JP2003505544A - 高密度エチレンホモポリマー及びブレンド組成物 - Google Patents
高密度エチレンホモポリマー及びブレンド組成物Info
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- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 225
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 title claims abstract description 149
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 216
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 title claims description 215
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims abstract description 24
- 239000000835 fiber Substances 0.000 claims abstract description 3
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 261
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 165
- -1 aluminum compound Chemical class 0.000 claims description 160
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 104
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 103
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 91
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 89
- 239000000306 component Substances 0.000 claims description 89
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims description 78
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims description 76
- 239000012876 carrier material Substances 0.000 claims description 72
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims description 72
- 239000012190 activator Substances 0.000 claims description 70
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims description 62
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 claims description 60
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 58
- 239000002002 slurry Substances 0.000 claims description 56
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 55
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 54
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims description 54
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims description 54
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 52
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 52
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 52
- 239000004711 α-olefin Substances 0.000 claims description 52
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 51
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 50
- 150000003623 transition metal compounds Chemical class 0.000 claims description 50
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 claims description 45
- VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 1-Butene Chemical compound CCC=C VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 43
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 42
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 42
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 41
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 39
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 36
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 35
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 claims description 35
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 claims description 35
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 32
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 31
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 29
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 claims description 27
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 26
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 26
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 claims description 26
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 25
- 229920001038 ethylene copolymer Polymers 0.000 claims description 24
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 24
- 239000003446 ligand Substances 0.000 claims description 23
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims description 23
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 claims description 22
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 claims description 22
- 238000000605 extraction Methods 0.000 claims description 21
- 239000000155 melt Substances 0.000 claims description 21
- 229920002959 polymer blend Polymers 0.000 claims description 21
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 claims description 21
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 claims description 20
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 claims description 19
- LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 1-hexene Chemical compound CCCCC=C LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 1-octene Chemical compound CCCCCCC=C KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 17
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 17
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical group [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 claims description 16
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 claims description 16
- YWAKXRMUMFPDSH-UHFFFAOYSA-N pentene Chemical compound CCCC=C YWAKXRMUMFPDSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 239000011949 solid catalyst Substances 0.000 claims description 16
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 16
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N n-Octanol Natural products CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims description 15
- 239000002685 polymerization catalyst Substances 0.000 claims description 15
- WSSSPWUEQFSQQG-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-1-pentene Chemical compound CC(C)CC=C WSSSPWUEQFSQQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 229920000089 Cyclic olefin copolymer Polymers 0.000 claims description 13
- 238000005033 Fourier transform infrared spectroscopy Methods 0.000 claims description 12
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 claims description 12
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 claims description 12
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 claims description 12
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 12
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 claims description 11
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical group [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 claims description 11
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims description 11
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims description 11
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 10
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical group [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 9
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 9
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 claims description 8
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims description 8
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 125000003800 germyl group Chemical group [H][Ge]([H])([H])[*] 0.000 claims description 8
- 229910052735 hafnium Chemical group 0.000 claims description 8
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical group [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910052752 metalloid Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 8
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical group Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 claims description 7
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 150000004678 hydrides Chemical group 0.000 claims description 7
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 claims description 7
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 6
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 claims description 6
- AQZWEFBJYQSQEH-UHFFFAOYSA-N 2-methyloxaluminane Chemical group C[Al]1CCCCO1 AQZWEFBJYQSQEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 125000006165 cyclic alkyl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 claims description 5
- 238000010926 purge Methods 0.000 claims description 5
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 238000012546 transfer Methods 0.000 claims description 5
- 125000006736 (C6-C20) aryl group Chemical group 0.000 claims description 4
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N Magnesium oxide Chemical compound [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- KWYHDKDOAIKMQN-UHFFFAOYSA-N N,N,N',N'-tetramethylethylenediamine Chemical compound CN(C)CCN(C)C KWYHDKDOAIKMQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 claims description 4
- 125000000058 cyclopentadienyl group Chemical group C1(=CC=CC1)* 0.000 claims description 4
- ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N endo-cyclopentadiene Natural products C1C=CC=C1 ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims description 4
- 238000005245 sintering Methods 0.000 claims description 4
- 230000007704 transition Effects 0.000 claims description 4
- YWWDBCBWQNCYNR-UHFFFAOYSA-N trimethylphosphine Chemical compound CP(C)C YWWDBCBWQNCYNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- PMJHHCWVYXUKFD-SNAWJCMRSA-N (E)-1,3-pentadiene Chemical compound C\C=C\C=C PMJHHCWVYXUKFD-SNAWJCMRSA-N 0.000 claims description 3
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 150000001350 alkyl halides Chemical class 0.000 claims description 3
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 claims description 3
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims description 3
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 3
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 claims description 3
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 3
- PMJHHCWVYXUKFD-UHFFFAOYSA-N piperylene Natural products CC=CC=C PMJHHCWVYXUKFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 claims description 3
- 239000004033 plastic Substances 0.000 claims description 3
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 claims description 3
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- ROFVEXUMMXZLPA-UHFFFAOYSA-N Bipyridyl Chemical compound N1=CC=CC=C1C1=CC=CC=N1 ROFVEXUMMXZLPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 2
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 claims description 2
- 238000000071 blow moulding Methods 0.000 claims description 2
- AIXAANGOTKPUOY-UHFFFAOYSA-N carbachol Chemical group [Cl-].C[N+](C)(C)CCOC(N)=O AIXAANGOTKPUOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 claims description 2
- 125000003983 fluorenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)* 0.000 claims description 2
- 238000010528 free radical solution polymerization reaction Methods 0.000 claims description 2
- 238000012685 gas phase polymerization Methods 0.000 claims description 2
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 claims description 2
- 150000003003 phosphines Chemical class 0.000 claims description 2
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 claims description 2
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 238000001175 rotational moulding Methods 0.000 claims description 2
- FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N silanamine Chemical compound [SiH3]N FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 claims description 2
- RXJKFRMDXUJTEX-UHFFFAOYSA-N triethylphosphine Chemical compound CCP(CC)CC RXJKFRMDXUJTEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- YBYIRNPNPLQARY-UHFFFAOYSA-N 1H-indene Natural products C1=CC=C2CC=CC2=C1 YBYIRNPNPLQARY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 125000003286 aryl halide group Chemical group 0.000 claims 1
- 238000005253 cladding Methods 0.000 claims 1
- 229910021482 group 13 metal Inorganic materials 0.000 claims 1
- 125000003454 indenyl group Chemical group C1(C=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 claims 1
- 239000012533 medium component Substances 0.000 claims 1
- LLFVELFOWVBWKZ-UHFFFAOYSA-N methyl(2-methylphosphanylethyl)phosphane Chemical compound CPCCPC LLFVELFOWVBWKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000003856 thermoforming Methods 0.000 claims 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 15
- 239000011347 resin Substances 0.000 abstract description 12
- 229920005989 resin Polymers 0.000 abstract description 12
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract description 8
- 238000007373 indentation Methods 0.000 abstract description 7
- 230000008901 benefit Effects 0.000 abstract description 4
- 230000006872 improvement Effects 0.000 abstract description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 3
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 abstract description 2
- 238000005660 chlorination reaction Methods 0.000 abstract description 2
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 abstract description 2
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 61
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 49
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 44
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 41
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 35
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 35
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 26
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N n-pentane Natural products CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 26
- 239000000047 product Substances 0.000 description 26
- 239000013022 formulation composition Substances 0.000 description 23
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 21
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 19
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 230000008859 change Effects 0.000 description 18
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 18
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 16
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 16
- QWTDNUCVQCZILF-UHFFFAOYSA-N isopentane Chemical compound CCC(C)C QWTDNUCVQCZILF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 15
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 15
- AFFLGGQVNFXPEV-UHFFFAOYSA-N 1-decene Chemical compound CCCCCCCCC=C AFFLGGQVNFXPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N Borate Chemical compound [O-]B([O-])[O-] BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 14
- TWRXJAOTZQYOKJ-UHFFFAOYSA-L Magnesium chloride Chemical compound [Mg+2].[Cl-].[Cl-] TWRXJAOTZQYOKJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 13
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 13
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 13
- LWNGJAHMBMVCJR-UHFFFAOYSA-N (2,3,4,5,6-pentafluorophenoxy)boronic acid Chemical compound OB(O)OC1=C(F)C(F)=C(F)C(F)=C1F LWNGJAHMBMVCJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- GQEZCXVZFLOKMC-UHFFFAOYSA-N 1-hexadecene Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCC=C GQEZCXVZFLOKMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- HFDVRLIODXPAHB-UHFFFAOYSA-N 1-tetradecene Chemical compound CCCCCCCCCCCCC=C HFDVRLIODXPAHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- CCCMONHAUSKTEQ-UHFFFAOYSA-N octadec-1-ene Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCC=C CCCMONHAUSKTEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 11
- CRSBERNSMYQZNG-UHFFFAOYSA-N 1-dodecene Chemical compound CCCCCCCCCCC=C CRSBERNSMYQZNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 10
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 10
- NNPPMTNAJDCUHE-UHFFFAOYSA-N isobutane Chemical compound CC(C)C NNPPMTNAJDCUHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- VAMFXQBUQXONLZ-UHFFFAOYSA-N n-alpha-eicosene Natural products CCCCCCCCCCCCCCCCCCC=C VAMFXQBUQXONLZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000005482 strain hardening Methods 0.000 description 10
- ANEFWEBMQHRDLH-UHFFFAOYSA-N tris(2,3,4,5,6-pentafluorophenyl) borate Chemical compound FC1=C(F)C(F)=C(F)C(F)=C1OB(OC=1C(=C(F)C(F)=C(F)C=1F)F)OC1=C(F)C(F)=C(F)C(F)=C1F ANEFWEBMQHRDLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 9
- 239000012632 extractable Substances 0.000 description 9
- 150000002738 metalloids Chemical class 0.000 description 9
- 125000000538 pentafluorophenyl group Chemical group FC1=C(F)C(F)=C(*)C(F)=C1F 0.000 description 9
- 239000002879 Lewis base Substances 0.000 description 8
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 8
- 150000004696 coordination complex Chemical class 0.000 description 8
- AFABGHUZZDYHJO-UHFFFAOYSA-N dimethyl butane Natural products CCCC(C)C AFABGHUZZDYHJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 150000007527 lewis bases Chemical class 0.000 description 8
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 8
- 230000035882 stress Effects 0.000 description 8
- JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N N,N-dimethylaniline Chemical compound CN(C)C1=CC=CC=C1 JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 7
- 125000004464 hydroxyphenyl group Chemical group 0.000 description 7
- 229910003480 inorganic solid Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000012968 metallocene catalyst Substances 0.000 description 7
- GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N methyl-cycloheptane Natural products CC1CCCCCC1 GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 6
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 6
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 6
- UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N methylcyclohexane Chemical compound CC1CCCCC1 UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 6
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 6
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 6
- 229940106006 1-eicosene Drugs 0.000 description 5
- FIKTURVKRGQNQD-UHFFFAOYSA-N 1-eicosene Natural products CCCCCCCCCCCCCCCCCC=CC(O)=O FIKTURVKRGQNQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000007848 Bronsted acid Substances 0.000 description 5
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 5
- 229940069096 dodecene Drugs 0.000 description 5
- 238000005194 fractionation Methods 0.000 description 5
- 239000001282 iso-butane Substances 0.000 description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- 235000011147 magnesium chloride Nutrition 0.000 description 5
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 5
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 5
- 150000002901 organomagnesium compounds Chemical class 0.000 description 5
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 5
- 241000894007 species Species 0.000 description 5
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 5
- MCULRUJILOGHCJ-UHFFFAOYSA-N triisobutylaluminium Chemical compound CC(C)C[Al](CC(C)C)CC(C)C MCULRUJILOGHCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 4
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 description 4
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 4
- AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N alumane Chemical class [AlH3] AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 4
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 4
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 4
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 4
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 4
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 4
- DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N cycloheptane Chemical compound C1CCCCCC1 DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MGNZXYYWBUKAII-UHFFFAOYSA-N cyclohexa-1,3-diene Chemical compound C1CC=CC=C1 MGNZXYYWBUKAII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BOXSCYUXSBYGRD-UHFFFAOYSA-N cyclopenta-1,3-diene;iron(3+) Chemical compound [Fe+3].C=1C=C[CH-]C=1.C=1C=C[CH-]C=1 BOXSCYUXSBYGRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N decane Chemical compound CCCCCCCCCC DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 4
- JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-O dimethyl(phenyl)azanium Chemical compound C[NH+](C)C1=CC=CC=C1 JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 4
- 238000010828 elution Methods 0.000 description 4
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 4
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910001629 magnesium chloride Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052755 nonmetal Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 4
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 4
- 239000011990 phillips catalyst Substances 0.000 description 4
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 4
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 4
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 4
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 4
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-O triethylammonium ion Chemical compound CC[NH+](CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 4
- PBKONEOXTCPAFI-UHFFFAOYSA-N 1,2,4-trichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=C(Cl)C(Cl)=C1 PBKONEOXTCPAFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OWYWGLHRNBIFJP-UHFFFAOYSA-N Ipazine Chemical compound CCN(CC)C1=NC(Cl)=NC(NC(C)C)=N1 OWYWGLHRNBIFJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 3
- 239000011954 Ziegler–Natta catalyst Substances 0.000 description 3
- 229910007926 ZrCl Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 125000002723 alicyclic group Chemical class 0.000 description 3
- 150000004703 alkoxides Chemical group 0.000 description 3
- 239000012300 argon atmosphere Substances 0.000 description 3
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N butan-2-ol Chemical compound CCC(C)O BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IAQRGUVFOMOMEM-UHFFFAOYSA-N butene Natural products CC=CC IAQRGUVFOMOMEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 3
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 3
- 238000000748 compression moulding Methods 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 3
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 3
- 238000010908 decantation Methods 0.000 description 3
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 3
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 3
- 230000006870 function Effects 0.000 description 3
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 3
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 3
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 3
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 3
- 125000002734 organomagnesium group Chemical group 0.000 description 3
- QYZLKGVUSQXAMU-UHFFFAOYSA-N penta-1,4-diene Chemical compound C=CCC=C QYZLKGVUSQXAMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PARWUHTVGZSQPD-UHFFFAOYSA-N phenylsilane Chemical group [SiH3]C1=CC=CC=C1 PARWUHTVGZSQPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 3
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 3
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 239000012488 sample solution Substances 0.000 description 3
- SCABQASLNUQUKD-UHFFFAOYSA-N silylium Chemical compound [SiH3+] SCABQASLNUQUKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000007613 slurry method Methods 0.000 description 3
- 229920001897 terpolymer Polymers 0.000 description 3
- NBRKLOOSMBRFMH-UHFFFAOYSA-N tert-butyl chloride Chemical compound CC(C)(C)Cl NBRKLOOSMBRFMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000013519 translation Methods 0.000 description 3
- 230000014616 translation Effects 0.000 description 3
- VOITXYVAKOUIBA-UHFFFAOYSA-N triethylaluminium Chemical compound CC[Al](CC)CC VOITXYVAKOUIBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ORYGRKHDLWYTKX-UHFFFAOYSA-N trihexylalumane Chemical compound CCCCCC[Al](CCCCCC)CCCCCC ORYGRKHDLWYTKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OBAJXDYVZBHCGT-UHFFFAOYSA-N tris(pentafluorophenyl)borane Chemical compound FC1=C(F)C(F)=C(F)C(F)=C1B(C=1C(=C(F)C(F)=C(F)C=1F)F)C1=C(F)C(F)=C(F)C(F)=C1F OBAJXDYVZBHCGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PRBHEGAFLDMLAL-GQCTYLIASA-N (4e)-hexa-1,4-diene Chemical compound C\C=C\CC=C PRBHEGAFLDMLAL-GQCTYLIASA-N 0.000 description 2
- 125000006659 (C1-C20) hydrocarbyl group Chemical group 0.000 description 2
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Divinylbenzene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PRBHEGAFLDMLAL-UHFFFAOYSA-N 1,5-Hexadiene Natural products CC=CCC=C PRBHEGAFLDMLAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004482 13C cross polarization magic angle spinning Methods 0.000 description 2
- ZMPYMKAWMBVPQE-UHFFFAOYSA-N 2-[(6-chloropyridin-3-yl)methyl-ethylamino]-2-methyliminoacetic acid Chemical compound CCN(CC1=CN=C(C=C1)Cl)C(=NC)C(=O)O ZMPYMKAWMBVPQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BSPCSKHALVHRSR-UHFFFAOYSA-N 2-chlorobutane Chemical compound CCC(C)Cl BSPCSKHALVHRSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004203 4-hydroxyphenyl group Chemical group [H]OC1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- OSDWBNJEKMUWAV-UHFFFAOYSA-N Allyl chloride Chemical compound ClCC=C OSDWBNJEKMUWAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFYQXZKQYMWGKK-UHFFFAOYSA-N CCN(CC)C1=CC=CC=C1.CCN(CC)C1=CC=CC=C1.CCN(CC)C1=CC=CC=C1.CCN(CC)C1=CC=CC=C1.CCN(CC)C1=CC=CC=C1.CCN(CC)C1=CC=CC=C1.CCN(CC)C1=CC=CC=C1.CCN(CC)C1=CC=CC=C1.CCN(CC)C1=CC=CC=C1.CCN(CC)C1=CC=CC=C1.CCN(CC)C1=CC=CC=C1.CCN(CC)C1=CC=CC=C1.OB(O)O.OB(O)O.OB(O)O.OB(O)O Chemical compound CCN(CC)C1=CC=CC=C1.CCN(CC)C1=CC=CC=C1.CCN(CC)C1=CC=CC=C1.CCN(CC)C1=CC=CC=C1.CCN(CC)C1=CC=CC=C1.CCN(CC)C1=CC=CC=C1.CCN(CC)C1=CC=CC=C1.CCN(CC)C1=CC=CC=C1.CCN(CC)C1=CC=CC=C1.CCN(CC)C1=CC=CC=C1.CCN(CC)C1=CC=CC=C1.CCN(CC)C1=CC=CC=C1.OB(O)O.OB(O)O.OB(O)O.OB(O)O LFYQXZKQYMWGKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VXOADTVJMYKXIK-UHFFFAOYSA-N CN(C)C1=CC=CC=C1.FC(C(OB(OC(C(F)=C(C(F)=C1F)F)=C1F)OC(C(F)=C(C(F)=C1F)F)=C1F)=C(C(F)=C1F)F)=C1F Chemical compound CN(C)C1=CC=CC=C1.FC(C(OB(OC(C(F)=C(C(F)=C1F)F)=C1F)OC(C(F)=C(C(F)=C1F)F)=C1F)=C(C(F)=C1F)F)=C1F VXOADTVJMYKXIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N EDTA Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N Ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1 YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-M Formate Chemical compound [O-]C=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N Hydrogen bromide Chemical compound Br CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 2
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 2
- 229910007928 ZrCl2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910007930 ZrCl3 Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000013543 active substance Substances 0.000 description 2
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 2
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical group 0.000 description 2
- HIMXGTXNXJYFGB-UHFFFAOYSA-N alloxan Chemical compound O=C1NC(=O)C(=O)C(=O)N1 HIMXGTXNXJYFGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O ammonium group Chemical class [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 2
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 2
- 239000003849 aromatic solvent Substances 0.000 description 2
- KCXMKQUNVWSEMD-UHFFFAOYSA-N benzyl chloride Chemical compound ClCC1=CC=CC=C1 KCXMKQUNVWSEMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940073608 benzyl chloride Drugs 0.000 description 2
- YYJANPUQDSJSJI-UHFFFAOYSA-N boric acid tris(2,3,4,5,6-pentafluorophenyl) borate Chemical compound B(O)(O)O.B(OC1=C(C(=C(C(=C1F)F)F)F)F)(OC1=C(C(=C(C(=C1F)F)F)F)F)OC1=C(C(=C(C(=C1F)F)F)F)F YYJANPUQDSJSJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001639 boron compounds Chemical class 0.000 description 2
- 150000001642 boronic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 239000001273 butane Substances 0.000 description 2
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 2
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 2
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 2
- HGCIXCUEYOPUTN-UHFFFAOYSA-N cyclohexene Chemical compound C1CCC=CC1 HGCIXCUEYOPUTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LPIQUOYDBNQMRZ-UHFFFAOYSA-N cyclopentene Chemical compound C1CC=CC1 LPIQUOYDBNQMRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NNBZCPXTIHJBJL-UHFFFAOYSA-N decalin Chemical compound C1CCCC2CCCCC21 NNBZCPXTIHJBJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XBPCUCUWBYBCDP-UHFFFAOYSA-O dicyclohexylazanium Chemical compound C1CCCCC1[NH2+]C1CCCCC1 XBPCUCUWBYBCDP-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 2
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LTYMSROWYAPPGB-UHFFFAOYSA-O diphenylsulfanium Chemical compound C=1C=CC=CC=1[SH+]C1=CC=CC=C1 LTYMSROWYAPPGB-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 2
- WEHWNAOGRSTTBQ-UHFFFAOYSA-N dipropylamine Chemical compound CCCNCCC WEHWNAOGRSTTBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEAMQYHBJQWOSS-UHFFFAOYSA-N ethene;oct-1-ene Chemical compound C=C.CCCCCCC=C HEAMQYHBJQWOSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UAIZDWNSWGTKFZ-UHFFFAOYSA-L ethylaluminum(2+);dichloride Chemical compound CC[Al](Cl)Cl UAIZDWNSWGTKFZ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 239000012634 fragment Substances 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 2
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- PYGSKMBEVAICCR-UHFFFAOYSA-N hexa-1,5-diene Chemical compound C=CCCC=C PYGSKMBEVAICCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisilazane Chemical compound C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 2
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- ZUBZATZOEPUUQF-UHFFFAOYSA-N isononane Chemical compound CCCCCCC(C)C ZUBZATZOEPUUQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920001684 low density polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 239000004702 low-density polyethylene Substances 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CPOFMOWDMVWCLF-UHFFFAOYSA-N methyl(oxo)alumane Chemical compound C[Al]=O CPOFMOWDMVWCLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- JZBZLRKFJWQZHU-UHFFFAOYSA-N n,n,2,4,6-pentamethylaniline Chemical compound CN(C)C1=C(C)C=C(C)C=C1C JZBZLRKFJWQZHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N n-butane Chemical compound CCCC IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VFLWKHBYVIUAMP-UHFFFAOYSA-N n-methyl-n-octadecyloctadecan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCN(C)CCCCCCCCCCCCCCCCCC VFLWKHBYVIUAMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 2
- ZCYXXKJEDCHMGH-UHFFFAOYSA-N nonane Chemical compound CCCC[CH]CCCC ZCYXXKJEDCHMGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BKIMMITUMNQMOS-UHFFFAOYSA-N normal nonane Natural products CCCCCCCCC BKIMMITUMNQMOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 2
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 2
- OJMIONKXNSYLSR-UHFFFAOYSA-N phosphorous acid Chemical compound OP(O)O OJMIONKXNSYLSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N prop-2-enylbenzene Chemical compound C=CCC1=CC=CC=C1 HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000011160 research Methods 0.000 description 2
- 239000000779 smoke Substances 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 2
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 239000006228 supernatant Substances 0.000 description 2
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 2
- 239000003760 tallow Substances 0.000 description 2
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 2
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 2
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 2
- VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N titanium(IV) isopropoxide Chemical compound CC(C)O[Ti](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 2
- IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-O tributylazanium Chemical compound CCCC[NH+](CCCC)CCCC IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 2
- JLTRXTDYQLMHGR-UHFFFAOYSA-N trimethylaluminium Chemical compound C[Al](C)C JLTRXTDYQLMHGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MDCWDBMBZLORER-UHFFFAOYSA-N triphenyl borate Chemical compound C=1C=CC=CC=1OB(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 MDCWDBMBZLORER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 2
- 239000003643 water by type Substances 0.000 description 2
- JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L zinc dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Zn+2] JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- WCFQIFDACWBNJT-UHFFFAOYSA-N $l^{1}-alumanyloxy(2-methylpropyl)aluminum Chemical compound CC(C)C[Al]O[Al] WCFQIFDACWBNJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RURFJXKOXIWFJX-UHFFFAOYSA-N (2,3,4,6-tetrafluorophenoxy)boronic acid Chemical compound OB(O)OC1=C(F)C=C(F)C(F)=C1F RURFJXKOXIWFJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006657 (C1-C10) hydrocarbyl group Chemical group 0.000 description 1
- RELMFMZEBKVZJC-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-trichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC(Cl)=C1Cl RELMFMZEBKVZJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CHRJZRDFSQHIFI-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.C=CC1=CC=CC=C1C=C CHRJZRDFSQHIFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PAAZPARNPHGIKF-UHFFFAOYSA-N 1,2-dibromoethane Chemical compound BrCCBr PAAZPARNPHGIKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 1,4-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=C(Cl)C=C1 OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CRRUGYDDEMGVDY-UHFFFAOYSA-N 1-bromoethylbenzene Chemical compound CC(Br)C1=CC=CC=C1 CRRUGYDDEMGVDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YZWKKMVJZFACSU-UHFFFAOYSA-N 1-bromopentane Chemical compound CCCCCBr YZWKKMVJZFACSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SDRZFSPCVYEJTP-UHFFFAOYSA-N 1-ethenylcyclohexene Chemical compound C=CC1=CCCCC1 SDRZFSPCVYEJTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004134 1-norbornyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C2(*)C([H])([H])C([H])([H])C1([H])C2([H])[H] 0.000 description 1
- KMZHZAAOEWVPSE-UHFFFAOYSA-N 2,3-dihydroxypropyl acetate Chemical compound CC(=O)OCC(O)CO KMZHZAAOEWVPSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VIOJQBMMOKZZMO-UHFFFAOYSA-N 2-(2,6-dimethylphenoxy)-1,3-dimethylbenzene Chemical compound CC1=CC=CC(C)=C1OC1=C(C)C=CC=C1C VIOJQBMMOKZZMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLGIRMVCNXRIMN-UHFFFAOYSA-N 2-(2,6-dimethylphenyl)sulfanyl-1,3-dimethylbenzene Chemical compound CC1=CC=CC(C)=C1SC1=C(C)C=CC=C1C JLGIRMVCNXRIMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FANGQVKSFHFPBY-UHFFFAOYSA-N 2-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoic acid Chemical compound OC(=O)C(C)C1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 FANGQVKSFHFPBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYPKRALMXUUNKS-UHFFFAOYSA-N 2-Hexene Natural products CCCC=CC RYPKRALMXUUNKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CMAOLVNGLTWICC-UHFFFAOYSA-N 2-fluoro-5-methylbenzonitrile Chemical compound CC1=CC=C(F)C(C#N)=C1 CMAOLVNGLTWICC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZSLUVFAKFWKJRC-IGMARMGPSA-N 232Th Chemical compound [232Th] ZSLUVFAKFWKJRC-IGMARMGPSA-N 0.000 description 1
- 238000004400 29Si cross polarisation magic angle spinning Methods 0.000 description 1
- 125000004208 3-hydroxyphenyl group Chemical group [H]OC1=C([H])C([H])=C([H])C(*)=C1[H] 0.000 description 1
- LDTAOIUHUHHCMU-UHFFFAOYSA-N 3-methylpent-1-ene Chemical compound CCC(C)C=C LDTAOIUHUHHCMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BBDKZWKEPDTENS-UHFFFAOYSA-N 4-Vinylcyclohexene Chemical compound C=CC1CCC=CC1 BBDKZWKEPDTENS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018516 Al—O Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000497 Amalgam Inorganic materials 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100377299 Arabidopsis thaliana ZHD13 gene Proteins 0.000 description 1
- 101100377300 Arabidopsis thaliana ZHD14 gene Proteins 0.000 description 1
- 229910000897 Babbitt (metal) Inorganic materials 0.000 description 1
- UMDGXENKHZXSJC-UHFFFAOYSA-N CC(C)(C)N(C)C.CC(C)(C)N(C)C.CC(C)(C)N(C)C.OB(O)O Chemical compound CC(C)(C)N(C)C.CC(C)(C)N(C)C.CC(C)(C)N(C)C.OB(O)O UMDGXENKHZXSJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HYLHFOVZFADXNK-UHFFFAOYSA-N CCCCCC[Mg]CC Chemical compound CCCCCC[Mg]CC HYLHFOVZFADXNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZKSADANYBSWZAB-UHFFFAOYSA-N CCCCCC[Mg]CCCCCC Chemical compound CCCCCC[Mg]CCCCCC ZKSADANYBSWZAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIZZNBSNHYPHRV-UHFFFAOYSA-N CCCCN(CCCC)CCCC.CCCCN(CCCC)CCCC.CCCCN(CCCC)CCCC.OB(O)O Chemical compound CCCCN(CCCC)CCCC.CCCCN(CCCC)CCCC.CCCCN(CCCC)CCCC.OB(O)O ZIZZNBSNHYPHRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MDCNUULPPQFEAB-UHFFFAOYSA-N CCCC[Mg]C(C)C Chemical compound CCCC[Mg]C(C)C MDCNUULPPQFEAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBNGNEQZXBWPTJ-UHFFFAOYSA-N CCCC[Mg]C(C)CC Chemical compound CCCC[Mg]C(C)CC DBNGNEQZXBWPTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MVECFARLYQAUNR-UHFFFAOYSA-N CCCC[Mg]CC Chemical compound CCCC[Mg]CC MVECFARLYQAUNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PZJSWVRAJDUZOX-UHFFFAOYSA-N CCCN(CCC)CCC.CCCN(CCC)CCC.CCCN(CCC)CCC.OB(O)O Chemical compound CCCN(CCC)CCC.CCCN(CCC)CCC.CCCN(CCC)CCC.OB(O)O PZJSWVRAJDUZOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YSUGZFDIDRMWEX-UHFFFAOYSA-N CN(C)C.CN(C)C.CN(C)C.OB(O)O Chemical compound CN(C)C.CN(C)C.CN(C)C.OB(O)O YSUGZFDIDRMWEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JMJOHZJRPWRGTF-UHFFFAOYSA-N CN(C)C1=CC=CC=C1.CN(C)C1=CC=CC=C1.CN(C)C1=CC=CC=C1.OB(O)O Chemical compound CN(C)C1=CC=CC=C1.CN(C)C1=CC=CC=C1.CN(C)C1=CC=CC=C1.OB(O)O JMJOHZJRPWRGTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000251730 Chondrichthyes Species 0.000 description 1
- 101710112287 DNA-directed RNA polymerases I and III subunit RPAC2 Proteins 0.000 description 1
- QMMFVYPAHWMCMS-UHFFFAOYSA-N Dimethyl sulfide Chemical compound CSC QMMFVYPAHWMCMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000196324 Embryophyta Species 0.000 description 1
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100321669 Fagopyrum esculentum FA02 gene Proteins 0.000 description 1
- 238000004566 IR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- NHTMVDHEPJAVLT-UHFFFAOYSA-N Isooctane Chemical compound CC(C)CC(C)(C)C NHTMVDHEPJAVLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000799 K alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-O Methylammonium ion Chemical compound [NH3+]C BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 229910000528 Na alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- LCPJKKVGHWQLCL-UHFFFAOYSA-N OB(O)O.C(C=C1)=CC=C1OC1=CC=CC=C1.C(C=C1)=CC=C1OC1=CC=CC=C1.C(C=C1)=CC=C1OC1=CC=CC=C1 Chemical compound OB(O)O.C(C=C1)=CC=C1OC1=CC=CC=C1.C(C=C1)=CC=C1OC1=CC=CC=C1.C(C=C1)=CC=C1OC1=CC=CC=C1 LCPJKKVGHWQLCL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000577218 Phenes Species 0.000 description 1
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N Phosphine Chemical compound P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 101710183183 Probable DNA-directed RNA polymerases I and III subunit RPAC2 Proteins 0.000 description 1
- 102100034616 Protein POLR1D, isoform 2 Human genes 0.000 description 1
- 229910008051 Si-OH Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002800 Si–O–Al Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910006358 Si—OH Inorganic materials 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- 229910052776 Thorium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004699 Ultra-high molecular weight polyethylene Substances 0.000 description 1
- 229910021552 Vanadium(IV) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGEZNRSVGBDHLK-UHFFFAOYSA-N [1,10]phenanthroline Chemical compound C1=CN=C2C3=NC=CC=C3C=CC2=C1 DGEZNRSVGBDHLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVYOMXWAJZACIU-UHFFFAOYSA-N [2-hydroxy-3,4,5-tris(4-methylphenyl)phenoxy]boronic acid Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1C1=CC(OB(O)O)=C(O)C(C=2C=CC(C)=CC=2)=C1C1=CC=C(C)C=C1 BVYOMXWAJZACIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BGYHLZZASRKEJE-UHFFFAOYSA-N [3-[3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoyloxy]-2,2-bis[3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoyloxymethyl]propyl] 3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoate Chemical compound CC(C)(C)C1=C(O)C(C(C)(C)C)=CC(CCC(=O)OCC(COC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)(COC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)COC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)=C1 BGYHLZZASRKEJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDVDCDLBOLSVGM-UHFFFAOYSA-N [chloro(phenyl)methyl]benzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(Cl)C1=CC=CC=C1 ZDVDCDLBOLSVGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 238000012644 addition polymerization Methods 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000573 alkali metal alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000941 alkaline earth metal alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004791 alkyl magnesium halides Chemical class 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- LLEMOWNGBBNAJR-UHFFFAOYSA-N biphenyl-2-ol Chemical group OC1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 LLEMOWNGBBNAJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002529 biphenylenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3C12)* 0.000 description 1
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- UORVGPXVDQYIDP-BJUDXGSMSA-N borane Chemical compound [10BH3] UORVGPXVDQYIDP-BJUDXGSMSA-N 0.000 description 1
- 229910000085 borane Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- 238000006758 bulk electrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- YHWCPXVTRSHPNY-UHFFFAOYSA-N butan-1-olate;titanium(4+) Chemical compound [Ti+4].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-] YHWCPXVTRSHPNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CJZGTCYPCWQAJB-UHFFFAOYSA-L calcium stearate Chemical compound [Ca+2].CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O CJZGTCYPCWQAJB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000013539 calcium stearate Nutrition 0.000 description 1
- 239000008116 calcium stearate Substances 0.000 description 1
- 125000005626 carbonium group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012018 catalyst precursor Substances 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- ZHXZNKNQUHUIGN-UHFFFAOYSA-N chloro hypochlorite;vanadium Chemical compound [V].ClOCl ZHXZNKNQUHUIGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 230000021615 conjugation Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 239000012967 coordination catalyst Substances 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- YTKRILODNOEEPX-NSCUHMNNSA-N crotyl chloride Chemical compound C\C=C\CCl YTKRILODNOEEPX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- 150000004292 cyclic ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000012217 deletion Methods 0.000 description 1
- 230000037430 deletion Effects 0.000 description 1
- 238000003795 desorption Methods 0.000 description 1
- 150000001983 dialkylethers Chemical class 0.000 description 1
- 229940117389 dichlorobenzene Drugs 0.000 description 1
- 125000002897 diene group Chemical group 0.000 description 1
- LJSQFQKUNVCTIA-UHFFFAOYSA-N diethyl sulfide Chemical compound CCSCC LJSQFQKUNVCTIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GGSUCNLOZRCGPQ-UHFFFAOYSA-O diethyl(phenyl)azanium Chemical compound CC[NH+](CC)C1=CC=CC=C1 GGSUCNLOZRCGPQ-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- JJSGABFIILQOEY-UHFFFAOYSA-M diethylalumanylium;bromide Chemical compound CC[Al](Br)CC JJSGABFIILQOEY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YNLAOSYQHBDIKW-UHFFFAOYSA-M diethylaluminium chloride Chemical compound CC[Al](Cl)CC YNLAOSYQHBDIKW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- JVSWJIKNEAIKJW-UHFFFAOYSA-N dimethyl-hexane Natural products CCCCCC(C)C JVSWJIKNEAIKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N dimethylbenzylamine Chemical compound CN(C)CC1=CC=CC=C1 XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HORRDWBRNSMTIZ-UHFFFAOYSA-N diphenoxyborinic acid Chemical compound C=1C=CC=CC=1OB(O)OC1=CC=CC=C1 HORRDWBRNSMTIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 1
- 230000006353 environmental stress Effects 0.000 description 1
- LDLDYFCCDKENPD-UHFFFAOYSA-N ethenylcyclohexane Chemical compound C=CC1CCCCC1 LDLDYFCCDKENPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 238000003818 flash chromatography Methods 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical class F* 0.000 description 1
- 125000001207 fluorophenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 235000013305 food Nutrition 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 150000004795 grignard reagents Chemical class 0.000 description 1
- DPUXQWOMYBMHRN-UHFFFAOYSA-N hexa-2,3-diene Chemical compound CCC=C=CC DPUXQWOMYBMHRN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006158 high molecular weight polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910000042 hydrogen bromide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 1
- 125000006289 hydroxybenzyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004029 hydroxymethyl group Chemical group [H]OC([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000012442 inert solvent Substances 0.000 description 1
- 229910017053 inorganic salt Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 125000004491 isohexyl group Chemical group C(CCC(C)C)* 0.000 description 1
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 1
- WRYKIHMRDIOPSI-UHFFFAOYSA-N magnesium;benzene Chemical compound [Mg+2].C1=CC=[C-]C=C1.C1=CC=[C-]C=C1 WRYKIHMRDIOPSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WCFJMDWWJOCLSJ-UHFFFAOYSA-N magnesium;methanidylbenzene Chemical compound [Mg+2].[CH2-]C1=CC=CC=C1.[CH2-]C1=CC=CC=C1 WCFJMDWWJOCLSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMYFNYFIPIGQQZ-UHFFFAOYSA-N magnesium;octane Chemical compound [Mg+2].CCCCCCC[CH2-].CCCCCCC[CH2-] KMYFNYFIPIGQQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQZLQYHGCKLKGU-UHFFFAOYSA-N magnesium;propane Chemical compound [Mg+2].C[CH-]C.C[CH-]C DQZLQYHGCKLKGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000000 metal hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004692 metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 1
- 230000000877 morphologic effect Effects 0.000 description 1
- YWFWDNVOPHGWMX-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethyldodecan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCCCCCN(C)C YWFWDNVOPHGWMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTAZYLNFDRKIHJ-UHFFFAOYSA-N n,n-dioctyloctan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCN(CCCCCCCC)CCCCCCCC XTAZYLNFDRKIHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UWHRNIXHZAWBMF-UHFFFAOYSA-N n-dodecyl-n-methyldodecan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCCCCCN(C)CCCCCCCCCCCC UWHRNIXHZAWBMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HKUFIYBZNQSHQS-UHFFFAOYSA-N n-octadecyloctadecan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCNCCCCCCCCCCCCCCCCCC HKUFIYBZNQSHQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004957 naphthylene group Chemical group 0.000 description 1
- 210000003739 neck Anatomy 0.000 description 1
- 125000001971 neopentyl group Chemical group [H]C([*])([H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 125000000082 organogermanium group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002923 oximes Chemical class 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N pentamethylene Natural products C1CCCC1 RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 1
- 229930015698 phenylpropene Natural products 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 229910052696 pnictogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002574 poison Substances 0.000 description 1
- 231100000614 poison Toxicity 0.000 description 1
- 229920013716 polyethylene resin Polymers 0.000 description 1
- 150000008442 polyphenolic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 235000013824 polyphenols Nutrition 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 238000002459 porosimetry Methods 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- 239000002516 radical scavenger Substances 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 239000012429 reaction media Substances 0.000 description 1
- 239000012925 reference material Substances 0.000 description 1
- 238000000518 rheometry Methods 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 102220047090 rs6152 Human genes 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical group 0.000 description 1
- 229930195734 saturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000004819 silanols Chemical class 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- WEGDVNIPLOLRJC-UHFFFAOYSA-M sodium;naphthalene-1-carboxylate Chemical compound [Na+].C1=CC=C2C(C(=O)[O-])=CC=CC2=C1 WEGDVNIPLOLRJC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000012265 solid product Substances 0.000 description 1
- 238000002798 spectrophotometry method Methods 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000006188 syrup Substances 0.000 description 1
- 235000020357 syrup Nutrition 0.000 description 1
- 229940095068 tetradecene Drugs 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JFLKFZNIIQFQBS-FNCQTZNRSA-N trans,trans-1,4-Diphenyl-1,3-butadiene Chemical compound C=1C=CC=CC=1\C=C\C=C\C1=CC=CC=C1 JFLKFZNIIQFQBS-FNCQTZNRSA-N 0.000 description 1
- IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N tributylamine Chemical compound CCCCN(CCCC)CCCC IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AJSTXXYNEIHPMD-UHFFFAOYSA-N triethyl borate Chemical compound CCOB(OCC)OCC AJSTXXYNEIHPMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UORVGPXVDQYIDP-UHFFFAOYSA-N trihydridoboron Substances B UORVGPXVDQYIDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PQDJYEQOELDLCP-UHFFFAOYSA-N trimethylsilane Chemical compound C[SiH](C)C PQDJYEQOELDLCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-O triphenylphosphanium Chemical compound C1=CC=CC=C1[PH+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- YFTHZRPMJXBUME-UHFFFAOYSA-N tripropylamine Chemical compound CCCN(CCC)CCC YFTHZRPMJXBUME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GIIXTFIYICRGMZ-UHFFFAOYSA-N tris(2,3-dimethylphenyl)phosphane Chemical compound CC1=CC=CC(P(C=2C(=C(C)C=CC=2)C)C=2C(=C(C)C=CC=2)C)=C1C GIIXTFIYICRGMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- COIOYMYWGDAQPM-UHFFFAOYSA-N tris(2-methylphenyl)phosphane Chemical compound CC1=CC=CC=C1P(C=1C(=CC=CC=1)C)C1=CC=CC=C1C COIOYMYWGDAQPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QMKSQGVVSJIHEA-UHFFFAOYSA-N tris(3,5-dimethylphenyl) borate Chemical compound CC1=CC(C)=CC(OB(OC=2C=C(C)C=C(C)C=2)OC=2C=C(C)C=C(C)C=2)=C1 QMKSQGVVSJIHEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000785 ultra high molecular weight polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003682 vanadium compounds Chemical class 0.000 description 1
- JTJFQBNJBPPZRI-UHFFFAOYSA-J vanadium tetrachloride Chemical compound Cl[V](Cl)(Cl)Cl JTJFQBNJBPPZRI-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- PXXNTAGJWPJAGM-UHFFFAOYSA-N vertaline Natural products C1C2C=3C=C(OC)C(OC)=CC=3OC(C=C3)=CC=C3CCC(=O)OC1CC1N2CCCC1 PXXNTAGJWPJAGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000004580 weight loss Effects 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
- 125000005023 xylyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 239000011592 zinc chloride Substances 0.000 description 1
- 235000005074 zinc chloride Nutrition 0.000 description 1
- 150000003755 zirconium compounds Chemical class 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
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Abstract
Description
法又は気相法がある。スラリ法と気相法はいわゆる粒体法に当たる。その種の方
式では重合触媒は一般に不活性担体上に固定しておく。次いでポリマーの融点下
の温度で重合を行わせもってポリマーを担体上に析出させる。これは、ポリマー
粉粒が希釈液中に(スラリ法の場合)又は流動ポリマー層中に(気相法の場合)懸濁
しながら成長していく結果となる。これらの重合法は重合温度が比較的低いため
超高分子ポリマーの製造を可能にする。
フィリップス触媒)(Cr-SiO2)、又は塩化マグネシウム(MgCl2)及び/又はシリカ
上に固定したチタン系触媒(いわゆるチーグラー触媒)である。しかし、エチレン
/αオレフィン共重合用のメタロセン系シングルサイト触媒が比較的最近発表さ
れ、その結果として新しいエチレン共重合体(用語「共重合体」はここでは、少
なくとも2種類のモノマーが重合してコポリマー、ターポリマーなどを含む狭義
の共重合体を形成しているポリマーを指す)が生産されるようになった。この種
のシングルサイト触媒には米国特許第5,153,157号でHlatkyらが開示しているビ
ス(シクロペンタジエニル)触媒系、及びconstrained geometry触媒がある。これ
らの触媒及びその製法は1990年7月3日出願の米国出願第545,403号(EP-A-416,815
)、欧州出願EP-A-468,651; 欧州出願EP-A-514,828; 1992年5月1日出願の米国出
願第876,268号(EP-A-520,732)、ならびにUS-A-5,374,696, US-A-5,470,993; US-
A-5,055,438, US-A-5,057,475, US-A-5,096,867, US-A-5,064,802及びUS-A-5,13
2,380で開示されている。さらに、前記constrained geometry触媒のある種カチ
オン性誘導体であって、オレフィン重合触媒としてきわめて有用なものがUS-A-5
,132,380で開示、特許請求されている。US-A-5,453,410では、カチオン性constr
ained geometry触媒とアルモキサンの組合せが好適なオレフィン重合触媒として
開示されている。
れているような担体付きのconstrained geometry触媒もまた開発されている。こ
れらの系では、活性形態の触媒は担体と強く会合しているため、一般的なスラリ
法重合条件の間中、希釈液中に拡散する可能性がまったくない。
は洗浄処理により固定して、アルモキサンが過酷な条件(90℃、トルエン使用)下
でも実質的に非抽出性であるようにしたもの、及び 2) constrained geometry錯体 を含む固体成分の調製にある。
ほとんど拡散しえないため、希釈液中では触媒の活性化がほとんど又はまったく
起きない。よって、担体物質上で形成されるポリマーに比して、希釈液中で形成
されるポリマーはまったく目立たない。希釈液中であまりに多くのポリマーが形
成されるとしたら、ポリマーの嵩密度は許容レベル未満に低下するだろうし、反
応器の汚れが起こる場合もあろう。
ル化合物で処理したシリカ担体物質、及び 2)(遷移金属化合物と反応して触媒活性の遷移金属錯体を形成しうる)カチオンと
、100以下の非水素原子をもち、かつ活性水素部分を含む1以上の置換基をもつ相
溶性アニオンとを含有する活性剤化合物、及び 3) constrained geometry錯体 から形成することもできる。
。金属アルキル化合物のアルキル基は活性剤化合物の活性水素部分と結合して中
性有機化合物たとえばアルカン、又は水素ガスを放出し、もって金属原子を活性
剤化合物残基と化学的に結合させると考えられる。こうして、活性剤は担体物質
と化学結合した状態になると考えられる。constrained geometry錯体が添加され
ると担体付き触媒が形成されるが、そこでは活性形態の触媒が担体と強く会合し
、重合条件の間中、担体上に留まる。
は対照をなすシングルサイト触媒で生産されるポリマーの追加的な利点は、重合
後のポリマー中に残留する触媒残渣の性質に関連する。チーグラー触媒は一般に
TiCl4又はTiCl3などのような塩化チタン錯体から製造し、しばしば塩化マグネシ
ウム(MgCl2)上に固定してある。そのため、チーグラー触媒によって製造される
ポリマーはしばしば、かなりの濃度の、塩化マグネシウムや他の塩化物を含む触
媒残渣を含有する。これは (「フィッシュアイ」形成のため) フィルムの外観を
損ね、あるいは処理装置に腐食問題を引き起こしかねない。同様に、フィリップ
ス触媒(SiO2担持型Cr)系のポリマー産物もクロム残渣を含有するおそれがあり、
その含有率が高すぎれば食品と接触する用途などへの使用は制限されかねない。
又は他の触媒残渣洗い出し法などのような費用も手間もかかる追加の反応器後処
理ステップにかけてから加工また販売に回すことが必要となりかねない。
物又はクロムを含まないし、また担体が付く場合でも塩化マグネシウムではなく
シリカが普通である。よって、えられるポリマーは追加の反応器後ポリマー洗浄
ステップを欠いても、塩化物又はクロムを含む触媒残渣の濃度がずっと低くなる
(しばしばゼロ)。
成しやすいが、その分子量分布の幅は分子量に応じて変化する。たとえばBailey
ら(US 4,547,551, Phillips Petroleum)の報告では、塩化マグネシウム担持型チ
ーグラー触媒系と有機アルミニウム助触媒を用いて製造したMnが約70000である
ポリマーの場合、Mw/Mnは約7.5である。チーグラー触媒で製造したエチレンホ
モポリマーではポリマー密度もまた分子量に左右される。より長いホモポリマー
分子を結晶させることによって克服しなければならないエントロピーはより短い
ホモポリマー分子の場合よりも大きいし、克服もより困難である。そのため、ホ
モポリマー密度は分子量の増大に伴って低下する傾向にある。メルトインデック
ス(I2)が約1 g/10分である代表的なチーグラー-ナッタ触媒ホモポリマーは密度
が0.960 g/cm3を超えよう。
リマーの分子量分布は全分子量範囲にわたって3以下である。さらに、その種の
ホモポリマーは一般に、チーグラー触媒を用いて製造される類似のホモポリマー
に比して密度が低い。これを裏付けているのがStehlingら(US 5,382,631)の開示
であり、その実施例2の試料 ‘006では、担体付きシングルサイト触媒を使用し
て気相条件下で製造したメルトインデックス(I2)が5.0g/10分のホモポリマー
は密度が0.9552 g/cm3、Mw/Mnが2.80にすぎない。同様に、LuxらはWO95/18160
の実施例12で、担体付きシングルサイト触媒を使用しスラリ法で製造したメルト
インデックス(I2)が0.2g/10分のホモポリマーについて、密度が0.9450 g/cm3
、Mw/Mnが2.77にすぎないことを開示している。これらとは対照的に、I2が1.0
g/10分の一般的なチーグラー触媒ホモポリマーは密度が0.9600 g/cm3超、Mw/
Mnが約3をずっと上回るであろう。
に望ましい。また、そうした高密度ホモポリマーは低分子量(すなわち約100,000
未満)では比較的低Mw/Mn (すなわち約5未満) であるのが大いに望ましい。これ
はポリマーのワックス分を最小限に抑えるが、そうしないと金型にワックスが付
着して、押出成形時に煙が発生したり、えられる二次加工品に食味や材料臭の問
題を招いたりしかねない。また、こうした高密度ホモポリマーは高分子量(すな
わち約100,000超)では比較的広Mw/Mn (すなわち約4以上) であるのが大いに望
ましい。
広Mw/Mnを示すという難点がある。
ねない) という二重の難点がある。
のMw/Mnが広いエチレンホモポリマーの製造がなお求められている。
る。エチレンコポリマーの耐衝撃性及び環境応力亀裂抵抗(ESCR)の向上は、エチ
レンコポリマーの低分子量画分のコモノマー含量を極力低い水準に引き下げる一
方でエチレンコポリマーの高分子量画分のコモノマー含量を極力高い水準に引き
上げることによって実現しうることが知られている。また、靭性、引裂強さ、耐
衝撃性及びESCRなどの主要な歪抵抗は樹脂中の「結束分子」の存在によっても向
上させうることが(たとえばZhou et al, Polymer, Vol 24, p.2520 (1993)など
により)立証されている。結晶時に大部分の結束分子の形成を引き起こすのは、
コモノマー含量が最大の (すなわち短鎖分岐の度合いが最も高い)高分子量分子
である。
などのような特性を極大化することが試みられ、その結果として分子構造の異な
る2以上のポリマー成分を原料とするブレンド組成物が調製、使用されるように
なった。チーグラー触媒産物だけを含有するブレンドは多数の特許で開示されて
いる。
ホモポリマー(溶液法で形成)と高分子量のエチレン-ブテン-1コポリマー(粒体法
で形成)とのブレンドが、類似のコポリマーブレンドに優る、容器(ボトル)やパ
イプに好都合なESCRをもたらすことを教えてくれる。
たホモポリマーの一部を1-ブテンと接触させる方法を開示している。その場合、
なお活性を維持している触媒はポリエチレンと重合ブテン-1のブロックコポリマ
ーを生成する。次いで両成分を混合すると、えられるブレンドはESCRが向上して
いる。
子量及びブレンド分布をもち、長鎖分岐がほとんどない成分からなるブレンドに
は高圧ポリエチレンに匹敵する優れた加工性があると判明した。
ン-モノ-α-オレフィンコポリマーと低分子量ポリマー好ましくはエチレンホモ
ポリマー (好ましくはどちらのポリマーも分子量分布が狭く、長鎖分岐が低レベ
ルである)のブレンドは同等の密度と流れ特性のポリエチレンで見込まれる水準
をしのぐ、卓越したフィルム特性、及び剛性と耐衝撃性・ESCRとのバランスの向
上を示す。
と低分子量ホモポリマーとのブレンドは優れた加工性と低温での傑出した機械的
性質を備えることが判明した。
画分中にコモノマーを導入し、結果的に全体としての密度は変えずにコモノマー
含量を高めるというカスケード重合法を開示している。えられるポリマーは在来
単一モードコポリマーに比して剛性-寿命(破損時間)が改善する結果となる。こ
の種の材料をカスケード法で製造する方法を開示した数件の特許がすでに現れて
いる。EP 0 022 376 (Moritaら)はその一例である。
を改善するには低密度ポリエチレンを種々のブレンド組成物と混合するのが有利
であることを開示している。
StehlingらはUS 5,382,630とUS 5,382,631で、Mw/Mnが3未満、組成分布幅指数
が≧ 50%である成分をブレンドしてえられたポリマー組成物を開示している。そ
れらの成分は、狭い組成分布と狭い分子量分布を与えることで知られるメタロセ
ン触媒を使用して製造されるという。
物もまた開示されている。Research Disclosure No. 310163 (匿名)は、チーグ
ラー-ナッタ重合及びメタロセン重合によるエチレンコポリマーのブレンドにつ
いて、キャストフィルムに加工すると、メタロセン重合ポリマーだけの場合と比
較して、光学的性質、靭性、ヒートシール性、耐ブロッキング性及び巻き出しノ
イズ特性が改善すると指摘している。
脂とシングルサイトメタロセン重合樹脂のブレンドがキャストフィルム用途に有
用な優れた横断方向引裂特性及び縦方向極限引張特性を示すことを教示している
。
合体と不均質分岐構造エチレン/α-オレフィン共重合体とのブレンドにすると
、物理的特性を相乗的に高めたフィルムの製造が可能になることを教示している
。そうしたブレンド組成物を原料とするフィルムは驚くほど優れた衝撃及び引張
特性を備え、またモジュラスと靭性の兼ね合いに特に優れているという。
高濃度の溶出成分を生成するという問題がなお残るし、また分子量分布が広いに
もかかわらず高分子量成分は高濃度の結束分子を生成させるうえで望ましいコモ
ノマー分布にならない。在来担体付きシングルサイト触媒を用いて合成される産
物に由来するブレンドは、最終分子量のもとで所与の総コモノマー含量に対応し
て実現しうる総合密度に限界がある。これは、在来シングルサイト触媒では所与
の分子量でチーグラー重合産物に匹敵する高いホモポリマー密度を生成すること
ができないためである。
レンドでも、ブレンド成分の低分子量ホモポリマーがチーグラー重合産物である
とすれば、ホモポリマー密度は高くなるものの、その分子量分布(Mw/Mn)が広い
ため溶出成分が高濃度になろう。狭い分子量分布(Mw/Mn)触媒による重合産物を
高分子量のブレンド成分として使用すれば、超高分子量分子が不足するため同濃
度の結束分子を生成することができず、やはりそのコモノマー分布は最適ではな
くなろう。逆に、低分子量成分がシングルサイト触媒で合成されるホモポリマー
であるとすれば、ホモポリマー密度を思い通りに高めることができない。また高
分子量のチーグラー-ナッタ重合産物のほうも、その分子量分布が広いにもかか
わらず、コモノマー分布は最適ではない。
リマー成分と総コモノマー含量が高い高分子量成分とを含有するブレンド組成物
において、前記高分子量成分の分子量分布中のコポリマー画分の分子量が小さく
なれば小さくなるほどコポリマー画分のコモノマー含量が低下するような、また
他面では前記高分子量成分のコポリマー画分の分子量が大きくなけば大きくなる
ほどコポリマー画分のコモノマー含量が上昇するようなブレンド組成物もまた引
き続き求められている。
ュラスを示し、しかも金型へのワックス付着や押出成形時の発煙を極力抑え、ま
た溶出成分濃度を低くして樹脂味・臭を極力少なくするようなホモポリマー及び
ブレンド組成物の製造もまた引き続き求められている。
ス(I2)が0.0001〜1000 g/10分であり、密度が次の不等式 密度(g/cm3)>0.9611+0.0058 log(I2)−0.00128 log2(I2) を満たし、かつMw/Mn比が次の不等式 Mw/Mn ≦ 11.67 log Mw−43.67 を満たすようなエチレンホモポリマー。
含む方法により製造されるエチレンホモポリマー: (I) 次のものを混合することに由来する担体付き触媒成分: (A) 担体物質 (B) 周期表2〜13族元素、ゲルマニウム、スズ又は鉛の有機金属化合物 (C) 遷移金属化合物と反応して触媒活性の遷移金属錯体を形成することができる
カチオンと100以下の非水素原子をもつ相溶性アニオンとを含有し、さらに活性
水素部分を含む1以上の置換基を含有する活性剤化合物、及び (D) 遷移金属化合物 又は
ンの総重量を基準にして15〜40重量%のアルミニウムを含有し、 (a) 前記の担体物質とアルモキサンを不活性雰囲気下、アルモキサンを担体物
質に固定するに足る時間及び温度において加熱し、もって担体付き触媒成分を与
えるが、その場合に担体付き触媒成分中に存在するアルミニウムの約10%以下が
担体付き触媒成分グラム当たり約10 mlのトルエンを用いた90℃、1時間のトルエ
ン抽出で抽出可能であるようにすること、及び (b) 随意にステップ(a)で与えられた産物を1以上の洗浄ステップにかけて、担
体物質に固定されていないアルモキサンを除去すること によりえられる担体物質とアルモキサンとからなる成分、及び (B) 遷移金属化合物 又は (III) IとIIの任意の組合せ。
リマーであって、Mw/Mn比が(GPCによる測定で)約2.5を超え、密度が次の不等式
密度(g/cm3)>0.9611+0.0058 log(I2)−0.00128 log2(I2) を満たし、かつMw/Mn比が次の不等式 Mw/Mn ≦ 11.67 log Mw−43.67 を満たすようなエチレンホモポリマー、及び (B) 成分(A)及び(B)の合計重量を基準にして1〜99重量%の量の、成分Aのもの以
外の同じ特性をもつエチレンホモポリマー、又はエチレン/α-オレフィンコポ
リマー。
給原料流とエチレン重合触媒とを接触させて(B)エチレンホモポリマー又はエチ
レン/α-オレフィン共重合体を合成すること、及び (III) エチレンホモポリマー(A)をエチレンホモポリマー又はエチレン/α-オ
レフィン共重合体(B)と混合して(C)ポリマーブレンド組成物を形成すること。
抵抗、弾性率、又は(PEのCPEへの塩素化のための)物理的形態などのような特定
の機械的性質、及び溶融加工性などのような追加の利点を確保するために高密度
が求められるような用途には重要である。
技術のエチレンホモポリマーよりも高密度であるため第2ブレンド成分により多
くのコモノマーを併合しうる点にある。結果的に、結束分子の形成が増大し、ES
CR、靭性及び衝撃強さなどのような性質が改善される。ブレンドは、合成済みの
成分の乾式混合又は溶融混合により、あるいは並列及び/又は直列配置したオー
トクレーブ又はループ反応器のいずれでもよい複数反応器を用いる反応器内生産
により、えることができる。
鋼球押込み硬度及びノッチ付き衝撃強さが要求される用途に使用することができ
る。そうした用途は、焼結用粉末(これには、高耐磨耗性が要求される機械の歯
車やスキー板の下段面などのような表面の融着成分として超高分子量ポリエチレ
ン粉末が混合される)、CPE原料樹脂、フィルム、吹込み成形・射出成形・回転成
形品、繊維、ケーブル及びワイヤの被覆・外被材、種々のパイプなどであるが、
それだけに限らない。
ればさらに理解が深まろう。
発行元・著作権者とする1989年版「周期表」を参考にしている。また、族番号に
ついても新IUPAC方式採用の同周期表に依拠する。
で、下限値から上限値に至る1単位刻みのすべての値を含む。たとえば、ある成
分の量又は温度、圧力、時間などのようなある工程変数の値は、たとえば1〜90
、好ましくは20〜80、もっと好ましくは30〜70であると述べてあるとすれば、そ
こでは15〜85、22〜68、43〜51、30〜33などのような数値を本明細書に明示に列
挙することが意図されている。1未満の数値については、1単位を適宜0.0001、0.
001又は0.1とみなす。これらは具体的に意図していることの一例にすぎず、下限
値と上限値の間の数値の諸々の可能な組合せが同様に本願に明記されているもの
とみなされるべきである。
アリール置換芳香族基、アリール置換脂環式基、脂肪族置換芳香族基又は脂肪族
置換脂環式基をいう。
酸素結合をもつヒドロカルビル基をいう。
つ基をいう。
結合をもつ基をいう。
。
重合体を形成しているポリマーを指し、コポリマーやターポリマーなどを含む。
明に使用するポリマー組成物の分子量は、ASTM D-1238に準拠したメルトインデ
ックス測定値−Condition 190℃/2.16 kg (旧称“Condition (E)”。別称I2)−
を用いて便宜的に表示している。測定条件190℃/5 kg、10 kg及び21.6 kgの値 (
それぞれI5、I10及びI21.6として知られる)も同様に求めた。メルトインデック
スはポリマーの分子量に反比例する。したがって、分子量が大きくなるほどメル
トインデックス指数は小さくなる。ただし、両者の関係は線形ではない。本書で
開示する新規ポリマー組成物に関して求めた他の有用な物理的特性としてメルト
フロー比(MFR)がある。これはASTM D-1238, Condition 190℃/10 kg(旧称Condit
ion (N)に準拠してI10を求め、えられたI10をI2で割って算出する。これら2メ
ルトインデックス項の比がメルトインデックス比であり、I10/I2として表す。
メルトインデックス比には他にI21.6/I5やI21.6/I2もある。
は、混合多孔度カラムを備えた、使用系温度140℃のWaters 150C高温クロマトグ
ラフ装置によるゲル透過クロマトグラフィー(GPC)で求めた。溶媒は1,2,4-トリ
クロロベンゼンとし、それを用いて0.3重量%の試料溶液を調製し、注入に用いた
。流量は1.0 ml毎分、注入量は100 μlであった。
をその溶離液と共に用いる方法で推計した。換算ポリエチレン分子量は(William
s and Ward, Journal of Polymer Science, Polymer Letters Vol. 6 (621) 196
8に記述されている)ポリエチレンとポリスチレンに関するMark-Houwink係数を適
宜使用して、次の等式を導くという方法で求めた: Mポリエチレン=a*(Mポリスチレン)b
いて慣用の方法で計算した: Mj=(Σwi(Mi j))j 式中wiはGPCカラムから溶出する画分i中の分子量Mi分子の重量分率であり、jは
求める値がMwならj=1、求める値がMnならj=−1である。
販売元: Mitsubishi Kagaku Corp., Japan)によりクロス分別クロマトグラフィ
ーを行った。CFCによる測定は次の要領で実施した。試料20 mgを温度140℃のジ
クロロベンゼン20 mlに溶かし、試料溶液とした。次に、5 mlの試料溶液をガラ
スビーズ充填TREF(昇温溶出分別)カラムに添加し、溶液を1℃毎分の速度で0℃ま
で冷却した。次いで、溶液を加熱して溶液温度を1℃毎分の速度で上昇させ、も
ってコポリマー画分を抽出するようにした。次に、抽出されたコポリマー画分を
GPCカラムShodex AD806MS (製造販売元: 昭和電工(株))ゲル透過クロマトグラフ
ィー(GPC)にかけ、続いてNicolet Manga Spectrometer 550(製造販売元: 米Nico
let Co., Ltd.)使用のフーリエ変換赤外分光法(FT-IR)にかけた。
現される第1温度とその第1温度を10℃上回る第2温度の間の範囲内に収まる任意
温度T(℃)での抽出に関して、任意温度T(℃)と、その任意温度T(℃)で抽出され
るコポリマー画分の分子量分布グラフ上の分子量分布グラフが最大強度のピーク
を示す分子量点との間の関係を最小二乗法で処理して近似直線をえるが、その近
似直線の勾配は次式で定義される範囲内に収まる: {logMp(T1)−logMp(T2)}/(T1−T2) 式中T1とT2は第1温度と第2温度の間の範囲に収まる2つの異なる任意温度であり
、Mp(T1)とMp(T2)はそれぞれ、近似直線上のT1とT2に対応する分子量である。
/フーリエ変換赤外分光法(GPC/FT-IR)にかけるという方法でえた。本発明では
、GPCによる測定は3本のカラム[うち1本はShodex AT-807s(製造販売元: 昭和電
工)、他の2本はTSK-Gel GMH-H6 (製造販売元:東ソー(株))]を直列に接続して使
用する150C ALC/GPC (製造販売元:米Waters Assoc. Co.)を用いて行い、またFT-
IRによる測定は20〜30 mgの試料を温度140℃のトリクロロベンゼン15 mlに溶か
し、えられた溶液500〜1,000 μlをFT-IR装置(Perkin-Elmer 1760X。製造販売元
: 米Perkin Elmer Cetus, Co., Ltd.)に添加するという方法で行った。
ノマー単位数を1,000で割ってえられる値と定義される。たとえば、1,000メチレ
ン単位に対して5コモノマー単位が含まれている場合には、コモノマー含量は0.0
05である。コモノマー含量の値はコモノマー単位に起因する吸光度のメチレン単
位に起因する吸光度に対する比から求められるが、その比はFT-IRによりえられ
る。たとえば、線状α-オレフィンがコモノマーとして使用される場合、メチル
基に起因する2,960 cm-1での吸光度のメチレン基に起因する2,925 cm-1での吸光
度に対する比がFT-IRによりえられる。えられた比から、コモノマー含量が求め
られる。
線として示される。グラフの精度を高めるためには、同じ試料を用いて同じ条件
下でコモノマー含量の測定を繰り返し行うことにより、コモノマー含量を示す多
数の点をえるようにするのが望ましい。本発明では、前記定義のエチレンコポリ
マー分子量範囲内で、えられたコモノマー含量分布グラフの点から最小二乗法に
より近似直線をえている。
次式によった: {C(Mc1)−C(Mc2)}/(logMc1−logMc2) 式中、Mc1とMc2は式(I)を満たすような任意の2つの分子量点(Mc)であり、またC(
Mc1)とC(Mc2)はそれぞれ、近似直線上のMc1とMc2に対応するコモノマー含量であ
る。
ある幾何形状の触媒を用いて、スラリープロセス条件下で製造することができる
。
と固体成分(b)を含んで成る。
使用により触媒的に活性状態にされているか又はその後活性状態にされることに
なる; L1MXpX′q′ という構造式に対応する遷移金属錯体が含まれ、この式中、Mは、η5結合モー
ドで単数又は複数のL基に結合された、+2、+3又は+3の酸化状態をもつ元
素周期律表第4群の金属である。
、ハロ、ハロヒドロカルビル、アミノヒドロカルビル、ヒドロカルビルオキシ、
ジヒドロカルビルアミノ、ジヒドロカルビルホスフィノ、シリル、アミノシリル
、ヒドロカルビルオキシシリル及びハロシリル基から成るグループの中から独立
して選ばれた1〜8個の置換基で任意には置換されているシクロペンタジエニル
−、インデニン、テトラヒドロインデニル、フルオレニル、テトラヒドロフルオ
レニル又はオクタヒドロフルオレニル基であり、そうでなければさらに任意には
2つのかかるL基を、最高20個の非水素原子を含有するヒドロカルバジイル、
ハロヒドロカルバジイル、ヒドロカルビレンオキシ、ヒドロカルビレンアミノ、
シラジイル、ハロシラジイル及び2価のアミノシランの中から選択された2価の
置換基により接合させることもできる。
に結合された原子価をもつ2価のアニオンσ結合配位子基又は、1つの原子価が
Mに結合され1つの原子価がL基に結合されている2価のアニオンσ結合配位子
基であり、このXは最高60の非水素原子を含有する。
物である。 lは1又は2である。 pは0、lは2であり、XがMに結合された1つの原子価及びL基に結合され
た1つの原子価をもつ2価のアニオンσ結合配位子基又は1価のアニオンσ結合
配位子基であるとき、Mの形式酸化状態よりも1だけ少なく、そうでなければP
は、Xが両方の原子価がMに結合された2価のアニオンσ結合配位子基であると
き、形式酸化状態よりl+1だけ少ない。又、 qは0、1又は2である。
た形でのメタロセンベースの遷移金属配位錯体から誘導された単数又は複数のカ
チオン又は双生イオン種の混合物の形で存在すると考えられている。完全にカチ
オンの又は部分的に電荷分離された金属錯体すなわち双性イオン錯体については
以前に、その教示が全体として本書に参考として内含されている米国特許第5,
470,993号及び5,486,632号の中で開示されてきた。
る: L1M+Xp-1A- なお式中、 Mは、+4又は+3の形式酸化状態にある第4群金属であり; L、X、l及びpは、以上で定義された通りであり; A-は、活性化共触媒から誘導された非配位性相溶性アニオンである。
リル)ボランを使用することによって、金属が+4形式酸化状態にある(すなわ
ち両方の原子価がMに結合されている2−ブテン−1,4−ジイル又はそのヒド
ロカルビル置換された誘導体である)、メタロシクロメンテンの形をした第4群
金属ジエン錯体の活性化から結果としてもたらされる。これらの双性イオン錯体
は、以下の構造式に対応すると考えられている: L1M+Xp-1X**−A- なお式中、 Mは、+4の形式酸化状態にある第4群金属であり; L、X、l及びpは、以上で定義づけした通りであり; X**は、メタロシクロペンテンの炭素対金属の結合の1つにおいて開放してい
る環により形成された共役ジエンの2価の残留物であり、A-は、活性化共触媒
から誘導された非配位性相溶性アニオンである。
配位しないか又はそれと弱くしか配位せずα−オレフィンを含む中性ルイス塩基
により変位されるのに充分なほどに不安定な状態にとどまるアニオンを意味して
いる。非配位性アニオンは特定的には、本発明の触媒系の中で電荷平衡アニオン
として機能したとき前記カチオンに対してそのフラグメントを移送せずかくして
中性の4配位金属錯体及び中性の副産物を形成するようなアニオンを意味する。
「相溶性アニオン」は、最初に形成された錯体が分解したとき、中性まで劣化さ
れず、所望のその後の重合と干渉しないアニオンのことである。
フィン、トリフェニルホスフィン及びビス(1,2−ジメチルホスフィン)エタ
ン;Rを前述の定義通りのものとしたP(OR)3;エーテル特にテトラヒドロ
フラン;アミン特にピリジン、ビピリジン、テトラメチル−エチレンジアミン(
TMEDA)及びトリエチルアミン;オレフィン;及び4〜40個の炭素原子を
もつ共役ジエンである。共役ジエンX′基を含む錯体には、金属が+2形式酸化
状態にある錯体が含まれる。
されている:
状態にあるジルコニウム又はハフニウムである。 R3は、各出現毎に独立して、水素、ヒドロカルビル、シリル、ゲルミル、シ
アノ、ハロ及びその組合せから成るグループの中から選択され、前記R3は最高
20個の非水素原子を有し、そうでなければ、隣接するR3基は一緒に2価の誘
導体(すなわちヒドロカルバジイル、シラジイル又はゲルマジイル基)を形成し
、かくして縮合環系を形成する。
り、そうでなければ、2つのX″基が一緒に最高40の非水素原子の2価のアニ
オン配位子基を形成するか又は、合わせて、Mと共にπ錯体を形成する4〜30
個の非水素原子をもつ共役ジエンである(この時点でMは+2の形式酸化状態に
ある)。 R*は、各出現毎に独立して、C1-(?)<読解不能>アルキル又はフェニルであ
り、 Eは、各出現毎に独立して炭素又はケイ素であり、 Xは1〜8までの整数である。
下の構造式に対応するものが含まれる: LMXpX′q(III) なお式中、L、M、X、X′、p及びqは前述の通りである。好ましい金属錯
体は前述のクラス(III)に属し、以下の構造式に対応する:
ハフニウムである。 R3は、各出現毎に独立して、水素、ヒドロカルビル、シリル、ゲルミル、シ
アノ、ハロ及びその組合せから成るグループの中から選択され、前記R3は最高
20の非ハロゲン原子をもち、そうでなければ隣接するR3基が合わせて2価の
誘導体(すなわちヒドロカルバジイル、シラジイル又はゲルマジイル基)を形成
しかくして縮合環素を形成する。
ミノ又はシリル基であり、この基は、最高20の非水素原子を有し、そうでなけ
れば2つのX″基が一緒に中性C5-30共役ジエン又はその2価の誘導体を形成し
; Yは−O−、−S−、−NR*−、−PR*−であり; Zは、SiR* 2、CR* 2、SiR* 2SiR* 2、CR* 2CR* 2、CR*=CR*、
CR* 2SiR* 2又はGeR* 2であり、式中R*は以上で定義した通りであり、 nは、1〜3の整数である。
体である。
ゲルミル及びそれらの混合物の中から選択された基であり、前記基は、最高20
個の非水素原子を含有し; Mはチタン、ジルコニウム又はハフニウムであり; Z、Y、X及びX′は以上で定義づけした通りであり; pは0、1又は2であり、 qはゼロ又は1であり、 さらに以下のことを条件とする;すなわち
ロゲン化物、ヒドロカルビル、ヒドロカルビルオキシ、ビ(ヒドロカルビル)ア
ミド、ジ(ヒドロカルビル)ホスフィド、ヒドロカルビルスルフィド及びシリル
基ならびにハロ−、ジ(ヒドロカルビル)アミノ−、ヒドロカルビルオキシ−及
びビ(ヒドロカルビル)ホスフィノ−置換されたその誘導体から成るグループの
中から選ばれたアニオン配位子であり、このX基は最高20の非水素原子をもつ
。
り、Xは、アリル、2−(N,N−ジメチルアミノメチル)フェニル及び2−(
N,N−ジメチル)−アミノベンジルから成るグループの中から選択された安定
化用アニオン配位子基であり、そうでなければMは+4の形式酸化状態にあり、
M及びXは一緒にメタロシクロペンタン基を形成する。 又pが0であるとき、qは1であり、Mは+2の形式酸化状態にあり、X′は
中性、共役又は非共役ジエンであり、任意には単数又は複数のヒドロカルビル基
で置換されており、このX′は最高40個の炭素原子を有し、Mとπ錯体を形成
する。
錯体である;
CR* 2SiR* 2又はGeR* 2であり、 R*は、各出現毎に独立して、水素又は、ヒドロカルビル、ヒドロカルビルオ
キシ、シリル、ハロゲン化アルキル、ハロゲン化アリル及びその組合せの中から
選ばれた成員であり、このR*は、最高20の非水素原子をもち、任意には、Z
からの2つのR*基(R*が水素でない場合)、又はZからの1つのR*基及びY
からのR*基で1つの環系を形成し、
各出現毎に独立してメチル又はベンジルであり、 pが1であるとき、qはゼロであり、Mは+3の形式酸化状態にあり、Xは2
−(N,N−ジメチル)アミノベンジルであり;そうでなければMは+4の形式
酸化状態にあり、Xは2−ブテン−1,4−ジイルである。
,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン又は1,3−ペンタジエンである。後者
のジエンは、実際にはそれぞれの幾何異性体の混合物である金属錯体の生成を結
果としてもたらす非対称ジエン基の一例である。
ための好ましいプロセスは、1995年4月24日に提出されたUSSN8/4
27,378号の中で開示されている。反応は、−100〜300℃、好ましく
は−78〜100℃、最も好ましくは0〜50℃の温度で好適な非干渉性溶媒中
で行なわれる。金属Mを上位の酸化状態から下位の酸化状態まで還元させるべく
、還元剤を使用することもできる。好適な還元剤の例としては、アルカリ金属、
アルカリ土類金属、アルミニウム及び亜鉛、アルカリ金属及びアルカリ土類金属
の合金例えばナトリウム/水銀アマルガム及びナトリウム/カリウム合金、ナフ
タリン酸ナトリウム、カリウムグラファイト、リチウムアルキル、リチウム又は
カリウムアルカジエニル及びグリニャール試薬がある。
ーテル及び環状エーテル、特にイソブタン、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプ
タン、オクタンといった有枝炭化水素、及びそれらの混合物;シクロヘキサン、
シクロヘプタン、メチルシクロヘキサン、メチルシクロヘプタンといった環状及
び脂環状炭化水素、及びそれらの混合物;ベンゼン、トルエン、及びキシレン、
C1-4ジアルキルエーテル、(ポリ)アルキレングリコールのC1-4ジアルキルエ
ーテル誘導体、及びテトラヒドロフランといった芳香族及びヒドロカルビル置換
芳香族化合物が含まれる。以上のものの混合物も同様に好適である。
ャリアと強く結びつけられ、そのため、触媒の活性種はキャリアから遊離されず
、生成されつつあるポリマーから逃れることはない。
体付き触媒成分においては、遷移金属成分のための賦活物質化合物の活性水素半
分を、有機金属化合物を通して担体物質のヒドロキシル基に結合させることがで
きる。すなわち、賦活物質化合物は、担体物質と強く結びつけられている。かか
る担体付き触媒成分については、WO96/28480にさらに詳しく記述され
ている。
ノキサンが加熱及び/又は洗浄処理により担体物質に固定され、かくしてアルミ
ノキサンは、厳しい条件(90℃トルエン)下で実質的に抽出不能となっている
。かかる担体付き触媒成分については、WO96/16092により詳細に記述
されている。
レン又はスチレン−ジビニルベンゼンのコポリマーといったようなポリオレフィ
ンなどの多孔質樹脂材料、及びシリカ、アルミナ、酸化マグネシウム、酸化チタ
ン、酸化トリウムならびに混合シリカ酸化物といったような第2、3、4、13
又は14群金属の酸化物を内含する固体無機酸化物が含まれる。好適な混合シリ
カ酸化物としては、シリカ−マグネシア又はシリカ−アルミナ混合酸化物といっ
たようなシリカ及び単数又は複数の第2又は13群金属酸化物のものが含まれる
。シリカ、アルミナ、及びシリカと単数又は複数の第2又は13群金属酸化物の
混合酸化物が、好ましい担体物質である。かかる混合酸化物の好ましい例は、シ
リカ−アルミナである。最も好ましい担体物質はシリカである。シリカ粒子の形
状は重要ではなく、シリカは、粒状、球状、集塊状、煙霧又はその他の形をして
いてよい。好適なシリカには、Grace Davison (W. R. Grace & Co の一部門)か
らSD3215.30、SP−9−10046、Davison SyloidTM245、Davi
son948及びDavison 952の名称で、及びDegussa AGからAerosil 812
の呼称で、そしてCrossfieldからES70Xの呼称で入手可能なものが含まれる
。
00m2/gという、B.E.T.方法を用いて窒素多孔率測定によって決定され
た表面積を有する。窒素吸着によって決定されるとおりの担体の細孔容積は、標
準的に最高5cm3/g、有利には0.1〜3cm3/g、好ましくは0.2〜2cm3/
gである。平均粒度は重要ではないが、標準的には0.5〜500μm、好まし
くは1〜200μm、より好ましくは最高100μmである。
又は化学処理に付すことができる。少量の水を含有する担体物質及び脱水した担
体物質の両方を使用することが可能である。標準的な予備熱処理は、不活性雰囲
気内で又は減圧下で10分〜50時間の間30℃〜1000℃の温度で実施され
る。標準的担体物質は、固体担体1gあたり0.1マイクロモル〜好ましくは5
マイクロモル〜、さらに好ましくは0.05mmol〜10mmol以下、好ましくは5m
mol以下のヒドロキシル基、より好ましくはグラムあたり0.5〜2mmolという表
面ヒドロキシル含量を有する。ヒドロキシル含量は、例えば金属アルキル又は金
属水酸化物を用いて、固体担体のスラリに余剰のジアルキルマグネシウムを添加
し既知の技術で溶解状態にとどまっているジアルキルマグネシウムの量を決定す
る滴定技術及び赤外分光光度法といったような既知の技術によって決定される。
この前者の方法は、Sを固体担体として、S−OH+MgR2→S−OMgR+
RHの反応に基づくものである。
以下の手順を含む方法に言及することができる。例外的に述べると、無機固体は
、250℃の窒素ガス流の中で10時間乾燥され、次に乾燥した無機固定の重量
が測定され、これが「W1」により表わされる初期重量として考慮される(単位
:g)。この後、乾燥した無機固体は、1000℃まで加熱され、次に室温まで
冷却される。冷却した無機固体の重量が測定され、初期重量(W1)と冷却した
無機固体の重量の間の差が決定され、これが「ΔW」により表わされる重量損失
(単位:g)として考慮される。ヒドロキシル基の量は以下の公式によって計算
される: ヒドロキシル基の量=(1000×ΔW/18.02)/W1mmol/g.
晶水又は吸着水といったような水を含有しない。無機固体の中に含まれるあらゆ
る水は、1時間以上の間250℃以上で窒素雰囲気内又は減圧下で加熱すること
によって、そこから除去することができる。
が元来周期律表の第2〜13群、ゲルマニウム、錫及び鉛から選択されている有
機金属化合物である担体材料及び(b)(b−1)触媒的に活性である遷移金属
錯体を形成するべく遷移金属化合物と反応する能力をもつカチオン及び(b−2
)最高100個の非水素原子を有し活性水素半分を含む少なくとも1つの置換基
を含有する相溶性カチオンを含む賦活物質化合物を含んで成る担体付き触媒成分
; 及び遷移金属化合物を含む。
、第2−13群の金属、ゲルマニウム、錫及び鉛及び、水素化物、ヒドロカルビ
ルラジカル、トリヒドロカルビルシリルラジカル及びトリヒドロカルビルゲルミ
ルラジカルの中から選ばれた少なくとも2つの置換基を含む化合物である。付加
的な置換基は好ましくは、水素化物、ヒドロカルビルラジカル、トリヒドロカル
ビル置換シリルラジカル、トリヒドロカルビル置換ゲルミルラジカル、及びヒド
ロカルビル−、トリヒドロカルビルシリル−又はトリヒドロカルビルゲルミル−
置換メタロイドラジカルの中から選ばれた単数又は複数の置換基を含む。
属特性を示すリンが含まれる。
素、有機アルミニウム、有機ゲルマニウム、有機錫及び有機鉛化合物及びその混
合物が内含される。さらなる好適な有機金属化合物はアルモキサンである。好ま
しい例は、アルモキサン及びMgR1 2 ZnR1 2、BR1 xR2 y、AIR1 xR2 yと
いう構造式で表わされる化合物(なお式中、R1は各出現毎に、水素化物、ヒド
ロカルビルラジカル、トリヒドロカルビルシリルラジカル、トリヒドロカルビル
ゲルミルラジカル、又はトリヒドロカルビル−、トリヒドロカルビルシリル−又
はトリヒドロカルビルゲルミル−置換メタロイドラジカルであり、R2は独立し
てR1と同じであり、xは2又は3、yは0又は1であり、xとyの和は3であ
る)及びその混合物である。好適なヒドロカルビル半分の例としては、アルキル
、アリル、アルカリル又はアラルキルといったようなそのヒドロカルビル部分内
に1〜20個の炭素原子をもつものがある。好ましいラジカルには、メチル、エ
チル、n−又はi−プロピル、n−、s−又はt−ブチル、フェニル及びベンジ
ルが含まれる。好ましくは、アルミニウム成分は、アルモキサン及び、R1が各
出現毎に独立して水素化物又は1〜20個の炭素原子をもつヒドロカルビルラジ
カルでありxが3であるものとしてAIR1xの構造式をもつアルミニウム化合
物から成るグループの中から選択される。好適なトリヒドロカルビルアルミニウ
ム化合物は、各アルキル又はアリル基が1〜10個の炭素原子をもつトリアルキ
ル又はトリアリルアルミニウム化合物又はその混合物であり、好ましくは、トリ
メチル、トリエチル、トリイソブチルアルミニウムといったようなトリアルキル
アルミニウム化合物である。
酸素原子の連鎖を含有し、かくしてアルミニウムが置換基好ましくはアルキル基
を持っているオリゴマ又はポリマーアルミニウムオキシ化合物である。アルモキ
サンの構造は、環状アルモキサンについては(−Al(R)−O)mという一般
構造式、線状化合物についてはR2Al−O(−Al(R)−O)m−AIR2と
いう一般構造式によって表わされると考えられている。(なお式中、Rは各出現
毎に独立してC1−C10ヒドロカルビル好ましくはアルキル、又はハロゲン化物
であり、mは1〜50の範囲内、好ましくは約4以上の整数である)。アルモキ
サンは標準的に、アルキル基に加えてハロゲン化物又はアルコキシド基を含有し
うるアルミニウムアルキルと水の反応生成物である。例えばトリメチルアルミニ
ウムとトリイソブチルアルミニウムといったような複数の異なるアルミニウムア
ルキル化合物と水を反応させると、いわゆる改質又は混合アロキサンが生成され
る。好ましいアルモキサンは、メチルアルモキサン及びわずかな量のイソブチル
といったようなその他の低級アルキル基で改質されたメチルアルモキサンである
。アルモキサンは一般に、わずかな量乃至は実質的な量の出発アルミニウムアル
キル化合物を含有する。
ルキル間の反応により調製される場合、水は、液体、蒸気又は例えば結晶化水の
形といった固体などのさまざまな形状でアルミニウムアルキルと組合わされ得る
。結晶化水を含有する無機塩とアルミニウムアルキル化合物を接触させることに
よるアルモキサンタイプの化合物の調製のための特定の技術は、米国特許第4,
542,199号で開示されている。特定の好ましい実施形態においては、アル
ミニウムアルキル化合物は、水和アルミナ、シリカ又はその他の物質といったよ
うな再生可能な含水物質と接触させられる。このことは、欧州特許出願第338
,044号の中で開示されている。
か又はそれと共に処理されしかも、担体物質1gにつき少なくとも0.1マイク
ロモル、標準的には少なくとも5マイクロモルの有機金属化合物、有利には担体
物質1gあたりの金属原子グラム単位で表わされた場合に、少なくとも0.5重
量%の金属好ましくはアルミニウムを含有する担体物質を含んで成る。好ましく
は、金属の量は少なくとも2重量パーセントであり、一般的には40重量パーセ
ント以下、より好ましくは30重量パーセント以下である。金属の量が過度に多
い場合、担体付き触媒は高価なものとなる。又過度に少ない場合には、触媒の効
率は低下して許容レベル以下になる。
質(a)を含有し、ここで、処理済み担体物質内に存在する約10パーセント以
下のアルミニウムは、前処理された担体物質1グラムあたり約10mLのトルエ
ンを用いた90°のトルエンでの1時間の抽出において抽出可能である。より好
ましくは、担体付き触媒成分中に存在する約9パーセント以下最も好ましくは約
8パーセント以下のアルミニウムが抽出可能である。これは、担体物質から未固
定アルモキサンを抽出できる希釈剤又は溶媒が使用される重合プロセスにおいて
担体付き触媒が使用される場合に特に有利なことである。可抽出物の量が上述の
レベルより低くなった時点で、使用されている場合の重合溶媒又は希釈剤の中に
拡散しうるアルモキサンの量は非常に低いことから、希釈剤中には担体物質上に
形成されたポリマーと比べて認識できるほどの量のポリマーは全く形成されない
ことになる。希釈剤中に過度に多くのポリマーが形成された場合、ポリマー嵩密
度は許容レベル以下に減少し、反応器の汚損の問題が発生し得る。
量が既知の約1gの担体付き触媒成分又は担体付き触媒を10mLのトルエンに
添加し、次に混合物を不活性雰囲気下で90℃まで加熱する。この温度で懸濁液
を一時間充分に撹拌する。その後、懸濁液をろ過し、このろ過段階を補助するべ
く減圧を加える。固体1グラムあたり3〜5mLの90℃のトルエンを用いて固
体を洗浄する。次に固体を1時間120℃で乾燥させ、その後固体のアルミニウ
ム含量を測定する。初期アルミニウム含量と抽出後のアルミニウム含量の間の差
を初期アルミニウム含量で除しこれに100パーセントを乗じることで、抽出可
能なアルミニウムの量が求められる。
又は担体付き触媒をスラリー化することにより決定できる。スラリーを10〜1
5mLの6Nの硫酸で処理し、その後既知の余剰のEDTAを添加する。その後
、余剰量のEDTAを塩化亜鉛で逆滴定する。
質化合物は、活性水素含有置換基を通して有機金属化合物と反応する。有機金属
化合物のR1基が賦活物質化合物の活性水素半分と組合わさって、中性有機化合
物例えばアルカン又は水素ガスを放出しかくして金属原子を賦活物質化合物残基
と化学的にカップリングさせる、と考えられている。かくして、賦活物質は、担
体物質がひとたび有機金属化合物又は有機金属化合物と賦活物質化合物のアダク
ツで処理された時点で化学的に担体物質に付着された状態となると考えられてい
る。遷移金属化合物を添加した時点で、改善された物性をもつ担体付き触媒が形
成される。
素原子を有し、かつ活性水素半分を含む少なくとも1つの置換基を有する相溶性
アニオンを含有する。活性水素半分を含む好ましい置換基は、以下の構造式(I
)に対応する。 Gg(T−H)r (I)
あり、ここでRはヒドロカルビルラジカル、トリヒドロカルビルシリルラジカル
、トリヒドロカルビルゲルミルラジカル又は水素であり、Hは水素、qは0又は
1、そして好ましくは1であり、rは1〜3の整数、好ましくは1である。多価
の炭化水素ラジカルGはr+1の原子価をもち、1つの原子価は、相溶性アニオ
ン中で元素周期律表の第5〜15群の金属又はメタロイドと共にあり、Gのその
他の単数又は複数の原子価は、r個のT−H基に付着されている。Gの好ましい
例としては、1〜20個の炭素原子、より好ましくは2〜12個の炭素原子を含
有するアルキレン、アリレン、アラルキレン又はアルカリレンラジカルといった
ような2価の炭化水素ラジカルが含まれる。Gの好適な例には、フェニレン、ビ
フェニレン、ナフチレン、メチレン、エチレン、1,3−プロピレン、1,4−
ブチレン、フェニルメチレン(−C6H4−CH2−)が内含される。多価のヒド
ロカルビル部分Gはさらに、活性水素半分のカップリング機能と干渉しないラジ
カルとさらに置換され得る。かかる非干渉性置換基の好ましい例としては、アル
キル、アリル、アルキル−又はアリル置換されたシリル及びゲルミルラジカル及
びフルオロ置換基がある。
であり得、ここでRは好ましくはC1-18好ましくはC1-10ヒドロカルビルラジカ
ル又は水素であり、Hは水素である。好ましいR基は、1〜18個の炭素原子、
より好ましくは1〜12個の炭素原子のアルキル、シクロアルキル、アリル、ア
リルアルキル又はアルキルアリルである。−OH、−SH、−NRH又は−PR
H基は、例えば、C(O)−OH、C(S)−SH、C(O)−NRH、及びC
(O)−PRHといったより大きな官能基の一部であり得る。最も好ましくは、
T−H基は、ヒドロキシル基、−OH又はアミノ基、−NRHである。
及びアミノ−置換アリル、アラルキル、アルカリル又はアルキル基が含まれ、か
つ最も好ましいものは、ヒドロキシフェニル、特に3−及び4−ヒドロキシフェ
ニル基、ヒドロキシトリル、ヒドロキシベンジル(ヒドロキシメチルフェニル)
、ヒドロキシビフェニル、ヒドロキシナフチル、ヒドロキシシクロヘキシル、ヒ
ドロキシメチル、及びヒドロキシプロピル、並びに対応するアミノ置換基、特に
−NRH(ここで、Rは、例えばメチル、エチル、プロピル、i−プロピル、n
−、i−又はt−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、
及びデシル、フェニル、ベンジル、トリル、キシリル、ナフチル、及びビフェニ
ルといったような1〜10個の炭素原子を有するアルキル又はアリルラジカルで
ある)で置換されたものである。
15群元素又は複数の第5−15群要素を含むことができるが、好ましくは、電
荷支持金属又はメタロイドコアを含む単一の配位錯体であり、そのアニオンは嵩
高いものである。相溶性アニオンとは、特定的には、本発明の触媒系の中で電荷
平衡化アニオンとして機能するとき、遷移金属カチオンに対してアニオン置換基
又はそのフラグメントを移送せず、かくして中性遷移金属化合物及び中性金属副
産物を形成するようなアニオンのことを言う。「相溶性アニオン」というのは、
当初形成された錯体が分解するとき中性まで劣化せず、所望のその後の重合と干
渉しないようなアニオンのことである。
メタロイドコアを含む単一の配位錯体を含有するアニオンであり、かかるアニオ
ンは相対的に大きく(嵩高く)、賦活物質化合物及び遷移金属が組合わされた時
点で形成される活性触媒種(遷移金属カチオン)を安定化させる能力をもち、該
アニオンは、オレフィン、ジオレフィン及びアセチレン不飽和化合物又はエーテ
ルやニトリルといったようなその他の中性ルイス塩基により置換されるのに充分
なほどに不安定なものとなる。賦活物質化合物のアニオンのための好適な金属と
しては、アルミニウム、金及び白金があるが、これらに制限されるわけではない
。好適なメタロイドには、ホウ素、リン及びケイ素が含まれるが、これらに制限
されるわけではない。活性水素半分を含む置換基及び単一のホウ素原子を含有す
る配位錯体を含むアニオンを含有する賦活物質化合物が好まれる。
一般式(II)によって表わすことができる: 〔M′m+Qn(Gg(T−H)r)z〕d- (II) なお式中、M′は、元素周期律表の第5〜15群の中から選択された金属又は
メタロイドである。
ジアルキルアミド、ハロゲン化物、ヒドロカルビルオキシド、好ましくはアルコ
キシド及びアリルオキシド、ヒドロカルビル、及びハロ置換ヒドロカルビルラジ
カル、及びヒドロカルビル−及びハロヒドロカルビル−置換有機半金属ラジカル
を含む置換されたヒロドカルビルラジカルから成るグループの中から選択され、
ここでヒドロカルビル部分は、唯一回の出現においてQがハロゲン化物であるこ
とを条件として、1〜20個の炭素をもつ。
′及びTに結合された2価の炭化水素ラジカルである。 Tは、O、S、NR又はPR(ここでRは、炭化水素ラジカル、トリヒドロカル
ビルシリルラジカル、トリヒドロカルビルゲルミルラジカル又は水素)であり;
mは1〜7の整数、好ましくは3であり; nは0〜7の整数、好ましくは3であり; qは0又は1の整数、好ましくは1であり; rは1〜3の整数、好ましくは1であり; zは1〜8の整数、好ましくは1であり; dは1〜7の整数、好ましくは1であり;かつ n+z−m=dである。
造式(III)によって表わすことができる: 〔BQ4-z′(Gg(T−H)r)z′〕d- (III) なお式中 Bは、3という原子価状態にあるホウ素であり、 Z′は、1〜4の整数、好ましくは1であり、 dは1であり、 Q、G、T、H、q及びrは構造式(II)で定義づけれされている通りであ
り、好ましくはz′は1、qは1、rは1である。
例としては、ホウ酸トリフェニル(ヒドロキシフェニル)、ホウ酸ジフェニル−
ジ(ヒドロキシフェニル)、ホウ酸トリフェニル(2,4−ジヒドロキシフェニ
ル)、ホウ酸トリ(p−トリル)−(ヒドロキシフェニル)、ホウ酸トリス(ペ
ンタフルオロフェニル)(ヒドロキシフェニル)、ホウ酸トリス−(2,4−ジ
メチルフェニル)(ヒドロキシフェニル)、ホウ酸トリス−(3,5−ジメチル
フェニル)(ヒドロキシフェニル)、ホウ酸トリス−(3,5−トリフルオロメ
チルフェニル)(ヒドロキシフェニル)、ホウ酸トリス(ペンタフルオロフェニ
ル)(2−ヒドロキシエチル)、ホウ酸トリス(ペンタフルオロフェニル)(4
−ヒドリキシブチル)、ホウ酸トリス(ペンタフルオロフェニル)(4−ヒドロ
キシ−シクロヘキシル)、ホウ酸トリス(ペンタフルオロフェニル)(4−(4
’−ヒドロキシフェニル)フェニル)、及びホウ酸トリス(ペンタフルオロフェ
ニル)(6−ヒドロキシ−2−ナフチル)といったようなホウ素含有アニオンが
ある。非常に好ましい賦活物質錯体はホウ酸トリス(ペンタフルオロフェニル)
(4−ヒドロキシフェニル)である。賦活物質化合物のその他の好ましいアニオ
ンは、Rが好ましくはメチル、エチル又はt−ブチルであるものとしてヒドロキ
シ官能基がアミノNHR官能基により置換されている上述のホウ酸塩である。
部分(b−1)は、遷移金属化合物と反応して触媒活性ある遷移金属錯体特にカ
チオン遷移金属錯体を形成する能力をもつあらゆるカチオンであり得る。カチオ
ン(b−1)及びアニオン(b−2)は、中性賦活物質化合物を提供するような
割合で使用される。好ましくは、カチオンは、ブレンステッド酸性カチオン、カ
ルボニウムカチオン、シリリウムカチオン及びカチオン酸化剤を含むグループの
中から選択される。
であり、(L−H)+はブレンステッド酸である。ブレンステッド酸性カチオン
は、前記カチオンの陽子の移送により遷移金属化合物と反応すると考えられてお
り、かかる陽子は、遷移金属化合物上の配位子の1つと組合わさって中性化合物
を放出する。
の制限的意味のない例としては、トリエチルアンモニウム、トリプロピルアンモ
ニウム、トリ(n−ブチル)アンモニウム、トリメチルアンモニウム、トリブチ
ルアンモニウム、及びトリ(n−オクチル)アンモニウムといったトリアルキル
置換アンモニウムがある。同様に好適であるのは、N,N−ジメチルアニリニウ
ム、N,N−ジエチルアニリニウム、N,N−2,4,6−ペンタメチルアニリ
ニウム、N,N−ジメチルベンジルアンモニウムといったN,N−ジアルキルア
ニリニウムカチオン;及びジ−(i−プロピル)−アンモニウム、ジシクロヘキ
シルアンモニウムといったジアルキルアンモニウムカチオン;そしてトリフェニ
ルホスホニウム、トリ(メチルフェニル)ホスホニウム、トリ(ジメチルフェニ
ル)ホスホニウム、ジメチルスルホニウム、ジエチルスルホニウム、及びジフェ
ニルスルホニウムといったトリアリルホスホニウムカチオンである。
整数である。
ニウム、Ag+及びPb2+が含まれる。
、標準的には処理済みの担体物質1グラムあたり0.1好ましくは1〜2000
マイクロモルの範囲内にある。好ましくは、担体付き触媒又は成分は、処理済み
担体物質1グラムあたり10〜1000マイクロモルの賦活物質化合物を含有す
る。
は、担体付き触媒中の遷移金属グラム原子あたりの賦活物質化合物モル数で0.
05:1〜100:1、好ましくは0.5:1〜20:1、最も好ましくは1:
1〜5:1モルである。割合が低く過ぎると、担体付き触媒の活性は非常に高い
ものとはならず、一方割合が過度に高いと、大量の賦活物質化合物の使用に付随
する比較的高いコストのために触媒の経済性は低くなってしまう。
担体物質を組合わせることによって調製され得る。添加順序は重要ではない。ま
ず最初に有機金属化合物を担体物質又は賦活物質化合物のいずれかと組合わせる
ことができ、その後、賦活物質化合物又は担体物質を添加してもよい。1つの好
ましい実施形態は、炭化水素溶媒といったような好適な溶媒中の有機金属化合物
を担体物質と組合わせることによって、まず有機金属化合物で担体物質を処理す
ることを含む。この処理のための温度、圧力及び接触時間は重要ではないが、一
般的には5分〜48時間、亜大気圧から10バールまで、より好ましくは大気圧
で、−20℃〜150℃まで変動する。通常スラリーは撹拌される。この処理の
後、固体は標準的に溶媒から分離される。有機金属化合物のあらゆる余剰分は、
次に当該技術分野において既知の技術によって除去することができる。この方法
は特に、比較的低い金属荷重を伴う担体物質を得るために適している。
ましくは200℃〜850℃での熱処理に付される。標準的には、この処理は、
10分〜72時間、好ましくは0.5時間〜24時間実施される。その後、熱処
理された担体物質は、有機金属化合物、好ましくはR′が上述の意味をもつもの
としてAIR′3と、好適な希釈剤又は溶媒、好ましくは有機金属化合物が溶解
できる希釈剤又は溶媒中で組合わされる。標準的な溶媒は、5〜12個の炭素原
子をもつ炭化水素溶媒、好ましくは芳香族溶媒、又はヘキサン、ヘプタン、オク
タン、ノナン、デカン及びそれらの異性体といったような6〜10個の炭素原子
をもつ脂肪族溶媒、シクロヘキサンといったような6〜12個の炭素原子をもつ
脂環状溶媒である。
で有機金属化合物と組合わされる。接触時間は重要ではなく、5分〜72時間ま
で変動でき、好ましくは0.5時間〜36時間である。このように処理された担
体物質は次に、好ましくは、賦活物質化合物と接触させられる。
理には、 (A) アルモキサンを担体物質に固定するのに充分な期間又は温度で活性雰囲
気下でアルモキサンを含有する担体物質を加熱する段階; (B) 担体物質に固定されなかったアルモキサンを除去するため、単数又は複
数の洗浄段階にアルモキサン含有担体物質を付す段階、 という段階の一方又は両方が関与し、
0℃のトルエンで1回1時間の抽出において処理済み担体物質内に存在する約1
0パーセント以下のアルミニウムが抽出可能であるような処理済み担体物質を形
成するための加熱段階A及び洗浄段階B内の条件が選択されることになる。担体
物質に付着された大量のアルモキサンは、先行する第1の加熱段階Aと、任意に
はそれに続く洗浄段階Bを用いることで得られる。
の合計重量を基礎として、ゼロから20重量パーセント以下の水、好ましくはゼ
ロから6重量パーセント以下の水を含有する担体物質とアルモキサンを希釈剤の
中で組合わせることによって得ることができる。アルモキサンは望ましくは溶解
した形で使用される。
は、ハロゲン又はヒドロカルビルオキシであり、n*は1〜3の整数である)の
化合物と、担体物質と水の合計重量を基礎として0.5〜50重量パーセント、
好ましくは1〜20重量パーセントの水を含有する担体物質を希釈剤中で組合わ
せることによって得ることができる。好ましくは、n*は3である。R″は各出
現毎に独立してアルキルラジカル、有利には1〜12個の炭素原子を含むアルキ
ルラジカルである。好ましいアルキルラジカルは、メチル、エチル、プロピル、
イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、第3ブチル、ペンチル、イソ−ペンチ
ル、ヘキシル、イソ−ヘキシル、ヘプチル、オクチル、及びシクロヘキシルであ
る。式R”n*AlX”3-n*の極めて好ましい化合物は、トリメチルアルミニウム
、トリエチルアルミニウム及びトリ−イソブチルアルミニウムである。構造式R
″n *AlX″3-n *の化合物と水を反応させることによりアルモキサンがin situ
で調製される場合、R″n *AlX″3-n *対水のモル比は、標準的に10:1〜1
:1、好ましくは5:1〜1:1である。
で、構造式R″n *AlX″3-n *の化合物又はアルモキサンに添加され、そうでな
ければ、構造式R″n *AlX″3-nの化合物又はアルモキサンの溶液が担体物質
に添加される。担体物質は、乾燥状態のままで使用することもできるし、又は炭
化水素希釈剤の中でスラリー化することもできる。脂肪族及び芳香族の両方の炭
化水素を使用することができる。好適な脂肪族炭化水素には、例えばペンタン、
イソペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、イソオクタン、ノナン、イソノ
ナン、デカン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン及びかかる希釈剤のうち
の2つ以上のものの組合せが内含される。芳香族希釈剤の好適な例としては、ベ
ンゼン、トルエン、キシレン、及びその他のアルキル又はハロゲン置換芳香族化
合物がある。最も好ましくは、希釈剤は、芳香族炭化水素、特にトルエンである
。炭化水素媒質中の固体担体の好適な濃度は0.1〜15、好ましくは0.5〜1
0、より好ましくは1〜7重量パーセントの範囲内にある。接触時間及び温度は
重要ではない。好ましくは温度は0℃〜60℃、より好ましくは10℃〜40℃
である。接触時間は15分〜40時間、好ましくは1〜20時間である。
性粉末を得るために希釈剤又は溶媒は好ましくは除去される。これは、好ましく
は、熱、減圧、蒸発又はその組合せを適用することによるもののような、液体の
みを除去して固体上にアルミニウム化合物を残留させる技術によって行なわれる
。望ましい場合には、希釈剤の除去と加熱段階を組合わせることができるが、希
釈剤を漸進的に除去するよう注意を払わなくてはならない。
きな割合(約90重量パーセント以上)が固定されるような形で行なわれる。好
ましくは、加熱段階が使用され、さらに好ましくは加熱段階の後に洗浄段階が続
くような形で使用される。好ましい組合せで使用された場合、両方の段階は、加
熱段階でアルモキサンが担体物質に固定され、洗浄段階では固定されていないア
ルモキサンがかなり除去されるような形で共働する。熱処理のための上位温度は
好ましくは、担体物質が集塊し再分散しにくい塊を形成し始める温度より低く、
アルモキサン分解温度よりも低い。遷移金属化合物c)が熱処理の前に添加され
た時点で、加熱温度は、遷移金属化合物の分解温度より低くなくてはならない。
好ましくは、熱処理は、15分〜24時間の間75℃〜250℃の温度で実施さ
れる。より好ましくは、熱処理は、30分〜4時間、160℃〜200℃の温度
で実施される。100℃で8時間加熱する間ならびに175℃で2時間加熱する
間に優れた結果が得られた。予備実験を用いて、当業者であれば、所望の結果を
提供することになる熱処理条件を規定することができるだろう。同様に、熱処理
に長い時間をかければかけるほど、担体物質に固定されるアルモキサンの量は多
くなるということもわかる。熱処理は、減圧下で又は窒素ガスといったような不
活性雰囲気下で又はその両方で、ただし好ましくは減圧下で実施される。加熱段
階における条件に応じて、洗浄段階を省略できるほどのレベルまで担体物質にア
ルモキサンを固定することができる。
除去されるようなものである。洗浄条件は、未固定アルモキサンが洗浄溶媒中で
可溶となるようなものでなくてはならない。好ましくはすでに熱処理に付された
アルモキサンを含有する担体物質は、好ましくは、0℃〜110℃までの温度で
芳香族炭化水素溶媒を用いる1回〜5回の洗浄段階に付される。より好ましくは
、温度は20℃〜100℃である。芳香族溶媒の好ましい例としては、トルエン
、ベンゼン及びキシレンがある。さらに好ましくは、芳香族炭化水素溶媒はトル
エンである。洗浄処理の終りで、溶媒は、ろ過又は傾潟といったような、溶媒中
に溶解したアルモキサンを除去する技術によって除去される。好ましくは、洗浄
溶媒は、自由流動性粉末を提供するべく除去される。
度スラリー化され、賦活物質化合物と組合わされる。賦活物質化合物は好ましく
は希釈剤の中で使用される。好適な希釈剤としては、炭化水素、ハロゲン化炭化
水素希釈剤が含まれる。触媒特性に対しマイナスの影響を与えるような形で触媒
成分と反応することのないあらゆるタイプの溶媒又は希釈剤を使用することがで
きる。好ましい希釈剤は、トルエン、ベンゼン及びキシレンといった芳香族炭化
水素、及びヘキサン、ヘプタン及びシクロヘキサンといったような脂肪族炭化水
素である。好ましいハロゲン化炭化水素としては、塩化メチレン及び四塩化炭素
が内含されている。温度は重要ではないが、一般に−20℃と賦活物質の分解温
度の間で変動する。標準的な接触時間は数分から数日まで変動する。反応混合物
を撹拌することが好ましい。有利には、望まれる場合、溶解を助けるのに熱を用
いて、賦活物質化合物を溶解させる。高温で賦活物質化合物と有機金属処理され
た担体物質の間での接触を行なうことが望ましいかもしれない。好ましくは、か
かる高い温度は45℃から120℃までである。
活物質化合物を添加する代りに、反応混合物を熱処理済み担体物質又は0.5〜
50重量パーセントの水を含有する担体物質に対し添加するか又はこれらと組合
わせる前に好適な希釈剤の中で有機金属化合物好ましくはアルミニウム成分と賦
活物質化合物を組合わせることができる。
機基は賦活物質アニオン(b−2)内に含有された活性水素半分と反応して反応
又は接触生成物(以下「アダクツ」とも呼ぶ)を形成すると考えられている。例
えば、有機金属化合物がトリアルキルアルミニウムAlR3であり、活性水素含
有半分がG−OHにより表わされる場合、反応生成物は、G−O−AlR2を含
むと考えられるが、一方でさらなるアルカン副産物が形成される。このアダクツ
G−O−AlR2は、シリカ担体物質の場合にはSi−OHであるヒドロキシル
基を含有する担体物質と組合わされたとき、Si−O−Al(R)−O−Gと合
わせて副産物としてアルカンRHを形成すると考えられている。担体付き触媒成
分を調製するこの方法は、非常にスムーズに進行し所望の特性をもつ触媒及び触
媒前駆物質又は成分を提供することがわかった。この反応において使用されるべ
き標準的な割合は、賦活物質アニオン(b−2)内に含有された活性水素半分の
モル当量に対する有機金属化合物のモル数で1:1〜20:1である。
とにより形成されるアダクツの量は重要でない。好ましくは、この量は、担体物
質に固定され得る量を超えない。標準的には、これは、担体物質ヒドロキシル量
によって決定される。利用すべきアダクツの量は好ましくはかかるヒドロキシル
基の等価量以下である。等価量未満の量が好ましくは使用され、より好ましくは
、アダクツのモル数とヒドロキシルといったような表面反応基のモル数の比は0
.01〜1の間、さらに好ましくは0.02〜0.8の間にある。遷移金属化合物
を添加するのに先立ち、特に等価量未満のアダクツが表面反応基との関係におい
て添加される場合には、そうでなければ遷移金属と反応し、かくして同等の触媒
活性を達成するのにそれをより大量に必要とする可能性のあるあらゆる残留表面
反応基を除去するべくアダクツ及び担体物質の反応生成物に対し付加的な量の有
機金属化合物を添加することが好ましい。それを遷移金属化合物に組合わせるに
先立ち、望まれる場合には、アダクツ又は有機金属化合物のあらゆる余剰分を除
去するべく担体付き触媒成分を洗浄することができる。
動性粉末を得るべく、担体物質、有機金属化合物及び賦活物質を含む担体付き触
媒成分を単離することができる。 賦活物質化合物又はそのアダクツを担体物質と組合わせる前に遷移金属化合物
を賦活物質化合物又は有機金属化合物と賦活物質化合物のアダクツと組合わせる
ことは可能であるが、その結果として触媒の効率は低下する。好ましくは、賦活
物質化合物を添加する前に有機金属化合物で処理された担体物質と遷移金属をま
ず組合わせるが、そうでなければ処理済み担体物質と賦活物質が組合わされた後
又は賦活物質アダクツと担体物質が組合わされた後に担体物質を添加する。最も
好ましくは、遷移金属化合物(c)を、ACRアダクツと担体物質を組合せた後
の又は有機金属化合物及び賦活物質化合物で処理された担体物質の反応生成物に
対して、遷移金属化合物(c)を添加する。
状炭化水素又はC6-10芳香族炭化水素といったような好適な溶媒中に溶解させた
状態で用いられる。接触温度は、それが遷移金属及び賦活物質の分解温度より低
いのであれば、接触温度は重要ではない。0℃〜100℃の温度範囲内で優れた
結果が得られる。当該プロセスにおける全ての段階は、酸素及び湿気の無い状態
で行なわれるべきである。
であり、その溶液が標準的に有色である遷移金属化合物が実質的に固体の担体付
き触媒と共にとどまっているということを表わしている。
まれる: − 担体付き触媒成分内に存在する約10パーセント以下のアルミニウムが、担
体付き触媒成分1グラムあたり約10mlのトルエンを用いた90℃のトルエン
による1時間の抽出において抽出可能である、担体物質及びアルモキサンを含む
担体付き触媒成分; − 及び遷移金属化合物。
触媒的に活性な遷移金属化合物を形成する能力をもつカチオン及び(b−2)最
高100個の非水素原子をもち活性水素半分を含む少なくとも1つの置換基を含
有する相溶性アニオン、を含んで成る賦活物質化合物の不在下で使用することが
できる。
ニウム原子と遷移金属原子のモル比は1対5000<原文あやまりあり?>、好
ましくは25対1000、最も好ましくは50対500である。
は、担体物質1グラムあたり0.1〜1000マイクロモルの遷移金属化合物で
ある。好ましくは、担体付き触媒は担体物質1グラムあたり1〜250マイクロ
モルの遷移金属化合物を含有する。
に固定するのに充分な温度及び時間不活性雰囲気下でアルモキサンを含有する担
体物質を加熱しかつ/又は洗浄することによって得ることができる。
固体触媒を保護するのに役立つ不純物スキャベンジャと結びつけて固体触媒を使
用するのが有利であるかもしれない。この目的で好ましい化合物には、以下の式
により表わされる有機アルミニウム化合物、すなわち: RnAlX3-n
C1−C20ヒドロカルビルオキシ基であり、nは1〜3から選択された正の整数
である、 又は以下の式で表わされる有機アルミニウムオキシ化合物、すなわち:
れた正の整数である)が内含される。 有機アルミニウム化合物又は有機アルミニウムオキシ化合物での処理により、
固体触媒系の中に存在する水及び酸素といったような不純物に対する固体触媒系
の耐性を改善することができ、又固体触媒系を、より長期間貯蔵することができ
る。
合物は好ましくは、アルミニウムに関して、前記触媒系内に含まれた遷移金属化
合物1モルにつき0.1〜100モル、より好ましくは1〜30モルの量で使用
される。有機アルミニウムオキシ化合物は好ましくは固体触媒から遷移金属化合
物の脱着をひき起こしうるような量で使用されるべきでないという点に留意され
たい。本発明の方法において使用されるべき固体触媒系は、不活性炭化水素溶媒
中のスラリーの形で貯蔵することもできるし、又は乾燥させて固体形態で貯蔵す
ることもできる。
に、スラリー重合プロセスにおいて有用なものであるが、好適な触媒及び重合条
件が用いられることを条件として、気相重合プロセスも有用であると考えられて
いる。スラリープロセスの説明は、「Encyclopedia of Polymer Science and En
gineering」(John Wiley and Sons)p472−477の第6巻の中に見られる
。
応中に固体触媒系のまわりに形成されつつあるエチレンコポリマーは重合反応中
に融解又は溶解されず、反応中粉末形態を維持する(この粉末形態は、上述の特
定的触媒系を使用することによって達成される)。
100atm、好ましくは3〜30atmであり、重合温度は一般に20〜115℃、
好ましくは50〜105℃である。ただし、重合温度の上限は、生成されたエチ
レンコポリマーが実質的に粉末状態を維持できる温度のうち最高の温度である。
この温度は、生成されるエチレンコポリマーの密度及び使用希釈剤のタイプに左
右される。
ン、イソブタン、イソペンタン、ヘプタン、ヘキサン及びオクタンを含め、標準
的な不活性脂肪族又は芳香族炭化水素溶媒を適切に使用することができる。ヘキ
サン、イソブタン及びイソペンタンが特に好ましい。
うに、より高密度のエチレンホモポリマーを生成するにあたっては、分子量は、
反応系中の水素含量を変更するか又は重合温度を変更することによって制御でき
る。
有用であることが知られているさまざまな添加剤を含有することができる。
og2(I2) さらに、密度は0.915〜0.985、好ましくは0.935〜0.983
、より好ましくは0.945〜0.980g/cm3である。
しくは0.001〜5,000、より好ましくは、0.01〜3,000g/10分
である。
0〜50であり、そうでなければI10/I2比が5〜30、好ましくは5〜28
、より好ましくは5.5〜25である。
くは2.5〜10、より好ましくは2.8から8、最も好ましくは3〜6である
。
その他のエチレンインターポリマー又はホモポリマー(成分B)と共にエチレン
ホモポリマー(成分A)を含む配合組成物である。
る均質な狭組成インターポリマーとエチレンホモポリマーの配合物は、本発明の
もう1つの面である。配合組成物の均質なポリマー及びインターポリマー成分は
、ここでは米国特許3645,992号(Elston)に規定される通りとして定義
づけられる。従って、均質なポリマー及びインターポリマーは、コポリマーが一
定の与えられたインターポリマー分子内でランダムに分布させられているもので
あり、ここでインターポリマー分子のほぼ全てはそのインターポリマー内で同じ
エチレン/コモノマー比を有する。かかるインターポリマーは、不均質なインタ
ーポリマーとして知られインターポリマー分子が同じエチレン/コポリマー比を
もたないものである標準的なチーグラ触媒作用を受けたインターポリマーとは全
く異なっている。均質なポリマーは、同様に、当業者には数多くの長鎖分枝をも
つものとして既知のものである分枝度の高いポリエチレンを結果としてもたらす
高圧遊離ラジカルを触媒とするエチレン重合によって生成されたLDPEとも全
く異っている。
てのコモノマー分布を描写し、均質なインターポリマーが示差走査熱量計(DS
C)により測定された場合に単一の溶融ピークしかもたず、基本的に測定可能な
「線状ポリマー画分」が欠如していることを意味している。
50パーセント以内のコモノマー含量をもつポリマー分子の重量パーセントとし
て定義づけられるそのCDBI(組成分布分枝指数)又はSCBDI(短鎖分枝
分布指数)によっても特徴づけすることができる。1つのポリマーのCDBIは
、例えばWild et al. Journal of Polymer Science, Poly. Phys. Ed. 第20巻
p.441(1982)中、米国特許第4,798,081号(Hazlitt et al中
に記述されているような、又は米国特許5,008,204号(Stehling)中に記
述されているような温度上昇溶出分別(「TREF」と略される)といった当該
技術分野で既知の技術から得たデータに基づいて容易に計算される。CDBIを
計算するための技術は、米国特許5,322,728号(Davey et al.)中及び米
国特許5,246,783号又は米国特許5,089,321号(Chum et al.)の中
で記述されている。本発明において使用される均質の狭組成エチレン/α−オレ
フィンインターポリマーのためのSCBDI又はCDBIは好ましくは約50パ
ーセントよりも大きく、特に約70パーセントよりも大きく、最も好ましくは約
90パーセントより大きい。
EF技術によって測定されるような測定可能な「高密度(又はホモポリマー)画
分が欠如している。均質なインターポリマー及びポリマーは、約15パーセント
(重量百分率)以下、好ましくは約10パーセント(重量百分率)以下そして特
に約5パーセント(重量百分率)以下において炭素1000個あたりメチル2個
以下という分枝度を有する。
ンターポリマーである。実質的に線状のエチレン/α−オレフィンインターポリ
マーは、ここでは、米国特許5,272,236号及び5,278,272号の場合
と同様に定義づけされる。実質的に線状のエチレン/α−オレフィンインターポ
リマーは、一定の与えられたインターポリマー分子内でコモノマーがランダムに
分布しておりインターポリマー分子の実質的に全てがそのインターポリマー内で
同じエチレン/コモノマー比を有することから、同じく均質なインターポリマー
である。
ーという語は、ポリマーが同じく長鎖分枝をも含むことを意味している。長鎖分
枝はここでは、コモノマー内の炭素の合計数から炭素2個を差引きそれに少なく
とも1個の炭素を加えた鎖長として定義づけされる。例えば、エチレン/オクテ
ンの実質的に線状のエチレンインターポリマーの長鎖分枝は、長さが7炭素以上
である(すなわち、8炭素マイナス2で6炭素、プラス1で7炭素の長鎖分枝長
)。長鎖分枝は、ポリマー主鎖の長さとほぼ同じ、長いものでもありうる。長鎖
分枝は、13C核磁気共鳴(NMR)分光分析法を用いて決定され、Randell(Rev . Macromol. Chem. Phys. C29(2&3),p285〜297)の方法を用い
て数量化される。当然のことながら、長鎖分枝は、コモノマー取込みの結果とし
てのみ得られる短鎖分枝と区別すべきであり、従って例えば、エチレン/オクテ
ンの実質的に線状のポリマーの短鎖分枝は長さが6炭素であり、一方その同じポ
リマーのための長鎖分枝の長さは少なくとも7炭素である。
のポリマー主鎖は、炭素1000個あたり0.01〜3長鎖分枝、より好ましく
は0.01〜1長鎖分枝、そして特に0.05〜1長鎖分枝で置換される。
マーは、たとえそれらが比較的狭い分子量分布をもつにせよ、驚くほどすぐれた
加工性をもつ。実質的に線状のエチレン/α−オレフィンインターポリマーは、
以下の方程式によって規定される分子量分布Mw/Mnをもつ: Mw/Mn≦(I10/I2)−4.63
ー比(I10/I2)は、基本的に多分散性指数(すなわち分子量分布(Mw/M
n))とは独立して変動させることができる。このことは、多分散性指数が増大
するにつれてI10/I2値も同様に増大するような流動学的性質をもつ従来の不
均質に分枝した線状ポリエチレン樹脂と対照的である。
ポリマーについては、I10/Is比は長鎖分枝度を表わす。すなわち、I10/Is 比が高くなればなるほど、ポリマー中の長鎖分枝は多くなる。
れるポリマーの見かけの粘度(kpoise単位)である。ガス押出式流動計について
は、Polymer Engineering Science、 第17巻、no.11.p.770(1977
)の中でM.Shida. R.N. Shroff及びL.V.Cancioによって、及びVan Nostrand Rei
nhold Co(1982)によって出版されたJohn Dealy著「溶融プラスチック用流
動計」p97〜99の中で記述されている。全てのGER実験は、190℃の温
度、(250〜500psigの間の窒素圧力で、180°の入口角度で直径が0.
0296インチ、L/Dが20:1のダイを用いて実施される。ここで記述され
る実質的に線状のエチレン/α−オレフィンポリマーについては、PIは、2.
15×106dyne/cm2の見かけせん断応力でGERにより測定された材料の見か
けの粘度(kpoise単位)である。本書で記述されている実質的に線状のエチレン
/α−オレフィンのインターポリマーは0.01kpoise〜50kpoise、好ましく
は約15kpoise以下の範囲内のPIをもつ。本書に記述されている実質的に線状
のエチレン/α−オレフィンポリマーは、長鎖分枝を含まないもののほぼ同じI 2 及びMw/Mnをもつ比較用線状エチレン/α−オレフィンポリマーのPIの
約70パーセント以下のPIをもつ。
係のプロットが使用される。RamamurthyがJournal of Rheology、30(2)、
337〜357、1986に記したことによると、或る一定の臨界流量より上で
は、観察される押出物不整は、表面溶融破壊及び総溶融破壊という2つの主たる
タイプに広く分類される。
喪失から「サメ肌」というさらに重大な形にまで至る。この開示においては、表
面溶融破壊の開始(OSMF)は、押出物の表面粗度が40倍の倍率でしか検出
できる押出物の光沢喪失の始まった時点で特徴づけされる。実質的に線状のエチ
レン/α−オレフィンインターポリマーの表面溶融破壊の開始時における臨界せ
ん断速度は、長鎖分枝を含まないもののほぼ同じI2及びMw/Mnをもつ線状
エチレン/α−オレフィンポリマーの表面溶融破壊の開始時点の臨界せん断速度
よりも少なくとも50パーセント大きい。なおここで用いられる「ほぼ同じ」と
いう語は、各々の値が、比較用線状エチレンポリマーの比較用値の10パーセン
ト以内にあることを意味している。
らせんなどが交番)なものからランダムひずみまでの範囲にわたる。商業的に許
容可能であるためには、(例えばブロー成形フィルム製品の場合)、表面欠陥は
最小限でなくてはならない。表面溶融破壊の開始時点(OSMF)及び総溶融破
壊開始時点(OGMF)での臨界せん断速度は、本書において、GERにより押
出し成形された押出物の表面粗度及び形態の形状に基づいて使用されることにな
る。
CHR(なおここでRはC1−C18の線状、有枝又は環状アルキル基又はC6−C 20 アリル基及びC4−C20線状、有枝又は環状ジエンである)という式により表
わされる化合物から成るグループの中から選択された少なくとも1つのコモノマ
ーとのエチレンインターポリマーであってよい。式H2C=CHRによって表さ
れる化合物の例としては、プロピレン、1−ブテン、1−ペンテン、1−ヘキセ
ン、4−メチル−1−ペンテン、1−オクテン、1−デセン、1−ドデセン、1
−テトラデセン、1−ヘキサデセン、1−オクタデセン、1−エイコセン、ビニ
ルシクロヘキセン及びスチレンが含まれる。C1−C20線状、有枝及び環状デセ
ンの例としては、1,3−ブタジエン、1,4−ペンタジエン、1,5−ヘキサ
ジエン、1,4−ヘキサジエン及びシクロヘキサジエンが含まれる。これらのう
ちで、プロピレン、1−ブテン、1−ペンテン、1−ヘキセン、4−メチル−1
−ペンテン、1−オクテン、1−デセン、1−ドデセン、1−テトラデセン、1
−ヘキサデセン、1−オクタデセン及び1−エイコセンが特に好ましい。
単一部位触媒を用いて調製できる。均質狭組成分布の実質的に線状のエチレン/
α−オレフィンポリマーの調製には、前述の制約された幾何形状の単一部位触媒
の使用が必要とされる。
X置換基を抜き取って不活性の非干渉性対イオンを形成する能力をもつか又は、
触媒成分の双性イオン誘導体を形成するような化合物である。ここで使用するた
めの好適な活性化共触媒には、過フッ素化トリ(アリル)ホウ素化合物そして特
にトリス(ペンタフルオロフェニル)ボラン、非ポリマー相溶性非配位イオン形
成化合物(酸化条件下でのかかる化合物の使用を含む)、特に相溶性非配位アニ
オンのアンモニウム−,ホスホニウム−、オキシニウム、カルボニウム−、シリ
リウム−、又はスルホニウム塩及び相溶性非配位アニオンのフェロセニウム塩が
内含される。好適な活性化技術には、バルク電解の使用が内含される。前述の活
性化共触媒及び技術の組合せも同様に利用することができる。前述の活性化共触
媒及び活性化技術は、以下の参考文献中で異なる金属錯体との関係において以前
に教示されてきている。欧州特許EP−A−277,003、US−A−5,15
3,157、US−A−5,064,802、欧州特許EP−A−468,651及
びEP−A−520,732(1992年5月1日に出願された米国第07/8
76,268号に対応)、及びUS−A−5,350,723。
を供与する能力をもつブレンステッド酸であるカチオン及び相溶性非配位性カチ
オンA+が含まれる。ここで使用されているように、「非配位性」という語は、
第4群金属含有前駆体錯体及びそれから誘導された触媒誘導体に配位しないか又
は、かかる錯体に対し弱くしか配位されず従って中性ルイス塩基によって置換さ
れるのに充分なほど不安定な状態にとどまっているかのいずれかであるアニオン
又は物質を意味する。「相溶性アニオン」というのは、最初形成された錯体が分
解した時点で中性まで劣化せず、その錯体の所望のその後の重合又はその他の使
用と干渉しないアニオンである。
含有するアニオンであり、このアニオンは、2つの成分が組合わされた時点で形
成され得る活性触媒種(金属カチオン)の電荷を平衡化させる能力をもつ。同様
に前記アニオンは、オレフィン、ジオレフィン及びアセチン不飽和化合物又はエ
ーテル又はニトリルといったようなその他の中性ルイス塩基によって置換される
のに充分なほど不安定な状態になくてはならない。好適な金属としては、アルミ
ニウム、金及び白金が内含されるが、これらに制限されるわけではない。好適な
メタロイドには、ホウ素、リン及びケイ素が含まれるが、これらに制限されるわ
けではない。単一の金属又はメタロイド原子を含有する配位錯体を含むアニオン
含有化合物は当然周知のものであり、特にアニオン部分の中に単一のホウ素原子
を含有するような化合物といった数多くのものが市販されている。
ドロカルビル、ヒドロカルビルオキシド、ハロ置換ヒドロカルビル、ハロ置換ヒ
ドロカルビルオキシ及びハロ置換シリルヒドロカルビルラジカル(過ハロゲン化
ヒドロカルビル、過ハロゲン化ヒドロカルビルオキシ−及び過ハロゲン化シリル
ヒドロカルビルラジカルを含む)の中から選択されており、このQは、1回の出
現においてのみQがハロゲン化物であることを条件として最高20個の炭素をも
つ。好適なヒドロカルビルオキシドQ基の例は、米国特許第5,296,433号
の中で開示されている。
荷をもちA-である。本発明の触媒の調製において特に有利なものであるホウ素
を含む活性化共触媒は以下の一般構造式により表現することができる: (L*−H)-(BQ4)- なお式中、 L*は以上で定義づけした通りであり; Bは、3という形式酸化状態にあるホウ素であり;
最高20の非水素原子をもつヒドロカルビル−、ヒドロカルビルオキシ、フッ素
化ヒドロカルビル、フッ素化ヒドロカルビルオキシ、又はフッ素化シリルヒドロ
カルビル基である。 最も好ましくは、Qは、各出現毎に、フッ素化アリル基、特にペンタフルオロ
フェニル基である。
ない例は、以下のもののような三置換アンモニウム塩: ホウ酸トリメチルアンモニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル) ホウ酸トリエチルアンモニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル) ホウ酸トリプロピルアンモニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル) ホウ酸トリ(n−ブチル)アンモニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)
ホウ酸トリ(第2−ブチル)アンモニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル
)
ロフェニル)、 ホウ酸N,N−ジメチル−N−オクタドデシルアンモニウムテトラキス(ペンタ
フルオロフェニル)、 ホウ酸N−メチル−N,N−ジドデシルアンモニウムテトラキス(ペンタフルオ
ロフェニル)、 ホウ酸N−メチル−N,N−ジオクタデシルアンモニウムテトラキス(ペンタフ
ルオロフェニル)、 ホウ酸N,N−ジメチルアニリニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)、
ホウ酸N,N−ジメチルアニリニウムn−ブチルトリス(ペンタフルオロフェニ
ル)、 ホウ酸N,N−ジメチルアニリニウムベンジルトリス(ペンタフルオロフェニル
)、 ホウ酸N,N−ジメチルアニリニウムテトラキス(4−(t−ブチルジメチルシ
リル)−2,3,5,6−テトラフルオロフェニル)、 ホウ酸N,N−ジメチルアニリニウムテトラキス(4−(トリイソプロピルシリ
ル)−2,3,5,6−テトラフルオロフェニル)、
フルオロフェニル)、 ホウ酸N,N−ジエチルアニリニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)、
ホウ酸N,N−ジメチル−2,4,6−トリメチルアニリニウムテトラキス(ペ
ンタフルオロフェニル)、 ホウ酸トリメチルアンモニウムテトラキス(2,3,4,6−テトラフルオロフ
ェニル)、 ホウ酸トリエチルアンモニウムテトラキス(2,3,4,6−テトラフルオロフ
ェニル)、 ホウ酸トリプロピルアンモニウムテトラキス(2,3,4,6−テトラフルオロ
フェニル)、 ホウ酸トリ(n−ブチル)アンモニウムテトラキス(2,3,4,6−テトラフ
ルオロフェニル)、 ホウ酸ジメチル(t−ブチル)アンモニウムテトラキス(2,3,4,6−テト
ラフルオロフェニル)、 ホウ酸N,N−ジメチルアニリニウムテトラキス(2,3,4,6−テトラフル
オロフェニル)、 ホウ酸N,N−ジエチルアニリニウムテトラキス(2,3,4,6−テトラフル
オロフェニル)、及び ホウ酸N,N−ジメチル−2,4,6−トリメチルアニリニウムテトラキス(2
,3,4,6−テトラフルオロフェニル);
)、及び ホウ酸ジシクロヘキシルアンモニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル);
以下のような三置換ホスホニウム塩: ホウ酸トリフェニルホスホニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)、 ホウ酸トリ(o−トリル)ホスホニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)
、 ホウ酸トリ(2,6−ジメチルフェニル)ホスホニウムテトラキス(ペンタフル
オロフェニル);
ホウ酸ジ(2,6−ジメチルフェニル)オキソニウムテトラキス(ペンタフルオ
ロフェニル); 以下のようなニ置換スルホニウム塩: ホウ酸ジフェニルスルホニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)、 ホウ酸ジ(o−トリル)スルホニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)、
及び ホウ酸ビス(2,6−ジメチルフェニル)スルホニウムテトラキス(ペンタフル
オロフェニル); である。
ルアンモニウム、N−メチル−N,N−ジドデシルアンモニウム、N−メチル−
N,N−ジオクタデシルアンモニウム、及びそれらの混合物である。
で表わされる非配位性相溶性アニオンが含まれる: (QXe+)d (Ad-)e なお式中、Oxc-,Ad-及びdは以上で定義づけされた通りである。
ニウム、Ag-又はPb+2が含まれる。Ad-の好ましい実施形態は、特にホウ酸
テトラキス(ペンタフルオロフェニル)といったブレンステッド酸含有活性共触
媒に関して先に定義づけされた通りのアニオンである。
れる非配位性相溶性アニオンとカルベニウムイオンの塩である化合物が含まれる
:
スペンタフルオロフェニル、ホウ酸トリエチルシリリウムテトラキスペンタフル
オロフェニル及びそれらのエーテル置換アダクツである。付加重合触媒のための
活性化共触媒としての以上のシリリウム塩の使用については、1994年9月1
2日に提出されたUSSN08/304,314号中で請求されている。 アルコール、メルカプタン、シラノール及びオキシムとトリス(ペンタフルオ
ロフェニル)ボランとの一部の錯体も同様に有効な触媒賦活物質であり、本発明
のために使用可能である。かかる共触媒は、米国特許5296,433号の中で
開示されている。
酸N,N−ジオクタデシル−N−メチルアンモニウムテトラキスペンタフルオロ
フェニルである。後者の化合物は、ビス(水素化獣脂)メチルアンモニウム化合
物から誘導されたホウ酸塩の混合物の主要成分であり、この混合物は、本書中の
活性化共触媒として使用することができる。
,より好ましくは1:5〜1.5:1,最も好ましくは1:5〜1:1の範囲内
にある。
キサンには、メチルアルミノキサン、プロピルアルミノキサン、イソブチルアル
ミノキサン及びそれらの組合せが含まれる。いわゆる変性メチルアルミノキサン
(MMAO)も同様に共触媒として使用するのに適している。かかる変性アルモ
キサンを調製するための1つの技術は米国特許第4,960,878号(Crapo et
al.) の中で開示されており、その開示は本書に参考として内含されている。
アルミノキサンは同様に、その全てが本書に参考として内含されている米国特許
第4,544,762号(Kaminsky et al.);5,015,749号(Schmidt et
al.);5,041,583号(Sangokoya);5,041,584号(Crapo et al
);及び5,041,585号(Deavenport et al.)の中で開示されている通り
に作ることもできる。アルミノキサンが活性化共触媒として用いられる場合遷移
金属錯体:アルミニウムのモル比は好ましくは1:2000〜2:1、より好ま
しくは1:1000〜1.5:1、最も好ましくは1:500〜1:1の範囲に
ある。
応において周知の条件で、すなわち0〜250℃、好ましくは30〜200℃の
温度及び大気圧から30000気圧以上までの圧力で達成できる。望まれる場合
には、懸濁液、溶液、スラリー、気相、固体状態粉末重合又はその他のプロセス
条件を利用することも可能である。(本発明のエチレンホモポリマーを作るのに
用いられる触媒を調製するのに使用されるもの以外の)固体成分、特にシリカ、
アルミナ又はポリマー(特にポリ(テトラフルオロエチレン)又はポリオレフィ
ン)を利用することもでき、望ましくは、触媒が気相重合プロセスにおいて使用
されるときに利用される。担体は、1:100,000〜1:10,より好まし
くは1:50,000〜1:20、最も好ましくは1:10,000〜1:30の
触媒(金属に基づく)対担体重量比を提供するような量で利用される。
ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン及びその混合物といったような直鎖及
び有枝鎖炭化水素;シクロヘキサン、シクロヘプタン、メチルシクロヘキサン、
メチルシクロヘプタン及びそれらの混合物といったような環状及び脂環状炭化水
素;過フッ素化C4-10アルカンといったような過フッ素化炭化水素、及びベンゼ
ン、トルエン、キシレン及びエチルベンゼンといったような芳香族及びアルキル
置換芳香族化合物がある。好適な溶媒には同様に、エチレン、プロピレン、ブタ
ジエン、シクロペンテン、1−ヘキセン、1−ヘキサン、4−ビニルシクロヘキ
セン、ビニルシクロヘキサン、3−メチル−1−ペンテン、4−メチル−1−ペ
ンテン、1,4−ヘキサジエン、1−オクテン、1−デセン、スチレン、ジビニ
ルベンゼン、アリルベンゼン及びビニルトルエン(全ての異性体を単独又は混和
物の形で含む)が含まれる。以上のものの混合物も同じく好適である。
との配合組成物 エチレンホモポリマーの配合物は、不均質広域組成分布エチレンインターポリ
マーで製造することもできる。不均質成分が均質成分と区別されるのは、均質成
分においては、実質的にすべてのインターポリマー分子がそのインターポリマー
内に同一のエチレン/コモノマー比を有するのに対し、不均質インターポリマー
が、インターポリマー分子が同一のエチレン/コモノマー比を有さないようなイ
ンターポリマーである点にある。本明細書中に使用する「広域組成分布」という
用語は、不均質インターポリマーに関するコモノマー分布の状態を説明し、不均
質インターポリマーが「線形」フラクションを有し、かつ、不均質インターポリ
マーがDSCにより複数の溶融ピークを有する(すなわち、少なくとも2つの別
個の溶融ピークを呈する)ことを意味する。不均質なインターポリマーおよびポ
リマーは、約10パーセントよりも多い、好ましくは約15パーセントよりも多
い、特に約20パーセントよりも多い重量パーセント中、2個以下のメチル/1
000個以下の炭素の分枝度を有する。不均質インターポリマーはまた、25パ
ーセント以下の重量パーセント、好ましくは約15パーセント未満、特に約10
パーセント未満の重量パーセント中に、25個以上のメチル/1000個以上の
炭素の分枝度を有する。
く、または好ましくは、式H2C=CHRによって表される化合物から成る群か
ら選択された少なくとも1つのコモノマーを有するエチレンのインターポリマー
であってもよい。この場合、RはC1−C18直鎖、分枝または環状アルキル基、
または、C6−C20アリール基、および、C4−C20直鎖、分枝または環状ジエン
である。式H2C=CHRによって表される化合物の例は、プロピレン、1−ブ
テン、1−ペンテン、1−ヘキセン、4−メチル−1−ペンテン、1−オクテン
、1−デセン、1−ドデセン、1−テトラデセン、1−ヘキサデセン、1−オク
タデセン、1−エイコセン、ビニルシクロヘキセンおよびスチレンを含む。C4
−C20直鎖、分枝および環状ジエンの例は、1,3−ブタジエン、1,4−ペン
タジエン、1,5−ヘキサジエン、1,4−ヘキサジエンおよびシクロヘキサジ
エンを含む。これらのうち、プロピレン、1−ブテン、1−ペンテン、1−ヘキ
セン、4−メチル−1−ペンテン、1−オクテン、1−デセン、1−ドデセン、
1−テトラデセン、1−ヘキサデセン、1−オクタデセンおよび1−エイコセン
が特に好ましい。エチレンと、1−ブテン、1−ペンテン、1−ヘキセンおよび
1−オクテンとの不均質インターポリマーが最も好ましい。
されてよい。好ましいチーグラー・ナッタ触媒は、マグネシウムアルコキシドを
基剤とする触媒を含む。このような触媒は、米国特許第4,526,943号、
同第4,426,316号、同第4,661,465号、同第4,763,51
2号および同4,544,647号の各明細書により教示されている。このよう
な触媒は、不均質ポリマーがスラリ法条件下で製造される場合に特に有益である
。
有益な、チーグラータイプの触媒の付加的な例は、有機マグネシウム化合物、ア
ルキルハリドまたはアルミニウムハリドまたは塩化水素、および、遷移金属化合
物から誘導された触媒を含む。このような触媒の例は、米国特許第4,314,
912号(Lowery, Jr他)、同第4,547,475号(Glass他)および同第
4,612,300号(Coleman, III)の各明細書に記載されている。
ルビルマグネシウム、例えばマグネシウムジアルキルおよびマグネシウムジアリ
ールを含む。適切なマグネシウムジアルキルは、例えば、特にn−ブチル−se
c−ブチルマグネシウム、ジイソプロピルマグネシウム、ジ−n−ヘキシルマグ
ネシウム、イソプロピル−n−ブチル−マグネシウム、エチル−n−ヘキシルマ
グネシウム、エチル−n−ブチルマグネシウム、ジ−n−オクチルマグネシウム
他を含み、この場合アルキルは1〜20個の炭素原子を有する。適切なマグネシ
ウムジアリールは一例として、ジフェニルマグネシウム、ジベンジルマグネシウ
ムおよびジトリルマグネシウムを含む。適切な有機マグネシウム化合物は、アル
キルおよびアリールマグネシウムアルコキシドおよびアリールオキシド、および
、アリールおよびアルキルマグネシウムハリドを含む。この場合、無ハロゲン有
機マグネシウム化合物がより望ましい。
ロゲン化物および塩化水素がある。適切な非金属ハロゲン化物は式R’Xによっ
て表され、この場合R’は、水素または活性一価有機基であり、Xはハロゲンで
ある。特に適切な非金属ハロゲン化物は、例えば、ハロゲン化水素および活性有
機ハロゲン化物、例えばt−アルキルハリド、アリルハリド、ベンジルハリドお
よび他の活性ヒドロカルビルハリドを含む。この場合ヒドロカルビルは前に規定
した通りである。活性有機ハロゲン化物は、sec−ブチルクロリドのハロゲン
と少なくとも同じ活性を有する、すなわち、sec−ブチルクロリドのハロゲン
と同様に簡単に別の化合物へ移行する、好ましくはt−ブチルクロリドと同じ活
性を有する不安定なハロゲンを含有する、ヒドロカルビルハリドを意味する。有
機モノハリドに加えて、前に規定したような活性を有する有機ジハリド、トリハ
リドおよび他のポリハリドも適切に採用されることは明らかである。好ましい活
性非金属ハロゲン化物は例えば、塩化水素、臭化水素、t−ブチルクロリド、t
−アミルブロミド、アリルクロリド、ベンジルクロリド、クロチルクロリド、メ
チルビニルカルビニルクロリド、α−フェニルエチルブロミドおよびジフェニル
メチルクロリドを含む。最も好ましくは、塩化水素、t−ブチルクロリド、アリ
ルクロリドおよびベンジルクロリドである。
ハロゲン化物を含む。この場合: Mはメンデレーエフ元素周期律表のIIB族、IIIA族またはIVA族の金
属であり、 Rは一価有機基であり、 Xはハロゲンである。 YはMの原子価に相当する値を有し、aは1〜tの値を有する。
この場合: 各Rは前に規定したような個別のヒドロカルビル、例えばアルキルであり、 Xはハロゲンであり;さらに、 aは1〜3の数である。
セスキクロリド、ジエチルアルミニウムクロリド、エチルアルミニウムジクロリ
ド、および、ジエチルアルミニウムブロミドであり、エチルアルミニウムジクロ
リドが特に好ましい。あるいは、金属ハロゲン化物、例えばアルミニウムトリク
ロリド、または、アルミニウムトリクロリドと、アルキルアルミニウムハリドま
たはトリアルキルアルミニウム化合物との組み合わせが適切に採用されてよい。
分、例えばRおよびR’とが、コンベンショナルなチーグラー触媒の作用を阻害
しないならば、適宜、他の有機基であってよいことは明らかである。
備形成することができ、または、現場で形成することができる。現場で形成する
場合、例えば触媒が好ましくは適切な溶剤または反応剤中で、(1)有機マグネ
シウム成分と(2)ハロゲン化物とを混合することにより製造され、次いで他の
触媒成分が製造される。
体付き触媒成分を製造する上での遷移金属成分として採用することができる。典
型的には、遷移金属成分はIVB族、VB族またはVIB族の金属化合物である
。遷移金属成分は一般的に、次の式:TrX’4-q(OR1)q、TrX’4-qR2 q 、VOX’3およびVO(OR1)3によって表される。
VB族の金属、好ましくは、チタニウム、バナジウムまたはジルコニウムであり
、 qは0または4以下の数であり、 X’はハロゲンであり、さらに、 R1は、1〜20個の炭素原子を有するアルキル基、アリール基またはシクロ
アルキル基である。
である。アリール、アラルキルおよび置換アラルキルは1〜20個の炭素原子、
好ましくは1〜10個の炭素原子を含有する。遷移金属化合物がヒドロカルビル
基を含有し、R2がアルキル基、シクロアルキル基、アリール基またはアラルキ
ル基である場合、ヒドロカルビル基は好ましくは、金属炭素結合に対するベータ
位置にH原子を含有することはない。アラルキル基の一例として、メチル、ネオ
ペンチル、2,2−ジメチルブチル、2,2−ジメチルヘキシルが挙げられ、ア
リール基の一例としては、ベンジルが挙げられ、シクロアルキル基の一例として
は、1−ノルボルニルが挙げられる。所望の場合には、これらの遷移金属化合物
の混合物を採用することができる。
i(OC2H5)Cl3、Ti(OC4H9)3Cl、Ti(OC3H7)2Cl2、Ti
(OC6H13)2Cl2、Ti(OC8H17)2Br2およびTi(OC12H25)Cl 3 、Ti(O−i−C3H7)4およびTi(O−n−C4H9)4を含む。
O(OC4H9)3を含む。
(OC2H5)2、ZrCl(OC2H5)3、Zr(OC2H5)4、ZrCl3(OC 4 H9)、ZrCl2(OC4H9)2およびZrCl(OC4H9)3を含む。
くことができる遷移金属化合物の数には何の制約も課せられない。いかなるハロ
ゲニドおよびアルコキシド遷移金属化合物またはその混合物も有益に使用するこ
とができる。前に挙げた遷移金属化合物としては特に、バナジウムテトラクロリ
ド、バナジウムオキシクロリド、チタニウムテトライソプロポキシド、チタニウ
ムテトラブトキシドが好ましく、チタニウムテトラクロリドが最も好ましい。
よい。溶液重合法で用いるのに適したこのような組成物の例は、米国特許第5,
420,090号明細書(Spencer他)に記載されている。
合酸化物であってよい。この酸化物は、吸着湿分が実質的に除去されるように熱
的または化学的に脱水されている。
ロキシル基の数は、本発明の実施に際して利用するのには臨界的ではない。しか
しながら、このような特徴は、触媒組成物を製造する上で、また、触媒組成物の
補助により形成されるポリマーの性能に影響を与える上で、採用されるべき無機
酸化物の量を決定するので、これらの特徴は、本発明の特定の態様に利用するの
に際して無機酸化物を選択する上でしばしば考慮に入れなければならない。一般
的に見て、1〜100ミクロン、好ましくは2〜20ミクロンの範囲内の平均粒
子サイズ;1グラム当たり50〜1,000平方メートルの表面積、好ましくは
1グラム当たり100〜400平方メートルの表面積;および、1グラム当たり
0.5〜3.5cm3の孔容積、好ましくは1グラム当たり0.5〜2cm3の孔
容積を有する無機酸化物を使用することによって、最適な結果が通常得られる。
しい場合がある。表面改質は、特に担体材料、例えばシリカ、アルミナまたはシ
リカ−アルミナを、加水特性を有する有機金属化合物で処理することにより達成
される。より具体的に述べると、担体材料のための表面改質剤は、周期表のII
A族およびIIIA族の金属の有機金属化合物から成る。最も好ましくは、有機
金属化合物は、マグネシウムおよびアルミニウム有機金属、特に、マグネシウム
およびアルミニウムアルキル、または式R1MgR2およびR1R2AlR3によっ
て表されるまたはこれらの混合物から選択される。この場合、同一であるかまた
は異なっていてよいR1、R2およびR3のそれぞれは、アルキル基、アリール基
、シクロアルキル基、アラルキル基、アルコキシド基、アルカジエニル基または
アルケニル基である。炭化水素基R1,R2およびR3は、1〜20個の炭素原子
、好ましくは1〜10個の炭素原子を含有することができる。
することによりもたらされる。適切な溶剤中の有機金属化合物と担体との接触は
、20℃〜100℃の範囲の温度で、30〜180分間、好ましくは60〜90
分間維持される。担体をスラリ化するのに採用される希釈剤は、有機金属化合物
を可溶化するのに採用された溶剤のいずれかであってよく、好ましくは同一の溶
剤である。
するポリオレフィン組成物とエチレンホモポリマーとの配合組成物 エチレンホモポリマーの配合物はまた、最高コモノマー含量を有する組成部分
に現れる分子量最大値を有するポリオレフィン組成物で製造することもできる。
スラリ法条件下でのこれらの組成物の製造法は、1996年5月17日付けの特
願平8−148392号に開示されている。前記ポリマー組成物は、式H2C=
CHRで表される化合物から成る群から選択された少なくとも1つのコモノマー
を有するエチレンのコポリマーから成る。この場合、RはC1−C18直鎖、分枝
または環状アルキル基またはC6−C20アリール基、および、C4−C20直鎖、分
枝または環状ジエンである。
双方は、ゲル透過クロマトグラフィー(GPC)により測定される;
ある: log(Mt)−log(Mc) ≦ 0.5 (IV) この場合: Mtは、プロフィルが最大強度を有するピークを示す、分子量分布プロフィル
上における分子量の点であり、さらに、
布プロフィルは、ゲル透過クロマトグラフィー/フーリエ変換赤外分光(GPC
/FT−IR)にエチレンコポリマーを暴露することにより、コモノマー含量分
布プロフィルと一緒に得られ;さらに、 最小二乗法によるコモノマー含量分布プロフィルから得られた近似直線は、以
下の式(V)によって規定された範囲内で勾配を有する。 0.0005 ≦ {C(Mc1)−C(Mc2)}/(logMc1−logMc2) ≦ 0.05(V
)
点(Mc)であり、 C(Mc1)およびC(Mc2)はそれぞれ、近似直線上のMc1およびMc2に対応
するコモノマー含量であり;
の勾配が以下の式によって規定された範囲内にあることが好ましい: 0.001≦{C(Mc1)−C(Mc2)}/(logMc1−logMc2) ≦ 0.02(IV) この場合、Mc1,Mc2,C(Mc1)およびC(Mc2)は、式(V)に関連して
規定されている通りである。
て、抽出量が最大となる第1の温度と、第1の温度よりも10℃だけ高い第2の
温度との間の範囲内で降下する任意の温度T(℃)における抽出量に関連して、
任意の温度T(℃)と、この任意の温度T(℃)、すなわち、分子量のこの温度
の点において、コポリマーフラクションの分子量分布プロフィルが最大強度を有
するピークを示すような温度で抽出されたコポリマーフラクションの分子量分布
プロフィル上における分子量の点との関係が、近似直線を得るように最小二乗法
によって処理される場合、近似直線は以下の式(VI)によって規定される範囲
内の勾配を有する: -1≦{logMp(T1)−logMp(T2)}/(T1-T2)≦-0.005 (VI)
なる任意の抽出温度T(℃)であり、Mp(T1)およびMp(T2)はそれぞれ、近
似直線上のT1およびT2に対応する分子量であり;そして、
にある: -0.5≦{logMp(T1)−logMp(T2)}/(T1-T2)≦-0.007; 好ましくは、 -0.1≦{logMp(T1)−logMp(T2)}/(T1-T2)≦-0.01; さらに好ましくは、 -0.08≦{logMp(T1)−logMp(T2)}/(T1-T2)≦-0.02; この場合、T1,T2,Mp(T1)およびMp(T2)は式(VI)に関して規
定された通りである。
たように、第1の温度よりも少なくとも10℃低い温度で抽出されたコポリマー
フラクションのそれぞれの量の和が、CECにおける抽出温度の範囲全体におけ
る各温度で抽出されたコポリマーフラクションの、パージを除いた総量に基づい
て、8重量パーセント以下、好ましくは5重量パーセント以下、より好ましくは
3.5重量パーセント以下である点である。
リオレフィン組成物は、前述の制約形状触媒と本発明のエチレンホモポリマーを
製造するのに使用される固形状化合物との存在中でのスラリ重合条件下で、コモ
ノマーとエチレンとを共重合することによって製造される。共重合反応は、本発
明のエチレンホモポリマーを製造するために前に規定された条件を用いて、スラ
リ重合により行われる。
述した不活性溶剤を適切に使用することができる。特に、イソブタン、イソペン
タン、ヘプタン、ヘキサンおよびオクタンが好ましい。
製造されるエチレンコポリマーが重合反応中、粉状態を維持しなければならない
ことを意味する。従って、重合温度の上限は極めて重要であり、コポリマーの溶
融点を下回ったままでなければならない。
選択された少なくとも1つのコポリマーと共重合される。この場合、RはC1−
C18直鎖、分枝または環状アルキル基またはC6−C20アリール基およびC4−C 20 直鎖、分枝または環状ジエンである。式H2C=CHRによって表される化合
物の例は、プロピレン、1−ブテン、1−ペンテン、1−ヘキセン、4−メチル
−1−ペンテン、1−オクテン、1−デセン、1−ドデセン、1−テトラデセン
、1−ヘキサデセン、1−オクタデセン、1−エイコセン、ビニルシクロヘキセ
ンおよびスチレンを含む。C4−C20直鎖、分枝および環状ジエンの例は、1,
3−ブタジエン、1,4−ペンタジエン、1,5−ヘキサジエンおよびシクロヘ
キサジエンを含む。これらのうち、プロピレン、1−ブテン、1−ペンテン、1
−ヘキセン、4−メチル−1−ペンテン、1−オクテン、1−デセン、1−ドデ
セン、1−テトラデセン、1−ヘキサデセン、1−オクタデセンおよび1−エイ
コセンが特に好ましい。
とにより、または、DE3127133.2に記載されたように、重合温度を変
えることにより、制御することができる。
また、本発明の態様である。第2のエチレンホモポリマーは、均質狭域組成分布
エチレンインターポリマー配合成分を作るのに使用される、チーグラー触媒、フ
ィリップスタイプのCr−SiO2触媒、または、制約形状触媒を含む、メタロ
センを基剤とする単一部位触媒によって製造されたポリマーであってよい。また
、第2のホモポリマーとして含まれるのは、初めから異なる特性を有する、本発
明のホモポリマーである。この特性は例えば、I2またはI21/I2またはI10/
I2、または、密度、または、MwまたはMw/Mnを含む。
ポリマーまたはホモポリマーとの配合物が必要とされる場合、各成分は異なる反
応器内で別個に製造し、次いで一緒に配合することができる。
御される重合法を介して、少なくとも1つの反応器を使用して製造されてもよい
。しかしながら好ましくは、配合組成物のより高い密度を有するエチレンインタ
ーポリマーと、付加的なエチレンインターポリマーとは、複合的な反応器スキー
ムで製造され、並列または直列で操作される。このことは米国特許第3,914
,342号明細書(Mitchell)および国際公開第94/00500号パンフレッ
トに開示されている通りである。直列で、すなわち順次操作される少なくとも2
つの反応器が使用されてよい。あるいは、反応器は、並列で、すなわち、別個の
反応器内で重合ステップAおよびBを行い、次いで、複合生産配合物を生じるた
めに、溶融流同士を組み合わせるように操作されてよい。複合反応器スキームの
場合、気相またはスラリ法条件下で、本明細書中に記載した担体付きメタロセン
触媒を使用して、反応器のうちの少なくとも1つがより高い密度を有するエチレ
ンインターポリマーを製造し、所望の特性を有するポリマーを製造するために必
要となる重合温度、圧力および供給濃度で、所要の1つまたは複数の触媒を使用
して、反応器のうちの少なくとも1つが配合物の付加的な成分を製造する。反応
器は、エチレン重合に一般的に使用されるタイプのうちのいずれかであってよく
、その一例として、オートクレーブまたはループ形反応器が含まれる。
ン触媒を使用したエチレンホモポリマーが、スラリ法条件下で第1の反応器内で
ステップAにおいて製造され、供給濃度および温度が調整されている第2の反応
器に、第1の反応器の内容物が引き渡される。これにより、ステップBにおいて
はスラリ法条件下で第2のエチレンホモポリマーが形成されるか、または、コモ
ノマーが添加される場合には、最高コモノマー含量を有するフラクション中で現
れる分子量最大値を有するポリマー配合物のポリオレフィン成分が形成される。
したより高密度のエチレンホモポリマーが、スラリ法条件下で第1の反応器内で
ステップAにおいて製造され、供給濃度および温度が調整されている第2の反応
器に、第1の反応器の内容物が引き渡され、1つまたは複数のチーグラー触媒が
添加される。これにより、ステップBにおいてはスラリ法条件下で、所望の特性
を有するポリマー配合物の不均質エチレンインターポリマー成分が形成される。
したより高密度のエチレンホモポリマーが、スラリ法条件下で第1の反応器内で
ステップAにおいて製造され、供給濃度および温度が調整されている第2の反応
器に、第1の反応器の内容物が入り、本明細書中に記載したメタロセン触媒のう
ちの1つが添加され、これにより、溶液法条件下でステップBにおいて、所望の
特性を有するポリマー配合物の均質成分が形成される。
したより高密度のエチレンホモポリマーが、スラリ法条件下で第1の反応器内で
ステップAにおいて製造され、温度および供給濃度が調整されている第2の反応
器に、第1の反応器の内容物が引き渡され、本明細書中に記載した1つまたは複
数のチーグラー触媒が添加される。これにより、ステップBにおいては溶液法条
件下で、所望の特性を有するポリマー配合物の不均質エチレンインターポリマー
成分が形成される。
登録商標)1010))、ホスフィット(例えばIrgafos(登録商標)1
68)のような添加剤、粘着添加剤(例えばPIB)、粘着防止剤、顔料および
充填剤が、出願人により発見された向上した生成物特性を妨害しない程度に、生
成物中に含まれてもよい。IrganoxおよびIrgafos双方は、チバガ
イギーコーポレーションにより製造され、同社の登録商標である。Irgafo
s168はホスフィット安定剤であり、Irganox1010はヒンダードポ
リフェノール安定剤(例えばテトラキス[メチレン3−(3,5−ジ第三ブチル
−4−ヒドロキシフェニルプロピオネート)]メタンである。
、成分Aと成分Bとの組み合わせ重量に基づいて、1〜99重量パーセント、好
ましくは10〜90重量パーセント、より好ましくは25〜75重量パーセント
、最も好ましくは35〜65重量パーセントである。
は前に説明した通りである。
特性 本発明の配合組成物中に組み込まれた、均質狭域組成分布エチレン/α−オレ
フィンインターポリマーの量は、成分Aと成分Bとの組み合わせ重量に基づいて
、1〜99重量パーセント、好ましくは10〜90重量パーセント、より好まし
くは25〜75重量パーセント、最も好ましくは35〜65重量パーセントであ
る。
フィンインターポリマーの密度は、一般的に0.870〜0.980g/cm3
、好ましくは0.890〜0.965g/cm3、より好ましくは0.915〜
0.955g/cm3である。
フィンインターポリマーの溶融指数(I2)は一般的に、0.0001〜100
00g/10分、好ましくは0.001〜5000g/10分、より好ましくは
0.01〜3000g/10分である。
フィンインターポリマーのI21/I2比は、10〜50、好ましくは12〜45
、より好ましくは15〜40であり、または、本発明の配合組成物中に組み込ま
れた、均質狭域組成分布エチレン/α−オレフィンインターポリマーのI10/I 2 比は、5〜25、好ましくは5.3〜25、より好ましくは5.5〜20であ
る。
フィンインターポリマー(実質的に直鎖状のα−オレフィンインターポリマーを
含む)のMw/Mn比は3未満である。
の特性 本発明の配合組成物中に組み込まれた不均質広域組成分布エチレン/α−オレ
フィンインターポリマーの量は、成分Aと成分Bとの組み合わせ重量に基づいて
、1〜99重量パーセント、好ましくは10〜90重量パーセント、より好まし
くは25〜75重量パーセント、最も好ましくは35〜65重量パーセントであ
る。
フィンインターポリマーの密度は、一般的に、0.870〜0.980g/cm 3 、好ましくは0.890〜0.965g/cm3、より好ましくは0.915〜
0.955g/cm3である。
フィンインターポリマーの溶融指数(I2)は一般的に、0.0001〜100
00g/10分、好ましくは0.001〜5000g/10分、より好ましくは
0.01〜3000g/10分である。
フィンインターポリマーのI21/I2比は、15〜80、好ましくは20〜70
、より好ましくは25〜60であり、または、本発明の配合組成物中に組み込ま
れた不均質広域組成分布エチレン/α−オレフィンインターポリマーのI10/I 2 比は、5〜40、好ましくは5.3〜35、より好ましくは5.5〜30であ
る。
フィンインターポリマーのMw/Mn比は一般的には3〜12、好ましくは3.5
〜10、より好ましくは4〜9である。
値を有するポリオレフィン組成物の特性 本発明の配合組成物中に組み込まれた、最高コモノマー含量を有するフラクシ
ョン中に現れる分子量最大値を有するポリオレフィン組成物の量は、成分Aと成
分Bとの組み合わせ重量に基づいて、1〜99重量パーセント、好ましくは10
〜90重量パーセント、より好ましくは25〜75重量パーセント、最も好まし
くは35〜65重量パーセントである。
ョン中に現れる分子量最大値を有するポリオレフィン組成物の密度は、一般的に
0.870〜0.980g/cm3、好ましくは0.890〜0.965g/c
m3、より好ましくは0.915〜0.955g/cm3である。
ョン中に現れる分子量最大値を有するポリオレフィン組成物の溶融指数(I2)
は一般的に、0.0001〜10000g/10分、好ましくは0.001〜5
000g/10分、より好ましくは0.01〜3000g/10分である。
ョン中に現れる分子量最大値を有するポリオレフィン組成物のI21/I2比は、
15〜65、好ましくは18〜55、より好ましくは20〜50であり、または
、本発明の配合組成物中に組み込まれた、最高コモノマー含量を有するフラクシ
ョン中に現れる分子量最大値を有するポリオレフィン組成物のI10/I2比は、
5〜30、好ましくは5〜28、より好ましくは5.5〜25である。
ョン中に現れる分子量最大値を有するポリオレフィン組成物のMw/Mn比は一般
的には2.5〜10、好ましくは2.8〜8、より好ましくは3〜7である。
成分Bとの組み合わせ重量に基づいて、1〜99重量パーセント、好ましくは1
0〜90重量パーセント、より好ましくは25〜75重量パーセント、最も好ま
しくは35〜65重量パーセントである。
に0.870〜0.980g/cm3、好ましくは0.890〜0.965g/
cm3、より好ましくは0.915〜0.955g/cm3である。
的に、0.0001〜10000g/10分、好ましくは0.001〜5000
g/10分、より好ましくは0.01〜3000g/10分である。
、18〜70、好ましくは20〜60、より好ましくは10〜50であり、また
は、本発明の配合組成物中に組み込まれた、第2のホモポリマーのI10/I2比
は、5〜40、好ましくは5.3〜35、より好ましくは5.5〜30である。
般的には2.5〜12、好ましくは2.8〜10、より好ましくは3〜9である
。
0.970g/cm3である。
/10分、好ましくは0.001〜5000g/10分、より好ましくは0.0
1〜3000g/10分である。
180、より好ましくは40〜150であり、または、本発明の最終配合組成物
のI10/I2比は、5〜100、好ましくは5〜90、より好ましくは5〜80
である。
3〜45、より好ましくは5〜40である。
用のパイプ、地表用被覆膜、ワイヤおよびケーブルの外被、熱成形物品、積み重
ね可能なプラスチックパレット、ブロー成形ボトルおよびコンテナ、回転成形物
品、環境保護用池ライナーのような厚いフィルム用途を含むフィルム、および、
ビニルベンゾシクロブテン架橋を含む。
るものではない。
された。フィルムの引張強度、降伏応力、靭性および2パーセント割線モジュラ
スがASTM D−882に従って測定され、PPT引裂強さがASTM D−
2582に従って測定された。
度が測定された。
に従って測定された。
において、E. PlatiおよびJ. G. Williamsによって記載された手順に従って、臨
界歪みエネルギー解放速度Gcがシャルピーモードで測定された。各温度毎に、
少なくとも6つのサンプルが使用される。サンプルの寸法は125mm x 1
0mm x 10mmである。厚い圧縮成形シートから、バーが機械加工される
。これらのシートを成形するのに用いられた手順は、「熱可塑性プラスチックの
厚いシートのための圧縮成形技術(A compression molding technique for thick
sheets of thermoplastics)」(「Polymer Testing 1」(1980), 3-7、M. J. Ca
woodおよびG. A. H. Smith著)に示唆された手順に変更を加えたものが用いられ
た。
され、側方でTeflon(登録商標)を使用して絶縁された。これらは160
℃まで加熱され、3分間6.7MPaで保持され、次いで1分間の加圧・解放サ
イクルが3回行われた。余分なばりが除去された。次いで材料は180℃まで加
熱され、6.7MPaで約5分間保持され、やはりそれぞれ1分間の加圧・解放
サイクルを3回受けた。最後に溶融物が、1.7MPaの圧力下で凝固させられ
、加熱を切り換えることによって、一晩ゆっくりと冷却される。
表面活性剤溶液中で行われた。テスト温度は50℃または80℃であった。
19頁において、X. LuおよびN. Brownによって記載された手順に従って実施さ
れる、低速亀裂増大テストである。このテストは2.4MPaおよび80℃で行
われる。サンプル寸法は、50mm x 25mm x 10mmであり、Gc
バーと同じシートから機械加工される。
ドで、粘度が測定された。
、コモノマー含量が測定された。
B)を用いて、圧縮成形シートにおいて固有引裂強さが測定された。
される。典型的には、プラックは、ほぼ無圧下で、約177℃で4分間成形され
、次いで、約200psiの圧力下で3分間圧縮される。次いでプラックは、な
おも200psiの圧力下で約8℃/分で冷却するのを許される。成形されたプ
ラックは、約0.005インチの厚さを有する。次いでプラックは鋼尺ダイを使
用して、ドッグボーン状のテスト片に切断される。テスト片は、0.315イン
チ幅で、1.063インチ長さである。ドッグボーンの湾曲部分の始点はサンプ
ルの各端部から0.315インチのところで始まり、緩やかに湾曲して(つまり
テーパして)0.09インチの幅となる。湾曲は、湾曲の始点から0.118イ
ンチの点で終わるので、ドッグボーン形テスト片の内側部分は、0.09インチ
の幅と、0.197インチの長さを有する。
/分のクロスヘッド速度で行われる。歪み硬化の勾配は、結果として得られた応
力/歪み曲線の歪み硬化域に対して平行に線を引くことにより、結果として得ら
れた引張曲線から算出される。サンプルがその初期荷重((つまり応力)通常、
初期荷重の間、伸びを僅かにしか伴わないか、または全く生じない)を引張り、
サンプルが僅かな延伸段を通った(通常、荷重は僅かしか増大しないか、または
全く増大しないが、しかし伸び(すなわち歪み)は増大する)後で、歪み硬化域
が生じる。歪み硬化域では、サンプルの荷重および伸び双方が増大し続ける。荷
重は歪み硬化域において、初期荷重域におけるよりも著しく低速で増大し、伸び
もまた、延伸域におけるよりも著しく低速で増大する。歪み硬化域内の平行線の
勾配が次いで測定される。
(比較実験A〜F)、 b)溶液法条件下で製造された担体なしの制約形状触媒のエチレンホモポリマー
製品(比較実験G〜AB)、 c)スラリ法条件下で製造された担体付き単一部位触媒のエチレンホモポリマー
製品(比較実験AC〜AK)、および d)気相法条件下で製造された担体付き単一部位触媒のエチレンホモポリマー製
品(比較実験AL) と比較して、本発明のエチレンホモポリマーの、I2に対する固有分子密度、お
よび、Mw/Mnに対するMwの関係を示す。
際公開第94/16092号パンフレットに記載された特性を有し、実質的にこ
れに記載されたように、23〜25重量パーセントのアルミニウムを含有して製
造されている(Witco GmbH.ロット番号TA 02794/HL/30)。担体の100gのサ
ンプルが、800mlのヘキサン中で4時間スラリ化された。このヘキサンには
、担体1グラム当たり40マイクロモルのチタニウムを添加するのに十分な制約
形状触媒{(第三−ブチルアミド)ジメチル(テトラメチル−η5−シクロペン
タジエニル)シラン}ジメチル−チタニウム(IV)のIsopar(登録商標
)E(Exxon)溶液が添加された。触媒はプラントの触媒供給容器に移行された
。この容器内で、担体付き触媒はさらにイソペンタンで希釈されることにより、
1ml当たり0.5マイクロモルの濃度を得た。この触媒を、表1において「C
GC/MAO」と略す。
は10リットルであり、約65%の一定レベルで操作され、Lightnin A310混合
ブレードを使用して、800rpmで攪拌された。反応器温度はジャケット冷却
によって一定に保たれ、製造されたポリマーの溶融指数は水素添加を介して制御
された。均質混合を可能にするために、浸漬パイプ脚部を通して液相で、反応器
にすべての供給流が導入された。エチレン流は重合中、一定に保たれ、反応器圧
力は、反応器へ供給される触媒量によって制御された。エチレン流に基づいて、
イソペンタン希釈流が、反応器内に或るパーセンテージの固形分を得るように適
合された。例1の反応器温度は80℃であり、反応器圧力は14.6バールであ
り、エチレン供給速度は1498g/時であり、水素供給速度は0.271Nl
/時であり、コモノマーは使用されなかった。イソペンタン供給速度は3500
g/時であった。
。
/28480号パンフレット、例28に記載されたように製造された制限形状触
媒との組み合わせである。このような触媒を、表1において「CGC/硼酸塩」
と省す。 重合 例8〜14は、例1と同様に、しかし、表2に挙げた方法条件を使用して製造
された。
ナッタ担体付き触媒(表3において「チーグラー」と略す)を使用して行われた
。 重合 重合は、例1に関して記載したのと同様の単一反応器モードを使用して、連続
的なスラリ法で行われた。
造装置で、表4に挙げた実験条件下で行われた。
(テトラメチル−η5−シクロペンタジエニル)シラン}ジメチル−チタニウム
(IV)のIsopar(登録商標)E(Exxon)溶液中の、活性剤トリス(ペ
ンタフルオロフェニル)ボランとイソブチルで改質されたメチルアルモキサン(A
kzo Chemical)との混合物であった。それぞれのモル比は1:3:10であった
。このような触媒を表3において「CGC」と略す。
攪拌式のタンク反応器が使用された。溶融指数の制御のために添加される場合水
素は、希釈混合物中に導入される前にエチレンと組み合わされ、1つの流れにさ
れた。典型的にはこの希釈混合物は、C8〜C10飽和炭化水素(例えばIso
par(登録商標)E、Exxonの登録商標)の混合物から成る。反応器供給混合
物は反応器内に連続的に導入された。遷移金属錯体および助触媒は、同一溶剤中
で溶解されて、組み合わされることにより単一の流れにされ、やはり連続的に反
応器内に注入された。反応器圧力は約30バールに保持された。温度は触媒流に
より、また、冷却ジャケットの使用により制御された。反応器の出口流には、酸
化防止剤(1000ppmのIrganox(登録商標)B−900(Ciba-Geig
yの登録商標)が組み込まれた。この流れは熱交換器に移行され、ここでは、その
温度が270℃に上昇された。次いで流れは脱蔵ユニットに移行され、ここで、
溶剤がポリマーから分離された。次いで溶融ポリマーはペレタイザーに運ばれた
。比較実験G〜ABに使用された反応器条件を表4に挙げる。
リカ(30.0g)のヘプタン(350ml)スラリが、PhMeH2Si(9
.15g;97パーセント;72.8mモル)とNEt3(10.5ml;75
mモル)とで処理された。結果として生じた混合物が12時間、オーバヘッド攪
拌器内でアルゴン雰囲気下で還流された。結果として生じた溶液が、25℃まで
冷却され、フェニルメチルシランで改質されたシリカ製品が、フリット上でアル
ゴン下で捕集され、ペンタン(5 x 30ml)で洗浄され、さらに減圧下で
乾燥された。収量:31.73g。ドリフトIR:v(Si−H)2160cm -1 (s)。29Si CPMAS:δ−6ppm。
ニル)トリス−(ペンタフルオロフェニル)ボレートボレート、[PhMe2N
H]+[(C6F5)3B(C6H4−C6H4−p−OH)]の製造 i) 4−((4’−ブロモフェニル)フェノキシ)トリメチルシランBrC 6 H4−C6H4−p−OSiMe3の合成物 1,1,1,3,3,3−ヘキサメチルジシラザン(75ml;98パーセン
ト純度;0.348モル)がBrC6H4−C6H4−p−OH(30g;0.11
7モル)に添加され、加熱されることにより、4時間還流した。25℃に冷却後
、固形状製品はろ過され、低温ペンタン(50ml;0℃)でリンシングされた
。未完成製品は次いでジエチルエーテル中で溶解され、シリカ(Davison
948、800℃、ペンタン)のフラッシュクロマトグラフィーによって精製さ
れた。製品は白色結晶固形物であった。収量:33.6g(89パーセント)。
ックを有するフラスコ内でTHF(5ml)と混合された。1,2−ジブロモエ
タン(0.25ml;2.87mモル)が次いでフラスコ内にシリンジ注入され
、強く還流するために加熱された。BrC6H4−C6H4−p−OSiMe3(3
.0g;9.34mモル)のTHF溶液(11ml)が還流条件下で20分間に
わたって滴状にシリンジを通して添加された。結果として得られた高温反応混合
物が1.5時間で25℃に冷却された。暗灰色の溶液はろ過され、5−メチル−
1,10−フェナントロリンの存在中で2−ブタノールで滴定された。収量:8
7パーセント(0.76M,10.9ml)。
OSiMe3)]の合成物 50mlのジエチルエーテル中のB(C6F5)3(3.24g;6.33mモ
ル)の溶液が、製造されたばかりのMgBrC6H4−C6H4−p−OSiMe3
(10.4ml;0.76M;8.13mモル)で、室温で処理された。反応混
合物は16時間攪拌され、100mlペンタンが添加され、混合物はさらに30
分間攪拌されて、これにより2層混合物を形成した。上側のペンタン層はデカン
トされ、下側の層はさらにペンタン(50ml)で2回洗浄された。その結果生
じたシロップは減圧下で蒸発されることにより、白色固形製品が得られた。収量
:6.84g(84パーセント)。
ル)トリス−(ペンタフルオロフェニル)ボレート[PhMe2NH]+[(C6
F5)3B(C6H4−C6H4−p−OH)]-の合成物 [MgBr・2THF][(C6F5)3B(C6H4−C6H4−p−OSiMe3 )](23.9mモル)およびNMe2PhHCl水溶液(100ml;0.3
12M;31.2mモル)が室温で、16時間攪拌された。結果として生じたH 2 O溶液が注意深くデカントされ、粘性固形物が、蒸留H2O(6 x 150m
l)で洗浄され、ペンタン(3 x 100ml)でリンシングされ、減圧下で
乾燥された。収量:84パーセント。
フェニル)フェニル)トリス−(ペンタフルオロフェニル)ボレートボレート、
[PhMe2NH]+[(C6F5)3B(C6H4−C6H4−p−O−SiHPh−
Oシリカ)]-)の製造 フェニルシランで改質されたシリカ(4.00g)のエーテル(80ml)ス
ラリが、ジメチルアニリニウム(4−(4’−ヒドロキシフェニル)フェニル)
トリス−(ペンタフルオロフェニル)ボレート[PhMe2NH]+[(C6F5) 3 B(C6H4−C6H4−p−OH)]-(1A2(a〜d)に従って製造された)
(1.20g;1.49mモル)で、25℃でアルゴン雰囲気下で処理された。
溶液は乾燥ボックス内で2日間攪拌され、結果として生じた白色固形物がろ過さ
れ、エーテル(5 x 20ml)およびペンタン(3 x 20ml)で洗浄
され、減圧下で乾燥された。収量:5.04g。ドリフトIR:v(Si−H)
2191cm-1(m):v(N−H)3244cm-1(w)。29Si CPMA
S:−O−SiHPh−Oシリカ(s,−41ppm)。13C CPMAS:N
HMe2Ph(s,47.7ppm)。ICP硼素含量:0.225パーセント
。
ェニルシランで改質されたシリカ担体付きジメチルアニリニウム4−(4’−ヒ
ドロキシフェニル)フェニル)トリス−(ペンタフルオロフェニル)ボレートと
、800mLのヘキサン中の2mモルのトリイソブチルアルミニウム(TIBA
)とを乾燥ボックス内で組み合わせ、この混合物を1Lボンベ中に配置する。次
いで内容物は窒素下で、攪拌触媒容器に移行され、イソペンタンで8Lに希釈さ
れた。この触媒を表3において、「bisCp/硼酸塩」と略す。 重合 例AC〜AHは例1と同様に、しかし、表4に挙げた方法条件を使用して製造
された。
l2が挙げられる。結果として生じた触媒を表3において「IND/硼酸塩」と
省す。 重合 例AIは、例1と同様に、しかし表4に挙げた方法条件を使用して製造された
。
様であり、表4に挙げた方法条件を使用して製造されたホモポリマーの場合と同
様であった。
細書にStehling他によって記載された担体付き単一部位触媒を使用して行われた
。
比較して、本発明のエチレンホモポリマーの、改善された弾性率、鋼球押込硬度
およびノッチ付き衝撃強さを示す。
込硬度および弾性率のそれぞれのテストのためのサンプルを製造するのに用いら
れた。テストの結果を表5に示す。
マーが使用された。
た:AM=Lupolen HM071(BASF)、および、すべてHoechstより、
AN=Hostalen GUR8110、AO=Hostalen GUR4
113、AP=Hostalen GUR4120、AQ=Hostalen
GUR4130、AR=Hostalen GUR4150(表5参照)。
合法、つまり、表6に要約した所望の特性を有する成分を製造するために、水素
とコモノマーとの濃度が調整される方法条件によって製造された。
る本発明の48重量パーセントのエチレンホモポリマーと、0.01085g/
10分のI2と0.9484g/cm3の密度とを有する本発明の52重量パーセ
ントの異なるエチレンホモポリマーとの配合物である。配合物は、Winkworth
2Z−ブレードミキサ内で製造された。この密閉式ミキサは、異なるrpmで回
転する2つの混合用ブレードを備えている。すなわち、前側スクリュは52rp
mで回転し、後ろ側スクリューは30rpmで回転する。作業用量は1.2リッ
トルである。
録商標)B225と乾燥配合された。所望の組成を有する混合物の350gの装
入量が負荷され、10分間190℃で混合された。混合後、ポリマーが除去され
、Heinrich Dreher S20グラインダで粉砕される。グラインドされたポリマ
ーはこうして圧縮成形の準備ができる。
る本発明の48重量パーセントのエチレンホモポリマーと、52重量パーセント
のエチレン/ブテン−1コポリマーとの配合物である。エチレン/ブテン−1コ
ポリマーは、スラリ法条件下で製造され、最高コモノマー含量を有するフラクシ
ョンに現れる分子量最大値を有し、0.00194g/10分のI2と0.92
03g/cm3の密度とを有する。配合物は例17のように製造された。
って測定された種々の配合物の室温・低温衝撃特性の驚くべき劇的な向上を示す
。これは、秀でた応力亀裂抵抗が観察される(PENTにより測定)とともに、
秀でた加工性(粘度数により測定)を維持することを示している。これらの例は
また、成分Bのコモノマー含量が増大するにつれて(その密度によって示す)、
衝撃特性の驚くべき向上を示す。例21〜22および例19(表8)は、GCに
よって測定された種々の配合物の室温・低温衝撃特性、および、成分Bの分子量
の増大に伴う応力亀裂抵抗(PENTにより測定)が、モジュラスを維持しつつ
驚くほど劇的に向上することを示す。
る本発明の48重量パーセントのエチレンホモポリマーと、52重量パーセント
のエチレン/ブテン−1コポリマーとの配合物である。エチレン/ブテン−1コ
ポリマーは、スラリ法条件下で製造され、最高コモノマー含量を有するフラクシ
ョンに現れる分子量最大値を有し、0.00083g/10分のI2と0.91
28g/cm3の密度とを有する。配合物は例17のように製造された。
造された。
る本発明の65重量パーセントのエチレンホモポリマーと、35重量パーセント
のエチレン/ブテン−1コポリマーとの配合物である。エチレン/ブテン−1コ
ポリマーは、スラリ法条件下で製造され、最高コモノマー含量を有するフラクシ
ョンに現れる分子量最大値を有し、0.00083g/10分のI2と0.91
28g/cm3の密度とを有する。配合物は例17のように製造された。
の分子量および密度の広い範囲にわたって粘度(100/秒)によって測定され
た配合物の加工性範囲が、比較材料AS〜AVの加工性範囲と同様であることを
示す。従って、比較例と少なくとも等価の、機械における押出適性を有する材料
が二次加工されることを期待することができる。
部位触媒とを使用して製造された樹脂である。
条件下で製造されたエチレン/オクテンコポリマーであり、これは、登録商標D
owlex 2344EとしてDow Chemical Companyから商業的に入手可能であ
り、表10に要約した特性を有している。
件下で製造されたエチレン/オクテンコポリマーであり、表10に要約した特性
を有している。
条件下で製造されたエチレン/オクテンコポリマーであり、これは、登録商標D
owlex 5056.01としてDow Chemical Companyから商業的に入手可能
であり、表10に要約した特性を有している。
件下で製造されたエチレン/オクテンコポリマーであり、表10に要約した特性
を有している。
用いて製造された。
フェニル)(4−ヒドロキシフェニル)ボレートのサンプルが、90℃まで加熱
されて90℃で30分間維持されていた4リットルのトルエン中に溶解された。
この溶剤に、トリヘキシルアルミニウムの1Mのトルエン溶液のうちの40ml
のアリコートが添加された。その結果として生じた混合物が、1分間90℃で攪
拌された。500℃で3時間、流動窒素中で処理されていた100gのシリカP
−10(日本、Fuji silysiaによって製造販売されている)が、別個の容器内で
、1.7リットルのトルエン中でスラリ化された。このシリカスラリは90℃ま
で加熱された。このシリカスラリに、90℃を保つトリエチルアンモニウムトリ
ス(ペンタフルオロフェニル)(4−ヒドロキシフェニル)ボレートとトリエチ
ルアルミニウムとの前記混合物が添加され、3時間90℃で攪拌された。その結
果生じた物質に、トリヘキシルアルミニウムの1Mトルエン溶液のうちの206
mlのアリコートが添加された。その結果生じた、約5.9リットルのトルエン
中の混合物が90℃で1時間攪拌された。次いで結果として生じた混合物の上澄
みが、デカンテーションにより除去され、余剰のトリヘキシルアルミニウムを除
去するために、90℃のトルエンを使用して洗浄された。デカンテーションは5
回繰り返された。その後、ISOPAR(登録商標)E(米国、Exxon Chemical
Co.によって製造販売されている)中の、チタニウム(N−1,1−ジメチルエ
チル)ジメチル[1−(1,2,3,4,5,−エータ)−2,3,4,5−テ
トラメチル−2,4−シクロペンタジエン−1−イル]シランアミナート[(2
−)N]−(η4−1,3−ペンタジエン)の暗紫色の0.218M溶液のうち
の20mlのアリコートが混合物に添加され、結果として生じた混合物が3時間
攪拌され、これにより、緑色の固体触媒系が得られた。
ンク反応器に連続的に供給された。配合物の各成分毎に所望の特性、分子量およ
び密度を与えるように、ヘキサン、エチレン、水素および1−ブテンの流量が調
整された。例25および26のコポリマー成分Bを製造するのに用いられたブテ
ン流量は、0.11kg/時であった。形成されたスラリ製品は、反応器から連
続的に引き出された。反応器の総圧力は10atmであり、反応器の内部温度は
80℃で維持された。引き出されたスラリは、希釈剤を除去するためにフラッシ
ュタンクに供給され、易流動性の乾燥コポリマー粉末が得られた。
CM−45)を使用して製造された。スクリュは100〜200rpmで回転す
る。混合温度は220℃に設定される(スクリュバレル温度)。
録商標)と、600ppmのステアリン酸カルシウムと、Sandozから入手可能な
1000ppmのP−EPQ(登録商標)と乾燥配合された。
、0.05kg/時であった。
る本発明の50重量パーセントのエチレンホモポリマーと、50重量パーセント
のエチレン/ブテン−1コポリマーとの配合物である。エチレン/ブテン−1コ
ポリマーは、スラリ法条件下で製造され、最高コモノマー含量を有するフラクシ
ョンに現れる分子量最大値を有し、0.012g/10分のI2と0.9295
g/cm3の密度とを有する。
本発明の50重量パーセントのエチレンホモポリマーと、50重量パーセントの
エチレン/ブテン−1コポリマーとの配合物である。エチレン/ブテン−1コポ
リマーは、スラリ法条件下で製造され、最高コモノマー含量を有するフラクショ
ンに現れる分子量最大値を有し、0.012g/10分のI2と0.9295g
/cm3の密度とを有する。
たのと同じ重合および配合法を用いて製造された。ただし、例27および28の
コポリマー成分Bを製造するのに用いられたブテン流量は0.05kg/時であ
り、以下の触媒製造法が用いられた。
日本、Fuji silysiaによって製造販売されている)が、5リットルのヘキサン中
でスラリ化された。その結果生じたスラリに、トリエチルアルミニウムの1Mヘ
キサン溶液のうちの400mlのアリコートが添加された。その結果生じた混合
物が、室温で0.5時間攪拌された。このスラリには、296mlのトルエン中
の20.1g(17.6mモル)のビス(水素化獣脂アルキル)メチルアンモニ
ウムトリス(ペンタフルオロフェニル)(4−ヒドロキシフェニル)ボレートの
溶液が添加された。その後、ISOPAR(登録商標)E(米国、Exxon Chemic
al Co.によって製造販売されている)中の、チタニウム(N−1,1−ジメチル
エチル)ジメチル[1−(1,2,3,4,5,−エータ)−2,3,4,5−
テトラメチル−2,4−シクロペンタジエン−1−イル]シランアミナート[(
2−)N]−(η4−1,3−ペンタジエン)の暗紫色の0.218M溶液のう
ちの20mlのアリコートが混合物に添加され、結果として生じた混合物が3時
間攪拌され、これにより、緑色の固体触媒系が得られた。
本発明の50重量パーセントのエチレンホモポリマーと、50重量パーセントの
エチレン/ブテン−1コポリマーとの配合物である。エチレン/ブテン−1コポ
リマーは、スラリ法条件下で製造され、最高コモノマー含量を有するフラクショ
ンに現れる分子量最大値を有し、0.013g/10分のI2と0.9378g
/cm3の密度とを有する。
本発明の50重量パーセントのエチレンホモポリマーと、50重量パーセントの
エチレン/ブテン−1コポリマーとの配合物である。エチレン/ブテン−1コポ
リマーは、スラリ法条件下で製造され、最高コモノマー含量を有するフラクショ
ンに現れる分子量最大値を有し、0.013g/10分のI2と0.9378g
/cm3の密度とを有する。
ー・ナッタ触媒を使用して製造された。成分Bとして使用されるエチレンコポリ
マーは、本明細書中に記載したように、スラリ法条件下における不均質ポリマー
の製造に特に有益なコポリマーと実質的に同様に、チーグラー・ナッタ触媒を使
用して製造された。チーグラー・ナッタ触媒は、主にマグネシウムジクロリドか
ら成る担体の表面に約2重量パーセントのTiを有していた。
、チーグラー触媒を使用して製造された50重量パーセントのエチレンホモポリ
マーと、50重量パーセントのエチレン/ブテン−1コポリマーとの配合物であ
る。エチレン/ブテン−1コポリマーは、チーグラー触媒を使用してスラリ法条
件下で製造され、0.015g/10分のI2と0.9306g/cm3の密度と
を有する。
、チーグラー触媒を使用して製造された50重量パーセントのエチレンホモポリ
マーと、50重量パーセントのエチレン/ブテン−1コポリマーとの配合物であ
る。エチレン/ブテン−1コポリマーは、チーグラー触媒を使用してスラリ法条
件下で製造され、0.015g/10分のI2と0.9306g/cm3の密度と
を有する。
する、チーグラー触媒を使用して製造された60重量パーセントのエチレンホモ
ポリマーと、40重量パーセントのエチレン/ブテン−1コポリマーとの配合物
である。エチレン/ブテン−1コポリマーは、チーグラー触媒を使用してスラリ
法条件下で製造され、0.015g/10分のI2と0.9306g/cm3の密
度とを有する。
の配合組成物のテスト結果を表12に示す。
ルピー衝撃強さ−20℃により測定)、加工性(I21.6により測定)、およびE
SCR(曲げESCRテストにより測定)のような秀でたバランスを示す。この
ようなバランスは、高分子量成分に優先的にコモノマーを有することにより、最
良に達成される。さらに、例25〜28が、比較例AW〜AYと比較して優れた
特性を呈することが明らかである。
R3は存在ごとに独立に、水素、ヒドロカルビル基、シリル基、ゲルミル基、シア
ノ基、ハロ基及びそれらの組合せからなる群より選択され、該R3は20以下の非水
素原子をもつか、又は隣接R3基が一緒になって、ヒドロカルバジイル、シラジイ
ル又はゲルマジイル基からなる群より選択される二価誘導体を形成し、もって縮
合環系を形成する; 各X”は独立に、ハロ、ヒドロカルビル、ヒドロカルビルオキシ、ヒドロカルビ
ルアミノ又はシリル基であり、該X”基は20以下の非水素原子をもつか、又は2個
のX”基が一緒になって、中性のC5-30共役ジエン又はその二価誘導体を形成する
; Yは-O-、-S-、-NR*-、-PR*-である; ZはSiR*2、CR*2、SiR*2SiR*2、CR*2CR*2、CR*=CR*、CR*2SiR*2又はGeR*2である(
この場合、R*はC1-4アルキル又はフェニルである); 及び nは1〜3の整数である。
ル基、ゲルミル基及びそれらの組合せであり、20以下の非水素原子を含む; Mはチタン、ジルコニウム又はハフニウムである; Z、Y、X及びX’は前記のとおりである; pは0、1又は2であり、また qは0又は1である; ただし、 pが2のとき、qは0、Mは形式酸化状態が+4であり、またXはハリド、ヒドロカルビ
ル、ヒドロカルビルオキシ、ジ(ヒドロカルビル)アミド、ジ(ヒドロカルビル)ホ
スフィド、ヒドロカルビルスルフィド及びシリル基、並びにそれらのハロ置換、
ジ(ジヒドロカルビル)アミノ置換、ヒドロカルビルオキシ置換及びジ(ヒドロカ
ルビル)ホスフィノ置換誘導体からなる群より選択されるアニオン性配位子であ
り、該X基の非水素原子数は20以下である; pが1のとき、qは0、Mは形式酸化状態が+3であり、またXはアリル、2-(N,N-ジメ
チルアミノメチル)フェニル及び2-(N,N-ジメチル)-アミノベンジル基からなる群
より選択される安定化アニオン性配位子であるか、又はMは形式酸化状態が+4で
あり、Xは共役ジエンの二価誘導体であって、MとXが共にメタロシクロペンテン
基を形成する; また pが0のとき、qは1、Mは形式酸化状態が+2であり、またX’は中性の共役又は非共
役ジエンであって、それらは1以上のヒドロカルビル基により置換されていても
よく、該X’は40以下の炭素原子をもち、またMとπ錯体を形成する。
R*は存在のたびに独立に水素、又はヒドロカルビル、ヒドロカルビルオキシ、シ
リル、ハロゲン化アルキル、ハロゲン化アリール基、又はそれらの組合せであり
、該R*は20以下の非水素原子をもち、または、Zに由来する2個のR*基(R*が水素
でない場合)若しくはZに由来するR*基とYに由来するR*基は、1個の環系を形成す
る; pは0、1又は2であり、また qは0又は1である; ただし、 pが2のとき、qは0、Mは形式酸化状態が+4であり、またXは存在のたびに独立にメ
チル又はベンジル基である; pが1のとき、qは0、Mは形式酸化状態が+3であり、またXは2-(N,N-ジメチル)アミ
ノベンジルである; もしくはMは形式酸化状態が+4であり、Xは2-ブテン-1,4-ジ
イルであり、また pが0のとき、qは1、Mは形式酸化状態が+2であり、またX’は1,4-ジフェニル-1,3
-ブタジエン又は1,3-ペンタジエンである。
るフィリップス触媒)(Cr-SiO2)、又は塩化マグネシウム(MgCl2)及び/又はシリ
カ上に固定したチタン系触媒(いわゆるチーグラー触媒)である。しかし、エチレ
ン/αオレフィン共重合用のメタロセン系シングルサイト触媒が比較的最近発表
され、その結果として新しいエチレン共重合体(用語「共重合体」はここでは、
少なくとも2種類のモノマーが重合してコポリマー、ターポリマーなどを含む狭
義の共重合体を形成しているポリマーを指す)が生産されるようになった。この
種のシングルサイト触媒には米国特許第5,153,157号でHlatkyらが開示している
ビス(シクロペンタジエニル)触媒系、及び拘束幾何触媒(constrained geometry catalyst) がある。これらの触媒及びその製法は1990年7月3日出願の米国出願第5
45,403号(EP-A-416,815)、欧州出願EP-A-468,651; 欧州出願EP-A-514,828; 1992
年5月1日出願の米国出願第876,268号(EP-A-520,732)、ならびにUS-A-5,374,696,
US-A-5,470,993; US-A-5,055,438, US-A-5,057,475, US-A-5,096,867, US-A-5,
064,802及びUS-A-5,132,380で開示されている。さらに、前記拘束幾何触媒のあ
る種カチオン性誘導体であって、オレフィン重合触媒としてきわめて有用なもの
がUS-A-5,132,380で開示、特許請求されている。US-A-5,453,410では、カチオン
性拘束幾何触媒とアルモキサンの組合せが好適なオレフィン重合触媒として開示
されている。
されているような担体付きの拘束幾何触媒もまた開発されている。これらの系で
は、活性形態の触媒は担体と強く会合しているため、一般的なスラリ法重合条件
の間中、希釈液中に拡散する可能性がまったくない。
は洗浄処理により固定して、アルモキサンが過酷な条件(90℃、トルエン使用)下
でも実質的に非抽出性であるようにしたもの、及び 2) 拘束幾何錯体 を含む固体成分の調製にある。
ル化合物で処理したシリカ担体物質、及び 2)(遷移金属化合物と反応して触媒活性の遷移金属錯体を形成しうる)カチオンと
、100以下の非水素原子をもち、かつ活性水素部分を含む1以上の置換基をもつ相
溶性アニオンとを含有する活性剤化合物、及び 3) 拘束幾何錯体 から形成することもできる。
る。金属アルキル化合物のアルキル基は活性剤化合物の活性水素部分と結合して
中性有機化合物たとえばアルカン、又は水素ガスを放出し、もって金属原子を活
性剤化合物残基と化学的に結合させると考えられる。こうして、活性剤は担体物
質と化学結合した状態になると考えられる。拘束幾何錯体が添加されると担体付
き触媒が形成されるが、そこでは活性形態の触媒が担体と強く会合し、重合条件
の間中、担体上に留まる。
を含まないし、また担体が付く場合でも塩化マグネシウムではなくシリカが普通
である。よって、えられるポリマーは追加の反応器後ポリマー洗浄ステップを欠
いても、塩化物又はクロムを含む触媒残渣の濃度がずっと低くなる(しばしばゼ
ロ)。
リマー成分と総コモノマー含量が高い高分子量成分とを含有するブレンド組成物
において、前記高分子量成分の分子量分布中のコポリマー画分の分子量が小さく
なれば小さくなるほどコポリマー画分のコモノマー含量が低下するような、また
他面では前記高分子量成分のコポリマー画分の分子量が大きくなれば大きくなる
ほどコポリマー画分のコモノマー含量が上昇するようなブレンド組成物もまた引
き続き求められている。
されている:
り、そうでなければ、2つのX″基が一緒に最高40の非水素原子の2価のアニ
オン配位子基を形成するか又は、合わせて、Mと共にπ錯体を形成する4〜30
個の非水素原子をもつ共役ジエンである(この時点でMは+2の形式酸化状態に
ある)。 R*は、各出現毎に独立して、C1-4 アルキル又はフェニルであり、 Eは、各出現毎に独立して炭素又はケイ素であり、 Xは1〜8までの整数である。
体である。
錯体である;
荷をもちA-である。本発明の触媒の調製において特に有利なものであるホウ素
を含む活性化共触媒は以下の一般構造式により表現することができる: (L*−H)+(BQ4)- なお式中、 L*は以上で定義づけした通りであり; Bは、3という形式酸化状態にあるホウ素であり;
フェニル)フェニル)トリス−(ペンタフルオロフェニル)ボレート、[PhM
e2NH]+[(C6F5)3B(C6H4−C6H4−p−O−SiHPh−Oシリカ
)]-)の製造 フェニルシランで改質されたシリカ(4.00g)のエーテル(80ml)ス
ラリが、ジメチルアニリニウム(4−(4’−ヒドロキシフェニル)フェニル)
トリス−(ペンタフルオロフェニル)ボレート[PhMe2NH]+[(C6F5) 3 B(C6H4−C6H4−p−OH)]-(1A2(a〜d)に従って製造された)
(1.20g;1.49mモル)で、25℃でアルゴン雰囲気下で処理された。
溶液は乾燥ボックス内で2日間攪拌され、結果として生じた白色固形物がろ過さ
れ、エーテル(5 x 20ml)およびペンタン(3 x 20ml)で洗浄
され、減圧下で乾燥された。収量:5.04g。ドリフトIR:v(Si−H)
2191cm-1(m):v(N−H)3244cm-1(w)。29Si CPMA
S:−O−SiHPh−Oシリカ(s,−41ppm)。13C CPMAS:N
HMe2Ph(s,47.7ppm)。ICP硼素含量:0.225パーセント
。
求項を「補正前請求項」と言う。 (イ)「拘束幾何触媒(constrained geometry catalyst)」{該当個所下記(
1)のとおり}、「拘束幾何触媒」{該当個所下記(2)のとおり}および「拘
束幾何錯体」{該当個所下記(3)のとおり}について (1)[請求項32]および[0002] (2)[0002]、[0003]および[0010] (3)[0004]、[0006]よび[0007] 上記訂正個所(1)および(2)に係る外国語でされた国際出願(外国語出願
)の請求の範囲及び明細書における表記は、いずれも「constrained geometry c
atalyst」と記載されていたところ(それぞれの訂正個所に対する、外国語出願
の請求の範囲及び明細書における対応個所は、下記「対応関係について」に示す
。)、誤訳訂正前は「constrained geometry 触媒」と誤訳していました。 「constrained geometry catalyst」に対する訳語は、英和辞典に掲載されて
いませんが、当業界で使用されている訳語は、別添資料1および2のとおり「拘
束幾何触媒」ですので、上記(1)の「constrained geometry 触媒」について
は「拘束幾何触媒(constrained geometry catalyst)」と、また上記(2)の
「constrained geometry 触媒」については「拘束幾何触媒」と誤訳訂正します
。 それに応じて、(3)の「constrained geometry 錯体」を「拘束幾何錯体」
と誤訳訂正します。 (ロ)段落記号[0074]の「C1-4アルキル」について、外国語出願の明細
書のコピーの当該個所(第22頁第1行)が判読不能であったため適切な訳がで
きなかったものを、明確な原文に基づいて訂正するものです。 (ハ)段落記号[0189]の「(L*−H)+(BQ4)-」について、外国語出願
の明細書のコピーの当該個所(第56頁下から2行)が判読不能であったため適
切な訳ができなかったものを、明確な原文に基づいて訂正するものです。 「対応関係について」 下記の対応関係において、誤訳訂正された(一般補正に係る補正事項を含む)
明細書と出願当初明細書とは、一般補正により請求項に関して削除、追加および
補正をしているので(補正前請求項1〜41から、補正後請求項1〜44になっ
ている。)、請求項に関しては一対一の対応関係にありませんが、発明の詳細な
説明の記載に関して、段落記号について対応関係にあります。請求項の訂正(補
正)個所については、追加された請求項などについては、下線を全部に対して付
することが必要かもしれませんが、そのようにすると、訂正(補正)部分が確認
しづらくなりますので、下記のとおり、補正前後の請求項の対応関係を明確にし
ましたので(下記の「2.一般補正に関して、(イ)特許請求の範囲に関する補
正」の項参照)、対応する補正前請求項に対して、訂正(補正)された部分のみ
に下線を付しました。 上記(1)に関して 誤訳訂正された(一般補正に係る補正事項を含む)後の[請求項32]は、補
正前請求項30に相当し、また外国語出願の請求項30に相当します。 同じく段落[0002]中第9行〜第10行は、外国語出願の明細書第1頁第
22行に対応します。 上記(2)に関して 同じく段落[0002]中第14行および第17行は、外国語出願の明細書第
1頁第28行および第2頁第1行に対応します。 同じく段落[0003]中第2行は、外国語出願の明細書第2頁第4行に対応
します。 同じく段落[0010]中第1行は、外国語出願の明細書第4頁第1行に対応
します。 上記(3)に関して 同じく段落[0004]中第5行は、外国語出願の明細書第2頁第13行に対
応します。 同じく段落[0006]中第7行は、外国語出願の明細書第3頁第3行に対応
します。 同じく段落[0007]中第5行は、外国語出願の明細書第3頁第10行に対
応します。 これに関連して、一般補正において、請求項1において「拘束幾何形状(const rained geometry)を有する担体付きシングルサイト触媒の存在下に、スラリ法条 件下で製造したエチレンホモポリマーであって、 」と補正するものですが、「co nstrained geometry 」は先に示した参考資料3の訳語のとおり、「拘束幾何形状
」としました。 2.一般補正に関して (イ)特許請求の範囲に関する補正 請求項1に関する補正は、上記のとおりであり、「エチレンホモポリマー」を
他の請求項に記載された発明との整合性を持たせるために、明細書の記載に基づ
いて規定するものです。 請求項6は、請求項1を引用する形式に改めるものです。 補正前請求項7の、「随意に」と言う用語を用いないようにするために、その
(A)(b)の構成を含まない請求項7とそれを含む請求項8とに分けました。 補正前請求項9の(iii)および(iv)は(ii)と重複するものですので、それを
削除して、請求項10としました。 補正前請求項15および21を削除しました。 補正前請求項25の、「随意に」と言う用語を用いないようにするために、そ
の(A)(b)の構成を含まない請求項24とそれを含む請求項25とに分けま
した。 補正前請求項26の、補正前の請求項7を引用する形式を解消してそれらの構
成を記載すると共に、その請求項7に含まれていた「随意に」と言う用語を用い
ないようにするために、その工程(II)において、洗浄工程を含まない請求項2
6と洗浄工程(a)(2)を含む請求項27とに分けました。 補正前請求項28の、「随意に」と言う用語を用いないようにするために、工
程(I)を第1反応器において、工程(II))を第2反応器でおいておいて行う方
法を請求項29とし、工程(I)を第2反応器において、工程(II)を第1反応器
でおいて行う方法を請求項30しました。 その他に請求項の削除追加などに伴い請求項の番号の変更、引用請求項などを
補正しました。 (ロ)「酸化状態」および「形式酸化状態」について (1)[請求項11]の酸化数は、「oxidation state」の訳語の一つであり(
「『新英和大辞典』(第36刷)株式会社研究社、1993年発行」参照)、適
切なものでありますが、明細書の他の個所([0086]など)においては、同
じく「oxidation state」の訳語である「酸化状態」を採用しています。したが
って、用語の統一を図る意味で、「酸化状態」に統一すべく補正しました。 (2)同じく「見掛け酸化数」([請求項11]、[請求項13]、[請求項1
4]、[請求項15])も他の個所([0066]など)では形式酸化状態とな
っていすので、「形式酸化状態」に統一しました。 (ハ)「一緒になって」など([請求項13]など) 「隣接R3基が共に・・・縮合環系を形成する」など([請求項13]など)に
ついて、「隣接R3基が一緒になって・・・縮合環系を形成する」などとより明瞭
になるように表現しました。 (ニ)「α−オレフィンインターポリマー」 (1)[請求項17]の「α−オレフィンインターポリマー」は補正前[請求項
17]のα−オレフィン共重合体を補正するものですが、「α−オレフィンイン
ターポリマー」については、[0168]、[0170]、[0172]〜[0
175]、[0180]、[0183]、[0256]などに説明されています
。 (ホ)「約」が記載されていた各請求項から「約」を削除しました。 (ヘ)「割線モジュラス」 表7〜10の「2パーセント断面係数」を段落[0283]の「2パーセント
割線モジュラス」の用語に統一すべく補正しました。 (ト)各構造式中「or」を「又は」と補正しました。 (チ)その他、特許請求の範囲および発明の詳細な説明において、「随意に」な
ど曖昧な表現などに関してより明瞭となるように改めました。 (リ)以上の一般補正事項は、当初明細書の記載の範囲内の事項であります。
Claims (41)
- 【請求項1】 次の特性をもつエチレンホモポリマー: a) Mw/Mn比 2.5超 b) メルトインデックス(I2) 0.0001〜10000 g/10分 c) 次の不等式を満たす密度: 密度(g/cm3) > 0.9611+0.0058 log(I2)−0.00128 log2(I2) 及び d) 次の不等式を満たすMw/Mn比: Mw/Mn ≦ 11.67 log Mw−43.67。
- 【請求項2】 次の特性をもつことを特徴とする請求項1のエチレンホモポ
リマー: a) 密度が0.915〜0.985 g/cm3である; b) I10/I2比が5〜30である、又はI21/I2比が15〜65である;及び c) Mw/Mn比が次の不等式を満たす: Mw/Mn ≦ 5.15 log Mw−11.59。 - 【請求項3】 次の特性をもつことを特徴とする請求項1のエチレンホモポ
リマー: a) 密度が0.935〜0.983 g/cm3である; b) Mw/Mn比が2.5〜10である; c) メルトインデックス(I2)が0.001〜5000 g/10分である; d) I10/I2比が5〜28である、又はI21/I2比が18〜55である;及び e) Mw/Mn比が次の不等式を満たす: Mw/Mn ≦ 3.50 log Mw−11.00。 - 【請求項4】 Mw/Mn比が次の不等式を満たす請求項1のエチレンホモポリ
マー: 1.25 log Mw−2.5 ≦ Mw/Mn ≦ 3.50 log Mw−11.0。 - 【請求項5】 次の特性をもつことを特徴とする請求項1のエチレンホモポ
リマー: a) 密度が0.945〜0.980 g/cm3である; b) メルトインデックス(I2)が0.01〜3000 g/10分である; c) I10/I2比が5.5〜25である、又はI21/I2比が20〜50である; d) Mw/Mn比が3〜6である;及び e) 該ホモポリマーの触媒塩化物残渣の含量が約1 ppm未満であり、また触媒
クロム残渣含量が約1 ppm未満である。 - 【請求項6】 次の特性をもつエチレンホモポリマー: a) Mw/Mn比が約2.5超である; b) メルトインデックス(I2)が0.0001〜10000 g/10分である; c) 密度が次の不等式を満たす: 密度(g/cm3) > 0.9611+0.0058 log(I2)−0.00128 log2(I2) 及び d) 該ホモポリマーの触媒塩化物残渣の含量が約1 ppm未満であり、また触媒
クロム残渣含量が約1 ppm未満である。 - 【請求項7】 次の触媒成分を含む触媒によりスラリ法条件下でエチレンを
重合させることを含む方法により製造されるエチレンホモポリマー: (I) 次のものを混合することに由来する担体付き触媒成分: (A) 担体物質 (B) 周期表2〜13族元素、ゲルマニウム、スズ又は鉛の有機金属化合物 (C) 遷移金属化合物と反応して触媒活性の遷移金属錯体を形成することができる
カチオンと100以下の非水素原子をもつ相溶性アニオンとを含有し、さらに活性
水素部分を含む1以上の置換基を含有する活性剤化合物、及び (D) 遷移金属化合物 又は (II) 次のものを混合することに由来する担体付き触媒成分: (A) 担体物質とアルモキサンとからなる成分において、担体物質とアルモキサ
ンの総重量を基準にして15〜40重量%のアルミニウムを含有し、 (a) 前記の担体物質とアルモキサンを不活性雰囲気下、アルモキサンを担体物
質に固定するに足る時間及び温度において加熱し、もって担体付き触媒成分を与
えるが、その場合に担体付き触媒成分中に存在するアルミニウムの約10%以下が
担体付き触媒成分グラム当たり約10 mlのトルエンを用いた90℃、1時間のトルエ
ン抽出で抽出可能であるようにすること、及び (b) 随意にステップ(a)で与えられた産物を1以上の洗浄ステップにかけて、担
体物質に固定されていないアルモキサンを除去すること によりえられる担体物質とアルモキサンとからなる成分、及び (B) 遷移金属化合物 又は (III) IとIIの任意の組合せ。 - 【請求項8】 担体付き触媒成分が、担体付き触媒をオレフィンの存在下に
重合条件に従わせることにより初期重合体の形でえられることを特徴とする請求
項7のエチレンホモポリマー。 - 【請求項9】 次の点を特徴とする請求項7のエチレンホモポリマー: (i) 担体付き触媒成分のアルミニウム原子対遷移金属原子のモル比は1:1〜5,
000:1である; (ii) 担体付き触媒成分は担体物質グラム当たり0.1〜1000マイクロモルの遷
移金属化合物を含む; (iii) 担体付き触媒成分は担体物質グラム当たり0.1〜1000マイクロモルの遷
移金属化合物を含む; (iv) 担体付き触媒成分は担体物質グラム当たり0.1〜1000マイクロモルの遷
移金属化合物を含む; (v) 有機金属化合物はアルモキサンを含むアルミニウム成分、もしくは式AlR 1 x (式中R1は存在ごとに独立に水素であるか、又は炭素原子数1〜20のヒドロカル
ビル基であり、またxは3である)で示されるアルミニウム化合物又は両者の混合
物である; (vi) 成分(I)は次のうちいずれか1つの方法で製造される: (1) 担体物質を100℃〜1,000℃の温度で熱処理すること; 熱処理した担体物質
を有機金属化合物と適当な希釈液又は溶媒中で混合すること; えられた産物を活
性剤化合物と混合し、最後に遷移金属化合物を加えること、又は (2) 活性剤化合物を有機金属化合物と混合して付加物を形成すること; 付加物
を、水を含む、又は100℃〜1,000℃の温度であらかじめ熱処理してある担体物質
と混合し、最後に遷移金属化合物を加えること、又は (3) 含水担体物質を有機金属化合物と混合すること; えられた産物を活性剤化
合物と混合すること; 最後に遷移金属化合物を加えること。 (vii) 担体付き触媒成分(I)において、有機金属化合物は、アルモキサン、式
AlR1 x(式中R1は存在ごとに独立に水素であるか、又は炭素原子数1〜20のヒドロ
カルビル基であり、またxは3である)で示されるアルミニウム化合物及び両者の
混合物からなる群から選択されるアルミニウム成分である; (viii) 成分(I)において、活性剤化合物のカチオン部分は、ブレンステッド
酸カチオン、カルボニウムカチオン、シリリウムカチオン及びカチオン性酸化剤
からなる群より選択され、また活性剤化合物のアニオン部分において、活性水素
部分を含む置換基は次式に相当する: Gq(T−H)r 式中、Gは多価炭化水素基であり、TはO、S、NR又はPRであり(Rはこの場合、ヒ
ドロカルビル基、トリヒドロカルビルシリル基、トリヒドロカルビルゲルミル基
又は水素である)、qは0又は1であり、またrは1〜3の整数である; (ix) 担体付き触媒成分(II)において、アルモキサンはメチルアルモキサンで
ある; (x) 担体付き触媒成分(II)において、担体付き触媒成分中に存在する約9%以
下のアルミニウムが、担体付き触媒成分グラム当たり約10 mlのトルエンを使用
する90℃、1時間でのトルエン抽出で抽出可能である; (xi) 担体付き触媒成分(II)において、担体物質とメチルアルモキサンの合計
重量を基準にして20〜40重量%のアルミニウムが存在する; (xii) 担体付き触媒成分(II)において、加熱ステップ(a)の次に、担体付き触
媒成分を芳香族炭化水素中でスラリにし、スラリを該芳香族炭化水素の還流条件
下で加熱することにより実現されるステップ(b)が続く; (xiii) 担体物質はシリカ、アルミナ、又は (a) シリカ、及び (b) 1以上の2族又は13族金属の酸化物、アルミナ、マグネシア、又はチタニア
の混合酸化物を含む; 及び (xiv) Mw/Mn比は約3.29以上である。 - 【請求項10】 次の点を特徴とする請求項7のエチレンホモポリマー: (i) 成分(I)において、活性剤化合物のアニオン部分が次式に相当する: [M’m+Qn(Gq(T−H)r)z]d- 式中 M’は周期表5〜15族から選択される金属又は半金属元素である; Qは存在ごとに独立に、水素化物基、ジヒドロカルビルアミド基、ハリド基、ヒ
ドロカルビルオキシド基、ヒドロカルビル基及び置換ヒドロカルビル基からなる
群であって、ハロ置換ヒドロカルビル基とヒドロカルビル置換及びハロヒドロカ
ルビル置換有機半金属化合物基を含む群より選択されるが、ヒドロカルビル部分
の炭素原子数は1〜20とし、またQがハリド基である出現回数は1回以内とする; GはM’及びTとの結合価数をr+1とする多価炭化水素基である; TはO、S、NR又はPRである(Rはこの場合、ヒドロカルビル基、トリヒドロカルビ
ルシリル基、トリヒドロカルビルゲルミル基又は水素である); mは1〜7の整数である; nは0〜7の整数である; qは0又は1の整数である; rは1〜3の整数である; zは1〜8の整数である; dは1〜7の整数である; また n+z−m=d; 及び (ii) 担体付き触媒成分(I)又は(II)中の遷移金属化合物が次式に相当する: LMXpX’q 式中 Mは1以上のL基とη5結合で結合している周期表4族の、酸化数+2、+3又は+4の金
属である; Lは存在ごとに独立にシクロペンタジエニル、インデニル、テトラヒドロインデ
ニル、フルオレニル、テトラヒドロフルオレニル又はオクタヒドロフルオレニル
基であり、非水素原子数20以下のヒドロカルビル、ハロ、ハロヒドロカルビル、
アミノヒドロカルビル、ヒドロカルビルオキシ、ジヒドロカルビルアミノ、ジヒ
ドロカルビルホスフィノ、シリル、アミノシリル、ヒドロカルビルオキシシリル
及びハロシリルからなる群より独立に選択される1〜8個の基によって随意に置換
される場合があり、又はさらに随意にかかるL基2個が、非水素原子数20以下のヒ
ドロカルバジイル、ハロヒドロカルバジイル、ヒドロカルビレンオキシ、ヒドロ
カルビレンアミノ、シラジイル、ハロシラジイル及び二価アミノシランから選択
される二価置換基により結合される場合もある; Xは存在ごとに独立に、一価アニオン性σ結合配位子、2価分ともMに結合してい
る二価アニオン性σ結合配位子、又は1価分がMに結合し残りの1価分がL基に結合
している二価アニオン性σ結合配位子であり、60以下の非水素原子を含む; X’は存在ごとに独立に、中性のルイス塩基結合性化合物であり、炭素原子数4〜
40のホスフィン類、エーテル類、アミン類; オレフィン類; 及び/又は共役ジエ
ン類からなる群より選択される; pは0、1又は2であり、またXが一価アニオン性σ結合配位子又は1価分がMに結合
し残りの1価分がL基に結合している二価アニオン性σ結合配位子である場合には
Mの見掛け酸化数よりも1少ない、又はpは、Xが2価分ともMに結合している二価ア
ニオン性σ結合配位子である場合にはMの見掛け酸化数よりも2少ない; 及び qは0、1又は2である。 - 【請求項11】 X’がテトラヒドロフラン、ピリジン、ビピリジン、テト
ラメチルエチレンジアミン(TMEDA)、トリエチルアミン、トリメチルホスフィン
、トリエチルホスフィン、トリフェニルホスフィン、ビス(1,2-ジメチルホスフ
ィノ)エタン、RをC1-C30ヒドロカルビルとするP(OR)3であることを特徴とする請
求項10のエチレンホモポリマー。 - 【請求項12】 遷移金属化合物が次式に相当することを特徴とする請求項
10のエチレンホモポリマー: 【化1】 式中 Mは見掛け酸化数+2、+3又は+4のチタン、ジルコニウム又はハフニウムである; R3は存在ごとに独立に、水素、ヒドロカルビル基、シリル基、ゲルミル基、シア
ノ基、ハロ基及びそれらの組合せからなる群より選択され、該R3は20以下の非水
素原子をもつか、又は隣接R3基が共に、ヒドロカルバジイル、シラジイル又はゲ
ルマジイル基からなる群より選択される二価誘導体を形成し、もって縮合環系を
形成する; 各X”は独立に、ハロ、ヒドロカルビル、ヒドロカルビルオキシ、ヒドロカルビ
ルアミノ又はシリル基であり、該X”基は20以下の非水素原子をもつか、又は2個
のX”基が共に、中性のC5-30共役ジエン又はその二価誘導体を形成する; Yは-O-、-S-、-NR*-、-PR*-である; ZはSiR*2、CR*2、SiR*2SiR*2、CR*2CR*2、CR*=CR*、CR*2SiR*2又はGeR*2である(
この場合、R*はC1-4アルキル又はフェニルである); 及び nは1〜3の整数である。 - 【請求項13】 遷移金属化合物が次式に相当することを特徴とする請求項
10のエチレンホモポリマー: 【化2】 式中 R3は存在ごとに独立に、水素、ヒドロカルビル基、ハロヒドロカルビル基、シリ
ル基、ゲルミル基及びそれらの組合せであり、20以下の非水素原子を含む; Mはチタン、ジルコニウム又はハフニウムである; Z、Y、X及びX’は前記のとおりである; pは0、1又は2であり、また qは0又は1である; ただし、 pが2のとき、qは0、Mは見掛け酸化数が+4であり、またXはハリド、ヒドロカルビ
ル、ヒドロカルビルオキシ、ジ(ヒドロカルビル)アミド、ジ(ヒドロカルビル)ホ
スフィド、ヒドロカルビルスルフィド及びシリル基、並びにそれらのハロ置換、
ジ(ジヒドロカルビル)アミノ置換、ヒドロカルビルオキシ置換及びジ(ヒドロカ
ルビル)ホスフィノ置換誘導体からなる群より選択されるアニオン性配位子であ
り、該X基の非水素原子数は20以下である; pが1のとき、qは0、Mは見掛け酸化数が+3であり、またXはアリル、2-(N,N-ジメ
チルアミノメチル)フェニル及び2-(N,N-ジメチル)-アミノベンジル基からなる群
より選択される安定化アニオン性配位子であるか、又はMは見掛け酸化数が+4で
あり、Xは共役ジエンの二価誘導体であって、MとXが共にメタロシクロペンテン
基を形成する; また pが0のとき、qは1、Mは見掛け酸化数が+2であり、またX’は中性の共役又は非共
役ジエンであって随意に1以上のヒドロカルビル基により置換される場合があり
、該X’は40以下の炭素原子をもち、またMとπ錯体を形成する。 - 【請求項14】 遷移金属化合物が次式に相当することを特徴とする請求項
10のエチレンホモポリマー: 【化3】 式中 R3は存在のたびに独立に水素又はC1-6アルキルである; Mはチタンである; Yは-O-、-S-、-NR*-、-PR*-である; ZはSiR*2、CR*2、SiR*2SiR*2、CR*2CR*2、CR*=CR*、CR*2SiR*2又はGeR*2である;
R*は存在のたびに独立に水素、又はヒドロカルビル、ヒドロカルビルオキシ、シ
リル、ハロゲン化アルキル、ハロゲン化アリール基、又はそれらの組合せであり
、該R*は20以下の非水素原子をもち、また随意にZに由来する2個のR*基(R*が水
素でない場合)は、又はZに由来するR*基とYに由来するR*基は1個の環系を形成す
る; pは0、1又は2であり、また qは0又は1である; ただし、 pが2のとき、qは0、Mは見掛け酸化数が+4であり、またXは存在のたびに独立にメ
チル又はベンジル基である; pが1のとき、qは0、Mは見掛け酸化数が+3であり、またXは2-(N,N-ジメチル)アミ
ノベンジルである; もしくはMは見掛け酸化数が+4であり、Xは2-ブテン-1,4-ジ
イルであり、また pが0のとき、qは1、Mは見掛け酸化数が+2であり、またX’は1,4-ジフェニル-1,3
-ブタジエン又は1,3-ペンタジエンである。 - 【請求項15】 次の成分(A)及び(B)を含有するポリマーブレンド組成物:
(A) 成分(A)及び(B)の合計重量を基準にして1〜99重量%の量のエチレンホモポ
リマーであって、Mw/Mn比が(GPCによる測定で)約2.5を超え、密度が次の不等式
密度(g/cm3)>0.9611+0.0058 log(I2)−0.00128 log2(I2) を満たし、かつ触媒塩化物残渣の含量が約1 ppm未満であり、また触媒クロム残
渣含量が約1 ppm未満であるようなエチレンホモポリマー、及び (B) 成分(A)及び(B)の合計重量を基準にして1〜99重量%の量の、成分Aのもの以
外の同じ特性をもつエチレンホモポリマー又はエチレン/α-オレフィンコポリ
マー。 - 【請求項16】 次の成分(A)及び(B)を含有するポリマーブレンド組成物:
(A) 成分(A)及び(B)の合計重量を基準にして1〜99重量%の量のエチレンホモポ
リマーであって、Mw/Mn比が(GPCによる測定で)約2.5を超え、密度が次の不等式
密度(g/cm3)>0.9611+0.0058 log(I2)−0.00128 log2(I2) を満たし、かつMw/Mn比が次の不等式 Mw/Mn ≦ 11.67 log Mw−43.67 を満たすようなエチレンホモポリマー、及び (B) 成分(A)及び(B)の合計重量を基準にして1〜99重量%の量の、成分Aのもの以
外の同じ特性をもつエチレンホモポリマー又はエチレン/α-オレフィンコポリ
マー。 - 【請求項17】 成分(B)が次の成分を含むことを特徴とする請求項16のポ
リマーブレンド組成物: (1) 均質な、組成分布の狭いエチレン/αオレフィン共重合体; 又は (2) 不均質な、組成分布の広いエチレン/αオレフィン共重合体; 又は (3) 請求項1〜6のホモポリマーを製造するために使用されるものと同じ触媒を
使用して製造される、コモノマー含量が最高となる画分に分子量極大をもつポリ
オレフィン組成物; 又は (4) 成分(A)とはI2、又は密度、又はMw、又はMw/Mnが異なるエチレンホモポリ
マー; 又は (5) (B)(1)、(B)(2)、(B)(3)又は(B)(4)のうちの任意の2つ以上の組合せ。 - 【請求項18】 次の特性をもつ請求項17のポリマーブレンド組成物; a) 密度0.87〜0.98 g/cm3; b) メルトインデックス(I2) 0.0001〜10000 g/10分; c) I21/I2比20〜200又はI10/I2比5〜100; d) Mw/Mn比2.5〜50 その場合に (I) 成分(A)は成分(A)及び(B)の合計重量を基準にして10〜90重量%含まれてお
り、かつ次の特性をもつ; a) 密度0.915〜0.985 g/cm3; b) メルトインデックス(I2) 0.0001〜10,000 g/10分; c) I21/I2比15〜65又はI10/I2比5〜30; d) Mw/Mn比2.5〜10、及び e) 次の不等式を満たすMw/Mn比 Mw/Mn ≦ 5.15 log Mw−11.59 また (II) 成分(B)は成分(A)及び(B)の合計重量を基準にして10〜90重量%含まれてお
り、かつ次の特性をもつ; a) 密度0.87〜0.98 g/cm3 b) メルトインデックス(I2) 0.0001〜10000 g/10分 その場合 i) 成分(B)(1)はI21/I2比が10〜50、又はI10/I2比が5〜25である; また
ii) 成分(B)(2)は次の特性をもつ; a) I21/I2比15〜80又はI10/I2比5〜40、及び b) Mw/Mn比3〜12 また iii) 成分(B)(3)は次の特性をもつ; a) I21/I2比15〜65又はI10/I2比5〜30 b) Mw/Mn比2.5〜10 c) エチレンコポリマーのCFCにおいて、最大抽出量が実現される第1温度と該第
1温度を10℃上回る温度か又は96℃のいずれか低いほうの温度である第2温度の間
の範囲内に収まる任意温度T(℃)での抽出に関して、該任意温度T(℃)と、該任意
温度T(℃)で抽出されるコポリマー画分の分子量分布グラフ上の分子量分布グラ
フが最大強度のピークを示す分子量点との間の関係を最小二乗法で処理して、該
第1温度と該第2温度の間の範囲内に近似直線をえる(CFCによる全抽出温度範囲内
の温度で抽出されたコポリマー画分のパージを除いた総量に対して1重量%未満の
量のコポリマー画分が存在する場合には、近似直線の計算ではそのコポリマー画
分を除外することができる)が、該近似直線の勾配は次式(I)で定義される範囲内
に収まる: −1 ≦ {logMp(T1)−logMp(T2)}/(T1−T2) ≦ −0.005 (I) 式中 T1とT2は該第1温度と該第2温度の間の範囲に収まる2つの異なる任意抽出温度T(
℃)であり、また Mp(T1)とMp(T2)はそれぞれ、近似直線上のT1とT2に対応する分子量である; 及び d) CFCによるエチレンホモポリマーの測定は、前記定義の該第1温度を少なく
とも10℃上回る温度で抽出した各コポリマー画分の総量がCFCによる全抽出温度
範囲内の温度で抽出したコポリマー画分のパージを除いた合計量を基準にして8
重量%以下となるような特性を示す; また iv) 成分(B)(4)は次の特性をもつ; a) I21/I2比18〜70又はI10/I2比5〜40、及び b) Mw/Mn比2.5〜12。 - 【請求項19】 次の特性をもつ請求項18のポリマーブレンド組成物; a) 密度0.915〜0.975 g/cm3; b) メルトインデックス(I2) 0.001〜5000 g/10分; c) I21/I2比30〜180又はI10/I2比5〜90;及び d) Mw/Mn比3〜45; また、その場合 (I) 成分(A)は成分(A)及び(B)の合計重量を基準にして25〜75重量%含まれてお
り、かつ次の特性をもつ; f) 密度0.935〜0.983 g/cm3; g) メルトインデックス(I2) 0.001〜5000 g/10分; h) I21/I2比18〜55又はI10/I2比5〜28; i) Mw/Mn比2.8〜8、及び j) 次の不等式を満たすMw/Mn比 Mw/Mn ≦ 3.50 log Mw−11.00 また (II) 成分(B)は成分(A)及び(B)の合計重量を基準にして25〜75重量%含まれてお
り、かつ次の特性をもつ; a) 密度0.89〜0.965 g/cm3 b) メルトインデックス(I2) 0.001〜5000 g/10分 その場合 i) 成分(B)(1)はI21/I2比が12〜45、又はI10/I2比が5.3〜25である; ま
た ii) 成分(B)(2)は次の特性をもつ; a) I21/I2比20〜70又はI10/I2比5.3〜35、及び b) Mw/Mn比3.5〜10 また iii) 成分(B)(3)は次の特性をもつ; a) I21/I2比18〜55又はI10/I2比5〜28 b) Mw/Mn比32.8〜8 c) 成分(B)(3)の特性(iii)(c)に関して、該ポリマー画分のCFCによってえられ
た該分子量分布グラフからえられる該近似直線の勾配は次式(II)によって定義さ
れる範囲内に収まる: −0.5 ≦ {logMp(T1)−logMp(T2)}/(T1−T2) ≦ −0.007 (II) 式中 T1、T2、Mp(T1)及びMp(T2)は請求項18で定義したとおりである; d) 成分(B)(3)の特性(iii)(d)に関して、該第1温度を少なくとも10℃上回る温
度で抽出した各コポリマー画分の総量はCFCによる全抽出温度範囲内の温度で抽
出したコポリマー画分のパージを除いた合計量を基準にして5重量%以下となる;
及び e) 次式(III) log(Mt)−log(Mc) ≦ 0.5 (III) (式中Mtは分子量分布グラフ上の、該グラフが最大強度のピークを示す分子量点
であり、またMcは該分子量分布グラフ上の任意の分子量点である。) により定義される成分(B)(3)の分子量範囲内において、該分子量分布グラフと共
にコモノマー含量分布グラフが、該エチレンコポリマーをゲル透過クロマトグラ
フィー/フーリエ変換赤外分光法(GPC/FT-IR)にかけることによりえられるが、
該コモノマー含量分布グラフから最小二乗法によりえられる近似直線の勾配は次
式(IV)で定義される範囲内に収まる: 0.0005≦{C(Mc1)−C(Mc2)}/(logMc1−logMc2)≦0.05 (IV) 式中 Mc1とMc2は式(III)を満たす2つの異なる任意の分子量点(Mc)であり、またC(Mc1)
とC(Mc2)はそれぞれ該近似直線上のMc1とMc2に対応するコモノマー含量である;
また iv) 成分(B)(4)は次の特性をもつ; a) I21/I2比20〜60又はI10/I2比5.3〜35、及び b) Mw/Mn比2.8〜10。 - 【請求項20】 次の特性をもつ請求項18のポリマーブレンド組成物; a) 密度0.935〜0.970 g/cm3; b) メルトインデックス(I2) 0.01〜3000 g/10分; c) I21/I2比40〜150又はI10/I2比5〜80;及び d) Mw/Mn比5〜40; また、その場合 (I) 成分(A)は成分(A)及び(B)の合計重量を基準にして35〜65重量%含まれてお
り、かつ次の特性をもつ; a) 密度0.945〜0.980 g/cm3; b) メルトインデックス(I2) 0.01〜3000 g/10分; c) I21/I2比20〜50又はI10/I2比5.5〜25; d) Mw/Mn比3〜6、及び e) 次の不等式を満たすMw/Mn比 1.25 logMw−2.5 ≦ Mw/Mn ≦ 3.50 log Mw−11.0 また (II) 成分(B)は成分(A)及び(B)の合計重量を基準にして35〜65重量%含まれてお
り、かつ次の特性をもつ; a) 密度0.915〜0.955 g/cm3 b) メルトインデックス(I2) 0.01〜3000 g/10分 その場合 i) 成分(B)(1)は次の特性をもつ: a) I21/I2比15〜40又はI10/I2比5.5〜20; 及び b) Mw/Mn比3未満 ii) 成分(B)(2)は次の特性をもつ: a) I21/I2比25〜60又はI10/I2比5.5〜30; 及び b) Mw/Mn比4〜9 iii) 成分(B)(3)は次の特性をもつ; a) I21/I2比20〜50又はI10/I2比5.5〜25 b) Mw/Mn比3〜7 c) 成分(B)(3)の特性(iii)(c)に関して、該ポリマー画分のCFCによってえられ
た該分子量分布グラフからえられる該近似直線の勾配は次式(V)によって定義さ
れる範囲内に収まる: −0.1 ≦ {logMp(T1)−logMp(T2)}/(T1−T2) ≦ −0.01 (V) 式中 T1、T2、Mp(T1)及びMp(T2)は請求項18で定義したとおりである; d) 成分(B)(3)の特性(iii)(d)に関して、該第1温度を少なくとも10℃上回る温
度で抽出した各コポリマー画分の総量はCFCによる全抽出温度範囲内の温度で抽
出したコポリマー画分のパージを除いた合計量を基準にして3.5重量%以下となる
;及び e) 成分(B)(3)の特性(iii)(e)に関して、該エチレンコモノマーのGPC/FT-IRに
よりえられた該コモノマー含量分布グラフからえられる該近似直線の勾配は次式
(VI)で定義される範囲内に収まる: 0.001≦{C(Mc1)−C(Mc2)}/(logMc1−logMc2)≦0.02 (VI) 式中 Mc1、Mc2、C(Mc1)及びC(Mc2)は請求項19で定義したとおりである; また iv) 成分(B)(4)は次の特性をもつ; a) I21/I2比10〜50又はI10/I2比5.5〜30、及び b) Mw/Mn比3〜9。 - 【請求項21】 成分(B)(3)の特性(iii)(c)に関して、ポリマー画分のCFC
によりえられた分子量分布グラフからえられる近似直線の勾配が次式(VII)で定
義される範囲内に収まることを特徴とする請求項18のポリマーブレンド組成物:
−0.08 ≦ {logMp(T1)−logMp(T2)}/(T1−T2) ≦ −0.02 (VII) 式中 T1、T2、Mp(T1)及びMp(T2)は請求項18で定義したとおりである。 - 【請求項22】 成分(B1)が長鎖分岐を含むことを特徴とする請求項17のポ
リマーブレンド組成物。 - 【請求項23】 成分(B1)が1000炭素原子当たり0.01〜3個の範囲内で長鎖
分岐を含むことを特徴とする請求項17のポリマーブレンド組成物。 - 【請求項24】 成分(B1)が1000炭素原子当たり0.1〜3個の範囲内で長鎖分
岐を含み、かつ次式で定義される分子量分布Mw/Mnを示すことを特徴とする請求
項17のポリマーブレンド組成物: Mw/Mn ≦ (I10/I2)−4.63。 - 【請求項25】 組成物(B)が、式H2C=CHR(式中RはC1-C 20の線状、枝分れ
又は環状アルキル基又はC6-C20のアリール基である)で示される化合物及びC4-C2 0 の線状、枝分れ又は環状ジエンからなる群より選択される1以上のコモノマーと
のエチレンのコポリマーを含む成分(B)(3)であり、該エチレンを該コポリマーと
、固体触媒系の存在下にスラリ重合法により共重合させることを含む方法で製造
され、また該固体触媒系が次の成分を含むことを特徴とする請求項17のポリマー
ブレンド組成物: (I) 次のものを混合することに由来する担体付き触媒成分: (A) 担体物質 (B) 周期表2〜13族元素、ゲルマニウム、スズ又は鉛の有機金属化合物 (C) 遷移金属化合物と反応して触媒活性の遷移金属錯体を形成することができる
カチオンと100以下の非水素原子をもつ相溶性アニオンとを含有し、さらに活性
水素部分を含む1以上の置換基を含有する活性剤化合物、及び (D) 遷移金属化合物 又は (II) 次のものを混合することに由来する担体付き触媒成分: (A) 担体物質とアルモキサンとからなる成分において、担体物質とアルモキサ
ンの総重量を基準にして15〜40重量%のアルミニウムを含有し、 (a) 前記の担体物質とアルモキサンを不活性雰囲気下、アルモキサンを担体物
質に固定するに足る時間及び温度において加熱し、もって担体付き触媒成分を与
えるが、その場合に担体付き触媒成分中に存在するアルミニウムの約10%以下が
担体付き触媒成分グラム当たり約10 mlのトルエンを用いた90℃、1時間のトルエ
ン抽出で抽出可能であるようにすること、及び (b) 随意にステップ(a)で与えられた産物を1以上の洗浄ステップにかけて、担
体物質に固定されていないアルモキサンを除去すること によりえられる担体物質とアルモキサンとからなる成分、及び (B) 遷移金属化合物 又は (III) IとIIの任意の組合せ。 - 【請求項26】 次のステップを含むポリマーブレンド組成物の形成法: (I) 請求項7のエチレンホモポリマー(A)を合成すること (II) 重合条件下、エチレン、随意に1以上のα-オレフィンコモノマーを含む供
給原料流とエチレン重合触媒とを接触させてエチレンホモポリマー又はエチレン
/α-オレフィン共重合体(B)を合成すること、及び (III) エチレンホモポリマー(A)をエチレンホモポリマー又はエチレン/α-オ
レフィン共重合体(B)と混合してポリマーブレンド組成物(C)を形成すること。 - 【請求項27】 ステップ(I)とステップ(II)が異なる反応器内で行われる
ことを特徴とする請求項26の方法。 - 【請求項28】 反応器が直列で使用されること、及び工程(I)が第1反応器
(群)で、また工程(II)が第2反応器(群)で行われるか、又は随意に工程(II)が第1
反応器(群)で、また工程(I)が第2反応器(群)で行われることを特徴とする請求項
27の方法。 - 【請求項29】 (a) ステップ(II)がスラリ重合条件、又は溶液重合条件
、又は気相重合条件の下で行われること、及び (b) ステップ(II)で使用されるエチレン重合触媒がチーグラー触媒、又は非
担体付きシングルサイト触媒、又は担体付きシングルサイト触媒、又は任意の2
つ以上の前記エチレン重合触媒の混合物であること を特徴とする請求項26の方法。 - 【請求項30】 (c) 担体付きシングルサイト触媒が担体付きconstrained
geometry触媒を含むこと を特徴とする請求項29の方法。 - 【請求項31】 ステップ(II)のエチレン重合触媒が請求項5に記載の担体
付き触媒成分であることを特徴とする請求項26の方法。 - 【請求項32】 ステップ(II)のエチレン重合触媒が次の成分を含むチーグ
ラー重合触媒であることを特徴とする請求項26の方法: (a) ハロゲン化マグネシウム又はシリカである固体担体成分、及び (b) 次式で示される遷移金属成分: TrX’4-q(OR1)q、TrX’4-qR2 q、VOX’3及びVO(OR1)3 式中 TrはIVB族、VB族又はVIB族金属である; qは0又は4以下の数である; X’はハロゲンである; R1は炭素原子数1〜20のアルキル基、アリール基又はシクロアルキル基である; R2はアルキル基、アリール基、アラルキル基又は置換アラルキル基である。 - 【請求項33】 反応器が並列に使用されることを特徴とする請求項27の方
法。 - 【請求項34】 ステップ(II)のαオレフィン共重合体がステップ(I)で生
産されるホモポリマーよりも密度が低く分子量が大きいことを特徴とする請求項
26の方法。 - 【請求項35】 ステップ(II)のコモノマーがC3-C20αオレフィンであるこ
とを特徴とする請求項26の方法。 - 【請求項36】 ステップ(II)のコモノマーがプロピレン、1-ブテン、1-ペ
ンテン、4-メチル-1-ペンテン、1-ヘキセン又は1-オクテンであることを特徴と
する請求項26の方法。 - 【請求項37】 請求項26の方法で製造されるポリマーブレンド組成物。
- 【請求項38】 請求項1のエチレンホモポリマーから製造される焼結用粉
末。 - 【請求項39】 請求項16のポリマーブレンド組成物から製造される二次加
工品。 - 【請求項40】 フィルム、繊維又はシートの形をとる、又は熱成形、吹込
み成形、射出成形及び回転成形法の結果である請求項39の二次加工品。 - 【請求項41】 パイプ、チューブ、ケーブル又はワイヤ外被、パイプ被覆
材、ジオメンブラン、熱成形品、段積み適性プラスチックパレット、吹込み成形
ボトル又は容器、又は環境対策池用ライナーを含む請求項39の二次加工品。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/US1999/016216 WO2001005852A1 (en) | 1999-07-15 | 1999-07-15 | High density ethylene homopolymers and blend compositions |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003505544A true JP2003505544A (ja) | 2003-02-12 |
Family
ID=22273231
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001511507A Pending JP2003505544A (ja) | 1999-07-15 | 1999-07-15 | 高密度エチレンホモポリマー及びブレンド組成物 |
Country Status (12)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP1198484B1 (ja) |
JP (1) | JP2003505544A (ja) |
KR (1) | KR20020016897A (ja) |
CN (1) | CN1145648C (ja) |
AT (1) | ATE366757T1 (ja) |
AU (1) | AU5215899A (ja) |
BR (1) | BR9917422A (ja) |
CA (1) | CA2379917A1 (ja) |
DE (1) | DE69936543T9 (ja) |
ES (1) | ES2286890T3 (ja) |
NO (1) | NO20020171L (ja) |
WO (1) | WO2001005852A1 (ja) |
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CA2868640C (en) | 2014-10-21 | 2021-10-26 | Nova Chemicals Corporation | Solution polymerization process |
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- 1999-07-15 WO PCT/US1999/016216 patent/WO2001005852A1/en active IP Right Grant
- 1999-07-15 DE DE69936543T patent/DE69936543T9/de active Active
- 1999-07-15 CN CNB998168025A patent/CN1145648C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1999-07-15 AT AT99937291T patent/ATE366757T1/de not_active IP Right Cessation
- 1999-07-15 JP JP2001511507A patent/JP2003505544A/ja active Pending
- 1999-07-15 AU AU52158/99A patent/AU5215899A/en not_active Abandoned
- 1999-07-15 CA CA002379917A patent/CA2379917A1/en not_active Abandoned
- 1999-07-15 BR BR9917422-7A patent/BR9917422A/pt not_active IP Right Cessation
- 1999-07-15 KR KR1020027000620A patent/KR20020016897A/ko not_active Application Discontinuation
- 1999-07-15 ES ES99937291T patent/ES2286890T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1999-07-15 EP EP99937291A patent/EP1198484B1/en not_active Expired - Lifetime
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- 2002-01-14 NO NO20020171A patent/NO20020171L/no not_active Application Discontinuation
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---|---|
BR9917422A (pt) | 2002-05-07 |
CN1359396A (zh) | 2002-07-17 |
DE69936543T9 (de) | 2008-07-10 |
CA2379917A1 (en) | 2001-01-25 |
EP1198484B1 (en) | 2007-07-11 |
ATE366757T1 (de) | 2007-08-15 |
CN1145648C (zh) | 2004-04-14 |
ES2286890T3 (es) | 2007-12-01 |
EP1198484A1 (en) | 2002-04-24 |
AU5215899A (en) | 2001-02-05 |
KR20020016897A (ko) | 2002-03-06 |
NO20020171D0 (no) | 2002-01-14 |
NO20020171L (no) | 2002-03-15 |
DE69936543D1 (de) | 2007-08-23 |
DE69936543T2 (de) | 2008-03-20 |
WO2001005852A1 (en) | 2001-01-25 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060516 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20081111 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20081118 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20090217 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20090224 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20090728 |