５】
液状廃棄物を扱う種々のデバイスが提案されている。例えば、米国特許第４９
８９５２２号においては、混合廃棄物を固形廃棄物と液体廃棄物に分離し、この
液体廃棄物をチャンバ頂部にある別の導入口を介して変換チャンバへ導入するが
、上述したのと同様の気化に関する問題がある。
８９５２２号においては、混合廃棄物を固形廃棄物と液体廃棄物に分離し、この
液体廃棄物をチャンバ頂部にある別の導入口を介して変換チャンバへ導入するが
、上述したのと同様の気化に関する問題がある。
【０００６】
また、米国特許第５８０９９１１号においては、コンプレックスマルチゾーン
廃棄物処理システムが供給サブシステムを有し、液体廃棄物を第一の反応器に供
給する。この供給サブシステムはプラズマトーチの下方に配置されているので、
液体廃棄物は、プラズマジェットと共にチャンバの底に集積した溶解スラグのベ
ッドに伴出される。この配置の大きな欠点は、液体廃棄物がスラグの冷却に効果
的に作用し、スラグの結晶化や部分的な固化を引き起こすため、チャンバから固
化物を除去するのに手間がかかることである。
廃棄物処理システムが供給サブシステムを有し、液体廃棄物を第一の反応器に供
給する。この供給サブシステムはプラズマトーチの下方に配置されているので、
液体廃棄物は、プラズマジェットと共にチャンバの底に集積した溶解スラグのベ
ッドに伴出される。この配置の大きな欠点は、液体廃棄物がスラグの冷却に効果
的に作用し、スラグの結晶化や部分的な固化を引き起こすため、チャンバから固
化物を除去するのに手間がかかることである。
【０００７】
また、米国特許第５６３７１２７号においては、液体廃棄物や微細固形廃棄物
を扱う方法として、これらの廃棄物を微細なガラス形成剤と混合し、溶融ダクト
や羽口に直接投入し、そこで非移動式のプラズマトーチのプルームと混合してか
ら適切なチャンバに導入する。この廃棄物と変換体の混合物は、完全に溶化した
ガラス化物に変換され、チャンバ底部から回収することができる。従って、この
システムでは一般の固形廃棄物を扱うことができないことに加え、液体廃棄物で
あってもガラス形成剤での前処理を常に必要とする。更に、このシステムは特に
無機廃棄物用として設計されており、変換プロセスによりガラス化物ではなく気
体を生じるような有機液体廃棄物を扱うには適さない。
を扱う方法として、これらの廃棄物を微細なガラス形成剤と混合し、溶融ダクト
や羽口に直接投入し、そこで非移動式のプラズマトーチのプルームと混合してか
ら適切なチャンバに導入する。この廃棄物と変換体の混合物は、完全に溶化した
ガラス化物に変換され、チャンバ底部から回収することができる。従って、この
システムでは一般の固形廃棄物を扱うことができないことに加え、液体廃棄物で
あってもガラス形成剤での前処理を常に必要とする。更に、このシステムは特に
無機廃棄物用として設計されており、変換プロセスによりガラス化物ではなく気
体を生じるような有機液体廃棄物を扱うには適さない。
【０００８】
また、米国特許第４８８６００１号においては、廃棄物を水／メタノール溶剤
と混合し、この混合物をプラズマトーチと同心に設置したマニホールドに投入し
、空気と混合した後にプラズマトーチのプルームと接触させる。水を廃棄物に添
加するため、水／メタノールの代わりに高価なＭＥＫ／メタノール混合物を用い
る従来の各種システムに比べて、装置が一定時間に処理する原料供給速度が増大
する。従って、このシステムは固形廃棄物を直接扱う場合には適さないとともに
、廃棄物を水／メタノールで前処理するため煩雑さが増しコストが嵩む。
と混合し、この混合物をプラズマトーチと同心に設置したマニホールドに投入し
、空気と混合した後にプラズマトーチのプルームと接触させる。水を廃棄物に添
加するため、水／メタノールの代わりに高価なＭＥＫ／メタノール混合物を用い
る従来の各種システムに比べて、装置が一定時間に処理する原料供給速度が増大
する。従って、このシステムは固形廃棄物を直接扱う場合には適さないとともに
、廃棄物を水／メタノールで前処理するため煩雑さが増しコストが嵩む。
【０００９】
米国特許第５３６３７８１号には、気液混合廃棄物の処理デバイスが記載され
ている。このデバイスにおいては、プラズマトーチが複数の一体化されたチュー
ブ等を有し、これらチューブの末端に設けられた複数のノズルから廃棄物を直接
プラズマのプルームに送る。このデバイスは小規模の廃棄物処理を目的としたも
のであると共に、固形廃棄物を扱うことができない。
ている。このデバイスにおいては、プラズマトーチが複数の一体化されたチュー
ブ等を有し、これらチューブの末端に設けられた複数のノズルから廃棄物を直接
プラズマのプルームに送る。このデバイスは小規模の廃棄物処理を目的としたも
のであると共に、固形廃棄物を扱うことができない。
【００１０】
上記の各特許公報の内容を本明細書の一部を構成するものとしてここに援用す
るが、そのいずれにおいても、通常のプラズマトーチ式廃棄物変換チャンバ内で
発生し排出されるガスに伴って排出される粒状物質やピッチを扱う方法について
は記載も示唆もされていない。
るが、そのいずれにおいても、通常のプラズマトーチ式廃棄物変換チャンバ内で
発生し排出されるガスに伴って排出される粒状物質やピッチを扱う方法について
は記載も示唆もされていない。
【００１１】
従って、本発明の一目的は、従来技術のデバイスや方法が抱える種々の制約を
回避する、液体廃棄物を扱うデバイス及び方法を提供することである。
回避する、液体廃棄物を扱うデバイス及び方法を提供することである。
【００１２】
また、本発明の別の目的は、固形廃棄物処理装置に組み込むことができる該デ
バイスを提供することである。
バイスを提供することである。
【００１３】
本発明の別の目的は、プラズマトーチタイプ処理装置に直接用いることができ
る液体廃棄物処理デバイスを提供することである。
る液体廃棄物処理デバイスを提供することである。
【００１４】
本発明の別の目的は、プラズマトーチ式処理装置から排出された粒状物質やピ
ッチを処理するのに用いることができる該デバイスを提供することである。
ッチを処理するのに用いることができる該デバイスを提供することである。
【００１５】
本発明の別の目的は、比較的シンプルな機械的構造をしており経済的に製造、
維持できる該デバイスを提供することである。
維持できる該デバイスを提供することである。
【００１６】
本発明の別の目的は、前処理（特に、各種溶剤等を添加する前処理）をするこ
となく液体廃棄物を直接供給するための液体供給システムを備えた該デバイスを
提供することである。
となく液体廃棄物を直接供給するための液体供給システムを備えた該デバイスを
提供することである。
【００１７】
本発明の別の目的は、プラズマトーチ式混合廃棄物コンバータの構成要素とし
て該コンバータに備えられる、液体廃棄物処理用の該デバイスを提供することで
ある。
て該コンバータに備えられる、液体廃棄物処理用の該デバイスを提供することで
ある。
【００１８】
本発明の別の目的は、少なくとも数種の既存のプラズマ式固形廃棄物コンバー
タ及び／又はプラズマ式混合廃棄物コンバータに適合するよう容易に改造され得
る、液体廃棄物を処理する該デバイスを提供することである。
タ及び／又はプラズマ式混合廃棄物コンバータに適合するよう容易に改造され得
る、液体廃棄物を処理する該デバイスを提供することである。
【００１９】
本発明のこれらの及び別の目的は、プラズマトーチ式廃棄物処理チャンバへの
導入口（即ち液体導入口）をチャンバ下部の第一のプラズマトーチ機構とチャン
バ内の廃棄物柱状体の頂部（特にガス化物の排出口）との間に有する液体廃棄物
供給システムを提供することにより達成される。なお、この液体導入口は、該導
入口からチャンバに導入される液体廃棄物が、廃棄物柱状体の高温ゾーンに向か
うように設けられ、通常、該導入口は高温ガスジェット手段と協同する。所望の
高温ゾーンを提供するこの高温ガスジェット手段は、導入口の液体排出ゾーンへ
高温ガスジェットを提供することができる一以上の第二のプラズマトーチを備え
ることができる。あるいは、高温ガスジェットは、前記第一のプラズマトーチ群
によって提供されても良く、この場合、液体導入口は、これら第一のプラズマト
ーチ群中の少なくとも１トーチの上方で且つこれに近接する所定領域内に設けら
れる。
導入口（即ち液体導入口）をチャンバ下部の第一のプラズマトーチ機構とチャン
バ内の廃棄物柱状体の頂部（特にガス化物の排出口）との間に有する液体廃棄物
供給システムを提供することにより達成される。なお、この液体導入口は、該導
入口からチャンバに導入される液体廃棄物が、廃棄物柱状体の高温ゾーンに向か
うように設けられ、通常、該導入口は高温ガスジェット手段と協同する。所望の
高温ゾーンを提供するこの高温ガスジェット手段は、導入口の液体排出ゾーンへ
高温ガスジェットを提供することができる一以上の第二のプラズマトーチを備え
ることができる。あるいは、高温ガスジェットは、前記第一のプラズマトーチ群
によって提供されても良く、この場合、液体導入口は、これら第一のプラズマト
ーチ群中の少なくとも１トーチの上方で且つこれに近接する所定領域内に設けら
れる。
【００２０】
本発明は、次のデバイスに関するものである。即ち、廃棄物変換装置中で液体
廃棄物を変換するデバイスであって、前記廃棄物変換装置は、廃棄物柱状体を収
容する廃棄物変換チャンバと、一以上の第一のプラズマトーチ手段と、前記チャ
ンバの長手方向上部に配置された一以上のガス排出手段とを含み、ここで、前記
第一のプラズマトーチ手段は、該手段の出力端において高温ガスジェットを発生
し、該ジェットを前記チャンバの長手方向底部に向けて放射するものであり、前
記デバイスは、 前記チャンバと液体廃棄物供給部との間に液体を連通させる一以上の液体廃棄
物導入口を備え、 前記一以上の液体導入口は、長手方向において前記一以上の第一のプラズ
マトーチ手段の前記出力端と前記一以上のガス排出手段との間に設けられ、一以
上のプラズマトーチ手段と協同して、前記デバイスの運転中に、前記一以上の導
入口から前記チャンバに流れる液体廃棄物がこの導入口と協同する一以上のプラ
ズマトーチ手段によって提供される高温ゾーンに向けられるものである、デバイ
ス。
廃棄物を変換するデバイスであって、前記廃棄物変換装置は、廃棄物柱状体を収
容する廃棄物変換チャンバと、一以上の第一のプラズマトーチ手段と、前記チャ
ンバの長手方向上部に配置された一以上のガス排出手段とを含み、ここで、前記
第一のプラズマトーチ手段は、該手段の出力端において高温ガスジェットを発生
し、該ジェットを前記チャンバの長手方向底部に向けて放射するものであり、前
記デバイスは、 前記チャンバと液体廃棄物供給部との間に液体を連通させる一以上の液体廃棄
物導入口を備え、 前記一以上の液体導入口は、長手方向において前記一以上の第一のプラズ
マトーチ手段の前記出力端と前記一以上のガス排出手段との間に設けられ、一以
上のプラズマトーチ手段と協同して、前記デバイスの運転中に、前記一以上の導
入口から前記チャンバに流れる液体廃棄物がこの導入口と協同する一以上のプラ
ズマトーチ手段によって提供される高温ゾーンに向けられるものである、デバイ
ス。
【００２１】
第一の実施形態においては、前記一以上の液体導入口と協同する前記一以上の
プラズマトーチ手段は、前記第一のプラズマトーチ手段群のうちの一以上のもの
である。本実施形態では、この一以上の第一のプラズマトーチ手段の上方、所定
の円弧内に該プラズマトーチ手段に近接して、前記一以上の液体導入口を配置す
る。この円弧は、該プラズマトーチ手段の中心線に対し通常約±３０°とする。
プラズマトーチ手段は、前記第一のプラズマトーチ手段群のうちの一以上のもの
である。本実施形態では、この一以上の第一のプラズマトーチ手段の上方、所定
の円弧内に該プラズマトーチ手段に近接して、前記一以上の液体導入口を配置す
る。この円弧は、該プラズマトーチ手段の中心線に対し通常約±３０°とする。
【００２２】
第二の実施形態においては、前記一以上の液体導入口と協同する前記一以上の
プラズマトーチ手段は、それぞれ一以上の第二のプラズマトーチ手段を有する。
本実施形態では、これら一以上の液体導入口と一以上の第二のプラズマトーチ手
段をミキシングチャンバ内に該チャンバと連通させて設けてもよい。あるいは、
これら一以上の液体導入口と一以上の第二のプラズマトーチ手段を好ましくは同
一面上に配置し、これら一以上の液体導入口と一以上の第二のプラズマトーチ手
段を含む面を好ましくは該チャンバの長手方向軸に対し実質的に垂直にして、こ
れら一以上の液体導入口と一以上の第二のプラズマトーチ手段を該チャンバ内に
配置する。
プラズマトーチ手段は、それぞれ一以上の第二のプラズマトーチ手段を有する。
本実施形態では、これら一以上の液体導入口と一以上の第二のプラズマトーチ手
段をミキシングチャンバ内に該チャンバと連通させて設けてもよい。あるいは、
これら一以上の液体導入口と一以上の第二のプラズマトーチ手段を好ましくは同
一面上に配置し、これら一以上の液体導入口と一以上の第二のプラズマトーチ手
段を含む面を好ましくは該チャンバの長手方向軸に対し実質的に垂直にして、こ
れら一以上の液体導入口と一以上の第二のプラズマトーチ手段を該チャンバ内に
配置する。
【００２３】
本発明は、また、次の装置にも関するものである。即ち、廃棄物を変換する
装置であって、 廃棄物柱状体を収容する廃棄物変換チャンバと、 一以上の第一のプラズマトーチ手段と、 ここで、該手段は、該手段の出力端において高温ガスジェットを発生し、
該ジェットを前記チャンバの長手方向底部に向けて放射するものであり、 前記チャンバの長手方向上部に配置された一以上のガス排出手段と を含み、 前記装置は液体廃棄物変換デバイスを更に含み、該デバイスは、 前記チャンバと液体廃棄物供給部との間に液体を連通させる一以上の液体廃棄
物導入口を備えたものであって、 前記一以上の液体導入口は、長手方向において前記一以上の第一のプラズ
マトーチ手段と前記一以上のガス排出手段との間に設けられ、一以上のプラズマ
トーチ手段と協同して、前記デバイスの運転中に、前記一以上の導入口から前記
チャンバに流れる液体廃棄物がこの導入口と協同する一以上のプラズマトーチ手
段によって提供される高温ゾーンに向けられる、装置。
装置であって、 廃棄物柱状体を収容する廃棄物変換チャンバと、 一以上の第一のプラズマトーチ手段と、 ここで、該手段は、該手段の出力端において高温ガスジェットを発生し、
該ジェットを前記チャンバの長手方向底部に向けて放射するものであり、 前記チャンバの長手方向上部に配置された一以上のガス排出手段と を含み、 前記装置は液体廃棄物変換デバイスを更に含み、該デバイスは、 前記チャンバと液体廃棄物供給部との間に液体を連通させる一以上の液体廃棄
物導入口を備えたものであって、 前記一以上の液体導入口は、長手方向において前記一以上の第一のプラズ
マトーチ手段と前記一以上のガス排出手段との間に設けられ、一以上のプラズマ
トーチ手段と協同して、前記デバイスの運転中に、前記一以上の導入口から前記
チャンバに流れる液体廃棄物がこの導入口と協同する一以上のプラズマトーチ手
段によって提供される高温ゾーンに向けられる、装置。
【００２４】
第一の実施形態においては、前記一以上の液体導入口と協同する前記一以上の
プラズマトーチ手段は、前記第一のプラズマトーチ手段群のうちの一以上のもの
であり、この一以上の第一のプラズマトーチ手段の上方、所定の円弧内に該プラ
ズマトーチ手段に近接して、前記一以上の液体導入口を配置する。この円弧は、
該プラズマトーチ手段の中心線に対し通常約±３０°とする。
プラズマトーチ手段は、前記第一のプラズマトーチ手段群のうちの一以上のもの
であり、この一以上の第一のプラズマトーチ手段の上方、所定の円弧内に該プラ
ズマトーチ手段に近接して、前記一以上の液体導入口を配置する。この円弧は、
該プラズマトーチ手段の中心線に対し通常約±３０°とする。
【００２５】
第二の実施形態においては、前記一以上の液体導入口と協同する前記一以上の
プラズマトーチ手段は、それぞれ一以上の第二のプラズマトーチ手段を有する。
本実施形態では、これら一以上の液体導入口と一以上の第二のプラズマトーチ手
段をミキシングチャンバ内に該チャンバと連通させて設けてもよい。あるいは、
これら一以上の液体導入口と一以上の第二のプラズマトーチ手段を該チャンバ内
に配置して、これら一以上の液体導入口と一以上の第二のプラズマトーチ手段を
好ましくは同一面上に配置し、これら一以上の液体導入口と一以上の第二のプラ
ズマトーチ手段を含む面を好ましくは該チャンバの長手方向軸に対し実質的に垂
直にしてもよい。
プラズマトーチ手段は、それぞれ一以上の第二のプラズマトーチ手段を有する。
本実施形態では、これら一以上の液体導入口と一以上の第二のプラズマトーチ手
段をミキシングチャンバ内に該チャンバと連通させて設けてもよい。あるいは、
これら一以上の液体導入口と一以上の第二のプラズマトーチ手段を該チャンバ内
に配置して、これら一以上の液体導入口と一以上の第二のプラズマトーチ手段を
好ましくは同一面上に配置し、これら一以上の液体導入口と一以上の第二のプラ
ズマトーチ手段を含む面を好ましくは該チャンバの長手方向軸に対し実質的に垂
直にしてもよい。
【００２６】
本装置は、更に、必要に応じ、該チャンバの上部に連結する廃棄物インプット
手段を備える。前記廃棄物インプット手段は、ローディングチャンバを含むエア
ロック手段を有することができ、その場合前記ローディングチャンバは前記廃棄
物の所定量を該チャンバの内部及び外部から順次的に隔離する。必要に応じ、前
記廃棄物インプット手段は、前記エアロック手段の少なくとも外側部分に、一定
量の適切な消毒薬を選択的に送るための適切な消毒手段を更に含んでもよい。
手段を備える。前記廃棄物インプット手段は、ローディングチャンバを含むエア
ロック手段を有することができ、その場合前記ローディングチャンバは前記廃棄
物の所定量を該チャンバの内部及び外部から順次的に隔離する。必要に応じ、前
記廃棄物インプット手段は、前記エアロック手段の少なくとも外側部分に、一定
量の適切な消毒薬を選択的に送るための適切な消毒手段を更に含んでもよい。
【００２７】
本装置は、必要に応じて、前記装置の運転中に溶融生成物を回収する適切な回
収手段を更に含んでもよい。また、本装置は、前記回収手段から前記装置の外部
に溶融生成物を排出するための一以上の排出口を含んでもよい。
収手段を更に含んでもよい。また、本装置は、前記回収手段から前記装置の外部
に溶融生成物を排出するための一以上の排出口を含んでもよい。
【００２８】
前記一以上のガス排出手段は、前記チャンバから前記一以上のガス排出手段を
介して排出される生成ガス流に伴出される粒状物質、液体物質、好ましくないガ
スの一種以上を除去するスクラバ手段と作動的に接続されてもよい。必要に応じ
て、前記スクラバ手段は、該スクラバによって除去された粒状物質、液体物質の
一種以上を回収するための貯槽手段を含んでもよい。前記貯槽手段は、該貯槽手
段内の粒状物質や液体物質のいずれか一種を前記チャンバに戻すための前記一以
上の液体廃棄物導入口と作動的に接続されてもよい。
介して排出される生成ガス流に伴出される粒状物質、液体物質、好ましくないガ
スの一種以上を除去するスクラバ手段と作動的に接続されてもよい。必要に応じ
て、前記スクラバ手段は、該スクラバによって除去された粒状物質、液体物質の
一種以上を回収するための貯槽手段を含んでもよい。前記貯槽手段は、該貯槽手
段内の粒状物質や液体物質のいずれか一種を前記チャンバに戻すための前記一以
上の液体廃棄物導入口と作動的に接続されてもよい。
【００２９】
本装置を、前記チャンバ内に固体廃棄物及び／又は液体廃棄物を収容するもの
としてもよい。前記液体廃棄物は、揮発性液体廃棄物及び有機液体廃棄物の一種
以上を含むものであってもよい。
としてもよい。前記液体廃棄物は、揮発性液体廃棄物及び有機液体廃棄物の一種
以上を含むものであってもよい。
【００３０】
本発明は、各請求項において定義されており、その内容は明細書に含まれるも
のとして読まれるべきである。以下、添付図面を参照しながら実施例により本発
明を説明する。
のとして読まれるべきである。以下、添付図面を参照しながら実施例により本発
明を説明する。
【００３１】
本発明は、プラズマトーチ式廃棄物処理装置用液体廃棄物処理デバイスに関す
る。本発明に係る液体廃棄物処理デバイスは、プラズマトーチ式廃棄物変換装置
の中で液体廃棄物を変換するものであり、次の構成要素を有する廃棄物変換装置
と共に用いられる：廃棄物（液体廃棄物を含んでもよい）柱状体を収容する廃棄
物変換チャンバ；トーチ出力端において高温ガスジェットを発生し、このジェッ
トを前記チャンバの長手方向底部に向けて放射する一以上の第一のプラズマトー
チ手段；及び前記チャンバの長手方向上部に配置された一以上のガス排出手段。
本液体廃棄物処理デバイスは、その最も単純な形態においては、液体廃棄物の供
給部と前記チャンバとの間に液体を連通させるために一以上の液体廃棄物導入口
を備えたものであって、該一以上の導入口は、装置長手方向において前記一以上
の第一のプラズマトーチ手段の前記出力端と前記一以上のガス排出手段との間に
設けられ、一以上のプラズマトーチ手段と協同して、前記デバイスの運転中に、
この導入口から前記チャンバに流れる液体廃棄物がこの導入口と協同する一以上
のプラズマトーチ手段によって提供される高温ゾーンに向けられる。
る。本発明に係る液体廃棄物処理デバイスは、プラズマトーチ式廃棄物変換装置
の中で液体廃棄物を変換するものであり、次の構成要素を有する廃棄物変換装置
と共に用いられる：廃棄物（液体廃棄物を含んでもよい）柱状体を収容する廃棄
物変換チャンバ；トーチ出力端において高温ガスジェットを発生し、このジェッ
トを前記チャンバの長手方向底部に向けて放射する一以上の第一のプラズマトー
チ手段；及び前記チャンバの長手方向上部に配置された一以上のガス排出手段。
本液体廃棄物処理デバイスは、その最も単純な形態においては、液体廃棄物の供
給部と前記チャンバとの間に液体を連通させるために一以上の液体廃棄物導入口
を備えたものであって、該一以上の導入口は、装置長手方向において前記一以上
の第一のプラズマトーチ手段の前記出力端と前記一以上のガス排出手段との間に
設けられ、一以上のプラズマトーチ手段と協同して、前記デバイスの運転中に、
この導入口から前記チャンバに流れる液体廃棄物がこの導入口と協同する一以上
のプラズマトーチ手段によって提供される高温ゾーンに向けられる。
【００３２】
図面を参照すると、図２及び図４はそれぞれ本発明の第一及び第二の実施形態
を示す。プラズマ廃棄物処理装置１００は、通常竪型シャフトの形状である処理
チャンバ１０を含み、固形／混合廃棄物供給システム２０は、固形／混合廃棄物
をこのチャンバの上部にエアロック機構３０を介して導入する。固形／混合廃棄
物供給システム２０は適切な運搬手段等を含むことができ、更に、廃棄物を小片
に破砕するシュレッダも含むことができる。エアロック機構３０は上部バルブ３
２及び下部バルブ３４を含むことができ、これらバルブによってローディングチ
ャンバ３６が画定される。バルブ３２、３４は、好ましくは電気又は液圧により
作動し必要に応じて独立に開閉する仕切り弁である。閉止可能なホッパー機構３
９は漏斗状になっており、上部バルブ３２が開き下部バルブ３４が閉止位置のと
き、固形／混合廃棄物供給システム２０からローディングチャンバ３６へ通常固
形及び／又は混合廃棄物を導く。ローディングチャンバ３６への廃棄物供給は、
通常、ローディングチャンバ３６内の廃棄物のレベルが１００％容量より低い所
定のレベルに達するまでとし、廃棄物で上部バルブ３２の閉止が妨げられないよ
うにする。その後、上部バルブ３２は閉じられる。バルブ３２、３４が閉止位置
にあることにより気密性が保たれる。その後、必要に応じて、下部バルブ３４を
開くと、実質的にエアフリー(air-free)な廃棄物を処理チャンバ１０に供給する
ことができる。バルブ３２、３４の開閉及び固形／混合廃棄物供給システム２０
からの廃棄物の供給は、手動制御及び／又はコンピュータ制御することができ、
処理チャンバ１０やローディングチャンバ３６内の廃棄物レベルを検出するのに
適切なセンサを用いることができる。更に、ホッパー機構３９は消毒薬スプレー
システム３１を含むことができ、特に医療廃棄物を装置１００で処理する場合等
、必要に応じて消毒液を周期的にあるいは連続的にスプレーすることができる。
を示す。プラズマ廃棄物処理装置１００は、通常竪型シャフトの形状である処理
チャンバ１０を含み、固形／混合廃棄物供給システム２０は、固形／混合廃棄物
をこのチャンバの上部にエアロック機構３０を介して導入する。固形／混合廃棄
物供給システム２０は適切な運搬手段等を含むことができ、更に、廃棄物を小片
に破砕するシュレッダも含むことができる。エアロック機構３０は上部バルブ３
２及び下部バルブ３４を含むことができ、これらバルブによってローディングチ
ャンバ３６が画定される。バルブ３２、３４は、好ましくは電気又は液圧により
作動し必要に応じて独立に開閉する仕切り弁である。閉止可能なホッパー機構３
９は漏斗状になっており、上部バルブ３２が開き下部バルブ３４が閉止位置のと
き、固形／混合廃棄物供給システム２０からローディングチャンバ３６へ通常固
形及び／又は混合廃棄物を導く。ローディングチャンバ３６への廃棄物供給は、
通常、ローディングチャンバ３６内の廃棄物のレベルが１００％容量より低い所
定のレベルに達するまでとし、廃棄物で上部バルブ３２の閉止が妨げられないよ
うにする。その後、上部バルブ３２は閉じられる。バルブ３２、３４が閉止位置
にあることにより気密性が保たれる。その後、必要に応じて、下部バルブ３４を
開くと、実質的にエアフリー(air-free)な廃棄物を処理チャンバ１０に供給する
ことができる。バルブ３２、３４の開閉及び固形／混合廃棄物供給システム２０
からの廃棄物の供給は、手動制御及び／又はコンピュータ制御することができ、
処理チャンバ１０やローディングチャンバ３６内の廃棄物レベルを検出するのに
適切なセンサを用いることができる。更に、ホッパー機構３９は消毒薬スプレー
システム３１を含むことができ、特に医療廃棄物を装置１００で処理する場合等
、必要に応じて消毒液を周期的にあるいは連続的にスプレーすることができる。
【００３３】
処理チャンバ１０は通常、実質的に垂直の長手方向軸１８を有する円筒状シャ
フトであるが、処理チャンバの形状はこの限りではない。また、処理チャンバ１
０は通常適切な耐火性材料で作られており、典型的にはるつぼ状の液体生成物回
収ゾーン４１を底部に有し、一以上の回収貯槽６０に連結される一以上の排出口
を備える。更に、処理チャンバ１０には、一以上の第一のガス排出口５０をその
上部に備え、廃棄物処理により生成される各種気体を主に回収する。処理チャン
バ１０の上端には、前述のエアロック機構３０が設けられ、通常、このエアロッ
ク機構３０を介して処理チャンバ１０の第一のガス排出口５０のレベル程度まで
廃棄物材料が満たされる。レベルセンサが、処理チャンバ１０内の廃棄物レベル
が（処理された結果）十分下がったことを検知すると、次の廃棄物バッチをロー
ディングチャンバ３６から処理チャンバ１０に供給することができる。
フトであるが、処理チャンバの形状はこの限りではない。また、処理チャンバ１
０は通常適切な耐火性材料で作られており、典型的にはるつぼ状の液体生成物回
収ゾーン４１を底部に有し、一以上の回収貯槽６０に連結される一以上の排出口
を備える。更に、処理チャンバ１０には、一以上の第一のガス排出口５０をその
上部に備え、廃棄物処理により生成される各種気体を主に回収する。処理チャン
バ１０の上端には、前述のエアロック機構３０が設けられ、通常、このエアロッ
ク機構３０を介して処理チャンバ１０の第一のガス排出口５０のレベル程度まで
廃棄物材料が満たされる。レベルセンサが、処理チャンバ１０内の廃棄物レベル
が（処理された結果）十分下がったことを検知すると、次の廃棄物バッチをロー
ディングチャンバ３６から処理チャンバ１０に供給することができる。
【００３４】
処理チャンバ１０下部の一以上のプラズマトーチ４０は、適切な電源やガス、
水冷源４５に作動的に接続される。プラズマトーチ４０は、移動式であっても非
移動式であってもよい。また、プラズマトーチ４０は、適切にシールされたスリ
ーブにより処理チャンバ１０内に保持され、このスリーブによりプラズマトーチ
４０の取替えや修理が容易となる。プラズマトーチ４０は、ある一定の角度で廃
棄物柱状体の下端に向かう高温ガスを発生する。運転中、プラズマトーチ４０か
ら発生したプルームが、廃棄物柱状体の底部を通常１６００℃以上程度のある一
定の高温度に可能な限り均一に加熱するように、プラズマトーチ群４０は処理チ
ャンバ１０の下部に分散して配置される。プラズマトーチ４０は、その下流の出
力端に、平均温度が約２０００℃〜約７０００℃の高温ガスジェット、即ちプラ
ズマプルーム、を発生させる。プラズマトーチ４０から発生した熱は廃棄物柱状
体内を上昇するため、処理チャンバ１０の中に温度勾配が生じる。プラズマトー
チ４０から発生した高温ガスは、廃棄物を生成ガスや液体材料３８に連続的に変
換するのに十分な処理チャンバ１０内温度レベルを維持する。この生成ガスは排
出口５０から排出される。液体材料３８には溶融金属３８”及び／又はスラグ３
８’が含まれ、これらを処理チャンバ１０の下部から一以上の貯槽６０に受け、
周期的あるいは連続的に回収することができる。
水冷源４５に作動的に接続される。プラズマトーチ４０は、移動式であっても非
移動式であってもよい。また、プラズマトーチ４０は、適切にシールされたスリ
ーブにより処理チャンバ１０内に保持され、このスリーブによりプラズマトーチ
４０の取替えや修理が容易となる。プラズマトーチ４０は、ある一定の角度で廃
棄物柱状体の下端に向かう高温ガスを発生する。運転中、プラズマトーチ４０か
ら発生したプルームが、廃棄物柱状体の底部を通常１６００℃以上程度のある一
定の高温度に可能な限り均一に加熱するように、プラズマトーチ群４０は処理チ
ャンバ１０の下部に分散して配置される。プラズマトーチ４０は、その下流の出
力端に、平均温度が約２０００℃〜約７０００℃の高温ガスジェット、即ちプラ
ズマプルーム、を発生させる。プラズマトーチ４０から発生した熱は廃棄物柱状
体内を上昇するため、処理チャンバ１０の中に温度勾配が生じる。プラズマトー
チ４０から発生した高温ガスは、廃棄物を生成ガスや液体材料３８に連続的に変
換するのに十分な処理チャンバ１０内温度レベルを維持する。この生成ガスは排
出口５０から排出される。液体材料３８には溶融金属３８”及び／又はスラグ３
８’が含まれ、これらを処理チャンバ１０の下部から一以上の貯槽６０に受け、
周期的あるいは連続的に回収することができる。
【００３５】
空気、酸素、蒸気等の酸化性流体７０を処理チャンバ１０の下部に供給して、
有機廃棄物の処理で得られる炭素をＣＯ、Ｈ2等の有用なガスに変換することも
できる。
有機廃棄物の処理で得られる炭素をＣＯ、Ｈ2等の有用なガスに変換することも
できる。
【００３６】
装置１００は、更に処理チャンバ１０の排出口５０から排出される生成ガス流
から好ましくないガス（ＨＣｌ、Ｈ2Ｓ、ＨＦ等）、粒状物質及び／又はその他
の液滴（ピッチ等）を除去するために排出口５０に作動的に接続したスクラバシ
ステム８０を含むことができる。粒状物質には、各種有機化合物や無機化合物が
ある。ピッチは、排出口５０から排出される生成ガス流に気体や液体の形態で含
有される。このような処理を可能とする各種スクラバがこの技術分野でよく知ら
れており、ここで更に詳細に述べる必要はない。スクラバ８０の下流にガスター
ビン発電プラントや製造プラント等の適切なガス処理手段９０を作動的に接続し
て、クリーンな生成ガス（この段階では通常Ｈ2、ＣＯ、ＣＨ4、ＣＯ2、Ｎ2を含
む）を経済的に利用する。更に、スクラバ８０には貯槽８５を設け、スクラバに
より生成ガスから分離された粒状物質、ピッチ、液体材料を回収する。このよう
な粒状物質、液体物質（ピッチ等）は、更なる処理を必要とするが、これについ
て次に記載する。
から好ましくないガス（ＨＣｌ、Ｈ2Ｓ、ＨＦ等）、粒状物質及び／又はその他
の液滴（ピッチ等）を除去するために排出口５０に作動的に接続したスクラバシ
ステム８０を含むことができる。粒状物質には、各種有機化合物や無機化合物が
ある。ピッチは、排出口５０から排出される生成ガス流に気体や液体の形態で含
有される。このような処理を可能とする各種スクラバがこの技術分野でよく知ら
れており、ここで更に詳細に述べる必要はない。スクラバ８０の下流にガスター
ビン発電プラントや製造プラント等の適切なガス処理手段９０を作動的に接続し
て、クリーンな生成ガス（この段階では通常Ｈ2、ＣＯ、ＣＨ4、ＣＯ2、Ｎ2を含
む）を経済的に利用する。更に、スクラバ８０には貯槽８５を設け、スクラバに
より生成ガスから分離された粒状物質、ピッチ、液体材料を回収する。このよう
な粒状物質、液体物質（ピッチ等）は、更なる処理を必要とするが、これについ
て次に記載する。
【００３７】
図２、３を参照すると、本発明の第一の実施形態においては、その全体を符号
２００で示す液体廃棄物処理デバイスは、処理チャンバ１０への一以上の導入口
２３０を有する液体供給システム２２０を備え、該導入口２３０は適切なポンプ
手段（図示せず）を介して液体廃棄物貯槽２４０に作動的に接続している。この
液体供給システム２２０は複数の貯槽２４０を備えることができ、各貯槽２４０
は、それぞれに連結される一以上の導入口２３０からチャンバ１０に液体廃棄物
を独立に供給することができる。ある種の液体廃棄物、例えば、同時に導入する
と爆発する危険があるため、処理チャンバ１０に別々に（できれば時間もずらし
て）供給する必要のある複数の液体を扱う場合などに、複数の貯槽２４０が必要
となることがある。処理チャンバ１０内の導入口２３０の位置は重要であり、プ
ラズマトーチ４０の出力端と処理チャンバの底部にある液体材料３８の間、及び
、液体廃棄物を気化するだけにとどまり廃棄物を処理して生成ガスを発生させる
ことができない温度である処理チャンバ１０上部に液体廃棄物を投入することは
避けなければならない。液体廃棄物導入口２３０は、廃棄物柱状体３５の上端と
プラズマトーチ４０とを結ぶ長手方向中間に配置され、好ましくは、プラズマト
ーチ４０の少なくとも出力端に近接して配置される。特に、液体廃棄物導入口２
３０は、該導入口２３０からチャンバ１０に導入された液体廃棄物が廃棄物柱状
体３５の高温ゾーン２６０に向けられるように処理チャンバ１０内に設けられる
。通常、液体廃棄物導入口２３０はプラズマトーチ手段と協同している。高温ゾ
ーン２６０は、液体廃棄物特に有機揮発性液体廃棄物が気化する前に直接生成ガ
スに変換されるよう、十分高温とされる。本実施形態においては、液体廃棄物の
処理に必要な高温ゾーンを提供するプラズマトーチ手段は第一のプラズマトーチ
群４０から構成されていてもよく、この場合、液体廃棄物導入口２３０は、この
第一のプラズマトーチ群４０の少なくとも一トーチに近く且つその上方の所定の
領域内に設けられる。好ましくは、液体廃棄物導入口２３０は、一のプラズマト
ーチ４０の上方に、長手方向軸１８に垂直な面において所定の円弧２９０内に設
けられる（図２、３参照）。この円弧２９０の設定は、プラズマトーチ４０から
液体廃棄物導入口２３０が配置された高さまでの温度低下を許容範囲の最小限に
するための方策を提供するものであって、これにより液体廃棄物を処理するのに
十分な高温が保たれる。通常、この所定の円弧は、一以上のプラズマトーチ４０
の中心線から約±３０°である。液体廃棄物導入口２３０がプラズマトーチ４０
上方の高すぎる位置に配置されたり、所定の円弧２９０の外に配置されたりした
場合は、液体廃棄物がチャンバ１０に導入されるゾーンの温度が十分でなく、液
体廃棄物が完全には変換されずに気化あるいは部分的な気化が起こり、気化した
ものが排出口５０を介してチャンバ１０から除去されるおそれがあることは言う
までもない。液体廃棄物導入口２３０を複数設ける場合、どの導入口も、同一の
又は異なる第一のプラズマトーチ群４０によって提供される高温ゾーンに向けら
れるべきである。
２００で示す液体廃棄物処理デバイスは、処理チャンバ１０への一以上の導入口
２３０を有する液体供給システム２２０を備え、該導入口２３０は適切なポンプ
手段（図示せず）を介して液体廃棄物貯槽２４０に作動的に接続している。この
液体供給システム２２０は複数の貯槽２４０を備えることができ、各貯槽２４０
は、それぞれに連結される一以上の導入口２３０からチャンバ１０に液体廃棄物
を独立に供給することができる。ある種の液体廃棄物、例えば、同時に導入する
と爆発する危険があるため、処理チャンバ１０に別々に（できれば時間もずらし
て）供給する必要のある複数の液体を扱う場合などに、複数の貯槽２４０が必要
となることがある。処理チャンバ１０内の導入口２３０の位置は重要であり、プ
ラズマトーチ４０の出力端と処理チャンバの底部にある液体材料３８の間、及び
、液体廃棄物を気化するだけにとどまり廃棄物を処理して生成ガスを発生させる
ことができない温度である処理チャンバ１０上部に液体廃棄物を投入することは
避けなければならない。液体廃棄物導入口２３０は、廃棄物柱状体３５の上端と
プラズマトーチ４０とを結ぶ長手方向中間に配置され、好ましくは、プラズマト
ーチ４０の少なくとも出力端に近接して配置される。特に、液体廃棄物導入口２
３０は、該導入口２３０からチャンバ１０に導入された液体廃棄物が廃棄物柱状
体３５の高温ゾーン２６０に向けられるように処理チャンバ１０内に設けられる
。通常、液体廃棄物導入口２３０はプラズマトーチ手段と協同している。高温ゾ
ーン２６０は、液体廃棄物特に有機揮発性液体廃棄物が気化する前に直接生成ガ
スに変換されるよう、十分高温とされる。本実施形態においては、液体廃棄物の
処理に必要な高温ゾーンを提供するプラズマトーチ手段は第一のプラズマトーチ
群４０から構成されていてもよく、この場合、液体廃棄物導入口２３０は、この
第一のプラズマトーチ群４０の少なくとも一トーチに近く且つその上方の所定の
領域内に設けられる。好ましくは、液体廃棄物導入口２３０は、一のプラズマト
ーチ４０の上方に、長手方向軸１８に垂直な面において所定の円弧２９０内に設
けられる（図２、３参照）。この円弧２９０の設定は、プラズマトーチ４０から
液体廃棄物導入口２３０が配置された高さまでの温度低下を許容範囲の最小限に
するための方策を提供するものであって、これにより液体廃棄物を処理するのに
十分な高温が保たれる。通常、この所定の円弧は、一以上のプラズマトーチ４０
の中心線から約±３０°である。液体廃棄物導入口２３０がプラズマトーチ４０
上方の高すぎる位置に配置されたり、所定の円弧２９０の外に配置されたりした
場合は、液体廃棄物がチャンバ１０に導入されるゾーンの温度が十分でなく、液
体廃棄物が完全には変換されずに気化あるいは部分的な気化が起こり、気化した
ものが排出口５０を介してチャンバ１０から除去されるおそれがあることは言う
までもない。液体廃棄物導入口２３０を複数設ける場合、どの導入口も、同一の
又は異なる第一のプラズマトーチ群４０によって提供される高温ゾーンに向けら
れるべきである。
【００３８】
本実施形態においては、スクラバ８０から貯槽８５へと回収された液体や粒状
物質は、貯槽と合体化された、あるいは別体とされた液体廃棄物導入口２３０か
らチャンバ１０に再度送られる。粒状物質を供給しやすくするために、適切な液
体を貯槽８５に加えてキャリアとすることができる。
物質は、貯槽と合体化された、あるいは別体とされた液体廃棄物導入口２３０か
らチャンバ１０に再度送られる。粒状物質を供給しやすくするために、適切な液
体を貯槽８５に加えてキャリアとすることができる。
【００３９】
図４を参照すると、本発明の第二の実施形態においては、その全体を符号３０
０で示す液体廃棄物処理デバイスは、処理チャンバへの一以上の導入口３３０を
有する液体供給システム３２０を備え、該導入口２３０は適切なポンプ手段（図
示せず）を介して一以上の液体廃棄物貯槽３４０に作動的に接続している。第一
の実施形態と同様に、この液体供給システム３２０は複数の貯槽３４０を備える
ことができ、各貯槽３４０は、それぞれに連結される一以上の導入口３３０から
チャンバ１０に液体廃棄物を独立に供給することができる。前記と同様、ある種
の液体廃棄物、例えば、同時に導入すると爆発する危険があるため、処理チャン
バ１０に別々に（できれば時間もずらして）供給する必要のある複数の液体を扱
う場合などに、複数の貯槽が必要となることがある。処理チャンバ１０内の導入
口３３０の位置は重要であり、プラズマトーチ群４０の出力端と処理チャンバ１
０の底部にある液体材料３８の間、及び、液体廃棄物を気化するだけにとどまり
液体廃棄物を処理して生成ガスを発生させることができない温度である処理チャ
ンバ１０上部に液体廃棄物を投入することは避けなければならない。従って、液
体廃棄物導入口３３０は、廃棄物柱状体３５の上端（特にガス排出口５０）とプ
ラズマトーチ４０（特に出力端）とを結ぶ長手方向中間に配置される。
０で示す液体廃棄物処理デバイスは、処理チャンバへの一以上の導入口３３０を
有する液体供給システム３２０を備え、該導入口２３０は適切なポンプ手段（図
示せず）を介して一以上の液体廃棄物貯槽３４０に作動的に接続している。第一
の実施形態と同様に、この液体供給システム３２０は複数の貯槽３４０を備える
ことができ、各貯槽３４０は、それぞれに連結される一以上の導入口３３０から
チャンバ１０に液体廃棄物を独立に供給することができる。前記と同様、ある種
の液体廃棄物、例えば、同時に導入すると爆発する危険があるため、処理チャン
バ１０に別々に（できれば時間もずらして）供給する必要のある複数の液体を扱
う場合などに、複数の貯槽が必要となることがある。処理チャンバ１０内の導入
口３３０の位置は重要であり、プラズマトーチ群４０の出力端と処理チャンバ１
０の底部にある液体材料３８の間、及び、液体廃棄物を気化するだけにとどまり
液体廃棄物を処理して生成ガスを発生させることができない温度である処理チャ
ンバ１０上部に液体廃棄物を投入することは避けなければならない。従って、液
体廃棄物導入口３３０は、廃棄物柱状体３５の上端（特にガス排出口５０）とプ
ラズマトーチ４０（特に出力端）とを結ぶ長手方向中間に配置される。
【００４０】
第一の実施形態と同様に、導入口３３０からチャンバ１０に導入された液体廃
棄物が高温ゾーン３６０に向けられ液体廃棄物特に有機揮発性液体廃棄物が気化
する前に直接生成ガスに急速に変換されるよう、液体廃棄物導入口３３０はプラ
ズマトーチ手段と協同する。本実施形態においては、液体廃棄物の処理に必要な
高温ゾーン３６０を提供するプラズマトーチ手段は、トーチ群４０により発生し
たプラズマプルーム（即ち、高温ガスジェット）を導入口３３０の液体排出ゾー
ンに提供するように形成された一以上の第二のプラズマトーチ４８から構成され
ていてもよい。第一のプラズマトーチ群４０と同様に第二のプラズマトーチ群４
８も、第一のプラズマトーチ群４０の電源やガス、水冷源４５を含んで、あるい
はこれとは別に、適切な電源やガス、水冷源４９に作動的に接続される。
棄物が高温ゾーン３６０に向けられ液体廃棄物特に有機揮発性液体廃棄物が気化
する前に直接生成ガスに急速に変換されるよう、液体廃棄物導入口３３０はプラ
ズマトーチ手段と協同する。本実施形態においては、液体廃棄物の処理に必要な
高温ゾーン３６０を提供するプラズマトーチ手段は、トーチ群４０により発生し
たプラズマプルーム（即ち、高温ガスジェット）を導入口３３０の液体排出ゾー
ンに提供するように形成された一以上の第二のプラズマトーチ４８から構成され
ていてもよい。第一のプラズマトーチ群４０と同様に第二のプラズマトーチ群４
８も、第一のプラズマトーチ群４０の電源やガス、水冷源４５を含んで、あるい
はこれとは別に、適切な電源やガス、水冷源４９に作動的に接続される。
【００４１】
図４、５に示す通り、高温ゾーン３６０は、処理チャンバ１０から横方向に延
設されたミキシングチャンバ３７０内に少なくともその一部が含まれる。この配
置によって、導入口３３０から導入される液体廃棄物と第二のプラズマトーチ４
８から発生する高温ガスジェットやプラズマプルームとが混合されるので、液体
廃棄物が処理チャンバ１０内のメインの廃棄物柱状体３５に入る前に、該廃棄物
を留めて処理することができる。従って、このような配置が特に有用なのは、液
体廃棄物処理デバイス３００をチャンバ１０の頂部に近付けて配置する必要があ
る場合である。チャンバ１０の頂部に近いと廃棄物柱状体３５の温度がかなり下
がるため、このような配置としなければ、この部分の廃棄物柱状体３５との接触
によって導入口３３０の周囲の温度が著しく低下し、液体廃棄物の少なくとも一
部はプラズマトーチ４８によって変換されずに気化してしまうであろう。
設されたミキシングチャンバ３７０内に少なくともその一部が含まれる。この配
置によって、導入口３３０から導入される液体廃棄物と第二のプラズマトーチ４
８から発生する高温ガスジェットやプラズマプルームとが混合されるので、液体
廃棄物が処理チャンバ１０内のメインの廃棄物柱状体３５に入る前に、該廃棄物
を留めて処理することができる。従って、このような配置が特に有用なのは、液
体廃棄物処理デバイス３００をチャンバ１０の頂部に近付けて配置する必要があ
る場合である。チャンバ１０の頂部に近いと廃棄物柱状体３５の温度がかなり下
がるため、このような配置としなければ、この部分の廃棄物柱状体３５との接触
によって導入口３３０の周囲の温度が著しく低下し、液体廃棄物の少なくとも一
部はプラズマトーチ４８によって変換されずに気化してしまうであろう。
【００４２】
また、他の配置も可能である。例えば、図６に示すように、プラズマトーチ４
８によって発生する高温ガスジェットと液体導入口３３０から導入される液体廃
棄物が処理チャンバ１０内で同一のゾーン３６０に向くように、第二のプラズマ
トーチ４８と導入口３３０を配置することができる。この場合、第二のプラズマ
トーチ４８と導入口３３０は同一面上にあることが好ましく、この面は長手方向
軸１８に対して垂直であるか又は適切な角度を有し、処理チャンバ１０内におい
て廃棄物柱状体３５の上部と第一のプラズマトーチ４０の間の所望の配置をとる
ことができる。処理チャンバ１０が複数の第二のプラズマトーチ４８及び／又は
複数の液体導入口３３０を備えるとき、必要に応じ、該トーチ及び該導入口の数
は任意に組み合わせて、一以上の第二のプラズマトーチ４８と一以上の液体廃棄
物導入口３３０によって作られる一以上の高温ゾーン３６０を提供することがで
きる。装置長手方向におけるこれらの配置を考え、プラズマトーチ４８により十
分なエネルギーが供給され、各対応する高温ゾーン３６０が十分高温に保持され
、各対応する液体導入口３３０から供給される液体廃棄物が完全に変換されるよ
うに、これらの組み合わせを決める必要があることは言うまでもない。
８によって発生する高温ガスジェットと液体導入口３３０から導入される液体廃
棄物が処理チャンバ１０内で同一のゾーン３６０に向くように、第二のプラズマ
トーチ４８と導入口３３０を配置することができる。この場合、第二のプラズマ
トーチ４８と導入口３３０は同一面上にあることが好ましく、この面は長手方向
軸１８に対して垂直であるか又は適切な角度を有し、処理チャンバ１０内におい
て廃棄物柱状体３５の上部と第一のプラズマトーチ４０の間の所望の配置をとる
ことができる。処理チャンバ１０が複数の第二のプラズマトーチ４８及び／又は
複数の液体導入口３３０を備えるとき、必要に応じ、該トーチ及び該導入口の数
は任意に組み合わせて、一以上の第二のプラズマトーチ４８と一以上の液体廃棄
物導入口３３０によって作られる一以上の高温ゾーン３６０を提供することがで
きる。装置長手方向におけるこれらの配置を考え、プラズマトーチ４８により十
分なエネルギーが供給され、各対応する高温ゾーン３６０が十分高温に保持され
、各対応する液体導入口３３０から供給される液体廃棄物が完全に変換されるよ
うに、これらの組み合わせを決める必要があることは言うまでもない。
【００４３】
第一の実施形態と同様に、スクラバ８０から貯槽８５へと回収された液体や粒
状物質は、貯槽と合体化された、あるいは別体とされた液体廃棄物導入口３３０
からチャンバ１０に再度送られる。粒状物質を供給しやすくするために、適切な
液体を貯槽８５に加えてキャリアとすることができる。
状物質は、貯槽と合体化された、あるいは別体とされた液体廃棄物導入口３３０
からチャンバ１０に再度送られる。粒状物質を供給しやすくするために、適切な
液体を貯槽８５に加えてキャリアとすることができる。
【００４４】
本発明の液体廃棄物処理デバイス、特に本発明の第一及び第二の実施形態のも
のは、プラズマ型混合廃棄物コンバータの構成要素とするのが最適であるが、本
発明の液体廃棄物処理デバイスは、各種混合廃棄物コンバータのみならず、多数
の既存の各種プラズマ式固形廃棄物コンバータに適合するよう容易に改造できる
ことは明白である。更に、本発明に係るデバイスは、液体廃棄物のみを扱うプラ
ズマトーチ式コンバータに組み込んだり、それに合わせて改造したりすることが
できることも明白である。
のは、プラズマ型混合廃棄物コンバータの構成要素とするのが最適であるが、本
発明の液体廃棄物処理デバイスは、各種混合廃棄物コンバータのみならず、多数
の既存の各種プラズマ式固形廃棄物コンバータに適合するよう容易に改造できる
ことは明白である。更に、本発明に係るデバイスは、液体廃棄物のみを扱うプラ
ズマトーチ式コンバータに組み込んだり、それに合わせて改造したりすることが
できることも明白である。
【００４５】
上で詳細に述べた本発明の実施形態は、単に例示に過ぎないものであって、本
発明はこれに限定されるものではなく、当業者であれば、本明細書に記載された
本発明の範囲及び精神から逸脱することなく、形状や詳細部において他の各種変
形物とすることができる。
発明はこれに限定されるものではなく、当業者であれば、本明細書に記載された
本発明の範囲及び精神から逸脱することなく、形状や詳細部において他の各種変
形物とすることができる。
【図１】
従来技術の固形／混合廃棄物プラズマ処理装置の一般的な配置及び主要構成部
材を示す概略図。
材を示す概略図。
【図２】
通常の固形／混合廃棄物プラズマ処理装置に関連して記載された本発明の第一
の実施形態における主要構成部材を示す概略図。
の実施形態における主要構成部材を示す概略図。
【図３】
図２に示した実施形態のＸ−Ｘにおける断面図。
【図４】
通常の固形／混合廃棄物プラズマ処理装置に関連して記載された本発明の第二
の実施形態における主要構成部材を示す概略図。
の実施形態における主要構成部材を示す概略図。
【図５】
図４に示した実施形態のＹ−Ｙにおける断面図。
【図６】
図５に示した実施形態に替わる別の実施形態を示す断面図。
１０ 廃棄物変換チャンバ（処理チャンバ）
２０ 固形／混合廃棄物供給システム
３０ エアロック機構
３５ 廃棄物柱状体
４０ プラズマトーチ手段（プラズマトーチ）
５０ ガス排出手段（ガス排出口）
６０ 貯槽
７０ 酸化性流体
８０ スクラバシステム
１００ 廃棄物処理装置（廃棄物変換装置）
２００、３００ 液体廃棄物変換デバイス（液体廃棄物処理デバイス）
２２０、３２０ 液体供給システム
２３０、３３０ 液体廃棄物導入口
２６０、３６０ 高温ゾーン
３７０ ミキシングチャンバ
【手続補正書】特許協力条約第３４条補正の翻訳文提出書
【提出日】平成１４年７月２３日（２００２．７．２３）
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
Ｆ２３Ｇ 7/04 ６０２ Ｇ２１Ｆ 9/14 Ｆ
Ｇ２１Ｆ 9/14 9/30 ５５１Ｇ
9/30 ５５１ Ｈ０５Ｈ 1/26
Ｈ０５Ｈ 1/26 1/42
1/42 Ｂ０９Ｂ 3/00 ３０３Ｋ
３０３Ｚ
(81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ，
ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ
Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ，ＴＲ)，ＯＡ(ＢＦ
，ＢＪ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＧＷ，
ＭＬ，ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，Ｇ
Ｍ，ＫＥ，ＬＳ，ＭＷ，ＭＺ，ＳＤ，ＳＬ，ＳＺ，ＴＺ
，ＵＧ，ＺＷ)，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，
ＭＤ，ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ)，ＡＥ，ＡＧ，ＡＬ，ＡＭ，
ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ，ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，Ｂ
Ｚ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，ＣＯ，ＣＲ，ＣＵ，ＣＺ，ＤＥ
，ＤＫ，ＤＭ，ＤＺ，ＥＣ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，
ＧＤ，ＧＥ，ＧＨ，ＧＭ，ＨＲ，ＨＵ，ＩＤ，ＩＬ，Ｉ
Ｎ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＣ
，ＬＫ，ＬＲ，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＡ，ＭＤ，
ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ，ＭＺ，ＮＯ，ＮＺ，Ｐ
Ｌ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ
，ＳＬ，ＴＪ，ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ，ＴＺ，ＵＡ，ＵＧ，
ＵＳ，ＵＺ，ＶＮ，ＹＵ，ＺＡ，ＺＷ
(72)発明者 ペガズ デイビッド
イスラエル国 ネターニャ 42540 モウ
ルストリート １イー アパートメント
14
Ｆターム(参考） 3K061 AA16 AB03 AC01 AC05 BA06
CA14 DA02
3K065 EA06 EA12 EA15 EA26 EA31
4D004 AA46 AA48 CA24 CB04 CB31
CC02 CC03
4D032 AC21 AD01
4G075 AA13 AA22 AA37 BA05 DA02
EA01 EB01 EB43
Claims (30)
- 【請求項１】 廃棄物変換装置中で液体廃棄物を変換するデバイスであって
、前記廃棄物変換装置は、廃棄物柱状体を収容する廃棄物変換チャンバと、一以
上の第一のプラズマトーチ手段と、前記チャンバの長手方向上部に配置された一
以上のガス排出手段とを含み、ここで、前記第一のプラズマトーチ手段は、該手
段の出力端において高温ガスジェットを発生し、該ジェットを前記チャンバの長
手方向底部に向けて放射するものであり、前記デバイスは、 前記チャンバと液体廃棄物供給部との間に液体を連通させる一以上の液体廃棄
物導入口を備え、 前記一以上の液体導入口は、長手方向において前記一以上の第一のプラズ
マトーチ手段の前記出力端と前記一以上のガス排出手段との間に設けられ、一以
上のプラズマトーチ手段と協同して、前記デバイスの運転中に、前記一以上の導
入口から前記チャンバに流れる液体廃棄物がこの導入口と協同する一以上のプラ
ズマトーチ手段によって提供される高温ゾーンに向けられるものである、デバイ
ス。 - 【請求項２】 前記一以上の液体導入口と協同する前記一以上のプラズマト
ーチ手段は前記第一のプラズマトーチ手段の一以上のものである、請求項１に記
載のデバイス。 - 【請求項３】 前記一以上の液体導入口が、前記一以上の第一のプラズマト
ーチ手段の上方において該手段と近接した所定の円弧内に設けられる、請求項２
に記載のデバイス。 - 【請求項４】 前記円弧は前記一以上のプラズマトーチ手段の中心線から約
±３０°である、請求項３に記載のデバイス。 - 【請求項５】 前記一以上の液体導入口と協同する前記一以上のプラズマト
ーチ手段は、対応する一以上の第二のプラズマトーチ手段を含む、請求項１に記
載のデバイス。 - 【請求項６】 前記一以上の液体導入口と前記一以上の第二のプラズマトー
チ手段が前記チャンバとに連通するミキシングチャンバ内に設けられる、請求項
５に記載のデバイス。 - 【請求項７】 前記一以上の液体導入口と前記一の第二のプラズマトーチ手
段が前記チャンバ内に設けられる、請求項５に記載のデバイス。 - 【請求項８】 前記一以上の液体導入口と前記一以上のプラズマトーチ手段
が同一面上に設けられる、請求項７に記載のデバイス。 - 【請求項９】 前記一以上の液体導入口と前記一以上の第二のプラズマトー
チ手段が設けられる面が前記チャンバの長手方向軸に実質的に垂直である、請求
項８に記載のデバイス。 - 【請求項１０】 廃棄物を変換する装置であって、次の（ａ）〜（ｃ）、 （ａ）廃棄物柱状体を収容する廃棄物変換チャンバと、 （ｂ）一以上の第一のプラズマトーチ手段と、 ここで、該手段は、該手段の出力端において高温ガスジェットを発生し、
該ジェットを前記チャンバの長手方向底部に向けて放射するものであり、 （ｃ）前記チャンバの長手方向上部に配置された一以上のガス排出手段と を含み、 前記装置は液体廃棄物変換デバイスを更に含み、該デバイスは、 （ｄ）前記チャンバと液体廃棄物供給部との間に液体を連通させる一以上の液体
廃棄物導入口を備えたものであって、 前記一以上の液体導入口は、長手方向において前記一以上の第一のプラズ
マトーチ手段と前記一以上のガス排出手段との間に設けられ、一以上のプラズマ
トーチ手段と協同して、前記デバイスの運転中に、前記一以上の導入口から前記
チャンバに流れる液体廃棄物がこの導入口と協同する一以上のプラズマトーチ手
段によって提供される高温ゾーンに向けられる、装置。 - 【請求項１１】 前記一以上の液体導入口と協同する前記一以上のプラズマ
トーチ手段は前記第一のプラズマトーチ手段の一以上のものである、請求項１０
に記載の装置。 - 【請求項１２】 前記一以上の液体導入口が、前記一以上の第一のプラズマ
トーチ手段の上方において該手段と近接した所定の円弧内に設けられる、請求項
１１に記載の装置。 - 【請求項１３】 前記円弧は前記一以上のプラズマトーチ手段の中心線から
約±３０°である、請求項１２に記載の装置。 - 【請求項１４】 前記一以上の液体導入口と協同する前記一以上のプラズマ
トーチ手段は、対応する一以上の第二のプラズマトーチ手段を含む、請求項１０
に記載の装置。 - 【請求項１５】 前記一以上の液体導入口と前記一以上の第二のプラズマト
ーチ手段が前記チャンバとに連通するミキシングチャンバ内に設けられる、請求
項１４に記載の装置。 - 【請求項１６】 前記一以上の液体導入口と前記一の第二のプラズマトーチ
手段が前記チャンバ内に設けられる、請求項１４に記載の装置。 - 【請求項１７】 前記一以上の液体導入口と前記一以上のプラズマトーチ手
段が同一面上に設けられる、請求項１６に記載の装置。 - 【請求項１８】 前記一以上の液体導入口と前記一以上の第二のプラズマト
ーチ手段が設けられる面は前記チャンバの長手方向軸に実質的に垂直である、請
求項１７に記載の装置。 - 【請求項１９】 前記チャンバの上部に連結された廃棄物インプット手段を
更に含む、請求項１０に記載の装置。 - 【請求項２０】 前記廃棄物インプット手段は、ローディングチャンバを含
むエアロック手段を有し、前記ローディングチャンバは前記廃棄物の所定量を該
チャンバの内部及び外部から順次的に隔離するものである、請求項１９に記載の
装置。 - 【請求項２１】 前記廃棄物インプット手段は、前記エアロック手段の少な
くとも外側部分に一定量の適切な消毒薬を選択的に送るための適切な消毒手段を
更に含む、請求項２０に記載の装置。 - 【請求項２２】 前記装置の運転中に溶融生成物を回収する適切な回収手段
を更に含む、請求項１０に記載の装置。 - 【請求項２３】 前記回収手段から前記装置の外部に溶融生成物を排出する
ための一以上の排出口を更に含む、請求項２２に記載の装置。 - 【請求項２４】 前記一以上のガス排出手段は、前記チャンバから前記一以
上のガス排出手段を介して排出される生成ガス流に伴出される粒状物質、液体物
質、好ましくないガスの一種以上を除去するスクラバ手段と作動的に接続されて
いる、請求項１０に記載の装置。 - 【請求項２５】 前記スクラバ手段は、該スクラバによって除去された粒状
物質、液体物質の一種以上を回収するための貯槽手段を含む、請求項２４に記載
の装置。 - 【請求項２６】 前記貯槽手段は、該貯槽手段内の粒状物質や液体物質のい
ずれか一種を前記チャンバに戻すための前記一以上の液体廃棄物導入口と作動的
に接続されている、請求項２５に記載の装置。 - 【請求項２７】 前記チャンバに収容される前記廃棄物が固形廃棄物を含む
、請求項１０〜２６のいずれか一項に記載の装置。 - 【請求項２８】 前記チャンバに収容される前記廃棄物が更に液体廃棄物を
含む、請求項２７に記載の装置。 - 【請求項２９】 前記チャンバに収容される前記廃棄物が液体廃棄物を含む
、請求項１０〜２６のいずれか一項に記載の装置。 - 【請求項３０】 前記液体廃棄物が揮発性液体廃棄物及び有機液体廃棄物の
一種以上を含む、請求項１０に記載の装置。
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Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007530937A (ja) * | 2004-03-22 | 2007-11-01 | イー．イー．アール． エンバイロメンタル エナジー リソースィズ （イスラエル） リミテッド | 廃棄物処理プラントにおける潜在的汚染物質のレベルを制御するシステム |
| WO2011128990A1 (ja) * | 2010-04-14 | 2011-10-20 | Michimae Kiyoharu | 乾留装置 |
| JP2013512407A (ja) * | 2009-11-30 | 2013-04-11 | コミッサリア ア ロンネルジー アトミック エ オ ゾンネルジー ザルテルナティーフ | 浸漬されたプラズマ中への注入手段によって廃棄物を処理する方法及び装置 |
Families Citing this family (19)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7363866B2 (en) * | 2002-03-18 | 2008-04-29 | Gnedenko Valeri G | Control system for a waste processing apparatus |
| US7083763B1 (en) * | 2002-09-23 | 2006-08-01 | Pierce Jr Joseph Frank | Feeding system for fuel gas generator |
| US20050070751A1 (en) * | 2003-09-27 | 2005-03-31 | Capote Jose A | Method and apparatus for treating liquid waste |
| US7090694B1 (en) * | 2003-11-19 | 2006-08-15 | Advanced Cardiovascular Systems, Inc. | Portal design for stent for treating bifurcated vessels |
| US6971323B2 (en) | 2004-03-19 | 2005-12-06 | Peat International, Inc. | Method and apparatus for treating waste |
| WO2006109294A1 (en) * | 2005-04-12 | 2006-10-19 | C. En. Limited | Systems and methods for the production of hydrogen |
| US7832344B2 (en) * | 2006-02-28 | 2010-11-16 | Peat International, Inc. | Method and apparatus of treating waste |
| US7752983B2 (en) * | 2006-06-16 | 2010-07-13 | Plasma Waste Recycling, Inc. | Method and apparatus for plasma gasification of waste materials |
| US8834554B2 (en) * | 2006-08-22 | 2014-09-16 | Abbott Cardiovascular Systems Inc. | Intravascular stent |
| US8882826B2 (en) * | 2006-08-22 | 2014-11-11 | Abbott Cardiovascular Systems Inc. | Intravascular stent |
| US20090050561A1 (en) * | 2007-08-20 | 2009-02-26 | Jon Inman Sattler | System and method for processing wastewater |
| WO2009100049A1 (en) | 2008-02-08 | 2009-08-13 | Peat International | Method and apparatus of treating waste |
| US8671855B2 (en) | 2009-07-06 | 2014-03-18 | Peat International, Inc. | Apparatus for treating waste |
| CN102430565A (zh) * | 2011-12-27 | 2012-05-02 | 江阴市博邦环境科技有限公司 | 集成式等离子体生活垃圾处理系统及其处理方法 |
| CN104896487B (zh) * | 2015-06-04 | 2017-02-01 | 山东晋煤明水化工集团有限公司 | 吡啶生产过程中废水、废气、废渣的处理方法 |
| CN111790334B (zh) * | 2016-01-05 | 2021-12-03 | 螺旋株式会社 | 涡水流产生器、水等离子体产生装置、分解处理装置 |
| CN109401786A (zh) * | 2018-11-08 | 2019-03-01 | 山西普皓环保科技有限公司 | 一种处理医疗废物的等离子体装置 |
| CN109704527A (zh) * | 2019-01-24 | 2019-05-03 | 中石化宁波工程有限公司 | 一种石化污泥的低温等离子的热能回收系统 |
| CN113578921B (zh) * | 2021-07-23 | 2023-12-26 | 四川广铭建设集团有限公司 | 一种城镇生活垃圾高温热裂解工艺 |
Family Cites Families (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2250072B1 (ja) * | 1973-11-06 | 1976-10-01 | Socea | |
| FR2404804A1 (fr) * | 1977-09-29 | 1979-04-27 | Elf Aquitaine | Procede et dispositif pour l'incineration des boues |
| JPS55146313A (en) * | 1979-04-28 | 1980-11-14 | Nippon Kansouki Kk | Method for incinerating excrements, sludge and the like |
| US4770109A (en) * | 1987-05-04 | 1988-09-13 | Retech, Inc. | Apparatus and method for high temperature disposal of hazardous waste materials |
| US4960675A (en) | 1988-08-08 | 1990-10-02 | Midwest Research Institute | Hydrogen ion microlithography |
| DE3839381A1 (de) * | 1988-11-22 | 1990-01-04 | Mrklas Louis | Vertikal rotierende wirbelschichtverbrennung fuer klinikmuell, klaerschlamm, pastoesen, staubigen, fluessigen und granulatfoermigen abfallstoff |
| US4989522A (en) | 1989-08-11 | 1991-02-05 | Sharpe Environmental Services | Method and system for incineration and detoxification of semiliquid waste |
| US5143000A (en) | 1991-05-13 | 1992-09-01 | Plasma Energy Corporation | Refuse converting apparatus using a plasma torch |
| FI89519C (fi) * | 1992-02-19 | 1997-08-19 | Ahlstrom Machinery Oy | Foerfarande och anordning foer oekande av saekerheten i en aotervinningspanna foer avlut |
| US5363781A (en) | 1993-04-26 | 1994-11-15 | Industrial Technology Research Institute | Plasma torch-jet liquid waste treatment device |
| US5886316A (en) * | 1994-05-03 | 1999-03-23 | Consolidated Fusion Technologies, Inc. | Method and apparatus for treating waste and for obtaining usable by-product |
| US5637127A (en) | 1995-12-01 | 1997-06-10 | Westinghouse Electric Corporation | Plasma vitrification of waste materials |
| KR100243834B1 (ko) * | 1996-12-02 | 2000-02-01 | 김승욱 | 폐수처리장치 |
| US5809911A (en) * | 1997-04-16 | 1998-09-22 | Allied Technology Group, Inc. | Multi-zone waste processing reactor system |
| US6250236B1 (en) * | 1998-11-09 | 2001-06-26 | Allied Technology Group, Inc. | Multi-zoned waste processing reactor system with bulk processing unit |
| US6202577B1 (en) * | 1999-12-09 | 2001-03-20 | Anatoly Boguslavsky | Method and apparatus for treating refuse |
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Cited By (5)
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|---|---|---|---|---|
| JP2007530937A (ja) * | 2004-03-22 | 2007-11-01 | イー．イー．アール． エンバイロメンタル エナジー リソースィズ （イスラエル） リミテッド | 廃棄物処理プラントにおける潜在的汚染物質のレベルを制御するシステム |
| JP4705951B2 (ja) * | 2004-03-22 | 2011-06-22 | イー．イー．アール． エンバイロメンタル エナジー リソースィズ （イスラエル） リミテッド | 廃棄物処理プラントにおける潜在的汚染物質のレベルを制御するシステム |
| KR101166346B1 (ko) | 2004-03-22 | 2012-07-18 | 이.이.알. 인바이런먼탈 에너지 리소스(이-스라엘) 엘티디. | 폐기물 처리 장치에 잠재하는 오염물질의 수준 제어 시스템 |
| JP2013512407A (ja) * | 2009-11-30 | 2013-04-11 | コミッサリア ア ロンネルジー アトミック エ オ ゾンネルジー ザルテルナティーフ | 浸漬されたプラズマ中への注入手段によって廃棄物を処理する方法及び装置 |
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