JP2003516983A - 高収率及び高純度でdl−アルファ−トコフェロールを製造する方法 - Google Patents
高収率及び高純度でdl−アルファ−トコフェロールを製造する方法Info
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Abstract
(57)【要約】
2価金属ハロゲン化合物、シリカゲル及び/又はシリカ−アルミナ、並びにブレンステッド酸を含む触媒系を用いて、イソフィトール又はフィトール誘導体とトリメチルヒドロキノン(TMHQ)との縮合により、DL−α−トコフェロールを製造する方法を開示する。80〜135℃で、30〜60分間、金属ハロゲン並びにシリカゲル及び/又はシリカ−アルミナの存在下で、イソフィトール又はフィトール誘導体を、トリメチルヒドロキノンへ、それらを縮合するために、ゆっくり添加する。ブレンステッド酸の存在下で、中間体を生成物へ転化する。シリカゲル及び/又はシリカ−アルミナを、回収するために極性溶媒によって洗浄する。この触媒系は、イソフィトール又はフィトール誘導体とTMHQとの縮合において、副反応を顕著に低減することができ、それにより高純度のDL−α−トコフェロールを高収率で製造することができる。また、この触媒系は、有機材料の吸着による触媒活性の低下が回避され得るため、連続的に再生することができ、それにより、DL−α−トコフェロールの製造コスト、及び生成される産業廃棄物の量を低減することができる。これら利点により、この触媒系は、商業的スケールで、高純度のDL−α−トコフェロールを高収率で製造するときに、効果的に使用することができる。
Description
【0001】
技術分野
本発明は、イソフィトール又はフィトール誘導体とトリメチルヒドロキノン(
TMHQ)との縮合による、高純度のDL−アルファ−トコフェロールの製造方
法に関する。より詳しくは、本発明は、主触媒成分として2価ハロゲン化合物M
X2(但し、Mは2価金属イオンであり、Xはハロゲンである)を、助触媒とし
てシリカゲル及び/又はシリカ−アルミナを、並びに更なる(additional)触媒成
分及び助触媒再生成分としてブレンステッド酸を含む混合触媒系に関し、それに
より商業的スケールにおいて、高純度のDL−α−トコフェロールの高収率での
製造を可能とするものである。
TMHQ)との縮合による、高純度のDL−アルファ−トコフェロールの製造方
法に関する。より詳しくは、本発明は、主触媒成分として2価ハロゲン化合物M
X2(但し、Mは2価金属イオンであり、Xはハロゲンである)を、助触媒とし
てシリカゲル及び/又はシリカ−アルミナを、並びに更なる(additional)触媒成
分及び助触媒再生成分としてブレンステッド酸を含む混合触媒系に関し、それに
より商業的スケールにおいて、高純度のDL−α−トコフェロールの高収率での
製造を可能とするものである。
【0002】
従来の技術
過去数十年間、金属触媒(ルイス酸触媒)としてZn(II)イオンを使用す
ることにより、DL−α−トコフェロールを効率的に製造するために多くの努力
がなされてきた。通常は、DL−α−トコフェロールは、以下の反応式1で表さ
れる、イソフィトールとトリメチルヒドロキノン(TMHQ)との縮合によって
製造される。
ることにより、DL−α−トコフェロールを効率的に製造するために多くの努力
がなされてきた。通常は、DL−α−トコフェロールは、以下の反応式1で表さ
れる、イソフィトールとトリメチルヒドロキノン(TMHQ)との縮合によって
製造される。
【0003】
【化3】
【0004】
例えば、ニッシン(Nisshin)が有する米国特許第4,217,285号(以下
、’285特許という)には、酸、特にHCl存在下での、ZnCl2及びシリカ
−アルミナ(またはシリカゲル)による、トルエン又はn−ヘキサン溶媒中での
DL−α−トコフェロールの合成が開示されており、トコフェロールを、95〜
96%の純度で、99%以上の製造収率で得ることができると主張されている。
また、いずれもBASFが有する米国特許第4,634,781号及び4,63
9,533号には、イソフィトールをトリデシルアミン又はオクタデシルアミン
のようなアミンと反応させ、その後ZnCl2及びHClの存在下でTMHQと
反応させる、DL−α−トコフェロールを製造するための工程が開示されている
が、これらは多少複雑で、かつ非効率的である。それら技術では、トコフェロー
ルは、94〜95%の純度で、95〜98%の収率で得られると記載されている
。DL−α−トコフェロールの他の製造方法は、いずれもエーザイ社(Eisai Co.
, Ltd.)が有する米国特許第5,663,376号及び5,886,197号に
も記載されており、そこでは、非極性溶媒及びアルコール又は炭酸エステルを含
む混合溶媒系において、イソフィトールをTMHQと反応させている。DL−α
−トコフェロールは、94〜98%の収率で、92〜97%の純度で製造するこ
とができると記載されている。
、’285特許という)には、酸、特にHCl存在下での、ZnCl2及びシリカ
−アルミナ(またはシリカゲル)による、トルエン又はn−ヘキサン溶媒中での
DL−α−トコフェロールの合成が開示されており、トコフェロールを、95〜
96%の純度で、99%以上の製造収率で得ることができると主張されている。
また、いずれもBASFが有する米国特許第4,634,781号及び4,63
9,533号には、イソフィトールをトリデシルアミン又はオクタデシルアミン
のようなアミンと反応させ、その後ZnCl2及びHClの存在下でTMHQと
反応させる、DL−α−トコフェロールを製造するための工程が開示されている
が、これらは多少複雑で、かつ非効率的である。それら技術では、トコフェロー
ルは、94〜95%の純度で、95〜98%の収率で得られると記載されている
。DL−α−トコフェロールの他の製造方法は、いずれもエーザイ社(Eisai Co.
, Ltd.)が有する米国特許第5,663,376号及び5,886,197号に
も記載されており、そこでは、非極性溶媒及びアルコール又は炭酸エステルを含
む混合溶媒系において、イソフィトールをTMHQと反応させている。DL−α
−トコフェロールは、94〜98%の収率で、92〜97%の純度で製造するこ
とができると記載されている。
【0005】
しかし、従来の技術は、それらのDL−α−トコフェロールの平均純度が95
%程度と低いため、純度向上の余地がある。特に、BASF及びエーザイの特許
は、DL−α−トコフェロールの所望の収率を満足せず、非効率的である。その
ような欠点は、助触媒として働く塩酸のようなブレンステッド酸が、反応の初期
段階から存在する場合に、ブレンステッド酸による脱水によって、反応物である
イソフィトールの損失が起こり、総収率の低下が生じるという事実に起因すると
考えられる。
%程度と低いため、純度向上の余地がある。特に、BASF及びエーザイの特許
は、DL−α−トコフェロールの所望の収率を満足せず、非効率的である。その
ような欠点は、助触媒として働く塩酸のようなブレンステッド酸が、反応の初期
段階から存在する場合に、ブレンステッド酸による脱水によって、反応物である
イソフィトールの損失が起こり、総収率の低下が生じるという事実に起因すると
考えられる。
【0006】
’285特許においてトルエン又はヘキサンを溶媒として使用した場合、DL
−α−トコフェロールの総収率は低い。トルエン自体は、使用されると、イソフ
ィトールと部分的に反応し、望ましくない副生物が生成される。ヘキサンは、イ
ソフィトールと反応しないが、その沸点が低い(約69℃)ため、反応時間が長
くなるので、触媒が、イソフィトールの脱水を引き起こす。更に、DL−α−ト
コフェロールの合成がこのような反応工程の下で行われると、DL−α−トコフ
ェロールと構造が類似する副生物が比較的多量に得られ、分離されたDL−α−
トコフェロールの純度を低下させる。また、DL−α−トコフェロールの総収率
は、極めて高純度に精製する場合には低下する。
−α−トコフェロールの総収率は低い。トルエン自体は、使用されると、イソフ
ィトールと部分的に反応し、望ましくない副生物が生成される。ヘキサンは、イ
ソフィトールと反応しないが、その沸点が低い(約69℃)ため、反応時間が長
くなるので、触媒が、イソフィトールの脱水を引き起こす。更に、DL−α−ト
コフェロールの合成がこのような反応工程の下で行われると、DL−α−トコフ
ェロールと構造が類似する副生物が比較的多量に得られ、分離されたDL−α−
トコフェロールの純度を低下させる。また、DL−α−トコフェロールの総収率
は、極めて高純度に精製する場合には低下する。
【0007】
上記他の特許に対して、’285特許は、固体触媒としてシリカゲル又はシリ
カ−アルミナを使用するため、DL−α−トコフェロールの製造収率が高いとい
う利点があるが、ある有機材料にシリカが吸着するため、シリカ触媒の再生利用
が不可能であるという欠点を有する。例えば、反応物がTMHQの場合に、反応
中間体(縮合は、その反応機構のため、2つの中間体をもたらす)、及び所望の
生成物であるDL−α−トコフェロールは、シリカゲル触媒の表面上に吸着し、
触媒の活性官能基を妨害するため、触媒の活性が急激に低下する。即ち、シリカ
ゲル触媒を再利用することは不可能である。更に、シリカゲルの表面上に吸着し
たDL−α−トコフェロールを回収しない場合、DL−α−トコフェロールの総
収率は低くなる。
カ−アルミナを使用するため、DL−α−トコフェロールの製造収率が高いとい
う利点があるが、ある有機材料にシリカが吸着するため、シリカ触媒の再生利用
が不可能であるという欠点を有する。例えば、反応物がTMHQの場合に、反応
中間体(縮合は、その反応機構のため、2つの中間体をもたらす)、及び所望の
生成物であるDL−α−トコフェロールは、シリカゲル触媒の表面上に吸着し、
触媒の活性官能基を妨害するため、触媒の活性が急激に低下する。即ち、シリカ
ゲル触媒を再利用することは不可能である。更に、シリカゲルの表面上に吸着し
たDL−α−トコフェロールを回収しない場合、DL−α−トコフェロールの総
収率は低くなる。
【0008】
’285特許による別の問題は、反応の初期段階から塩酸が存在することであ
る。上記のように、塩酸は、脱水によりイソフィトールを分解し、総収率を低下
させ、かつイソフィトールとTMHQとの間で生じ得る他の副反応を引き起こし
、ビタミンEと同じような分子量の副生物を生成し、それによりその純度を低下
させる。
る。上記のように、塩酸は、脱水によりイソフィトールを分解し、総収率を低下
させ、かつイソフィトールとTMHQとの間で生じ得る他の副反応を引き起こし
、ビタミンEと同じような分子量の副生物を生成し、それによりその純度を低下
させる。
【0009】
発明の開示
触媒反応の知識により、修正及び応用が可能となり、本発明が導かれる。
本発明者らによって、イソフィトール又はフィトール誘導体及びTMHQから
のDL−α−トコフェロールの製造について、徹底的な研究が行われ、その結果
、主触媒としてMX2を、助触媒としてシリカゲル及び/又はシリカ−アルミナ
を使用し、反応混合物中に中間体を形成し、その後中間体形成が完了したときに
最終生成物を得るための反応に、更なる触媒としてブレンステッド酸を添加する
ことにより、イソフィトール又はフィトール誘導体の自己分解、及び副生物の生
成を最少化し得るDL−α−トコフェロールの製造方法が見出された。
のDL−α−トコフェロールの製造について、徹底的な研究が行われ、その結果
、主触媒としてMX2を、助触媒としてシリカゲル及び/又はシリカ−アルミナ
を使用し、反応混合物中に中間体を形成し、その後中間体形成が完了したときに
最終生成物を得るための反応に、更なる触媒としてブレンステッド酸を添加する
ことにより、イソフィトール又はフィトール誘導体の自己分解、及び副生物の生
成を最少化し得るDL−α−トコフェロールの製造方法が見出された。
【0010】
従って、本発明の目的は、高収率で高純度のDL−α−トコフェロールを製造
する方法を提供することである。
する方法を提供することである。
【0011】
本発明の他の目的は、実質的に副生物を生成せずに、相対的に(relatively)最
少量のイソフィトール又はフィトール誘導体からDL−α−トコフェロールを製
造する方法を提供することであり、これにより、製造コストの点で、大きな経済
的利益がもたらされ得る。
少量のイソフィトール又はフィトール誘導体からDL−α−トコフェロールを製
造する方法を提供することであり、これにより、製造コストの点で、大きな経済
的利益がもたらされ得る。
【0012】
本発明の更なる目的は、商業的スケールにおける適用に対しても非常に効率的
であり、連続的に再生され得る触媒系を使用することによりDL−α−トコフェロ
ールを製造する方法を提供することである。
であり、連続的に再生され得る触媒系を使用することによりDL−α−トコフェロ
ールを製造する方法を提供することである。
【0013】
本発明により、上記目的は、
a)MX2で表される2価金属ハロゲン化合物からなる主触媒成分(但し、Mは
Zn2+、Fe2+またはSn2+であり、XはF、ClまたはIである)、並
びにシリカゲル及び/又はシリカ−アルミナからなる助触媒を反応溶媒中に含む
触媒系の存在下で、80〜135℃において30〜60分にわたり、イソフィト
ール又はフィトール誘導体を、トリメチルヒドロキノンへそれらを縮合するため
に添加し、中間体を形成する段階、; b)前記段階a)で得られた混合物に、ブレンステッド酸を添加した後に、分離
によって生成物を得る段階;及び c)前記段階b)後、残存助触媒を回収するために極性溶媒で洗浄し、それによ
り回収された助触媒をDL−α−トコフェロールの製造のために再利用すること
ができる段階 を含む、高収率で、高純度のDL−α−トコフェロールを製造する方法を提供す
ることにより達成され得た。
Zn2+、Fe2+またはSn2+であり、XはF、ClまたはIである)、並
びにシリカゲル及び/又はシリカ−アルミナからなる助触媒を反応溶媒中に含む
触媒系の存在下で、80〜135℃において30〜60分にわたり、イソフィト
ール又はフィトール誘導体を、トリメチルヒドロキノンへそれらを縮合するため
に添加し、中間体を形成する段階、; b)前記段階a)で得られた混合物に、ブレンステッド酸を添加した後に、分離
によって生成物を得る段階;及び c)前記段階b)後、残存助触媒を回収するために極性溶媒で洗浄し、それによ
り回収された助触媒をDL−α−トコフェロールの製造のために再利用すること
ができる段階 を含む、高収率で、高純度のDL−α−トコフェロールを製造する方法を提供す
ることにより達成され得た。
【0014】
発明を実施するための最良の形態
本発明により、脂肪族飽和炭化水素、芳香族炭化水素または適当な極性溶媒及
びこれらの混合物からなる群より選ばれる溶媒中での、主触媒、助触媒及び更な
る触媒を含む触媒系の存在下でのイソフィトール又はフィトール誘導体とTMH
Qとの間の縮合によってDL−α−トコフェロールが製造される。主触媒は、一般
式MX2で表される。但し、MはZn2+、Fe2+またはSn2+のような2
価金属イオン、XはF、Cl、BrまたはIのようなハロゲンを示す。助触媒は、
シリカゲル及び/又はシリカ−アルミナであり、更なる触媒はブレンステッド酸
、特にHCl水溶液である。
びこれらの混合物からなる群より選ばれる溶媒中での、主触媒、助触媒及び更な
る触媒を含む触媒系の存在下でのイソフィトール又はフィトール誘導体とTMH
Qとの間の縮合によってDL−α−トコフェロールが製造される。主触媒は、一般
式MX2で表される。但し、MはZn2+、Fe2+またはSn2+のような2
価金属イオン、XはF、Cl、BrまたはIのようなハロゲンを示す。助触媒は、
シリカゲル及び/又はシリカ−アルミナであり、更なる触媒はブレンステッド酸
、特にHCl水溶液である。
【0015】
本発明を完成するために、MX2と様々な助触媒との触媒系により、イソフィ
トール又はフィトール誘導体とTMHQとの間の縮合によるDL−α−トコフェ
ロールの製造について、様々な実験が行われ、それにより、2つの逐次反応段階
により、出発材料が中間体を経て最終生成物になることが見出された。この工程
では、主触媒として働くMX2は、主として中間体の形成に寄与するのに対し、
助触媒は、副反応を妨げるために働き、かつ、MX2触媒と共に、中間体をDL−
α−トコフェロールに転化する役割を果たす。シリカ(及び/又はシリカ−アル
ミナ)が、副反応を妨げるのに適した助触媒であることが確認された。しかし、
未反応のTMHQ、分解したイソフィトール若しくはフィトール誘導体、中間体
、及び/又はDL−α−トコフェロールは、シリカゲルの表面上に吸着してその
触媒的に機能する基(catalytically functional sites)をブロックするので、シ
リカゲル触媒は、一度使用されると再利用できなかった。
トール又はフィトール誘導体とTMHQとの間の縮合によるDL−α−トコフェ
ロールの製造について、様々な実験が行われ、それにより、2つの逐次反応段階
により、出発材料が中間体を経て最終生成物になることが見出された。この工程
では、主触媒として働くMX2は、主として中間体の形成に寄与するのに対し、
助触媒は、副反応を妨げるために働き、かつ、MX2触媒と共に、中間体をDL−
α−トコフェロールに転化する役割を果たす。シリカ(及び/又はシリカ−アル
ミナ)が、副反応を妨げるのに適した助触媒であることが確認された。しかし、
未反応のTMHQ、分解したイソフィトール若しくはフィトール誘導体、中間体
、及び/又はDL−α−トコフェロールは、シリカゲルの表面上に吸着してその
触媒的に機能する基(catalytically functional sites)をブロックするので、シ
リカゲル触媒は、一度使用されると再利用できなかった。
【0016】
一方、’285特許のようにZnX2、シリカゲル及びHClが同時に使用さ
れると、シリカゲル上に吸着する物質の総量は、HClが存在しない場合と比べ
て少なくなるが、洗浄工程を含む本発明と比べると多い。悪いことに、イソフィ
トール又はフィトール誘導体は、反応の初期からHClが存在する状態で添加さ
れるので、比較的多量の反応物が、自己分解し、それにより総収率が低下する。
また、HClはイソフィトール又はフィトール誘導体とTMHQとの間で副反応
を引き起こすので、DL−α−トコフェロールの純度は低下する。改良しても(I
mproved as it is)、従来の触媒系においてシリカゲルを再生するのは、数回に
限られる。
れると、シリカゲル上に吸着する物質の総量は、HClが存在しない場合と比べ
て少なくなるが、洗浄工程を含む本発明と比べると多い。悪いことに、イソフィ
トール又はフィトール誘導体は、反応の初期からHClが存在する状態で添加さ
れるので、比較的多量の反応物が、自己分解し、それにより総収率が低下する。
また、HClはイソフィトール又はフィトール誘導体とTMHQとの間で副反応
を引き起こすので、DL−α−トコフェロールの純度は低下する。改良しても(I
mproved as it is)、従来の触媒系においてシリカゲルを再生するのは、数回に
限られる。
【0017】
MX2の触媒の役割は主に、出発材料であるイソフィトール又はフィトール誘
導体及びTMHQから中間体を形成することにあり、一方、助触媒は主に、中間
体をDL−α−トコフェロールに添加する役割を有するという発見に基づき、本
発明者らは、従来の触媒系から、実質的に副生物を生成することなく、相対的に
最少量のイソフィトール又はフィトール誘導体から、DL−α−トコフェロール
を製造することができる、より効率的なものを開発した。また、助触媒として使
用されるシリカゲル及び/又はシリカ−アルミナは、少なくとも20回、連続的
に再生することができる。
導体及びTMHQから中間体を形成することにあり、一方、助触媒は主に、中間
体をDL−α−トコフェロールに添加する役割を有するという発見に基づき、本
発明者らは、従来の触媒系から、実質的に副生物を生成することなく、相対的に
最少量のイソフィトール又はフィトール誘導体から、DL−α−トコフェロール
を製造することができる、より効率的なものを開発した。また、助触媒として使
用されるシリカゲル及び/又はシリカ−アルミナは、少なくとも20回、連続的
に再生することができる。
【0018】
この開発において、イソフィトール又はフィトール誘導体及びTMHQから中
間体を製造するための第一又は第二段階において、副反応が起こりやすいという
発見も、十分考慮した。
間体を製造するための第一又は第二段階において、副反応が起こりやすいという
発見も、十分考慮した。
【0019】
本発明によれば、DL−α−トコフェロールの製造は、適当な溶媒中でのMX 2
触媒並びにシリカゲル(及び/又はシリカ−アルミナ)の存在下でのイソフィ
トール又はフィトール誘導体とTMHQとの緩やかな反応から始まる。ゆっくり
反応させるために、イソフィトール又はフィトール誘導体を、例えば滴下漏斗に
よって、TMHQ、MX2触媒及びシリカゲルを含む溶媒中へゆっくり加える。
添加完了後10〜30分以内に、イソフィトール又はフィトール誘導体のほとん
どが、TMHQと反応し、中間体を形成する。その後、反応器へブレンステッド
酸を添加する。ブレンステッド酸は、未反応のままの微量のイソフィトール又は
フィトール誘導体を、TMHQと反応させ、中間体を形成するためだけに働くの
ではなく、中間体からのDL−α−トコフェロールの形成を促進する。また、ブ
レンステッド酸は、TMHQ、自己分解イソフィトール又はフィトール誘導体、
いくつかの副生物、中間体、及びDL−α−トコフェロールを含む吸着物質を、
シリカゲル(及び/又はシリカ−アルミナ)の表面から脱着させ、シリカゲルの
活性を再生するのを助け、かつ、MX2並びにシリカゲル(及び/又はシリカ−
アルミナ)と協同して、中間体を最終生成物に添加する触媒の役割を果たす。従
って、ブレンステッド酸は、シリカ触媒の再生及び製造収率の増加の両方に対し
、大きく寄与する。
トール又はフィトール誘導体とTMHQとの緩やかな反応から始まる。ゆっくり
反応させるために、イソフィトール又はフィトール誘導体を、例えば滴下漏斗に
よって、TMHQ、MX2触媒及びシリカゲルを含む溶媒中へゆっくり加える。
添加完了後10〜30分以内に、イソフィトール又はフィトール誘導体のほとん
どが、TMHQと反応し、中間体を形成する。その後、反応器へブレンステッド
酸を添加する。ブレンステッド酸は、未反応のままの微量のイソフィトール又は
フィトール誘導体を、TMHQと反応させ、中間体を形成するためだけに働くの
ではなく、中間体からのDL−α−トコフェロールの形成を促進する。また、ブ
レンステッド酸は、TMHQ、自己分解イソフィトール又はフィトール誘導体、
いくつかの副生物、中間体、及びDL−α−トコフェロールを含む吸着物質を、
シリカゲル(及び/又はシリカ−アルミナ)の表面から脱着させ、シリカゲルの
活性を再生するのを助け、かつ、MX2並びにシリカゲル(及び/又はシリカ−
アルミナ)と協同して、中間体を最終生成物に添加する触媒の役割を果たす。従
って、ブレンステッド酸は、シリカ触媒の再生及び製造収率の増加の両方に対し
、大きく寄与する。
【0020】
中間体の形成後にブレンステッド酸を添加することの別の利点は、反応の初期
段階において、イソフィトール又はフィトール誘導体の分解が、効果的に妨げら
れ得ることである。この抑制効果の他に、ブレンステッド酸は、未反応のままの
イソフィトール又はフィトール誘導体及びTMHQを転化する触媒の役割を果た
し、それにより製造収率の向上が可能となる。反応完了後、生成物は反応から単
離される。残ったシリカゲル(及び/又はシリカ−アルミナ)触媒は、シリカゲ
ル(及び/又はシリカ−アルミナ)の表面上に吸着したTMHQ及びDL−α−
トコフェロールを溶解するために、極性溶媒で洗浄され、それにより、シリカゲ
ル(及び/又はシリカ−アルミナ)が再生され、製造収率が増加する。
段階において、イソフィトール又はフィトール誘導体の分解が、効果的に妨げら
れ得ることである。この抑制効果の他に、ブレンステッド酸は、未反応のままの
イソフィトール又はフィトール誘導体及びTMHQを転化する触媒の役割を果た
し、それにより製造収率の向上が可能となる。反応完了後、生成物は反応から単
離される。残ったシリカゲル(及び/又はシリカ−アルミナ)触媒は、シリカゲ
ル(及び/又はシリカ−アルミナ)の表面上に吸着したTMHQ及びDL−α−
トコフェロールを溶解するために、極性溶媒で洗浄され、それにより、シリカゲ
ル(及び/又はシリカ−アルミナ)が再生され、製造収率が増加する。
【0021】
本発明における使用に適したものは、塩化水素ガス、塩酸水溶液、燐酸、硫酸
、硝酸、p−トルエンスルホン酸、及びこれらの混合物からなる群から選ばれる
ブレンステッド酸、並びに以下の式I及びIIによって表されるイソフィトール又
はフィトール誘導体である:
、硝酸、p−トルエンスルホン酸、及びこれらの混合物からなる群から選ばれる
ブレンステッド酸、並びに以下の式I及びIIによって表されるイソフィトール又
はフィトール誘導体である:
【0022】
【化4】
【0023】
【化5】
但し、X及びYは独立に、水酸基、ハロゲン原子又はアセトキシ基である。
【0024】
MX2、シリカゲル(及び/またはシリカ−アルミナ)を含む従来の触媒系と
ブレンステッド酸を一段階で使用する場合、ブレンステッド触媒なしで、MX2 並びにシリカゲル(及び/またはシリカ−アルミナ)触媒のみを使用する場合、
並びに本発明による、MX2並びにシリカゲル(及び/またはシリカ−アルミナ
)を使用して中間体を形成した後に、ブレンステッド酸を添加する場合とで、縮
合によるイソフィトール又はフィトール及びTMHQからのDL−α−トコフェロ
ールの製造を比較した。これらの結果から、本発明は、他の製造技術より、DL
−α−トコフェロールの製造収率及び純度において優れていることが示された。
ブレンステッド酸を一段階で使用する場合、ブレンステッド触媒なしで、MX2 並びにシリカゲル(及び/またはシリカ−アルミナ)触媒のみを使用する場合、
並びに本発明による、MX2並びにシリカゲル(及び/またはシリカ−アルミナ
)を使用して中間体を形成した後に、ブレンステッド酸を添加する場合とで、縮
合によるイソフィトール又はフィトール及びTMHQからのDL−α−トコフェロ
ールの製造を比較した。これらの結果から、本発明は、他の製造技術より、DL
−α−トコフェロールの製造収率及び純度において優れていることが示された。
【0025】
本発明によるMX2とシリカゲル(及び/又はシリカ−アルミナ)の触媒の組
み合わせを、TMHQ100重量部に対して5〜300重量部使用する場合に、
好ましい製造結果が得られる。この触媒の組み合わせが20〜150重量部の範
囲で、DL−α−トコフェロールのより好ましい製造結果がもたらされる。MX
2並びにシリカゲル(及び/又はシリカ−アルミナ)を1:0.5〜1:5の割
合で、より好ましくは1:0.7〜1:2の割合で使用して、DL−α−トコフ
ェロールを製造することが好ましい。触媒として効果的な量の点では、TMHQ
の量に対して特異的な範囲に触媒の量が維持される場合に、トコフェロールが良
好に製造される。即ち、MX2とシリカゲル(及び/又はシリカ−アルミナ)の
相対比がそのような範囲に維持されると、DL−α−トコフェロールの製造にお
いて、良好な結果が得られる。
み合わせを、TMHQ100重量部に対して5〜300重量部使用する場合に、
好ましい製造結果が得られる。この触媒の組み合わせが20〜150重量部の範
囲で、DL−α−トコフェロールのより好ましい製造結果がもたらされる。MX
2並びにシリカゲル(及び/又はシリカ−アルミナ)を1:0.5〜1:5の割
合で、より好ましくは1:0.7〜1:2の割合で使用して、DL−α−トコフ
ェロールを製造することが好ましい。触媒として効果的な量の点では、TMHQ
の量に対して特異的な範囲に触媒の量が維持される場合に、トコフェロールが良
好に製造される。即ち、MX2とシリカゲル(及び/又はシリカ−アルミナ)の
相対比がそのような範囲に維持されると、DL−α−トコフェロールの製造にお
いて、良好な結果が得られる。
【0026】
本発明において使用されるシリカゲルには、特に制限はない。シリカゲルは、
100m2/g以上のBET表面積を有し、シリカ−アルミナは500m2/g
以上のBET表面積を有することが好ましい。中間体が形成される時点で、10
0重量部に対して3〜200重量部の量で、最も好ましくは10〜50重量部の
量で、ブレンステッド酸を導入することが好ましい。この範囲内の量で存在する
場合、ブレンステッド酸は副反応を妨げ、DL−α−トコフェロールの製造収率
を向上させる。また、ブレンステッド酸は、触媒の再生を可能にする。
100m2/g以上のBET表面積を有し、シリカ−アルミナは500m2/g
以上のBET表面積を有することが好ましい。中間体が形成される時点で、10
0重量部に対して3〜200重量部の量で、最も好ましくは10〜50重量部の
量で、ブレンステッド酸を導入することが好ましい。この範囲内の量で存在する
場合、ブレンステッド酸は副反応を妨げ、DL−α−トコフェロールの製造収率
を向上させる。また、ブレンステッド酸は、触媒の再生を可能にする。
【0027】
反応混合物へブレンステッド酸を添加する時点に関しては、イソフィトール又
はフィトール誘導体の添加後3〜60分の範囲の時間で、最も好ましい結果が得
られる。特に、収率及び純度の点では、最も好ましい添加時点は、イソフィトー
ル又はフィトール誘導体添加後5〜20分の範囲内である。収率及び純度は、遅
い時間に添加した場合にも、大幅には悪化しないが、全反応時間は長くなる。従
って、ブレンステッド酸は、イソフィトール又はフィトール誘導体添加後2時間
以内に添加することが好ましい。
はフィトール誘導体の添加後3〜60分の範囲の時間で、最も好ましい結果が得
られる。特に、収率及び純度の点では、最も好ましい添加時点は、イソフィトー
ル又はフィトール誘導体添加後5〜20分の範囲内である。収率及び純度は、遅
い時間に添加した場合にも、大幅には悪化しないが、全反応時間は長くなる。従
って、ブレンステッド酸は、イソフィトール又はフィトール誘導体添加後2時間
以内に添加することが好ましい。
【0028】
本発明において有用な溶媒の例は、トルエン、ベンゼン及びキシレンのような
芳香族炭化水素、及びn−ヘプタン、混合ヘプタン、n−ヘキサン、混合ヘキサ
ン、n−オクタン、混合オクタン、n−デカン、混合デカンのような脂肪族飽和
炭化水素、及びブチルアセテート、ジクロロエタン、ジクロロメタン、エチルア
セテート、メチルアセテート、ジエチルマロネートのようないくつかの極性溶媒
であり、トルエン、n−ヘプタン、及び混合ヘプタンが好ましい。本発明では、
これらの中で、n−ヘプタン及び混合ヘプタンによれば、最も好ましい合成結果
が保証される。シリカゲル及び/又はシリカ−アルミナ触媒の洗浄に有用な極性
溶媒は、メチルアセテート、エチルアセテート(酢酸エチル)、プロピルアセテ
ート、ブチルアセテート、ペンチルアセテート、アセトン、メチルエチルケトン
、ジエチルケトン、メチルイソプロピルケトン、メタノール、エタノール、プロ
パノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール
、ヘプタノール、オクタノール及びこれらの混合物からなる群から選ばれる。
芳香族炭化水素、及びn−ヘプタン、混合ヘプタン、n−ヘキサン、混合ヘキサ
ン、n−オクタン、混合オクタン、n−デカン、混合デカンのような脂肪族飽和
炭化水素、及びブチルアセテート、ジクロロエタン、ジクロロメタン、エチルア
セテート、メチルアセテート、ジエチルマロネートのようないくつかの極性溶媒
であり、トルエン、n−ヘプタン、及び混合ヘプタンが好ましい。本発明では、
これらの中で、n−ヘプタン及び混合ヘプタンによれば、最も好ましい合成結果
が保証される。シリカゲル及び/又はシリカ−アルミナ触媒の洗浄に有用な極性
溶媒は、メチルアセテート、エチルアセテート(酢酸エチル)、プロピルアセテ
ート、ブチルアセテート、ペンチルアセテート、アセトン、メチルエチルケトン
、ジエチルケトン、メチルイソプロピルケトン、メタノール、エタノール、プロ
パノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール
、ヘプタノール、オクタノール及びこれらの混合物からなる群から選ばれる。
【0029】
好ましい反応時間(イソフィトール又はフィトール誘導体の添加時間を含む)
は、2〜7時間の範囲であり、より好ましくは2〜3時間の範囲であり、一方、
適当な反応温度は、80〜120℃の範囲内である。
は、2〜7時間の範囲であり、より好ましくは2〜3時間の範囲であり、一方、
適当な反応温度は、80〜120℃の範囲内である。
【0030】
収率の点では、TMHQ100当量に対して、95〜110当量の量でイソフ
ィトール又はフィトール誘導体を添加する場合に、好ましい結果が得られる。イ
ソフィトール又はフィトール誘導体が100〜105当量の範囲で、特に好まし
い結果が得られる。
ィトール又はフィトール誘導体を添加する場合に、好ましい結果が得られる。イ
ソフィトール又はフィトール誘導体が100〜105当量の範囲で、特に好まし
い結果が得られる。
【0031】
本発明は、説明のために記載された以下の実施例に照らして更に理解すること
ができるが、これらの実施例は、本発明を限定するものではない。
ができるが、これらの実施例は、本発明を限定するものではない。
【0032】
比較例1
ディーンスターク(Dean-Stark)装置及び凝縮器(condenser)を備えた100m
lの丸底フラスコを窒素でパージした後、このフラスコに、TMHQ6.24g
(0.041モル)、シリカゲル4.16g及びZnCl22.08g(0.015
モル)を入れて、n−ヘプタン134mlを加えて、溶液を攪拌した。このフラ
スコは、フラスコを介して窒素パージした滴下漏斗を備えていた。イソフィトー
ル12.48g(0.042モル)とn−ヘプタン10mlとの溶液を、滴下漏斗
に入れ、窒素雰囲気下でフラスコを加熱して還流させた。還流させながら、イソ
フィトールとn−へプタンとの溶液を、滴下漏斗を介して反応フラスコに1時間
にわたって徐々に添加した。添加完了後、更に2時間、還流させながら更に反応
させた。生成混合物を、GCによって分析したところ、TMHQの転化率は、96
.9%、DL−α−トコフェロールの純度は99.1%であった。
lの丸底フラスコを窒素でパージした後、このフラスコに、TMHQ6.24g
(0.041モル)、シリカゲル4.16g及びZnCl22.08g(0.015
モル)を入れて、n−ヘプタン134mlを加えて、溶液を攪拌した。このフラ
スコは、フラスコを介して窒素パージした滴下漏斗を備えていた。イソフィトー
ル12.48g(0.042モル)とn−ヘプタン10mlとの溶液を、滴下漏斗
に入れ、窒素雰囲気下でフラスコを加熱して還流させた。還流させながら、イソ
フィトールとn−へプタンとの溶液を、滴下漏斗を介して反応フラスコに1時間
にわたって徐々に添加した。添加完了後、更に2時間、還流させながら更に反応
させた。生成混合物を、GCによって分析したところ、TMHQの転化率は、96
.9%、DL−α−トコフェロールの純度は99.1%であった。
【0033】
比較例2
比較例1と同一の反応条件で、TMHQ6.24g(0.041モル)、シリカ
ゲル4.16g、ZnCl22.08g(0.015モル)、及び37%HCl水
溶液2g(HCl 0.019モル)をフラスコに入れ、n−ヘプタン134ml
を加えた後攪拌させ、溶液を得た。窒素雰囲気下で還流させながら、比較例1と
同様に、イソフィトール12.48g(0.42モル)を徐々に添加した。添加完
了後、更に1時間、還流させながら更に反応させた。生成混合物を、GCによって
分析したところ、TMHQの転化率は、96%、得られたDL−α−トコフェロ
ールの純度は96.5%であった。
ゲル4.16g、ZnCl22.08g(0.015モル)、及び37%HCl水
溶液2g(HCl 0.019モル)をフラスコに入れ、n−ヘプタン134ml
を加えた後攪拌させ、溶液を得た。窒素雰囲気下で還流させながら、比較例1と
同様に、イソフィトール12.48g(0.42モル)を徐々に添加した。添加完
了後、更に1時間、還流させながら更に反応させた。生成混合物を、GCによって
分析したところ、TMHQの転化率は、96%、得られたDL−α−トコフェロ
ールの純度は96.5%であった。
【0034】
実施例1
比較例1と同様の反応条件で、TMHQ6.24g(0.041モル)、シリカ
ゲル4.16g、及びZnCl22.08g(0.015モル)をフラスコに入れ
、n−ヘプタン134mlを加えた後攪拌させ、溶液を得た。窒素雰囲気下で還
流させながら、比較例1と同様に、イソフィトール12.48g(0.42モル)
を1時間にわたって徐々に添加した。添加完了の10分後、37%HCl水溶液
2g(HCl 0.019モル)をそこに添加して、更に50分間、還流させなが
らさらに反応させた。生成混合物を、GCによって分析したところ、TMHQの転
化率は、99.4%、得られたDL−α−トコフェロールの純度は99.1%で
あった。
ゲル4.16g、及びZnCl22.08g(0.015モル)をフラスコに入れ
、n−ヘプタン134mlを加えた後攪拌させ、溶液を得た。窒素雰囲気下で還
流させながら、比較例1と同様に、イソフィトール12.48g(0.42モル)
を1時間にわたって徐々に添加した。添加完了の10分後、37%HCl水溶液
2g(HCl 0.019モル)をそこに添加して、更に50分間、還流させなが
らさらに反応させた。生成混合物を、GCによって分析したところ、TMHQの転
化率は、99.4%、得られたDL−α−トコフェロールの純度は99.1%で
あった。
【0035】
実施例2
比較例1と同様の反応条件で、TMHQ6.24g(0.041モル)、シリカ
アルミナ4.16g、及びZnCl22.08g(0.015モル)をフラスコに
入れ、n−ヘプタン134mlを加えた後、攪拌させ、溶液を得た。窒素雰囲気
下で還流させながら、比較例1と同様に、イソフィトール12.48g(0.42
モル)を、1時間にわたって徐々に添加した。添加完了の10分後、37%HC
l水溶液2g(HCl 0.019モル)をそこへ添加して、更に50分間、還流
させながら更に反応させた。生成混合物を、GCによって分析したところ、TMH
Qの転化率は、99.2%、得られたDL−α−トコフェロールの純度は98.
8%であった。
アルミナ4.16g、及びZnCl22.08g(0.015モル)をフラスコに
入れ、n−ヘプタン134mlを加えた後、攪拌させ、溶液を得た。窒素雰囲気
下で還流させながら、比較例1と同様に、イソフィトール12.48g(0.42
モル)を、1時間にわたって徐々に添加した。添加完了の10分後、37%HC
l水溶液2g(HCl 0.019モル)をそこへ添加して、更に50分間、還流
させながら更に反応させた。生成混合物を、GCによって分析したところ、TMH
Qの転化率は、99.2%、得られたDL−α−トコフェロールの純度は98.
8%であった。
【0036】
実施例3
比較例1と同様の反応条件で、TMHQ6.24g(0.041モル)、シリカ
ゲル4.16g、及びZnCl22.08g(0.015モル)をフラスコに入れ
、トルエン134mlを加えた後、攪拌させ、溶液を得た。窒素雰囲気下で還流
させながら、比較例1と同様に、イソフィトール12.48g(0.42モル)を
1時間にわたって徐々に添加した。添加完了の10分後、37%HCl水溶液2
g(HCl 0.019モル)をそこへ添加して、更に50分間、還流させながら
更に反応させた。生成混合物を、GCによって分析したところ、TMHQの転化率
は、96.5%、得られたDL−α−トコフェロールの純度は99.1%であっ
た。 上記実施例において得られた結果を、下記表1にまとめる。
ゲル4.16g、及びZnCl22.08g(0.015モル)をフラスコに入れ
、トルエン134mlを加えた後、攪拌させ、溶液を得た。窒素雰囲気下で還流
させながら、比較例1と同様に、イソフィトール12.48g(0.42モル)を
1時間にわたって徐々に添加した。添加完了の10分後、37%HCl水溶液2
g(HCl 0.019モル)をそこへ添加して、更に50分間、還流させながら
更に反応させた。生成混合物を、GCによって分析したところ、TMHQの転化率
は、96.5%、得られたDL−α−トコフェロールの純度は99.1%であっ
た。 上記実施例において得られた結果を、下記表1にまとめる。
【0037】
【表1】
【0038】
以下の実施例により、シリカゲル及び/又はシリカ−アルミナを連続的に再生
する本発明の能力が示されるであろう。 比較例3 比較例1と同様の反応条件で、TMHQ6.24g(0.041モル)、シリカ
ゲル4.16g、及びZnCl22.08g(0.015モル)をフラスコに入れ
、n−ヘプタン134mlを加えた後、攪拌させ、溶液を得た。窒素雰囲気下で
還流させながら、比較例1と同様に、イソフィトール12.48g(0.42モル
)を1時間にわたって徐々に添加した。添加完了後、更に2時間還流させながら
更に反応させた。その後、生成混合物を、フィルター付きポンプを用いて除去し
た。反応器内のシリカゲルに、n−ヘプタン50mlを添加し、5分間攪拌させ
、回収するために濾過した。この回収したシリカゲルを用いて、DL−α−トコ
フェロールを上記のように合成した。同じシリカゲルを、同様の上記製造工程の
ために、合計5回、再利用した。反応の各回において、生成混合物をGCによっ
て分析した。最後の回の再利用において、TMHQの転化率は82.4%であり
、得られたDL−α−トコフェロールの純度は78.8%と低かった。
する本発明の能力が示されるであろう。 比較例3 比較例1と同様の反応条件で、TMHQ6.24g(0.041モル)、シリカ
ゲル4.16g、及びZnCl22.08g(0.015モル)をフラスコに入れ
、n−ヘプタン134mlを加えた後、攪拌させ、溶液を得た。窒素雰囲気下で
還流させながら、比較例1と同様に、イソフィトール12.48g(0.42モル
)を1時間にわたって徐々に添加した。添加完了後、更に2時間還流させながら
更に反応させた。その後、生成混合物を、フィルター付きポンプを用いて除去し
た。反応器内のシリカゲルに、n−ヘプタン50mlを添加し、5分間攪拌させ
、回収するために濾過した。この回収したシリカゲルを用いて、DL−α−トコ
フェロールを上記のように合成した。同じシリカゲルを、同様の上記製造工程の
ために、合計5回、再利用した。反応の各回において、生成混合物をGCによっ
て分析した。最後の回の再利用において、TMHQの転化率は82.4%であり
、得られたDL−α−トコフェロールの純度は78.8%と低かった。
【0039】
実施例4
比較例3と同様の反応条件で、TMHQ6.24g(0.041モル)、シリカ
ゲル4.16g、及びZnCl22.08g(0.015モル)をフラスコに入れ
、n−ヘプタン134mlを加えた後攪拌させ、溶液を得た。窒素雰囲気中で還
流させながら、比較例1と同様にイソフィトール12.48g(0.42モル)を
1時間にわたって徐々に添加した。添加完了の10分後、37%HCl水溶液2
g(0.019モル)をそこへ添加して、更に50分間還流させながらさらに反
応させた。その後、生成混合物をフィルター付きポンプを用いて除去した。反応
器中のシリカゲルに酢酸エチル50mlを添加して、5分間攪拌させ、回収する
ために濾過した。この回収したシリカゲルを用いて、DL−α−トコフェロール
を前記のように製造した。同じシリカゲルを、同様の上記製造工程のために、合
計20回、再利用した。反応の各回において、生成混合物をGCによって分析し
た。最後の回の再利用において、TMHQの転化率は98.7%であり、得られ
たDL−α−トコフェロールの純度は99.0%と高かった。 実施例4の定量結果を、比較例3のものと共に、下記表2に示す。
ゲル4.16g、及びZnCl22.08g(0.015モル)をフラスコに入れ
、n−ヘプタン134mlを加えた後攪拌させ、溶液を得た。窒素雰囲気中で還
流させながら、比較例1と同様にイソフィトール12.48g(0.42モル)を
1時間にわたって徐々に添加した。添加完了の10分後、37%HCl水溶液2
g(0.019モル)をそこへ添加して、更に50分間還流させながらさらに反
応させた。その後、生成混合物をフィルター付きポンプを用いて除去した。反応
器中のシリカゲルに酢酸エチル50mlを添加して、5分間攪拌させ、回収する
ために濾過した。この回収したシリカゲルを用いて、DL−α−トコフェロール
を前記のように製造した。同じシリカゲルを、同様の上記製造工程のために、合
計20回、再利用した。反応の各回において、生成混合物をGCによって分析し
た。最後の回の再利用において、TMHQの転化率は98.7%であり、得られ
たDL−α−トコフェロールの純度は99.0%と高かった。 実施例4の定量結果を、比較例3のものと共に、下記表2に示す。
【0040】
【表2】
【0041】
前述したように、イソフィトールとTMHQから、MX2とシリカゲル(及び
/またはシリカアルミナ)を含む混合触媒系の触媒作用の結果として、中間体が
形成され、ブレンステッド酸と協同した混合触媒系の触媒効果の下で、DL−α
−トコフェロールに転化される。本発明による触媒系は、DL−α−トコフェロ
ールの製造に使用するための従来の触媒と比較して、イソフィトールとTMHQ
との間の縮合において、副反応を顕著に減らすことができ、それにより、高純度
のDL−α−トコフェロールを高収率で製造することができる。さらに、本発明
による触媒系は、従来の触媒系に対し、有機材料の吸着による触媒活性の低下が
回避され得るため、連続的に再利用することができ、それにより、DL−α−ト
コフェロールの製造コスト、及び生成される産業廃棄物の量を低減できるという
利点を有する。これら利点により、本発明による触媒系は、商業的スケールで、
高純度のDL−α−トコフェロールを高収率で製造するときに、効果的に使用す
ることができる。
/またはシリカアルミナ)を含む混合触媒系の触媒作用の結果として、中間体が
形成され、ブレンステッド酸と協同した混合触媒系の触媒効果の下で、DL−α
−トコフェロールに転化される。本発明による触媒系は、DL−α−トコフェロ
ールの製造に使用するための従来の触媒と比較して、イソフィトールとTMHQ
との間の縮合において、副反応を顕著に減らすことができ、それにより、高純度
のDL−α−トコフェロールを高収率で製造することができる。さらに、本発明
による触媒系は、従来の触媒系に対し、有機材料の吸着による触媒活性の低下が
回避され得るため、連続的に再利用することができ、それにより、DL−α−ト
コフェロールの製造コスト、及び生成される産業廃棄物の量を低減できるという
利点を有する。これら利点により、本発明による触媒系は、商業的スケールで、
高純度のDL−α−トコフェロールを高収率で製造するときに、効果的に使用す
ることができる。
【0042】
本発明は、例示的に記載され、使用された専門用語は限定するよりもむしろ説
明することを目的としている。本発明の多くの修正及び変形は、上記の説明に照
らして可能である。それ故、添付の特許請求の範囲内で、本発明は具体的に説明
された以外の別の方法で実施することもできる。
明することを目的としている。本発明の多くの修正及び変形は、上記の説明に照
らして可能である。それ故、添付の特許請求の範囲内で、本発明は具体的に説明
された以外の別の方法で実施することもできる。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 ユン ヨン シック
大韓民国 デジョン 305−390 ユソン−
ク ジョンミン−ドン (番地なし) セ
ゾン アパートメント 108−406
(72)発明者 キム ミョン ジュン
大韓民国 デジョン 305−390 ユソン−
ク ジョンミン−ドン (番地なし) セ
ゾン アパートメント 102−1401
(72)発明者 チェー ジュン テ
大韓民国 デジョン 305−390 ユソン−
ク ジョンミン−ドン (番地なし) セ
ゾン アパートメント 109−304
(72)発明者 クァク ビョン ソン
大韓民国 デジョン 305−390 ユソン−
ク ジョンミン−ドン (番地なし) セ
ゾン アパートメント 102−206
Fターム(参考) 4C062 FF16 FF75
Claims (16)
- 【請求項1】 a)MX2で表される2価金属ハロゲン化合物からなる主触媒成
分(但し、MはZn2+、Fe2+またはSn2+であり、XはF、Clまたは
Iである)、並びにシリカゲル及び/又はシリカ−アルミナからなる助触媒を反
応溶媒中に含む触媒系の存在下で、80〜135℃において30〜60分にわた
り、イソフィトール又はフィトール誘導体を、トリメチルヒドロキノンへそれら
を縮合するために添加し、中間体を形成する段階; b)前記段階a)で得られた混合物に、ブレンステッド酸を添加した後に、分離
によって生成物を得る段階;及び c)前記段階b)後、残存助触媒を回収するために極性溶媒で洗浄し、それによ
り回収された助触媒をDL−α−トコフェロールの製造のために再利用すること
ができる段階 を含む、高収率で、高純度のDL−α−トコフェロールを製造する方法。 - 【請求項2】 前記反応溶媒が、脂肪族飽和炭化水素、芳香族炭化水素、極性溶
媒及びこれらの混合物からなる群より選ばれる請求項1に記載の方法。 - 【請求項3】 前記芳香族炭化水素がトルエン、ベンゼンまたはキシレンであり
、前記脂肪族飽和炭化水素がn−ヘプタン、混合ヘプタン、n−ヘキサン、混合
ヘキサン、n−オクタン、混合オクタン、n−デカンまたは混合デカンであり、
かつ前記極性溶媒がブチルアセテート、ジクロロエタン、ジクロロメタン、エチ
ルアセテート、メチルアセテートまたはジエチルマロネートである請求項2に記
載の方法。 - 【請求項4】 前記ブレンステッド酸が、塩酸、塩酸水溶液、燐酸、硫酸、硝酸
、p−トルエンスルホン酸及びこれらの混合物からなる群より選ばれる請求項1
に記載の方法。 - 【請求項5】 前記極性溶媒が、メチルアセテート、エチルアセテート、プロピ
ルアセテート、ブチルアセテート、ペンチルアセテート、アセトン、メチルエチ
ルケトン、ジエチルケトン、メチルイソプロピルケトン、メタノール、エタノー
ル、プロパノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、ペンタノール、ヘキ
サノール、ヘプタノール、オクタノール及びこれらの混合物からなる群より選ば
れる請求項1に記載の方法。 - 【請求項6】 前記イソフィトールまたはフィトールの誘導体が、下記化学式I
またはIIで表される請求項1に記載の方法。 【化1】 【化2】 但し、X及びYは独立に、水酸基、ハロゲン原子又はアセトキシ基である。 - 【請求項7】 前記MX2並びにシリカゲル及び/またはシリカアルミナを含む
触媒系が、トリメチルヒドロキノン100重量部に対して5〜300重量部の量
で使用される請求項1に記載の方法。 - 【請求項8】 前記MX2並びにシリカゲル及び/またはシリカアルミナを含む
触媒系が、トリメチルヒドロキノン100重量部に対して20〜150重量部の
量で使用される請求項1に記載の方法。 - 【請求項9】 前記シリカゲル及び/又はシリカ−アルミナが、MX2100重
量部に対して50〜500重量部の量で使用される請求項1に記載の方法。 - 【請求項10】 前記シリカゲル及び/又はシリカ−アルミナが、MX2100
重量部に対して70〜200重量部の量で使用される請求項1に記載の方法。 - 【請求項11】 前記シリカゲルが、100m2/g以上のBET表面積を有し
、かつ前記シリカ−アルミナが、500m2/g以上のBET表面積を有する請
求項1に記載の方法。 - 【請求項12】 前記ブレンステッド酸が、イソフィトール又はフィトール誘導
体の添加後2時間以内に添加される請求項1に記載の方法。 - 【請求項13】 前記ブレンステッド酸が、トリメチルヒドロキノン100重量
部に対して3〜200重量部の量で使用される請求項1に記載の方法。 - 【請求項14】 前記ブレンステッド酸が、トリメチルヒドロキノン100重量
部に対して10〜50重量部の量で使用される請求項1に記載の方法。 - 【請求項15】 前記イソフィトール又はフィトール誘導体が、トリメチルヒド
ロキノン100当量に対して95〜110当量の量で使用される請求項1に記載
の方法。 - 【請求項16】 前記イソフィトール又はフィトール誘導体が、トリメチルヒド
ロキノン100当量に対して100〜105当量の量で使用される請求項1に記
載の方法。
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