JP2003502467A - プラスチックの安定化方法及び該方法を用いて製造または被覆された製品 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 本発明は、製造中及び加工中の熱可塑性強化プラスチック、プラスチック基板またはプラスチック被覆基板並びにホットランナー法による射出成形中のプラスチックを安定化させるための請求項１に記載の置換基を有する式（Ｉ）の化合物の使用に関する。 【化１】

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】 本発明は、製造中及び加工中の熱可塑性強化プラスチック、プラスチック基板
またはプラスチック被覆基板、並びに、ホットランナー法による射出成形中のプ
ラスチックを安定化するための、式（Ｉ）

【０００２】

【化３】 〔式中、 Ｒ^ａ、Ｒ^ｂ、Ｒ^ｄ、Ｒ^ｅ、Ｒ^ｆ、Ｒ^ｇ及びＲ^ｈは互いに独立に、水素、ヒドロ
キシル、Ｃ_１−Ｃ_１８アルキル、未置換またはモノ−、ジ−もしくはトリ−Ｃ_１ −Ｃ_４アルキル置換フェニル、Ｃ_７−Ｃ_９フェニルアルキル、未置換またはモノ
−、ジ−もしくはトリ−Ｃ_１−Ｃ_４アルキル置換Ｃ_５−Ｃ_１２シクロアルキルま
たはＣ_１−Ｃ_１８アルコキシを表し、Ｒ^ｃは上記に定義のＲ^ａ、Ｒ^ｂ、Ｒ^ｄ、Ｒ ^ｅ 、Ｒ^ｆ、Ｒ^ｇ及びＲ^ｈと同義であるかまたは式（ＩＩ）

【０００３】

【化４】 の基であり、ここにＲ^ａ、Ｒ^ｂ、Ｒ^ｄ、Ｒ^ｅ、Ｒ^ｆ、Ｒ^ｇ及びＲ^ｈは上記と同義
であり、Ｒ^ｉ及びＲ^ｊは互いに独立に水素またはＣ_１−Ｃ_４アルキルを表し、基
Ｒ^ｄ、Ｒ^ｅ、Ｒ^ｆ、Ｒ^ｇ及びＲ^ｈの少なくとも２つが水素である〕の化合物の使
用に関する。

【０００４】 本発明の使用に好ましい化合物は、式中の、 Ｒ^ｂが水素であるか、及び／または、 Ｒ^ｄ−Ｒ^ｈが水素であるか、及び／または、 Ｒ^ａ及びＲ^ｃがＣ_１−Ｃ_１８アルキル特にｔ−ブチル、または、未置換またはモ
ノ−、ジ−もしくはトリ−Ｃ_１−Ｃ_４アルキル置換フェニルを表す式Ｉの化合物
である。

【０００５】 Ｒ^ｃが上記の式ＩＩの基であるとき、Ｒ^ｉ及びＲ^ｊの双方は好ましくはメチル
である。

【０００６】 優れた機械的安定性が最も重要であるような特定用途に対応するために熱可塑
性強化プラスチックが様々に開発されてきた。Ｈ．Ｓａｅｃｈｔｌｉｎｇ，“Ｋ
ｕｎｓｔｓｔｏｆｆ−Ｔａｓｃｈｅｎｂｕｃｈ”，２６^ｔｈ Ｅｄｉｔｉｏｎ（
１９９５）；Ｃａｒｌ Ｈａｎｓｅｒ Ｖｅｒｌａｇ，Ｍｕｎｉｃｈ−Ｖｉｅｎ
ｎａ；ｓｅｃｔｉｏｎｓ ３．２．１．５，ｐ．２０３及び５．３．２，ｐ．５
９５参照。

【０００７】 強化成分としては、ガラスビーズ、タルク、雲母、ガラス繊維、炭素繊維があ
り、ポリマー繊維、例えばポリ−ｐ−フェニレンテレフタラミド（Ｋｅｖｌａｒ ^ＲＴＭ ）または熱可塑性液晶ポリマーの連続繊維があり、また、天然繊維や、多
数の有機または無機のナノ材料がある。

【０００８】 （プレプレグとして公知の）慣用の前駆物質を製造するためには、熱可塑性ポ
リマーを溶融させ、強化用充填材相（織布、繊維、など）に含浸させるかまたは
積層することによって半製品とする。外圧を作用させるかまたは作用させずに加
熱後、ポリマーマトリックスの比較的高い可塑性または比較的低い粘度に基づい
て以後の加工に好適に複合材料が形成される。このように予熱した部材を使用し
、引出し成形に基づく種々の技術的方法で最終製品が製造される。Ｗ．Ｍｉｃｈ
ａｅｌｉ ａｎｄ Ｊ．Ｂｌａｕｒｏｃｋ，Ｋｕｎｓｔｓｔｏｆｆｅ，８８，ｐ
ｐ．６８５−６８８（１９９８）参照。

【０００９】 最適な含浸を達成するためには、強化用充填材相が妨害されることなくポリマ
ーマトリックスを含浸できることが必要である。浸透度は熱可塑性強化プラスチ
ックを製造するための極めて重要なパラメーターである。強化用充填材相とポリ
マーマトリックスとの間に適正な接着強度があることが１つの必須条件となる。
比較的高い加工温度ではしばしば熱可塑性ポリマーの粘度が比較的低いのでこれ
らの必須要件が満たされる。しかしながら、比較的高い温度の使用にはマトリッ
クスポリマーの部分的分解がしばしば伴うという欠点が知見された。

【００１０】 広い範囲の製品に機能性コーティングが使用される。それぞれの製品は、基板
の種類、使用されるポリマーコーティングの種類、基板とポリマー相との間の接
着強度、及び、最後に、多層系を構成し得る任意の別の層に従って下位区分に分
類される。基板としては、紙、ボード、金属及び表面輪郭のはっきりしたプラス
チックなどがあり、あるいは、繊維（例えば主として不織布）がある。コーティ
ングとして使用されるプラスチック相は通常は、ポリオレフィンまたはポリオレ
フィンコポリマーから成る。量的には、ＬＤポリエチレンが多くの用途（例えば
紙コーティング）で優勢な地位を維持している。

【００１１】 基板と被覆プラスチック相との間の接着強度はコーティング処理中及び／また
は以後の硬化段階中の温度に伴って不断に増加する。相間接着を改善するために
しばしばカップリング剤が使用されることは別にして、最終製品の必要な安定度
を得るためには温度がどうしても避けられないパラメーターである。

【００１２】 押出を含む加工手順は多くの場合、加工機の特定幾何学形に関連する。特に射
出成形法の場合、金型のスクリュー前方のスペースからゲートまでのホットラン
ナーとして知られた領域がポリマーメルトの適正な温度コントロールに極めて重
要である。この領域の理想的な温度は、スクリューケーシングの加熱及び／また
は適宜にスクリュー自体の加熱によって与えられたメルト温度に全く等しい温度
である。その結果として、ポリマーメルトとホットランナーシステム（ホットラ
ンナーと機械ノズルとを含む）との間で熱交換が全く生じない筈である。しかし
ながら実際の温度調節は、使用される温度調節器の特性及び品質と局部的に調整
された温度センサを含むホットランナーの構造とに左右される。機械的な理由に
よって組立段階で最適配置が得られないことも多い。局部的温度測定はホットラ
ンナーゾーンの循環的及び静止的な有意な温度差をしばしば検出できない。この
ため、ポリマーメルトの部分的な粘度変化、局部過熱によるポリマーの分解、そ
の後の材料の部分的変形などに起因する加工の問題が生じる。従来のホットラン
ナーシステムでは、エネルギー分布の改善が確保されるのは、例えば熱伝導パイ
プを設置するなどの大きい技術的代価を支払ったときだけである。従来の安定化
システムはたとえ使用しても、それぞれのポリマーがホットランナー中で分解す
ることを適正に防御することはできない。実際には、例えば、脆化及び脱色のよ
うな好ましくない結果がしばしば見られる。

【００１３】 種々の公知方法によるプラスチックの加工には少なくとも１回の熱処理が必要
である。酸化、鎖分断またはその他の分解プロセスによる分解を防止するために
、適当な安定剤または併用安定剤の存在が必須である。従来の安定剤系は、オル
ガノホスファイトまたはオルガノホスホナイト、立体障害アミン及び／またはフ
ェノールの混合物から成る。また殆どの場合には、安定剤の活性を修正するため
に金属塩（例えば、ステアリン酸カルシウム）を基材とする安定化助剤を添加す
る。

【００１４】 更に、金属失活剤、可塑剤、ＵＶ吸収剤、ヒドロキシルアミン、ニトロン、色
改良剤、蛍光増白剤、チオ相乗剤、過酸化物スカベンジャー、バッファ系、核生
成剤、顔料、染料、難燃剤、静電防止剤及び乳化剤のような補助添加剤を０．０
００１％−３０％の濃度で添加することが可能である。問題の系はまた、従来の
充填剤を０．０１％−７０％の濃度で含有し得る。

【００１５】 例えば、ポリオレフィン繊維の製造方法、回転成形方法、管押出またはケーブ
ル外装の製造のような工業的に重要な幾つかの高温処理方法の実施には、低濃度
の３−フェニルベンゾフラノンを添加するのが有利であることは何年も前から知
られていた。ドイツ特許公開ＤＥ−Ａ−１９７ ２８２１４、欧州特許公開ＥＰ
−Ａ−８４２９７５及びＥＰ−Ａ−８３９６２３参照。加工段階中に３−フェニ
ルベンジルフラノンの変換生成物がメルト中のポリマーの熱発生基と速やかに反
応すると推定されている。

【００１６】 ベンゾフラン−２（３Ｈ）オンのクラスの化合物は何年も前から既に知られて
いる。

【００１７】 これらの化合物を有機材料の安定剤として使用することは、特に、国際特許Ｗ
Ｏ８０／０１５６６（優先権日０２．０５．１９７９）及びドイツ特許ＤＥ２３
５４９９５に記載された。ＷＯ８０／０１５６６は、３位に未置換フェニル基を
含む３−アリールベンゾフラノン（ＷＯ８０／０１５６６の表１）だけでなく、
３位に種々の置換芳香族系を含む３−アリールベンゾフラノン（ＷＯ８０／０１
５６６の表２）及びその化合物５８−６０を安定剤として記載している。

【００１８】 ３−フェニルベンゾフラノンは、オルガノホスファイト及びオルガノホスホナ
イト、立体障害アミン及び／または任意にフェノール抗酸化剤のような従来の安
定剤と組合せて使用されたときには低濃度であってもポリマーメルトの優れた安
定性を確保する。

【００１９】 全く予想外にも、ＷＯ８０／０１５６６に記載されたベンゾフラノンの特定サ
ブグループ、即ち、最初に定義した式Ｉの化合物が、製造中及び加工中の熱可塑
性強化プラスチックの安定化、製造中及び加工中のプラスチックまたはプラスチ
ック被覆基板の安定化、ホットランナー法による射出成形中のプラスチックの安
定化を得るために特に顕著な適性を有していることが知見された。３−フェニル
−２−ベンゾフラノンの３位のフェニル基が少なくとも２個の水素原子を有して
おりかつ４位のベンゾフラノン系に水素原子が存在する場合には、上記のような
本発明の使用において驚異的に高いレベルの活性が観察される。

【００２０】 本発明による式Ｉの化合物はまた、別の安定剤と組合せて、特に、オルガノホ
スファイト及び／またはオルガノホスホナイトと組合せて、更に所望ならば立体
障害フェノール及び／または立体障害アミン（ＨＡＬＳ）と組合せて有利に使用
され得る。これらの組合せは更に、酸スカベンジャー（塩基性安定化助剤）も含
み得る。イオウ含有安定化助剤が立体障害フェノールと組合せて存在するのも有
利である。

【００２１】 式Ｉの化合物は０．００１−５％、好ましくは０．００２−０．０５％の範囲
の濃度で使用されるのが適当であり、その他の成分の各々は０．００１−５％、
好ましくは０．０１−１．０％の範囲の濃度で存在し得る。

【００２２】 本発明の目的に好適な立体障害アミンはモノマー及びポリマーの双方のＨＡＬ
Ｓ安定剤を包含し、更に、例えば欧州特許公開ＥＰ−Ａ−８０４３１及びＥＰ−
Ａ−６３２０９２に記載されているようなポリマー及びモノマーのＨＡＬＳ安定
剤の組合せを包含する。

【００２３】 本発明の式Ｉの３−フェニルベンゾフラノンを特にオルガノホスファイトまた
はオルガノホスホナイト、立体障害アミン及び／または立体障害フェノールと組
合せて使用すると、組込まれた強化用充填剤を含有する熱可塑性ポリマーが有利
に効率よく安定化される。式Ｉの３−フェニルベンゾフラノンの有利な活性は特
にこのような強化材料の製造中に、高い処理温度を使用するときであっても発揮
される。式Ｉの３−フェニルベンゾフラノンは、ポリマーマトリックス中の鎖分
断のような典型的な分解及び崩壊プロセスをかなりの程度まで抑制し、これによ
って脆化及び変色の進行を抑制し、問題の材料の耐用寿命を延長する。

【００２４】 式Ｉの３−フェニルベンゾフラノンの存在下では高い処理温度を使用すること
が可能になったので、更に、強化用充填剤と周囲のポリマーマトリックスとの間
についても固体基板とそれぞれのポリマー層との間についても比較的強力な接着
力を発揮させることが可能になった。

【００２５】 本発明ではまた、積層、押出、引抜成形またはその他の強化熱可塑性ポリマー
の製造を含む製造方法に式Ｉの３−フェニルベンゾフラノンから成るより効率的
な安定剤系を使用し得る。式Ｉの３−フェニルベンゾフラノンの使用によって、
強化熱可塑性ポリマー製造中の分解を抑制できるだけでなく、ポリマーマトリッ
クス中の強化用充填材相の固着性を改善し得る。

【００２６】 強化用充填材（例えば、ガラスビーズ、タルク、雲母、ガラス繊維、炭素繊維
、ポリ−ｐ−フェニレンテレフタラミド（Ｋｅｖｌａｒ^ＲＴＭ）のようなポリマ
ー繊維）、または、熱可塑性液晶ポリマー及び天然繊維の連続繊維、多くの有機
または無機のナノ材料（既述））を、０．０００１％−３０％の濃度で使用し得
る。問題の系はまた従来の充填材を０．０１％−７０％の濃度範囲で含有し得る
。

【００２７】 典型的な熱可塑性ポリマーの代表は、ポリプロピレン（ＰＰ）及びＰＰコポリ
マー、ポリエチレン（ＰＥ−ＨＤ、ＰＥ−ＬＤ、ＰＥ−ＭＤ、ＰＥ−ＬＬＤ）、
ポリアミド、ポリエステル、ポリフェニレンスルフィド、ポリエーテルケトン、
ポリカーボネート、ポリエーテルイミド、スチレン−アクリロニトリルポリマー
、ポリエーテルスルホン、ポリアリールエーテルスルホン、ポリアミドイミド、
ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリスルホン及び
それぞれのブレンド系である。

【００２８】 別の代表例は、高温の高周波コロナ効果によって製造されるポリマーラミネー
トである。この技術は、マトリックスポリマーと強化用繊維との間に強力な相互
作用が生じる材料を得るために使用できる。

【００２９】 別の用途は、（例えば、自動車の室内部の構造部材に使用される）ポリマー基
板に付着した繊維の積層及び／または含浸に関する。

【００３０】 一般には、熱可塑性プラスチックと、熱可塑性ポリマーマトリックス中に０．
１％−５０％の濃度範囲で存在する強化用充填材とから成る材料が至適である。

【００３１】 特定の３−フェニルベンゾフラノンに基づく安定剤系の使用によって、適当な
基板に対するコーティング処理を比較的高い温度で行うことが可能である。式Ｉ
の３−フェニルベンゾフラノンを使用することによって、比較的分解の少ないコ
ーティング系を調製することが可能であるだけでなく、それぞれの基板に対する
ポリマー層の接着を改善することが可能である。更に、このような製品をより高
いスループットで製造する条件を創成し得る。

【００３２】 任意のコーティング方法が本発明に適しており、特に押出コーティング及び高
速押出コーティングの広い範囲にわたる方法が適当である。また、多層系の製造
も可能である。

【００３３】 本発明に適当な別の方法は、例えば改良された二次元組織が得られるようなポ
リマー層による基板の両面コーティング法である。更に、最終的に基板に連続フ
ィルムを形成するためにポリマーをポリマー／ワックス分散液の形態で塗布する
こともできる。

【００３４】 更に、以下の方法を本発明に使用し得る： −基板をポリマーの溶液または分散液に浸漬させる浸漬法として公知の方法。基
板をゆっくりと取り出すと、一般にはポリマーの薄層が基板に残存する。（１種
または複数の）溶媒を蒸発させ、所望ならば高温で硬化させることによってポリ
マー層の接着性を向上させる。 −流動床を生じさせる過圧を使用してそれぞれのポリマー粉末を多孔質基板プレ
ートのボイドに分配する粉末コーティングとして公知の方法。２００−４００℃
に予熱したプレートを粉末ポリマー中に潜らせると、数秒以内に不透過性ポリマ
ー層が形成され、以後の段階で更に硬化させ得る。典型的には、ポリマー相の膜
厚は７５μｍ−５００μｍの範囲である。 −適当な構造のガンに存在するポリマー粉末を高電圧電界（典型的には５０−９
０ｋＶ）に導入し、アースした基板に付着するように帯電させる静電コーティン
グとして公知の方法。その後に、ポリマー粉末をオーブンで溶融し、ほぼ滑らか
なポリマー層（典型的な膜厚５０μｍ−３００μｍ）を基板に形成させる。Ｈ．
Ｓａｅｃｈｔｌｉｎｇ，“Ｋｕｎｓｔｓｔｏｆｆ−Ｔａｓｃｈｅｎｂｕｃｈ”，
２６^ｔｈ Ｅｄｉｔｉｏｎ（１９９５）；Ｃａｒｌ Ｈａｎｓｅｒ Ｖｅｒｌａ
ｇ，Ｍｕｎｉｃｈ，Ｖｉｅｎｎａ；ｓｅｃｉｏｎ３．２．９．３，ｐ．２５５参
照。 −ポリマー粉末を溶射ガンの高熱ガスに通し、予熱基板上で溶融させる溶射とし
て公知の方法。

【００３５】 他の用途は、含浸を改善するための繊維または不織繊維によるポリマー基板の
コーティングに関する。

【００３６】 本発明による式Ｉの化合物を使用すると、ホットランナー法を使用して得られ
る射出成形品を優れた品質で再現的に製造でき、従来の安定化構想を修正及び拡
張し得る。例えば、処理条件が原因となって滞留時間が生じる可能性があり、こ
れはしばしばポリマーメルトの一時的な局部過熱に導くが、ポリマーメルト中の
熱発生炭素基は式Ｉの３−フェニル−２−ベンゾフラノンまたはその後継生成物
のｉｎ ｓｉｔｕ形成基との迅速かつ有効な反応によって無害になるので、滞留
時間が無害に経過する。

【００３７】 ３−フェニル−２−ベンゾフラノンに基づく加工用安定剤の使用によって、特
に高い加工温度を使用するときにもポリマーメルトが有効に安定化されるので、
目的製品における上述のような欠点を殆ど抑制するかまたは完全に削除すること
が可能である。従って本発明は、規格に適合する射出成形品をより確実に製造し
得る。

【００３８】 特に有利なモノマーＨＡＬＳ安定剤は式Ａ１−Ａ１０の化合物である：

【００３９】

【化５】 〔式中、 Ｒ^１は水素、Ｃ_５−Ｃ_７シクロアルキルまたはＣ_１−Ｃ_１２アルキル基であり
、 Ｒ^４は水素またはＣ_１−Ｃ_２２アルキル基、酸素ラジカルＯ^＊、−ＯＨ、−Ｎ
Ｏ、ＣＨ_２ＣＮ、ベンジル、アリル、Ｃ_１−Ｃ_３０アルコキシ基、Ｃ_５−Ｃ_１２ シクロアルキルオキシ基、置換または未置換のアリール基を含むＣ_６−Ｃ_１０ア
リールオキシ基、置換または未置換のアリール基を含むＣ_７−Ｃ_２０アラルキル
オキシ基、Ｃ_３−Ｃ_１０アルケニル基、Ｃ_３−Ｃ_６アルキニル基、Ｃ_１−Ｃ_１０ アシル基、ハロゲン、または、フェニル環が未置換であるかもしくはＣ_１−Ｃ_４ アルキルで置換されたＣ_７−Ｃ_９フェニルアルキル基を表し、 Ｒ^６は、水素、Ｃ_１−Ｃ_４アルキル、Ｃ_１−Ｃ_４アルコキシ、ハロゲン、シア
ノ、カルボキシル、ニトロ、アミノ、Ｃ_１−Ｃ_４アルキルアミノ、Ｃ_１−Ｃ_４ジ
アルキルアミノまたはアシルによって１回以上置換された芳香族基であり、ｏは
１または２である〕；

【００４０】

【化６】 〔式中、 Ｒ^１及びＲ^４は上記と同義であり、 ｐは１または２であり、 ｐ＝１のとき、 Ｒ^７はＣ_１−Ｃ_２２アルキル、Ｃ_２−Ｃ_１８オキサアルキル、Ｃ_２−Ｃ_１８チ
アアルキル、Ｃ_２−Ｃ_１８アザアルキルまたはＣ_２−Ｃ_８アルケニルであり、 ｐ＝２のとき、 Ｒ^７はＣ_１−Ｃ_２２アルキレン、Ｃ_２−Ｃ_１８オキサアルキレン、Ｃ_２−Ｃ_{１ ８} チアアルキレン、Ｃ_２−Ｃ_１８アザアルキレンまたはＣ_２−Ｃ_８アルケニレン
である〕；

【００４１】

【化７】 〔式中、 Ｒ^１及びＲ^４は上記と同義であり、 Ｒ^８及びＲ^９は互いに独立に、水素、Ｃ_１−Ｃ_６アルキル、Ｃ_７−Ｃ_１２アラ
ルキル、Ｃ_７−Ｃ_１２アリールまたはカルボキシレートを表すか、または、 Ｒ^８とＲ^９とが一緒にテトラ−またはペンタメチル基を表す〕：

【００４２】

【化８】 〔式中、 Ｒ^１及びＲ^４は上記と同義であり、 Ｒ^２及びＲ^３は互いに独立に、水素原子、Ｃ_１−Ｃ_１８アルキル基を表すか、
または、両者を結合している炭素原子と一緒に５−１３員環の環を形成するか、
または、両者を結合している炭素原子と一緒に式（ＩＶ）

【００４３】

【化９】 の基を形成し、 Ｒ^４及びＲ^５は互いに独立に、水素またはＣ_１−Ｃ_２２アルキル基、酸素ラジ
カルＯ^＊、−ＯＨ、−ＮＯ、ＣＨ_２ＣＮ、ベンジル、アリル、Ｃ_１−Ｃ_３０アル
コキシ基、Ｃ_５−Ｃ_１２シクロアルキルオキシ基、さらに置換され得るアリール
基を含むＣ_６−Ｃ_１０アリールオキシ基、さらに置換され得るアリール基を含む
Ｃ_７−Ｃ_２０アリールアルキルオキシ基、Ｃ_３−Ｃ_１０アルケニル基、Ｃ_３−Ｃ _６ アルキニル基、Ｃ_１−Ｃ_１０アシル基、ハロゲン、または、フェニル環が未置
換であるかもしくはＣ_１−Ｃ_４アルキルで置換されたＣ_７−Ｃ_９フェニルアルキ
ルを表し、 ｑは１または２であり、 Ｒ^１０は水素、メチル、フェニルまたはカルボ−Ｃ_１−Ｃ_２１アルコキシであ
り、 Ｒ^１１は水素またはメチルであり、 Ｒ^１２は、ｑ＝１のときは、水素、Ｃ_１−Ｃ_２１アルキル、Ｃ_２−Ｃ_２２アル
ケニル、Ｃ_５−Ｃ_１２シクロアルキルまたは式

【００４４】

【化１０】 ｛ここに Ｒ^１及びＲ^５は上記と同義である｝の基であり、 Ｒ^１２は、ｑ＝２のときは、Ｃ_１−Ｃ_１８アルキレン、Ｃ_５−Ｃ_９シクロアル
キレンまたはアリーレンである〕；

【００４５】

【化１１】 〔式中、 Ｒ^１、Ｒ^４、Ｒ^７及びｐは上記と同義である〕；

【００４６】

【化１２】 〔式中、 Ｒ^１、Ｒ^４、Ｒ^７及びｐは上記と同義である〕；

【００４７】

【化１３】 〔式中、 Ｒ^１及びＲ^４は上記と同義であり、 Ｒ^３０は水素、Ｃ_１−Ｃ_１２アルキル、Ｃ_５−Ｃ_１２シクロアルキル、フェニ
ルまたはＣ_７−Ｃ_９フェニルアルキルであり、 ａは１−１０の数である〕；

【００４８】

【化１４】 〔式中、 Ｒ^１及びＲ^４は上記と同義であり、 Ｒ^７は式Ａ２のｐ＝１の場合と同義である〕； 式Ａ１０ａのポリアミンと式Ａ１０ｂとを反応させることによって得られる生
成物Ａ１０：

【００４９】

【化１５】 〔式中、 Ｒ^１、Ｒ^４及びＲ^３０は上記と同義であり、 ｎ_５′、ｎ_５′′及びｎ_５′′′は互いに独立に２−１２の数を表す〕。

【００５０】 好ましい式Ａ１−Ａ１０の化合物は、式中の、 Ｒ^１が水素またはＣ_１−Ｃ_４アルキル基であり、 Ｒ^２及びＲ^３が互いに独立に、水素原子、Ｃ_１−Ｃ_８アルキル基を表すか、ま
たは、両者を連結している炭素原子と一緒に６−１２員環の環を形成するか、ま
たは、両者を連結している炭素原子と一緒に式（ＩＶ）の基を形成しており、 Ｒ^４及びＲ^５が互いに独立に、水素またはＣ_１−Ｃ_５アルキル基、酸素ラジカ
ルＯ^＊、−ＯＨ、−ＮＯ、−ＣＨ_２ＣＮ、ベンジル、アリル、Ｃ_１−Ｃ_１０アル
キルオキシ基、Ｃ_５−Ｃ_６シクロアルキルオキシ基、さらに置換され得るアリー
ル基を含むＣ_６−Ｃ_７アリールオキシ基、さらに置換され得るアリール基を含む
Ｃ_７−Ｃ_１０アリールアルキルオキシ基、Ｃ_３−Ｃ_６アルケニル基、Ｃ_３−Ｃ_６ アルキニル基、Ｃ_１−Ｃ_４アシル基、ハロゲン、または、フェニル環が未置換で
あるかＣ_１−Ｃ_２アルキル置換されたＣ_７−Ｃ_９フェニルアルキル基を表し、 Ｒ^７は直鎖状Ｃ_１−Ｃ_１０アルキレン（ｐ＝２のとき）またはＣ_１−Ｃ_１２ア
ルキル（ｐ＝１のとき）であり、 Ｒ^８及びＲ^９は互いに独立に、水素、Ｃ_１−Ｃ_２アルキル、Ｃ_７−Ｃ_８アリー
ルアルキル、アリールまたはカルボキシレートを表し、 Ｒ^１０は水素、メチル、フェニルまたはＣ_１−Ｃ_２アルコキシであり、 Ｒ^１１は水素またはメチルであり、 Ｒ^１２は、ｑ＝１のときは水素、Ｃ_１−Ｃ_１６アルキル、Ｃ_２−Ｃ_１６アルケ
ニル、Ｃ_５−Ｃ_６シクロアルキルまたは式

【００５１】

【化１６】 の基であり、 Ｒ^１２は、ｑ＝２のときはＣ_１−Ｃ_１６アルキレン、Ｃ_５−Ｃ_６シクロアルキ
レンまたはアリーレンであり、 Ｒ^３０は水素、Ｃ_１−Ｃ_８アルキル、Ｃ_５−Ｃ_７シクロアルキル、フェニルま
たはＣ_７−Ｃ_８フェニルアルキルであり、 ａは１−５であり、 ｏは１であり、 ｐは２−５である。

【００５２】 特に好ましい式Ａ１からＡ１０の化合物は、式中の、 Ｒ^１がメチルであり、 Ｒ^２及びＲ^３が、両者を連結している炭素原子と一緒に１２員環の環を形成す
るかまたは両者を連結している炭素原子と一緒に式（ＩＶ）の基を形成し、 Ｒ^４及びＲ^５が互いに独立に、水素、メチル、アセチル、オクチルオキシまた
はシクロヘキシルオキシを表し、 Ｒ^６がｐ−メトキシフェニルであり、 Ｒ^７がオクタメチレン、ヘキサメチレンまたはエチレン（ｐ＝２のとき）また
はドデシル（ｐ＝１のとき）であり、 Ｒ^８及びＲ^９が水素であり、 Ｒ^１０が水素であり、 Ｒ^１１が水素であり、 Ｒ^１２がドデカメチレンまたはテトラデカメチレンであり、 Ｒ^３０がシクロヘキシルまたはｎ−ブチルであり、 ａが２であり、 ｏが１であり、 ｐが２であり、 ｑが１である。

【００５３】 式（Ｉ）の化合物と混合するために以下の化合物が特に適当である：

【００５４】

【化１７】

【００５５】 特に好適な本発明の１つの実施態様では、使用される立体障害アミンを基材と
する安定剤は、^ＲＴＭＴｉｎｕｖｉｎ ７７０、^ＲＴＭＴｉｎｕｖｉｎ ７６５
、^ＲＴＭＴｉｎｕｖｉｎ １２３、^ＲＴＭＨｏｓｔａｖｉｎ Ｎ ２０、^ＲＴＭ Ｈｏｓｔａｖｉｎ Ｎ ２４、^ＲＴＭＵｖｉｎｕｌ ４０４９、^ＲＴＭＳａｎｄ
ｕｖｏｒ ＰＲ ３１、^ＲＴＭＵｖｉｎｕｌ ４０５０、^ＲＴＭＧｏｏｄ−ｒｉ
ｔｅ ＵＶ ３０３４または^ＲＴＭＧｏｏｄ−ｒｉｔｅ ３１５０、^ＲＴＭＳａ
ｎｄｕｖｏｒ ３０５５、^ＲＴＭＳａｎｄｕｖｏｒ ３０５６、^ＲＴＭＳａｎｄ
ｕｖｏｒ ３０５８、^ＲＴＭＣｈｉｍａｓｓｏｒｂ １１９及び^ＲＴＭＣｈｉｍ
ａｓｓｏｒｂ ９０５である。

【００５６】 特に有利なポリマーＨＡＬＳ安定剤は式Ｂ１−Ｂ７の化合物である：

【００５７】

【化１８】 〔式中、 Ｒ^１は水素、Ｃ_５−Ｃ_７シクロアルキルまたはＣ_１−Ｃ_１２アルキル基であり
、 Ｒ^１３は水素またはメチルであり、 Ｒ^１４は直接結合またはＣ_１−Ｃ_１０アルキレンであり、 ｒは２−５０の数である〕；

【００５８】

【化１９】 〔式中、 Ｒ^１及びＲ^４は上記と同義であり、 Ｒ^１５及びＲ^１８は互いに独立に、直接結合または基−Ｎ（Ｒ^２２）−ＣＯ−
Ｒ^２３−ＣＯ−Ｎ（Ｒ^２４）−を表し、 Ｒ^２２及びＲ^２４は互いに独立に、水素、Ｃ_１−Ｃ_８アルキル、Ｃ_５−Ｃ_１２ シクロアルキル、フェニル、Ｃ_７−Ｃ_９フェニルアルキルまたは式

【００５９】

【化２０】 の基を表し、 Ｒ^２３は直接結合またはＣ_１−Ｃ_４アルキレンであり、 Ｒ^１６、Ｒ^１７、Ｒ^２０及びＲ^２１は互いに独立に、水素、Ｃ_１−Ｃ_３０アル
キル、Ｃ_５−Ｃ_１２シクロアルキル、フェニルまたは式Ｂ２ａの基を表し、 Ｒ^１９は水素、Ｃ_１−Ｃ_３０アルキル、Ｃ_５−Ｃ_１２シクロアルキル、Ｃ_７−
Ｃ_９フェニルアルキル、フェニルまたは式Ｂ２ａの基であり、 ｓは１−５０の数である〕；

【００６０】

【化２１】 〔式中、 Ｒ^１、Ｒ^４及びｓは上記と同義であり、 Ｒ^２５、Ｒ^２６、Ｒ^２７、Ｒ^２８及びＲ^２９は互いに独立に、直接結合または
Ｃ_１−Ｃ_１０のアルキレンを表す〕； 式Ｂ４ａのポリアミンをシアヌルクロリドと反応させることによって得られた
生成物を式Ｂ４ｂの化合物と反応させることによって得られる生成物Ｂ４：

【００６１】

【化２２】 〔式中、 Ｒ^１及びＲ^４は上記と同義であり、 ｎ_５′、ｎ_５′′及びｎ_５′′′は互いに独立に２−１２の数を表し、 Ｒ^３０は上記と同義であり、Ｂ４は式Ｂ４−１、Ｂ４−２またはＢ４−３

【００６２】

【化２３】 の化合物またはその混合物であり、式中の、 ｎ_５は１−２０の数であり、 Ｒ^４及びＲ^３０は上記と同義である〕；

【００６３】

【化２４】 〔式中、 ｒは式Ｂ１に関する定義と同義であり、 Ｒ^３１、Ｒ^３３及びＲ^３４は互いに独立に、水素、Ｃ_１−Ｃ_１２アルキル、Ｃ _５ −Ｃ_１２シクロアルキル、Ｃ_１−Ｃ_４アルキル置換Ｃ_５−Ｃ_１２シクロアルキ
ル、フェニル、−ＯＨ−及び／またはＣ_１−Ｃ_１０アルキル置換フェニル、Ｃ_７ −Ｃ_９フェニルアルキル、フェニル基が−ＯＨ及び／またはＣ_１−Ｃ_１０アルキ
ルで置換されたＣ_７−Ｃ_９フェニルアルキルを表すか、または、式Ｂ５ａ

【００６４】

【化２５】 の基を表し、ここに、Ｒ^１及びＲ^５は上記と同義であり、 Ｒ^３２はＣ_２−Ｃ_１８アルキレン、Ｃ_５−Ｃ_７シクロアルキレンまたはＣ_１−
Ｃ_４アルキレンジ（Ｃ_５−Ｃ_７シクロアルキレン）であるか、または、 基Ｒ^３１、Ｒ^３２及びＲ^３３はそれらが結合した窒素原子と一緒に５−１０員
環の複素環を形成し、基Ｒ^３１、Ｒ^３３及びＲ^３４の少なくとも１つが式Ｂ５ａ
の基である〕；

【００６５】

【化２６】 〔式中、 Ｒ^３１、Ｒ^３２、Ｒ^３３及びｒは上記と同義であり、 Ｒ^３５及びＲ^３６は互いに独立にＲ^３４と同義の基を表すか、または、 Ｒ^３５とＲ^３６とはそれらが結合した窒素原子と一緒に５−１０員環の複素環
を形成し、この複素環は窒素ヘテロ原子に加えて１個または複数のヘテロ原子、
好ましくは酸素原子を含み、基Ｒ^３１、Ｒ^３３、Ｒ^３５及び／またはＲ^３６の少
なくとも１つが式（Ｂ５ａ）；

【００６６】

【化２７】 の基であり、ここに、 Ｒ^１及びＲ^４は上記と同義であり、 ｓは式Ｂ３の定義と同義であり、 Ｒ^３７はＣ_１−Ｃ_１０アルキル、Ｃ_５−Ｃ_１２シクロアルキル、Ｃ_１−Ｃ_４ア
ルキル置換Ｃ_５−Ｃ_１２シクロアルキル、フェニルまたはＣ_１−Ｃ_１０アルキル
置換フェニルであり、 Ｒ^３８はＣ_３−Ｃ_１０アルキレンである〕。

【００６７】 成分Ｂ１−Ｂ４として記載した化合物は本質的に公知であり（幾つかは市販化
合物である）、例えば米国特許第４，２３３，４１２号、第４，３４０，５３４
号及び第４，８５７，５９５号、ＤＤ−Ａ−２６２４３９（Ｄｅｒｗｅｎｔ８９
−１２２９８３／１７、Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ａｂｓｔｒａｃｔｓ １１１：５８
９６４ｕ）、ドイツ特許公開ＤＥ−Ａ−４２３９４３７（Ｄｅｒｗｅｎｔ９４
−１７７２７４／２２）、米国特許第４，５２９，７６０号及び第４，４７７，
６１５号、Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ａｂｓｔｒａｃｔｓ−ＣＡＳ Ｎｏ．１３６５０
４−９６−６に記載された公知の方法によって製造できる。

【００６８】 成分Ｂ４は公知方法に類似の方法で、例えばモル比１：２−１：４の式Ｂ４ａ
のポリアミンとシアヌルクロリドとを、無水炭酸リチウム、無水炭酸ナトリウム
または無水炭酸カリウムの存在下、１，２−ジクロロエタン、トルエン、キシレ
ン、ベンゼン、ジオキサンまたはｔ−アミルアルコールのような有機溶媒中、−
２０℃から＋１０℃の範囲、好ましくは−１０℃から＋１０℃の範囲、特に０℃
から＋１０℃の範囲の温度で２−８時間反応させ、得られた生成物を引き続いて
式Ｂ４ｂの２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルアミンと反応させる
ことによって製造できる。使用される２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペ
リジルアミンと式Ｂ４ａのポリアミンとは例えばモル比４：１−８：１で使用さ
れる。２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルアミンは全量を一回で添
加してもよくまたは部分量を数時間おきに添加してもよい。

【００６９】 好ましくは、式Ｂ４ａのポリアミンとシアヌルクロリドと式Ｂ４ｂの２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジルアミンとの比は１：３：５−１：３：６
の範囲である。

【００７０】 一般的に、成分Ｂ４は例えば、式Ｂ４−１、Ｂ４−２またはＢ４−３の化合物
によって表される。これらの３つの化合物が混合物として存在してもよい。

【００７１】 式Ｂ４−１は好ましくは、

【００７２】

【化２８】 を意味する。

【００７３】 式Ｂ４−２は好ましくは、

【００７４】

【化２９】 を意味する。

【００７５】 式Ｂ４−３は好ましくは、

【００７６】

【化３０】 を意味する。

【００７７】 好ましい式Ｂ１−Ｂ７の化合物は、式中の、 Ｒ^１は水素またはＣ_１−Ｃ_４アルキル基であり、 Ｒ^２及びＲ^３は、互いに独立に水素原子、Ｃ_１−Ｃ_８アルキル基を表すか、ま
たは、それらを連結している炭素原子と共に６−１２員環の環を形成するか、ま
たは、それらを連結している炭素原子と共に式（ＩＶ）の基を表し、 Ｒ^４及びＲ^５は互いに独立に、水素またはＣ_１−Ｃ_５アルキル基、酸素ラジカ
ルＯ^＊、−ＯＨ、−ＮＯ、−ＣＨ_２ＣＮ、ベンジル、アリル、Ｃ_１−Ｃ_１０アル
キルオキシ基、Ｃ_５−Ｃ_６シクロアルキルオキシ基、さらに置換され得るアリー
ル基を含むＣ_６−Ｃ_７アリールオキシ基、さらに置換され得るアリール基を含む
Ｃ_７−Ｃ_１０アリールアルキルオキシ基、Ｃ_３−Ｃ_６アルケニル基、Ｃ_３−Ｃ_６ アルキニル基、Ｃ_１−Ｃ_４アシル基、ハロゲン、または、フェニル環が未置換で
あるかもしくはＣ_１−Ｃ_２アルキルで置換されたＣ_７−Ｃ_９フェニルアルキルを
表し、 Ｒ^１３は水素またはメチルであり、 Ｒ^１４はＣ_１−Ｃ_５アルキレンであり、 Ｒ^１７及びＲ^２１は水素またはＣ_１−Ｃ_４アルキルであり、 Ｒ^１５及びＲ^１８は直接結合であり、 Ｒ^１６及びＲ^２０はＣ_１−Ｃ_２５アルキルまたはフェニルであり、 Ｒ^１９は、水素、Ｃ_１−Ｃ_１２アルキルまたは式Ｂ２ａの基であり、 Ｒ^２５、Ｒ^２６、Ｒ^２７、Ｒ^２８及びＲ^２９は互いに独立に直接結合またはＣ _１ −Ｃ_５アルキレンを表し、 Ｒ^３０は、水素、Ｃ_１−Ｃ_４アルキル、Ｃ_５−Ｃ_６シクロアルキルまたはフェ
ニルであり、 Ｒ^３１、Ｒ^３３及びＲ^３４は互いに独立に、水素、Ｃ_１−Ｃ_１０アルキル、Ｃ _５ −Ｃ_６シクロアルキル、または、式Ｂ５ａの基を表し、 Ｒ^３２はＣ_２−Ｃ_１０アルキレンまたはＣ_５−Ｃ_６シクロアルキレンであり、 Ｒ^３５及びＲ^３６は互いに独立にＲ^３４と同義の基を表すか、または、Ｒ^３５ とＲ^３６とはそれらが結合している窒素原子と共に５−７員環の複素環を形成し
、該複素環は更に１個または複数のヘテロ原子、好ましくは酸素原子を含んでい
てもよく、基Ｒ^３１、Ｒ^３３、Ｒ^３５及び／またはＲ^３６の少なくとも１つが式
Ｂ５ａの基であり、 Ｒ^３７はＣ_１−Ｃ_５アルキル、Ｃ_５−Ｃ_６シクロアルキルまたはフェニルであ
り、 Ｒ^３８はＣ_３−Ｃ_５アルキレンであり、 ｎ_５′、ｎ_５′′、ｎ_５′′′は２−４である。

【００７８】 特に好ましい式Ｂ１−Ｂ７の化合物は、式中の、 Ｒ^１がメチルであり、 Ｒ^２及びＲ^３は、それらを連結している炭素原子と共に１２員環の環を形成す
るか、または、それらを連結している炭素原子と共に式（ＩＶ）の基を形成して
おり、 Ｒ^４及びＲ^５が互いに独立に水素、アセチル、メチル、オクチルオキシまたシ
クロヘキシルオキシを表し、 Ｒ^１３が水素であり、 Ｒ^１４がエチレンであり、 Ｒ^１７及びＲ^２１が水素またはメチルであり、 Ｒ^１５及びＲ^１８が直接結合であり、 Ｒ^１６及びＲ^２０がＣ_１−Ｃ_２５アルキルまたはフェニルであり、 Ｒ^１９がヘキサデシルまたは式Ｂ２ａの基であり、 Ｒ^２５及びＲ^２７がメチレンであり、 Ｒ２６が直接結合であり、 Ｒ^２８が２，２−ジメチルエチレンであり、 Ｒ^２９が１，１−ジメチルエチレンであり、 Ｒ^３０がｎ−ブチルであり、 Ｒ^３１、Ｒ^３３及びＲ^３４が互いに独立に、イソオクチル、シクロヘキシルま
たは２，２，６，６−テトラメチルピペリド−４−イルを表し、基Ｒ^３１、Ｒ^{３ ３} 及びＲ^３４の少なくとも１つが必ず２，２，６，６−テトラメチルピペリド−
４−イルであり、 Ｒ^３２がヘキサメチレンであり、 Ｒ^３５及びＲ^３６が互いに独立にＲ^３４と同義の基を表すか、または、Ｒ^３５ とＲ^３６とはそれらが結合している窒素原子と共に６員環の複素環を形成し、こ
の複素環は更に１個の酸素原子を含むのでモルホリンであり、基Ｒ^３１、Ｒ^３３ 、Ｒ^３５及び／またはＲ^３６の少なくとも１つが必ず２，２，６，６−テトラメ
チルピペリド−４−イル基であり、 Ｒ^３７がメチルであり、 Ｒ^３８がトリメチレンであり、 ｎ_５′、ｎ_５′′、ｎ_５′′′が２−４である。

【００７９】 特に好ましいポリマーＨＡＬＳ化合物としては以下の物質がある：

【００８０】

【化３１】

【００８１】 式Ｂ′１０ａ： Ｈ_２Ｎ−（ＣＨ_２）_３−ＮＨ−（ＣＨ_２）_２−ＮＨ−（ＣＨ_２）_３−ＮＨ_２（Ｂ
′１０ａ）のポリアミンとシアヌルクロリドとの反応によって得られた生成物を
、式Ｂ′１０ｂ：

【００８２】

【化３２】 の化合物と反応させることによって得られた生成物Ｂ′１０。

【００８３】 ここに、Ｂ′１０は式Ｂ４−１′、Ｂ４−２′またはＢ４−３′

【００８４】

【化３３】 の化合物またはそれらの混合物〔ｎ_５は１−２０〕である。

【００８５】 特に好ましい例は、^ＲＴＭＣｈｉｍａｓｓｏｒｂ ９４４、^ＲＴＭＴｉｎｕｖ
ｉｎ ６２２、^ＲＴＭＤａｓｔｉｂ １０８２、^ＲＴＭＵｖａｓｏｒｂ ＨＡ
８８、^ＲＴＭＵｖｉｎｕｌ ５０５０、^ＲＴＭＬｏｗｉｌｉｔｅ ６２、^ＲＴＭ Ｕｖａｓｉｌ ２９９、^ＲＴＭＣｙａｓｏｒｂ ３３４６、^ＲＴＭＭＡＲＫ Ｌ
Ａ ６３、^ＲＴＭＭＡＲＫ ＬＡ ６８または^ＲＴＭＬｕｃｈｅｍ Ｂ１８であ
る。

【００８６】 また、例えば欧州特許公開ＥＰ−Ａ−２５２８７７、ＥＰ−Ａ−７０９４２６
、Ｒｅｓｅａｒｃｈ Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅ Ｊａｎ．１９９３，Ｎｏ．３４５
４９及びＥＰ−Ａ−７２３９９０に記載されているようなポリマーＨＡＬＳ安定
剤の組合せも好適である。

【００８７】 適当なオルガノホスファイト及びオルガノホスホナイトは式Ｃ１−Ｃ７の化合
物である：

【００８８】

【化３４】 〔式中、添え字は整数であり、 ｎ′は２、３または４；ｕは１または２；ｔは２または３；ｙは１、２または３
；及びｚは１−６であり； ｎ′が２のとき、Ａ′は２−８個の炭素原子を有するアルキレン、−Ｓ−、−Ｏ
−または−ＮＲ′_４−が割込んだ２−１２個の炭素原子を有するアルキレン、式

【００８９】

【化３５】 のいずれか１つで示される基またはフェニレンを表し； ｎ′が３のとき、Ａ′は式−Ｃ_ｒＨ_２ｒ−１の基を表し； ｎ′が４のとき、Ａ′は式Ｃ（ＣＨ_２）_４−の基を表し； ｎ′が２のとき、Ａ′′はＡ′と同義であり； Ｂ’は、式−ＣＨ_２−、−ＣＨＲ′_４−、−ＣＲ′_１Ｒ′_４−、−Ｓ−の基ま
たは直接結合を表すか、または、Ｃ_５−Ｃ_７シクロアルキリデンを表すか、また
は、３位、４位及び／または５位が１−４個のＣ_１−Ｃ_４アルキル基で置換され
たシクロヘキシリデンを表し； Ｄ′は、ｕが１のときメチル、ｕが２のとき−ＣＨ_２ＯＣＨ_２−であり； Ｅ′は、ｙが１のとき１−１８個の炭素原子を有するアルキル、フェニル、式
−ＯＲ′の基；またはハロゲンであり； Ｅ′は、ｙが２のとき、式−Ｏ−Ａ′′−Ｏ−の基であり； Ｅ′は、ｙが３のとき、式Ｒ′_４Ｃ（ＣＨ_２Ｏ）_３−またはＮ（ＣＨ_２−ＣＨ _２ −Ｏ−）_３の基であり； Ｑ’は、少なくともＺ価のアルコールまたはフェノールの基を表し、アルコー
ル系またはフェノール系の（１個または複数の）酸素原子によって（１個または
複数の）リン原子にそれぞれ連結されており； Ｒ′_１、Ｒ′_２及びＲ′_３は互いに独立に、１−３０個の炭素原子を有するア
ルキル；１−１８個の炭素原子を有するハロゲン−、−ＣＯＯＲ′_４−、−ＣＮ
−または−ＣＯＮＲ′_４Ｒ′_４−置換アルキル；２−１８個の炭素原子を有する
−Ｓ−、−Ｏ−または−ＮＲ′_４−割込みアルキル；フェニル−Ｃ_１−Ｃ_４アル
キル；５−１２個の炭素原子を有するシクロアルキル；フェニルまたはナフチル
；ハロゲン、合計で１−１８個の炭素原子を有する１−３個のアルキル基もしく
はアルコキシ基またはフェニル−Ｃ_１−Ｃ_４−アルキルによって置換されたフェ
ニルまたはナフチル；あるいは式

【００９０】

【化３６】 ｛ここに、ｗは３−６の整数｝の基を表し、； １個または複数のＲ′_４は互いに独立に、水素、１−１８個の炭素原子を有す
るアルキル、５−１２個の炭素原子を有するシクロアルキルまたはアルキル部分
に１−４個の炭素原子を有するフェニルアルキルを表し； Ｒ′_５及びＲ′_６は互いに独立に、水素、１−８個の炭素原子を有するアルキ
ルまたは５個もしくは６個の炭素原子を有するシクロアルキルを表し； Ｒ′_７及びＲ′_８は、ｔ＝２のときは互いに独立にＣ_１−Ｃ_４アルキルを表す
かまたは一緒に２，３−デヒドロペンタメチレン基を表し； Ｒ′_７及びＲ′_８は、ｔ＝３のときはメチルであり； 置換基Ｒ′_１４は互いに独立に、水素、１−９個の炭素原子を有するアルキル
またはシクロヘキシルを表し； 置換基Ｒ′_１５は互いに独立に水素またはメチルを表し、 Ｒ′_１６は水素またはＣ_１−Ｃ_４アルキルであり、２個以上の基Ｒ′_１６が存
在するときは、複数の基Ｒ′_１６が同じ基または異なる基を表し、 Ｘ′及びＹ′の各々は直接結合または−Ｏ−であり； Ｚは直接結合；−ＣＨ_２−；−Ｃ（Ｒ′_１６）_２−または−Ｓ−である。

【００９１】 式Ｃ１、Ｃ２、Ｃ５またはＣ６のいずれかで示される特に好ましいホスファイ
トまたはホスホナイトは、式中の、 ｎ′が２であり、ｙが１または２であり； Ａ′は、２−１８個の炭素原子を有するアルキレン；ｐ−フェニレンまたはｐ
−ビフェニレンであり； Ｅ′は、ｙ＝１のときはＣ_１−Ｃ_１８アルキル、−ＯＲ_１またはフッ素であり
；ｙ＝２のときはｐ−ビフェニレンであり； Ｒ′_１、Ｒ′_２及びＲ′_３は互いに独立に、１−１８個の炭素原子を有するア
ルキル；フェニル−Ｃ_１−Ｃ_４アルキル；シクロヘキシル；フェニル；または合
計で１−１８個の炭素原子を有する１−３個のアルキル基で置換されたフェニル
を表し； 複数の置換基Ｒ′_１４は互いに独立に水素または１−９個の炭素原子を有する
アルキルを表し； Ｒ′_１５は水素またはメチルであり； Ｘ′は直接結合であり； Ｙ′は−Ｏ−であり； Ｚ′は直接結合または−ＣＨ（Ｒ′_１６）−である。

【００９２】 式Ｃ１、Ｃ２、Ｃ５またはＣ６のいずれかで示される最も好ましいホスファイ
トまたはホスホナイトは、式中の、 ｎ′が２であり、ｙが１であり； Ａ′がｐ−ビフェニレンであり； Ｅ′がＣ_１−Ｃ_１８アルコキシであり； Ｒ′_１、Ｒ′_２及びＲ′_３が互いに独立に、合計で２−１２個の炭素原子を有
する２個または３個のアルキル基で置換されたフェニルを表し； 複数の置換基Ｒ′_１４が互いに独立にメチルまたはｔ−ブチルを表し； Ｒ′_１５が水素であり； Ｘ′が直接結合であり； Ｙ′が−Ｏ−であり； Ｚ′が直接結合、、−ＣＨ_２−または−ＣＨ（ＣＨ_３）−である。

【００９３】 式Ｃ′１−Ｃ′１２のリン化合物の特に好ましい例を以下に示す：

【００９４】

【化３７】 式Ｃ′３中の２個のリン置換基はビフェニル親構造の主として４位及び４′位
に存在する。

【００９５】

【化３８】

【００９６】 上記のホスファイト及びホスホナイトは公知化合物であり、それらの幾つかは
市販されている。

【００９７】 以下の安定剤混合物が本発明の特に好適な実施態様である： 化合物Ｉと^ＲＴＭＩｒｇａｆｏｓ ３８、 化合物Ｉと^ＲＴＭＩｒｇａｆｏｓ １２、 化合物Ｉと^ＲＴＭＨｏｓｔａｎｏｘ ＰＡＲ ２４、 化合物Ｉと^ＲＴＭＨｏｓｔａｎｏｘ ＯＳＰ １、 化合物Ｉと^ＲＴＭＳａｎｄｏｓｔａｂ Ｐ−ＥＰＱ、 化合物Ｉと^ＲＴＭＵｌｔｒａｎｏｘ ６２６、 化合物Ｉと^ＲＴＭＵｌｔｒａｎｏｘ ６１８、 化合物Ｉと^ＲＴＭＭａｒｋ ＰＥＰ−３６（Ａｓａｈｉ Ｄｅｎｋａ製） 化合物Ｉと^ＲＴＭＭａｒｋ ＨＰ１０（Ａｓａｈｉ Ｄｅｎｋａ製） 化合物Ｉと^ＲＴＭＤｏｖｅｒｐｈｏｓ ９２２８。

【００９８】 ホスファイト及び／またはホスホナイトは、有機材料を安定させるために化合
物（Ｉ）の作用を相乗的に支持するので、化合物（Ｉ）とホスファイト及びホス
ホナイトとの組合せも極めて好適である。この種の相乗効果は、欧州特許公開Ｅ
Ｐ−Ａ−３５９２７６及びＥＰ−Ａ−５６７１１７に記載されている。特に適当
な混合物は、化合物（Ｉ）と式Ｃ′１−Ｃ′１２のホスファイト及び／またはホ
スホナイトとの混合物である。

【００９９】 化合物（Ｉ）はまた、ホスファイト及び／またはホスホナイト及び／または立
体障害フェノール及び／または酸スカベンジャーとも極めて好適に組合せること
ができる。特に好適な組合せは、ドイツ特許公開ＤＥ−Ａ−１９５３７１４０に
記載されているような化合物（Ｉ）とホスファイト及び／またはホスホナイト、
フェノール及び酸スカベンジャーとの混合物である。

【０１００】 化合物（Ｉ）及び上記のような混合物はまた、別の安定剤、特に例えばＵＶ吸
収剤（２−ヒドロキシベンゾフェノンまたは２−ヒドロキシフェニルベンゾトリ
アゾール、シンナミン酸誘導体、オキサニリド）のクラスから選択されるような
光安定剤及び／またはニッケル消光剤との相乗的な組合せに適している。

【０１０１】 上記の混合物中で、式（Ｉ）の化合物の割合は１−９９重量％でよい。

【０１０２】 化合物（Ｉ）はまた、欧州特許公開ＥＰ−Ａ−４２９７３１から類推して^{ＲＴ Ｍ} ＤＨＴ４Ａのようなゼオライトまたはハイドロタルサイトとの組合せ使用に適
している。

【０１０３】 化合物（Ｉ）及び上記の混合物はまた、１種以上のＮ，Ｎ−ジアルキル置換ヒ
ドロキシルアミン、好ましくはＮ，Ｎ−ジオクタデシルヒドロキシルアミンと組
合せることもできる。

【０１０４】 更に、化合物（Ｉ）は、金属カルボキシレート、金属酸化物、金属水酸化物、
金属炭酸塩及び／またはゼオライト及び／またはハイドロタルサイトから成るグ
ループから選択される１種または複数の塩基性またはその他の酸結合安定化助剤
と組合せることもできる。

【０１０５】 好ましい安定化助剤は、ステアリン酸カルシウム及び／またはステアリン酸マ
グネシウム及び／または酸化マグネシウム及び／または酸化亜鉛及び／または酸
化亜鉛含有炭酸塩及び／またはハイドロタルサイトである。

【０１０６】 特に好ましい安定化助剤は、^ＲＴＭＺｉｎｋｏｘｉｄ ａｋｔｉｖ、^ＲＴＭＺ
ｉｎｋｏｘｉｄ ｔｒａｎｓｐａｒｅｎｔ及び／またはハイドロタルサイトの１
つ、^ＲＴＭＤＨＴ ４Ａ、^ＲＴＭＤＨＴ４ Ａ２、^ＲＴＭＫｙｏｗａａｄ ２０
０、^ＲＴＭＫｙｏｗａａｄ ３００、^ＲＴＭＫｙｏｗａａｄ ４００、^ＲＴＭＫ
ｙｏｗａａｄ ５００、^ＲＴＭＫｙｏｗａａｄ ６００、^ＲＴＭＫｙｏｗａａｄ
７００、^ＲＴＭＫｙｏｗａａｄ １０００及び^ＲＴＭＫｙｏｗａａｄ ２００
０である。

【０１０７】 本発明によれば、式Ｉの化合物を単独でまたは別の安定剤と組合せて、製造中
及び加工中のプラスチック基板またはプラスチック被覆基板を安定化させるため
に使用する。

【０１０８】 このような材料の例を以下に挙げる： １．モノオレフィン及びジオレフィンのポリマー、例えば、ポリプロピレン、
ポリイソブチレン、ポリ−１−ブテン、ポリ−４−メチル−１−ペンテン、ポリ
イソプレンまたはポリブタジエン、並びに、シクロオレフィンのポリマー、例え
ば、シクロペンテンまたはノルボルネンのポリマー；更にポリエチレン（任意に
架橋されている）、例えば、高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、高密度高分子量
ポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＨＭＷ）、高密度超高分子量ポリエチレン（ＨＤＰＥ
−ＵＨＭＷ）、中密度ポリエチレン（ＨＭＤＰＥ）、低密度ポリエチレン（ＬＤ
ＰＥ）、直鎖状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）、分枝状低密度ポリエチレン
（ＢＬＤＰＥ）。

【０１０９】 ポリオレフィン、即ち、前文節で例示したモノオレフィンのポリマー、特に、
ポリエチレン及びポリプロピレンは、種々の方法、特に以下の方法によって製造
できる： （ａ）フリーラジカル重合（通常は高圧及び高温下で行う） （ｂ）通常は周期表のＩＶｂ、Ｖｂ、ＶＩｂまたはＶＩＩＩ族の金属を１種以
上含有する触媒を使用した触媒重合。これらの金属は通常は、酸化物、ハロゲン
化物、アルコラート、エステル、エーテル、アミン、アルキル、アルケニル及び
＼またはアリールのような、π−またはσ−配位され得る配位子を１つ以上有し
ている。これらの金属錯体は遊離形態でもよく、支持体、例えば活性化された塩
化マグネシウム、塩化チタン（ＩＩＩ）、アルミナもしくは酸化ケイ素に固定さ
れていてもよい。これらの触媒は重合媒質に可溶性であっても不溶性であっても
よい。触媒はそのままでも重合中に活性であり得るが、別の活性化剤、例えば金
属アルキル、金属水素化物、金属アルキルハロゲン化物、金属アルキル酸化物ま
たは金属アルキルオキサンを使用してもよい。これらのは金属は周期表のＩａ、
ＩＩａ及び／またはＩＩＩａ族の元素である。活性化剤は例えば、別のエステル
、エーテル、アミンまたはシリルエーテル基によって修飾されてもよい。これら
の触媒系は通常は、Ｐｈｉｌｌｉｐｓ，Ｓｔａｎｄａｒｄ Ｏｉｌ Ｉｎｄｉａ
ｎａ，チーグラー（−ナッタ），ＴＮＺ（ＤｕＰｏｎｔ）、メタロセンまたはシ
ングルサイトカタリスト（ＳＳＣ）と呼ばれる。

【０１１０】 ２．前項（１）に記載のポリマーの混合物、例えば、ポリプロピレンとポリイ
ソブチレンとの混合物、ポリエチレンとポリイソブチレンとの混合物、ポリプロ
ピレンとポリエチレンとの混合物（例えばＰＰ／ＨＤＰＥ／ＬＤＰＥ）、異なる
種類のポリエチレン相互の混合物（例えばＬＤＰＥ／ＨＤＰＥ）。

【０１１１】 ３．モノオレフィン及びジオレフィン相互のコポリマーまたは別のビニルモノ
マーとのコポリマー、例えば、エチレン−プロピレンコポリマー、直鎖状低密度
ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）及びそれらの混合物と低密度ポリエチレン（ＬＤＰ
Ｅ）とのコポリマー、プロピレン−１−ブテンコポリマー、プロピレン−イソブ
チレンコポリマー、エチレン−１−ブテンコポリマー、エチレン−ヘキセンコポ
リマー、エチレン−メチルペンテンコポリマー、エチレン−ヘプテンコポリマー
、エチレン−オクテンコポリマー、プロピレン−ブタジエンコポリマー、イソブ
チレン−イソプレンコポリマー、エチレンアルキルアクリレートコポリマー、エ
チレンアルキルメタクリレートコポリマー、エチレン−酢酸ビニルコポリマー及
びそれらと一酸化炭素とのコポリマーまたはエチレン−アクリル酸コポリマー及
びそれらの塩（アイオノマー）並びにエチレンとプロピレン及びジエン例えばヘ
キサジエン、ジシクロペンタジエンもしくはエチリデン−ノルボルネンとのター
ポリマー；これらのコポリマーの互いの混合物及び前項（１）に記載のポリマー
との混合物、例えば、ポリプロピレン−エチレン−プロピレンコポリマー、ＬＤ
ＰＥ−エチレン−酢酸ビニルコポリマー、ＬＤＰＥ−エチレン−アクリル酸コポ
リマー、ＬＬＤＰＥ−エチレン−酢酸ビニルコポリマー、ＬＬＤＰＥ−エチレン
−アクリル酸コポリマー、ポリアルキレン−一酸化炭素の交互またはランダムコ
ポリマー、それらと別のポリマー例えばポリアミドとの混合物。

【０１１２】 ４．その水素化改質樹脂（例えば粘着付与樹脂）、並びに、ポリアルキレン及
びデンプンとの混合物、などの炭化水素樹脂（例えばＣ_５−Ｃ_９）。

【０１１３】 ５．ポリスチレン、ポリ（ｐ−メチルスチレン）、ポリ（α−メチルスチレン
）。

【０１１４】 ６．スチレンまたはα−メチルスチレンとジエンまたはアクリル酸誘導体との
コポリマー、例えば、スチレン−ブタジエン、スチレン−アクリロニトリル、ス
チレンアルキルメタクリレート、スチレン−ブタジエンアルキルアクリレート、
スチレン−ブタジエンアルキルメタクリレート、スチレン−無水マレイン酸、ス
チレン−アクリロニトリル−メタクリレート；スチレンコポリマーと別のポリマ
ーとの高衝撃強度をもつ混合物、例えばポリアクリレート、ジエンポリマーまた
はエチレン−プロピレン−ジエンターポリマー；スチレンのブロックコポリマー
、例えば、スチレン−ブタジエン−スチレン、スチレン−イソプレン−スチレン
、スチレン−エチレン／ブチレン−スチレンまたはスチレン−エチレン／プロピ
レン−スチレン。

【０１１５】 ７．スチレンまたはα−メチルスチレンのグラフトコポリマー、例えばスチレ
ンがグラフトしたポリブタジエン、スチレンがグラフトしたポリブタジエン−ス
チレンまたはポリブタジエン−アクリロニトリルコポリマー、スチレン及びアク
リロニトリル（またはメタクリロニトリル）がグラフトしたポリブタジエン；ス
チレン、アクリロニトル及びメチルメタクリレートがグラフトしたポリブタジエ
ン；スチレン及び無水マレイン酸がグラフトしたポリブタジエン；スチレン、ア
クリロニトリル及び無水マレイン酸またはマレイミドがグラフトしたポリブタジ
エン；スチレン及びマレイミドがグラフトしたポリブタジエン；スチレン及びア
ルキルアクリレートまたはアルキルメタクリレートがグラフトしたポリブタジエ
ン、スチレン及びアクリロニトリルがグラフトしたエチレン−プロピレン−ジエ
ンターポリマー、スチレン及びアクリロニトリルがグラフトしたポリアルキルア
クリレートまたはポリアルキルメタクリレート、スチレン及びアクリロニトリル
がグラフトしたアクリレート−ブタジエンコポリマー、並びに、それらと前項（
６）に記載のコポリマーとの混合物、例えば、ＡＢＳ、ＭＢＳ、ＡＳＡまたはＡ
ＥＳポリマーとして公知のコポリマー混合物。

【０１１６】 ８．ハロゲン含有ポリマー、例えば、ポリクロロプレン、塩素化ゴム、イソブ
チレン−イソプレンの塩素化及び臭素化コポリマー（ハロブチルゴム）、塩素化
またはスルホ塩素化ポリエチレン、エチレンと塩素化エチレンとのコポリマー、
エピクロロヒドリンホモ−及びコポリマー、特にハロゲン含有ビニル化合物のポ
リマー、例えば、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、ポ
リフッ化ビニリデン；並びに、それらのコポリマー、例えば、塩化ビニル−塩化
ビニリデン、塩化ビニル−酢酸ビニルまたは塩化ビニリデン−酢酸ビニル。

【０１１７】 ９，α，β−不飽和酸及びその誘導体に由来のポリマー、例えば、ポリアクリ
レート及びポリメタクリレート、ポリアクリロニトリル、ポリアクリルアミド及
びポリメチルメタクリレート（ブチルアクリレートで衝撃改質）。

【０１１８】 １０．前項（９）に記載のモノマーの互いのコポリマーまたは別の不飽和モノ
マーとのコポリマー、例えば、アクリロニトリル−ブタジエンコポリマー、アク
リロニトリルアルキルアクリレートコポリマー、アクリロニトリルアルコキシア
ルキルアクリレートコポリマー、アクリロニトリル−ハロゲン化ビニルコポリマ
ーまたはアクリロニトリルアルキルメタクリレート−ブタジエンターポリマー。

【０１１９】 １１．不飽和アルコール及びアミンまたはそのアシル誘導体またはアセタール
に由来のポリマー、例えば、ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリステ
アリン酸ビニル、ポリ安息香酸ビニル、ポリマレイン酸ビニル、ポリビニルブチ
ラール、ポリフタル酸アリルまたはポリアリルメラミン；並びに、それらと項（
１）に記載のオレフィンとのコポリマー。

【０１２０】 １２．ポリアルキレングリコール、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオ
キシドのような環状エーテルのホモポリマー及びコポリマーまたはこれらとビス
グリセリドエーテルとのコポリマー。

【０１２１】 １３．ポリオキシメチレン及びコモノマーを含有するポリオキシメチレンのよ
うなポリアセタール例えばエチレンオキシド；熱可塑性ポリウレタン、アクリレ
ートまたはＭＢＳで改質されたポリアセタール、。

【０１２２】 １４．ポリフェニレンオキシド及びスルフィド、それらとスチレンポリマーま
たはポリアミドとの混合物。

【０１２３】 １５．一方でヒドロキシル末端をもつポリエーテル、ポリエステル及びポリブ
タジエン及び他方で脂肪族または芳香族ポリイソシアナートに由来するポリウレ
タン、並びに、それらの前駆物質。

【０１２４】 １６．ジアミンとジカルボン酸とに由来の及び／またはアミノカルボン酸また
は対応するラクタムに由来のポリアミド及びコポリアミド、例えば、ポリアミド
４、６、６／６、６／１０、６／９、６／１２、４／６、１２／１２、１１及び
１２、ｍ−キシレン、ジアミン及びアジピン酸を出発材料とする芳香族ポリアミ
ド；ヘキサメチレンジアミンとイソフタル酸及び／またはテレフタル酸とからエ
ラストマー改質剤添加または不添加で製造されたポリアミド、例えば、ポリ−２
，４，４−トリメチルヘキサメチレンテレフタルアミドまたはポリ−ｍ−フェニ
レンイソフタルアミド。上記ポリアミドと、ポリオレフィン、オレフィンコポリ
マー、アイオノマーまたは化学的に結合またはグラフトしたエラストマーとのブ
ロックコポリマー；または、ポリエーテル、例えばポリエチレングリコール、ポ
リプロピレングリコールまたはポリテトラメチレングリコールとのブロックコポ
リマー。ＥＰＤＭまたはＡＢＳで改質されたポリアミドまたコポリアミド；加工
中に縮合したポリアミド（ＲＩＭポリアミド系）。

【０１２５】 １７．ポリウレア、ポリイミド、ポリアミド−イミド、ポリエーテルイミド、
ポリエステルアミド、ポリヒダントイン及びポリベンズイミダゾール。

【０１２６】 １８．ジカルボン酸とジアルコールに由来の及び／またはヒドロキシカルボン
酸または対応するラクトンに由来のポリエステル、例えば、ポリエチレンテレフ
タレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−１，４−ジメチロールシクロヘ
キサンテレフタレート、ポリヒドロキシベンゾエート、並びに、ヒドロキシル末
端をもつポリエーテルに由来のブロックポリエーテルエステル；ポリカーボネー
トまたはＭＢＳで改質されたポリエステル。

【０１２７】 １９．ポリカーボネート及びポリエステルカーボネート。

【０１２８】 ２０．ポリスルホン、ポリエーテルスルホン及びポリエーテルケトン。

【０１２９】 ２１．一方でアルデヒドに由来し他方でフェノール、尿素またはメラミンに由
来する架橋ポリマー、例えば、フェノール／ホルムアルデヒド樹脂、尿素／ホル
ムアルデヒド樹脂及びメラミン／ホルムアルデヒド樹脂。

【０１３０】 ２２．乾燥性及び非乾燥性のアルキド樹脂。

【０１３１】 ２３．飽和及び不飽和のジカルボン酸と多価アルコール及び架橋剤となるビニ
ル化合物とから誘導された不飽和ポリエステル樹脂、それらのハロゲン含有難燃
性改質物。

【０１３２】 ２４．置換アクリレート、例えば、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレ
ートまたはポリエステルアクリレートから誘導された架橋性アクリル樹脂。

【０１３３】 ２５．メラミン樹脂、尿素樹脂、イソシアナート、イソシアヌレート、ポリイ
ソシアナートまたはエポキシ樹脂で架橋されたアルキド樹脂、ポリエステル樹脂
及びアクリル樹脂。

【０１３４】 ２６．脂肪族、脂環式、複素環式または芳香族グリシジル化合物に由来の架橋
エポキシ樹脂、例えば、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、ビスフェノー
ルＦジグリシジルエーテルが例えば無水物またはアミンのような常用の硬化剤に
よって促進剤添加または不添加で架橋されることによって得られた生成物。

【０１３５】 ２７．セルロース、天然ゴム、ゼラチンのような天然ポリマー、ポリマー相応
的に化学的に改質されたそれらの誘導体、例えば、酢酸セルロース、プロピオン
酸セルロース及び酪酸セルロース、または、メチルセルロースのようなセルロー
スエーテル；並びにロジン及び誘導体。

【０１３６】 ２８．上記ポリマーの混合物、例えば、ＰＰ／ＥＰＤＭ、ポリアミド／ＥＰＤ
ＭまたはＡＢＳ、ＰＶＣ／ＥＶＡ、ＰＶＣ／ＡＢＳ、ＰＶＣ／ＭＢＳ、ＰＣ／Ａ
ＢＳ、ＰＢＴＰ／ＡＢＳ、ＰＣ／ＡＳＡ、ＰＣ／ＰＢＴ、ＰＶＣ／ＣＰＥ、ＰＶ
Ｃ／アクリレート、ＰＯＭ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＣ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＯＭ／
アクリレート、ＰＯＭ／ＭＢＳ、ＰＰＯ／ＭＢＳ、ＰＰＯ／ＨＩＰＳ、ＰＰＯ／
ＰＡ６．６及びコポリマー、ＰＡ／ＨＤＰＥ、ＰＡ／ＰＰ、ＰＡ／ＰＰＯ、ＰＢ
Ｔ／ＡＢＳまたはＰＢＴ／ＰＥＴ／ＰＣ。

【０１３７】 ２９．純粋なモノマー化合物を構成する天然及び合成の有機物またはそれらの
混合物、例えば、鉱油、動物性もしくは植物性の油脂及び蝋、または、合成エス
テル（例えば、フタレート、アジペート、ホスホネートまたはトリメリテート）
を基剤とする油脂及び蝋、また、例えば紡糸表面処理剤として使用されるような
合成エステルと鉱油との所望の任意の重量比のブレンド及びそれらの水性エマル
ジョン。

【０１３８】 ３０．天然ゴムまたは合成ゴムの水性エマルジョン、例えばカルボキシレート
スチレン−ブタジエンコポリマーの天然ゴムラテックス。

【０１３９】 本発明の式（Ｉ）の化合物によってまたはこの化合物を含む適当な組合せによ
って安定化される有機材料は所望ならばの添加剤を更に含み得る。このような添
加剤の例は、抗酸化剤、光安定剤、金属失活剤、帯電防止剤、難燃剤、潤滑剤、
核生成剤、酸スカベンジャー（塩基性安定化助剤）、顔料及び充填剤である。本
発明の化合物または化合物の組合せに加えて添加される抗酸化剤及び光安定剤は
例えば、立体障害アミン、立体障害フェノールまたはイオウ−もしくはリン−含
有安定化助剤である。補助的に組合せ使用され得る適当な添加剤の例は以下の化
合物である。

【０１４０】 １．抗酸化剤 １．１．アルキル化モノフェノール類、例えば、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４
−メチルフェノール、２−ブチル−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジ−
ｔ−ブチル−４−エチルフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−ｎ−ブチル
フェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−イソブチルフェノール、２，６−ジ
シクロペンチル−４−メチルフェノール、２−（α−メチルシクロヘキシル）−
４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジオクタデシル−４−メチルフェノール
、２，４，６−トリシクロヘキシルフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−
メトキシメチルフェノール、直鎖状または側鎖が分岐したノニルフェノール、例
えば、２，６−ジ−ノニル−４−メチルフェノール、２，４−ジメチル−６−（
１−メチル−１′−ウンデシル）フェノール、２，４−ジメチル−６−（１′−
メチル−１′−ヘプタデシル）フェノール、２，４−ジメチル−６−（１′−メ
チル−１′−トリデシル）フェノール、及び、それらの混合物。

【０１４１】 １．２．アルキルチオメチルフェノール類、例えば、２，４−ジオクチルチオ
メチル−６−ｔ−ブチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−メチ
ルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−エチルフェノール、２，６
−ジドデシルチオメチル−４−ノニルフェノール。

【０１４２】 １．３．ヒドロキノン類及びアルキル化ヒドロキノン類、例えば、２，６−ジ
−ｔ−ブチル−４−メトキシフェノール、２，５−ジ−ｔ−ブチルヒドロキノン
、２，５−ジ−ｔ−アミルヒドロキノン、２，６−ジフェニル−４−オクタデシ
ルオキシフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチルヒドロキノン、２，５−ジ−ｔ−
ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ
アニソール、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルステアレート、
ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）アジペート。

【０１４３】 １．４．ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル類、例えば、２，２’−チオ
ビス（６−ｔ−４−メチルフェノール）、２，２′−チオビス（４−オクチルフ
ェノール）、４，４′−チオビス（６−ｔ−ブチル−３−メチルフェノール）、
４，４′−チオビス（６−ｔ−ブチル−２−メチルフェノール）、４，４′−チ
オビス（３，６−ジ−ｓｅｃ−アミルフェノール）、４，４′−ビス（２，６−
ジメチル−４−ヒドロキシフェノール）ジスルフィド。

【０１４４】 １．５．アルキリデンビスフェノール、例えば、２，２′−メチレンビス（６
−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール）、２，２′−メチレンビス（６−ｔ−ブ
チル−４−エチルフェノール）、２，２′−メチレンビス〔４−メチル−６−（
α−メチルシクロヘキシル）フェノール〕、２，２′−メチレンビス（４−メチ
ル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，２′−メチレンビス（６−ノニル−
４−メチルフェノール）、２，２′−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフ
ェノール）、２，２′−エチリデンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール）
、２，２′−エチリデンビス（６−ｔ−ブチル−４−イソブチルフェノール）、
２，２′−メチレンビス〔６−（α−メチルベンジル）−４−ノニルフェノール
〕、２，２′−メチレンビス〔６−（α，α−ジメチルベンジル）−４−ノニル
フェノール〕、４，４′−メチレンビス（２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール）
、４，４′−メチレンビス（６−ｔ−ブチル−２−メチルフェノール）、１，１
−ビス（５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、２，
６−ビス（３−ｔ−ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メチ
ルフェノール、１，１，３−トリス（５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メ
チルフェニル）ブタン、１，１−ビス（５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−
メチルフェニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、ビス（３−ｔ−ブチル
−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−ジシクロペンタジエン、ビス〔２−
（３′−ｔ−ブチル−２′−ヒドロキシ−５′−メチルベンジル）−６−ｔ−ブ
チル−４−メチルフェニル〕テレフタレート、１，１−ビス（３，５−ジメチル
−２−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−
４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（５−ｔ−ブチル−４−ヒド
ロキシ−２−メチルフェニル）−４−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、１，１，
５，５−テトラ−（５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ペ
ンタン、エチレングリコールビス〔３，３−ビス（３′−ｔ−ブチル−４′−ヒ
ドロキシフェニル）ブチレート〕。

【０１４５】 １．６．Ｏ−、Ｎ−及びＳ−ベンジル化合物類、例えば、３，５，３′，５′
−テトラ−ｔ−ブチル−４，４′−ジヒドロキシベンジルエーテル、オクタデシ
ル４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジルメルカプトアセテート、トリス（
３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）アミン、ビス（４−ｔ−ブ
チル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）ジチオテレフタレート、ビ
ス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）スルフィド、イソオク
チル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルメルカプトアセテート、
トリデシル４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルベンジルメルカプトアセテ
ート。

【０１４６】 １．７．ヒドロキシベンジル化したマロン酸類、例えば、２，２−ビス（３，
５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシベンジル）マロン酸ジオクタデシル、２−
（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）マロン酸ジオクタデ
シル、２，２−ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロ
ン酸ジドデシルメルカプトエチル、ジ−〔４−（１，１，３，３−テトラメチル
ブチル）フェニル〕２，２−ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベ
ンジル）マロン酸塩。

【０１４７】 １．８．芳香族ヒドロキシベンジル化合物類、例えば、１，３，５−トリス（
３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメチル
ベンゼン、１，４−ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）
−２，３，５，６−テトラメチルベンゼン、２，４，６−トリス（３，５−ジ−
ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）フェノール。

【０１４８】 １．９．トリアジン化合物類、例えば、２，４−ビスオクチルメルカプト−６
−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリア
ジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−
ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４
，６−ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，３，
５−トリアジン、２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキ
シフェノキシ）−１，２，３−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジ−
ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス
（４−ｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌレ
ート、２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル
エチル）−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブ
チル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサヒドロ−１，３，５−トリ
アジン、１，３，５−トリス（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシベン
ジル）イソシアヌレート。

【０１４９】 １．１０．ベンジルホスホン酸、例えば、２，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒド
ロキシベンジルホスホン酸ジメチル、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジルホスホン酸ジエチル、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ルホスホン酸ジオクタデシル、５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルベ
ンジルホスホン酸ジオクタデシル、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベ
ンジルホスホン酸のモノエチルエステルのＣａ塩。

【０１５０】 １．１１．アシルアミノフェノール類、例えば、４−ヒドロキシラウラニリド
、４−ヒドロキシステアリニド、Ｎ−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキ
シフェニル）カルバミン酸オクチル。

【０１５１】 １．１２．β−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピ
オン酸と、一価または多価アルコール、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−
オクタノール、イソオクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオー
ル、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール
、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール
、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル
）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）オキサラミド、３−
チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール
、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７
−トリオキサビシクロ〔２．２．２〕オクタンとのエステル。

【０１５２】 １．１３．β−（５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル−３−メチルフェ
ニル）プロピオン酸と、一価または多価アルコール、例えば、メタノール、エタ
ノール、ｎ−オクタノール、イソオクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘ
キサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロ
パンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレ
ングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒド
ロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）オキサ
ラミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキ
サンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ
−２，６，７−トリオキサビシクロ〔２．２．２〕オクタンとのエステル。

【０１５３】 １．１４．β−（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）プロ
ピオン酸と、一価または多価アルコール、例えば、メタノール、エタノール、ｎ
−オクタノール、イソオクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオ
ール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオー
ル、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチ
ル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）オキサラミド、３
−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオー
ル、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，
７−トリオキサビシクロ〔２．２．２〕オクタンとのエステル。

【０１５４】 １．１５．３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル酢酸と、一価ま
たは多価アルコール、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、イ
ソオクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナ
ンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグ
リコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレング
リコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレー
ト、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）オキサラミド、３−チアウンデカノー
ル、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロール
プロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシ
クロ〔２．２．２〕オクタンとのエステル。

【０１５５】 １．１６．３，３−ビス（３′ｔ−ブチル−４′−ヒドロキシフェニル）酪酸
と、一価または多価アルコール、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−オクタ
ノール、イソオクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１
，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオ
ペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリ
エチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソ
シアヌレート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）オキサラミド、３−チアウ
ンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリ
メチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリ
オキサビシクロ〔２．２．２〕オクタンとのエステル。

【０１５６】 １．１７．β−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピ
オン酸アミド、例えば、Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロ
キシフェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジアミン、Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５
−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）トリメチレンジアミ
ン、Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピ
オニル）ヒドラジン。

【０１５７】 １．１８．トコフェロール、例えば、α−トコフェロール、β−トコフェロー
ル、γ−トコフェロール、δ−トコフェロール及びそれらの混合物（ビタミンＥ
）。

【０１５８】 １．１９．アスコルビン酸（ビタミンＣ）。

【０１５９】 １．２０．アミン抗酸化剤、例えば、Ｎ，Ｎ′−ジイソプロピル−ｐ−フェニ
レンジアミン、Ｎ，Ｎ′−ジ−ｓｅｃ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，
Ｎ′−ビス（１，４−ジメチルフェニル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ′
−ビス（１−エチル−３−メチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ
′−ビス（１−メチルヘプチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ′−ジシク
ロヘキシル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−ｐ−フェニレン
ジアミン、Ｎ，Ｎ′−ジ（ナフチル−２）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−イソ
プロピル−Ｎ′−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１，３−ジメチル
ブチル）−Ｎ′−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１−メチルヘプチ
ル）−Ｎ′−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ′−
フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、４−（トルエンスルホンアミド）ジフェニ
ルアミン、Ｎ，Ｎ′−ジメチル−Ｎ，Ｎ′−ジ−ｓｅｃ−ブチル−ｐ−フェニレ
ンジアミン、ジフェニルアミン、Ｎ−アリルジフェニルアミン、４−イソプロポ
キシジフェニルアミン、Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン、Ｎ−（４−ｔ−オ
クチルフェニル）−１−ナフチルアミン、Ｎ−フェニル−２−ナフチルアミン、
ｐ，ｐ′−ジ−ｔ−オクチルジフェニルアミンのようなオクチル化ジフェニルア
ミン、４−ｎ−ブチルアミノフェノール、４−ブチリルアミノフェノール、４−
ノナノイルアミノフェノール、４−ドデカノイルアミノフェノール、４−オクタ
デカノイルアミノフェノール、ジ（４−メトキシフェニル）アミン、２，６−ジ
−ｔ−４−ジメチルアミノメチルフェノール、２，４′−ジアミノジフェニルメ
タン、４，４′−ジアミノジフェニルメタン、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチ
ル−４，４′−ジアミノジフェニルメタン、１，２−ジ−〔（２−メチルフェニ
ル）アミノ〕エタン、１，２−ジ−（フェニルアミノ）プロパン、（ｏ−トリル
）ビグアニド、ジ〔４−（１′，３′−ジメチルブチル）フェニル〕アミン、ｔ
−オクチル化Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン、モノ−及びジアルキル化ｔ−
ブチル／ｔ−オクチルジフェニルアミンの混合物、モノ−及びジアルキル化ノニ
ルジフェニルアミンの混合物、モノ−及びジアルキル化ドデシルジフェニルアミ
ンの混合物、モノ−及びジアルキル化イソプロピル／イソヘキシル−ジフェニル
アミンの混合物、モノ−及びジアルキル化ｔ−ブチルジフェニルアミンの混合物
、２，３−ジヒドロ−３，３−ジメチル−４Ｈ−１，４−ベンゾチアジン、フェ
ノチアジン、モノ−及びジアルキル化ｔ−ブチル／ｔ−オクチルフェノールチア
ジンの混合物、モノ−及びジアルキル化ｔ−オクチルフェノチアジンの混合物、
Ｎ−アリルフェノチアジン、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラフェニル−１，４−ジ
アミ−２−ブテン、Ｎ，Ｎ−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリ
ジニル）ヘキサメチレンジアミン、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−
ピペリジニル）セバシン酸塩、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジノ
ン、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジオール。

【０１６０】 ２．ＵＶ吸収剤及び光安定剤 ２．１．２−（２′−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、例えば２−
（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３′
，５′−ジ−ｔ−ブチル−２′−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２
−（５′−ｔ−ブチル−２′−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−
〔２′−ヒドロキシ−５′−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル
〕ベンゾトリアゾール、２−（３′，５′−ジ−ｔ−ブチル−２′−ヒドロキシ
フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３′−ｔ−ブチル−２′−
ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（
３′−ｓｅｃ−ブチル−５′−ｔ−ブチル−２′−ヒドロキシフェニル）ベンゾ
トリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−４′−オクトキシフェニル）ベンゾト
リアゾール、２−（３′，５′−ジ−ｔ−アミル−２′−ヒドロキシフェニル）
ベンゾトリアゾール、２−（３′，５′−ビス（α，α−ジメチルベンジル）−
２′−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３′−ｔ−ブチル−２
′−ヒドロキシ−５′−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）−
５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３′−ｔ−ブチル−５′−〔２−（２−
エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル〕−２′−ヒドロキシフェニル）−５
−クロロベンゾトリアゾール、２−（３′−ｔ−ブチル−２′−ヒドロキシ−５
′−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾ
ール、２−（３′−ｔ−ブチル−２′−ヒドロキシ−５′−（２−メトキシカル
ボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３′−ｔ−ブチル−２′
−ヒドロキシ−５′−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）ベン
ゾトリアゾール、２−（３′−ｔ−ブチル−５′−〔２−（２−エチルヘキシル
オキシ）カルボニルエチル〕−２′−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール
、２−（３′−ドデシル−２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾト
リアゾール、及び、２−（３′−ｔ−ブチル−２′−ヒドロキシ−５′−（２−
イソオクチルオキシカルボニルエチル）フェニルベンゾトリアゾール、２，２′
−メチレンビス〔４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２−フ
ェニル）ベンゾトリアゾリル〕の混合物；２−〔３′−ｔ−ブチル−５′−（２
−メトキシカルボニルエチル）−２′−ヒドロキシフェニル〕ベンゾトリアゾー
ルとポリエチレングリコール３００とのエステル交換反応生成物；〔Ｒ−ＣＨ_２ ＣＨ_２−ＣＯＯ（ＣＨ_２）_３〕_２、ここにＲ＝３′−ｔ−ブチル−４′−ヒドロ
キシ−５′−２Ｈ−（２−フェニル）ベンゾトリアゾリル。

【０１６１】 ２．２．２−ヒドロキシベンゾフェノン、例えば、４−ヒドロキシ、４−メト
キシ、４−オクトキシ、４−デシルオキシ、４−ドデシルオキシ、４−ベンジル
オキシ、４，２′，４′−トリヒドロキシ及び２′−ヒドロキシ−４，４′−ジ
メトキシ誘導体。

【０１６２】 ２．３．置換または未置換の安息香酸エステル類、例えば、４−ｔ−ブチルサ
リチル酸フェニル、サリチル酸フェニル、サリチル酸オクチルフェニル、ジベン
ゾイルレゾルシノール、ビス（４−ｔ−ブチルベンゾイル）レゾルシノール、ベ
ンゾイルレゾルシノール、４−ヒドロキシ安息香酸２，４−ジ−ｔ−ブチルフェ
ニル３，５−ジ−ｔ−ブチル、４−ヒドロキシ安息香酸ヘキサデシル３，５−ジ
−ｔ−ブチル、４−ヒドロキシ安息香酸オクタデシル３，５−ジ−ｔ−ブチル、
４−ヒドロキシ安息香酸２−メチル−４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル３，５−
ジ−ｔ−ブチル。

【０１６３】 ２．４．アクリレート類、例えば、エチルαシアノ−β，β−ジフェニルアク
リレートまたはイソオクチルαシアノ−β，β−ジフェニルアクリレート、α−
カルボメトキシシケイ皮酸メチル、αシアノ−β−メチル−ｐ−メトキシケイ皮
酸メチルまたはαシアノ−β−メチル−ｐ−メトキシケイ皮酸ブチル、α−カル
ボメトキシ−ｐ−メトキシケイ皮酸メチル及びＮ−（β−カルボメトキシ−βシ
アノビニル）−２−メチルインドリン。

【０１６４】 ２．５．ニッケル化合物、例えば、ｎ−ブチルアミン、トリエタノールアミン
またはＮ−シクロヘキシルジエタノールアミンのような追加の配位子を添加する
かまたは不添加の２，２′−チオ−ビス−〔４−（１，１，３，３−テトラメチ
ルブチル）フェノール〕の１：１または１：２ニッケル錯体、ニッケルジブチル
ジチオカーバメート、４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルベンジルホスホ
ン酸のメチルエステルまたエチルエステルのようなモノアルキルエステルのニッ
ケル塩、２−ヒドロキシ−４−メチルフェニルウンデシルケトキシムのようなケ
トキシムのニッケル錯体、追加の配位子を添加するかまたは不添加の１−フェニ
ル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシピラゾールのニッケル錯体。

【０１６５】 ２．６．立体障害アミン類、例えば、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−
４−ピペリジニル）セバケート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピ
ペリジニル）グルタレート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリ
ジニル）スクシネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリ
ジニル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジ
ニル）グルタレート、２，２，６，６−テトラメチルピペリジルベヘネート、１
，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジルベヘネート、１−ヒドロキシエチル
−２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジンとコハク酸との縮
合物、Ｎ，Ｎ′−ビス−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘ
キサメチレンジアミンと４−ｔ−オクチルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，
５−ｓ−トリアジンとの縮合物、トリス−（２，２，６，６−テトラメチル−４
−ピペリジル）ニトリロトリアセテート、テトラキス（２，２，６，６−テトラ
メチル−４−ピペリジル）１，２，３，４−ブタンテトラオエート、１，１′−
（１，２−エタンジイル）−ビス−（３，３，５，５−テトラメチルピペラジノ
ン）、４−ベンゾイル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−ステア
リルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−ステアロイルオキ
シ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−ステアロイルオキシ−１，
２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン、４−ステアリルオキシ−１，２，２
，６，６−ペンタメチルピペリジン、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル
ピペリジル）２−ｎ−ブチル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチル
ベンジル）マロネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）
２−ｎ−ブチル−２−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルベンジル）マ
ロネート、３−ｎ−オクチル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−ト
リアザスピロ〔４．５〕デカン−２，４−ジオン、ビス（１−オクチルオキシ−
２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）セバケート、ビス（１−オクチルオ
キシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）スクシネート、Ｎ，Ｎ′−ビ
ス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミン
と４−モルホリノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンとの縮合物、Ｎ
，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレ
ンジアミンと４−シクロヘキシルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリ
アジンとの縮合物、２−クロロ−４，６−ジ−（４−ｎ−ブチルアミノ−２，２
，６，６−テトラメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス
−（３−アミノプロピルアミノ）エタンとの縮合物、２−クロロ−４，６−ジ−
（４−メトキシプロピルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）−
１，３，５−トリアジンと１，２−ビス−（３−アミノプロピルアミノ）エタン
との縮合物、２−クロロ−４，６−ジ−（４−メトキシプロピルアミノ−１，２
，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−
ビス−（３−アミノプロピルアミノ）エタンとの縮合物、２−クロロ−４，６−
ジ−（４−ｎ−ブチルアミノ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）
−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス−（３−アミノプロピルアミノ）エタ
ンとの縮合物、２−クロロ−４，６−ジ−（４−ｎ−ブチルアミノ−２，２，６
，６−テトラメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンとアミンの全部の活
性水素原子がエチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミ
ン、ヘキサメチレンジアミン、１，２−ビス−（３−アミノプロピルアミノ）エ
タンなどで置換された単官能または多官能アミンとの反応生成物、２−クロロ−
４，６−ジ−（４−ｎ−ブチルアミノ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペ
リジル）−１，３，５−トリアジンとアミンの全部の活性水素原子がエチレンジ
アミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、ヘキサメチレンジア
ミン、１，２−ビス−（３−アミノプロピルアミノ）エタンなどで置換された単
官能または多官能アミンとの反応生成物、２−クロロ−４，６−ジ−（４−ｎ−
ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）−１，３，５−トリ
アジン及び４−ｔ−オクチルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−ｓ−トリ
アジンとアミンの全部の活性水素原子がエチレンジアミン、ジエチレントリアミ
ン、トリエチレンテトラミン、ヘキサメチレンジアミン、１，２−ビス−（３−
アミノプロピルアミノ）エタンなどで置換された単官能または多官能アミンとの
反応生成物、２−クロロ−４，６−ジ−（４−ｎ−ブチルアミノ−１，２，２，
６，６−ペンタメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジン及び４−ｔ−オク
チルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−ｓ−トリアジンとアミンの全部の
活性水素原子がエチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラ
ミン、ヘキサメチレンジアミン、１，２−ビス−（３−アミノプロピルアミノ）
エタンなどで置換された単官能または多官能アミンとの反応生成物、２−クロロ
−４，６−ジ−（４−ｎ−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリ
ジル）−１，３，５−トリアジン及び４−（４−ｎ−ブチルアミノ−２，２，６
，６−テトラメチルピペリジル）−２，６−ジクロロ−１，３，５−ｓ−トリア
ジンとアミンの全部の活性水素原子がエチレンジアミン、ジエチレントリアミン
、トリエチレンテトラミン、ヘキサメチレンジアミン、１，２−ビス−（３−ア
ミノプロピルアミノ）エタンなどで置換された単官能または多官能アミンとの反
応生成物、２−クロロ−４，６−ジ−（４−ｎ−ブチルアミノ−１，２，２，６
，６−ペンタメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジン及び４−（４−ｎ−
ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）−２，６−ジクロロ
−１，３，５−ｓ−トリアジンとアミンの全部の活性水素原子がエチレンジアミ
ン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、ヘキサメチレンジアミン
、１，２−ビス−（３−アミノプロピルアミノ）エタンなどで置換された単官能
または多官能アミンとの反応生成物、１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ
）エタンと２，４，６−トリクロロ−１，３，５−トリアジン及び４−ブチルア
ミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンとの縮合物、Ｎ−（２，２，６
，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシルスクシンイミド、Ｎ−（
１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシルスクシン
イミド、８−アセチル−３−ドデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３
，８−トリアザスピロ〔４．５〕デカン−２，４−ジオン、オリゴマー化２，２
，４，４−テトラメチル−２０−（オキシラニルメチル）−７−オキサ−３，２
０−ジアザ−ジスピロ〔５．１．１１．２〕ヘンイコサン−２１−オン、オリゴ
マー化１，２，２，４，４−ペンタメチル−２０−（オキシラニルメチル）−７
−オキサ−３，２０−ジアザジスピロ−〔５．１．１１．２〕ヘンイコサン−２
１−オン、オリゴマー化１−アセチル−２，２，４，４−テトラメチル−２０−
（オキシラニルメチル）−７−オキサ−３．２０−ジアザジスピロ〔５．１．１
１．２〕ヘンイコサン−２１−オン、３−ドデシル−１−（２，２，６，６−テ
トラメチル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、３−ドデシル−１
−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５
−ジオン、２，２，４，４−テトラメチル−７−オキサ−３，２０−ジアザジス
ピロ〔５．１．１１．２〕ヘンイコサン−２１−オン、２，２，４，４−テトラ
メチル−７−オキサ−２１−オキソ−３，２０−ジアザジスピロ−〔５．１．１
１．２〕ヘンイコサン−３−プロパン酸ドデシルエステル、２，２，４，４−テ
トラメチル−７−オキサ−２１−オキソ−３，２０−ジアザジスピロ−〔５．１
．１１．２〕ヘンイコサン−３−プロパン酸テトラデシルエステル、２，２，３
，４，４−ペンタメチル−７−オキサ−２１−オキソ−３，２０−ジアザジスピ
ロ−〔５．１．１１．２〕ヘンイコサン−２１−オン、２，２，３，４，４−ペ
ンタメチル−７−オキサ−２１−オキソ−３，２０−ジアザジスピロ−〔５．１
．１１．２〕ヘンイコサン３−プロパン酸ドデシルエステル、２，２，３，４，
４−ペンタメチル−７−オキサ−２１−オキソ−３，２０−ジアザジスピロ−〔
５．１．１１．２〕ヘンイコサン−３−プロパン酸テトラデシルエステル、３−
アセチル−２，２，４，４−テトラメチル−７−オキサ−３，２０−ジアザジス
ピロ〔５．１．１１．２〕ヘンイコサン−２１−オン、３−アセチル−２，２，
４，４−テトラメチル−７−オキサ−２１−オキソ−３，２０−ジアザジスピロ
−〔５．１．１１．２〕ヘンイコサン−３−プロパン酸ドデシルエステル、３−
アセチル−２，２，４，４−テトラメチル−７−オキサ−２１−オキソ−３，２
０−ジアザジスピロ−〔５．１．１１．２〕ヘンイコサン３−プロパン酸テトラ
デシルエステル、１，１′，３，３′，５，５′−ヘキサヒドロ−２，２′，４
，４′，６，６′−ヘキサアザ−２，２′，６，６′−ビスメタノ−７，８−ジ
オキソ−４，４′−ビス（１，２，２，６，６−ベンタメチル−４−ピペリジル
）ビフェニル、ポリ−Ｎ，Ｎ′−ビス−（２，２，６，６−テトラメチル−４−
ピペリジル）−１，８−ジアザデシレン、２，２，６，６−テトラメチル−４−
アリルオキシピペリジン及びポリメチルヒドリドシロキサンの付加物（モル量４
０００以下）、１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−アリルオキシピペリジ
ン及びポリメチルヒドリドシロキサンの付加物（モル量４０００以下）、Ｎ，Ｎ
′−ジホルミル−Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリ
ジニル）ヘキサメチレンジアミン、Ｎ，Ｎ′−ジホルミル−Ｎ，Ｎ′−ビス（１
，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミン、
５，１１−ビス−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）−３，
５，７，９，１１，１３−ヘキサアザテトラシクロ〔７．４．０．０^２．７．１ ^３．１３ 〕テトラデカン−８．１４−ジオン、５，１１−ビス−（１，２，２，
６，６−ペンタメチル−４−ピペリジニル）−３，５，７，９，１１，１３−ヘ
キサアザテトラシクロ〔７．４．０．０^２．７．１^３．１３〕テトラデカン−８
．１４−ジオン、〔（４−メトキシフェニル）メチレン〕−プロパン二酸ビス（
２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）エステル、〔（４−メトキ
シフェニル）メチレン〕プロパン二酸ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル
−４−ピペリジニル）エステル、２，４，６−トリス（Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ
−〔２−（３，３，４，５，５−ペンタメチル−１−ピペラジノイル）エチル〕
アミノ）−１，３，５−トリアジン、４−アミノ−２，２，６，６−テトラメチ
ルピペリジン及びオクタデシルアミンと反応した無水マレイン酸及びメチルスチ
レンとスチレンとのコポリマー、４−アミノ−１，２，２，６，６−ペンタメチ
ルピペリジン及びオクタデシルアミンと反応した無水マレイン酸及びα−メチル
スチレンとスチレンとのコポリマー、ジオール成分として２，２′−〔（２，２
，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）イミノ〕ビス〔エタノール〕を含
むポリカーボネート、ジオール成分として２，２′−（１，２，２，６，６−ペ
ンタメチル−４−ピペリジニル）イミノ〕ビス〔エタノール〕を含むポリカーボ
ネート、４−アミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンと反応したＣ_{３ ０} 以下のα−オレフィンと無水マレイン酸とのコポリマー、１−アセチル−４−
アミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンと反応したＣ_３０以下のα−
オレフィンと無水マレイン酸とのコポリマー、４−アミノ−１，２，２，６，６
−ペンタメチルピペリジンと反応したＣ_３０以下のα−オレフィンと無水マレイ
ン酸とのコポリマー、並びに、ピペリジンに遊離ＮＨ基、特にＣ_１−Ｃ_１８のα
−メチルベンジルオキシ及びアルキルオキシを有する上記化合物のＮ−アルキル
−及びＮ−アリール−オキシ誘導体。

【０１６６】 ２．７．オキサラミド、例えば、４，４′−ジオクチルオキサニリド、２，２
′−ジエトキシアニリド、２，２′−ジオクチルオキシ−５，５′−ジ−ｔ−ブ
チルオキサニリド、２，２′−ジドデシルオキシ−５，５′−ジ−ｔ−ブチルオ
キサニリド、２−エトキシ−２′−エチルオキサニリド、Ｎ，Ｎ′−ビス（３−
ジメチルアミノプロピル）−オキサラミド、２−エトキシ−５−ｔ−ブチル−２
′−エチルオキサニリド及びこの化合物と２−エトキシ−２′−エチル−５，４
′−ジ−ｔ−ブチルブチルオキサニリドとの混合物、ｏ−及びｐ−メトキシ−ジ
置換オキサニリドとの混合物及びｏ−及びｐ−エトキシ−ジ置換オキサニリドと
の混合物。

【０１６７】 ２．８．２−（２−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、例えば
、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−１，
３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−
４′，６−ビス（２′，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２
−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニ
ル）−１，３，５−トリアジン、２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，
６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビ
ス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキシフェニル）−６−（２，４−ジメチル
フェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオ
キシフェニル）−４，６−ビス（４−メチルフェニル）−１，３，５−トリアジ
ン、２−（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２
，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−〔２−ヒドロキシ−
４−（２−ヒドロキシ−３−ブチルオキシプロピルオキシ）フェニル〕−４，６
−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−〔２−ヒ
ドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−オクチルオキシプロピルオキシ）フェニ
ル〕−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２−（２−ヒドロキシ−４−トリデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，
４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−〔４−ドデシルオキシ
／トリデシルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−２−ヒドロキシフェニル〕
−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−
〔２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシプロポキシ）フ
ェニル〕−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジ
ン、２−（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシ）フェニル−４．６−ジフェニ
ル−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）
−４．６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス〔２−ヒ
ドロキシ−４−（３−ブトキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル〕−１，
３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシフェニル）−４−（４−メトキシフ
ェニル）−６−フェニル−１，３，５−トリアジン。

【０１６８】 ３．金属失活剤、例えば、Ｎ，Ｎ′−ジフェニルオキサラミド、Ｎ−サリチラ
ル−Ｎ′−サリチロイルヒドラジン、Ｎ，Ｎ′−ビス（サリチロイル）ヒドラジ
ン、Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピ
オニル）ヒドラジン、３−サリチロイルアミノ−１，２，４−トリアゾール、ビ
ス（ベンジリデン）オキサリルジヒドラジド、オキサニリド、イソフタロイルジ
ヒドラジド、セバコイルビスフェニルヒドラジド、Ｎ，Ｎ′−ジアセチルアジポ
イルジヒドラジド、Ｎ，Ｎ′−ビス（サリチロイル）オキサリルジヒドラジド、
Ｎ，Ｎ′−ビス（サリチロイル）チオプロピオニルジヒドラジド。

【０１６９】 ４．ホスファイト類及びホスホナイト類、例えば、トリフェニルホスファイト
、ジフェニルアルキルホスファイト、フェニルジアルキルホスファイト、トリス
（ノニルフェニル）ホスファイト、トリラウリルホスファイト、トリオクタデシ
ルホスファイト、ジステアリルペンタエリトリトールジホスファイト、トリス（
２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、ジイソデシルペンタエリトリ
トールジホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ペンタエリト
リトールジホスファイト、ビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル
）ペンタエリトリトールジホスファイト、ビスイソデシルオキシペンタエリトリ
トールジホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチル−６−メチルフェニル）
ペンタエリトリトールジホスファイト、ビス（２，４，６−トリ−ｔ−ブチルフ
ェニル）ペンタエリトリトールジホスファイト、トリステアリルソルビトールト
リホスファイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）４，４′−ビ
フェニレンジホスホナイト、６−イソオクチルオキシ−２，４，８，１０−テト
ラ−ｔ−ブチル−１２Ｈ−ジベンゾ〔ｄ，ｇ〕−１，３，２−ジオキサホスホシ
ン、６−フルオロ−２，４，８，１０−テトラ−ｔ−ブチル−１２−メチル−ジ
ベンゾ〔ｄ，ｇ〕−１，３，２−ジオキサホスホシン、ビス（２，４−ジ−ｔ−
ブチル−６−メチルフェニル）メチルホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔ−ブ
チル−６−メチルフェニル）エチルホスファイト、トリス（２−ｔ−ブチル−４
−チオ（２’−メチル−４′−ヒドロキシ−５′−ｔ−ブチル）フェニル−５−
メチル）フェニルホスファイト、２，２′，２′′−ニトリロ〔トリエチルトリ
ス（３，３′，５，５′−テトラ−ｔ−ブチル−１，１′−ビフェニル−２，２
′−ジイル）ホスファイト〕、ビス〔２−メチル−４，６−ビス（１，１−ジメ
チルエチル）フェノール〕リン酸エチルエステル。

【０１７０】 ５．ヒドロキシルアミン類、例えば、Ｎ，Ｎ−ジベンジルヒドロキシルアミン
、Ｎ，Ｎ−ジエチルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクチルヒドロキシルアミ
ン、Ｎ，Ｎ−ジラウリルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジテトラデシルヒドロキ
シルアミン、Ｎ，Ｎ−ジヘキサデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクタデ
シルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘキサデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルア
ミン、Ｎ−ヘプタデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルアミン、水素化タロウ
脂肪アミンから製造したＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミン。

【０１７１】 ６．ニトロン類、例えば、Ｎ−ベンジルアルファフェニルニトロン、Ｎ−エチ
ルアルファ−メチルニトロン、Ｎ−オクチルアルファ−ヘプチルニトロン、Ｎ−
ラウリルアルファ−ウンデシルニトロン、Ｎ−テトラデシルアルファ−トリデシ
ルニトロン、Ｎ−ヘキサデシルアルファ−ペンタデシルニトロン、Ｎ−オクタデ
シルアルファ−ヘプタデシルニトロン、Ｎ−ヘキサデシルアルファ−ヘプタデシ
ルニトロン、Ｎ−オクタデシルアルファ−ペンタデシルニトロン、Ｎ−ヘプタデ
シルアルファ−ヘプタデシルニトロン、Ｎ−オクタデシルアルファ−ヘキサデシ
ルニトロン、水素化タロウ脂肪アミンから製造したＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキ
シルアミンから誘導されたニトロン。

【０１７２】 ７．ゼオライト及びハイドロタルサイト。例えば^ＲＴＭＤＨＴ ４Ａ。この種
のハイドロタルサイトは式： 〔（Ｍ^２＋）_１−ｘ（Ｍ^３＋）_ｘ（ＯＨ）_２（Ａ^ｎ−）_ｘ／ｎｙＨ_２Ｏ〕 〔式中、 （Ｍ^２＋）はＭｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｚｎ、Ｐｂ、Ｓｎ、Ｎｉ （Ｍ^３＋）はＡｌ、Ｂ、Ｂｉ Ａ^ｎは原子価ｎのアニオン ｎは１−４の整数 ｘは０−０．５の値 ｙは０−２の値、

【０１７３】

【化３９】 である〕で示すことができる。

【０１７４】 （Ｍ^２＋）が（Ｃａ^２＋）、（Ｍｇ^２＋）または（Ｍｇ^２＋）と（Ｚｎ^２＋）
との混合物であり、（Ａ^ｎ−）がＣＯ_３ ^２−、ＢＯ_３ ^３−、ＰＯ_３ ^３−であり、
ｘが０−０．５の値を有しており、ｙが０−２の値を有しているハイドロタルサ
イトを使用するのが好ましい。また、式： 〔（Ｍ^２＋）_ｘ（Ａｌ^３＋）_２（ＯＨ）_{２ｘ＋６ｎｚ}（Ａ^ｎ−）_２ｙＨ_２Ｏ〕 で示されるハイドロタルサイトを使用することも可能である。

【０１７５】 ここで、（Ｍ^２＋）はＭｇ^２＋、Ｚｎ^２＋であるが、より好ましくはＭｇ^２＋ である。（Ａ^ｎ−）はアニオン、特に、ＣＯ_３ ^２−、（ＯＯＣ−ＣＯＯ）^２−、
ＯＨ⁻及びＳ^２−から成るグループから選択されるアニオンであり、ここにｎは
イオンの原子価を示す。ｙは正の数、より好ましくは０−５の数、特に０．５−
５の数である。ｘ及びｚは正の値であり、ｘの場合は好ましくは２−６であり、
ｚの場合は２未満でなければならない。以下の式のハイドロタルサイトが特に好
ましい。

【０１７６】

【化４０】

【０１７７】 ハイドロタルサイトはポリマー中にポリマーの全組成を基準として好ましくは
０．０１−５重量％、特に０．２−３重量％の濃度で使用される。

【０１７８】 ８．チオ相乗剤、その例はジラウリルチオジプロピオネート及びジステアリル
チオジプロピオネートである。

【０１７９】 ９．過酸化物スカベンジャー、その例は、β−チオジプロピオン酸のエステル
、例えば、ラウリル、ステアリル、ミリスチルまたはトリデシルエステル、メル
カプトベンズイミダゾール、２−メルカプトベンズイミダゾールの亜鉛塩、アル
キルジチオカルバミン酸亜鉛、ジブチルジチオカルバミン酸亜鉛、ジオクタデシ
ルモノスルフィド、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリトリトールテトラ
キス（β−ドデシルメルカプト）プロピオネート。

【０１８０】 １０．ポリアミド安定剤、その例は、ヨウ化物及び／またはリン化合物と組合
せた銅塩及び二価マンガンの塩。

【０１８１】 １１．塩基性安定化助剤、その例は、メラミン、ポリビニルピロリドン、ジシ
アンジアミド、トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、アミ
ン、ポリアミン、ポリウレタン、高級脂肪酸のアルカリ金属及びアルカリ土類金
属塩、例えば、Ｃａステアレート、Ｚｎステアレート、Ｍｇベヘネート、Ｍｇス
テアレート、Ｎａリシノレート、Ｋパルミテート、アンチモンピロカテコレート
またはスズピロカテコレート、乳酸のアルカリ金属及びアルカリ土類金属塩、亜
鉛塩またはアルミニウム塩。

【０１８２】 １２．無機物のような核生成剤、例えば、タルク、酸化チタンまたは酸化マグ
ネシウムのような金属酸化物、好ましくはアルカリ土類金属のリン酸塩、炭酸塩
または硫酸塩、モノ−またはポリカルボン酸とそれらの塩のような有機化合物、
例えば４−ｔ−ブチル安息香酸、アジピン酸、ジフェニル酢酸、コハク酸ナトリ
ウムまたは安息香酸ナトリウム；芳香族アルデヒド及びソルビトールのような多
官能アルコールのアセタール、例えば１，３−２，４−ジ（ベンジリデン）−Ｄ
−ソルビトール、１，３−２，４−ジ（４−トルイリデン）−Ｄ−ソルビトール
、１，３−２，４−ジ（４−エチルベンジリデン）−Ｄ−ソルビトールイオン性
コポリマー（アイオノマー）のようなポリマー化合物。

【０１８３】 １３．充填剤及び強化剤、その例は、炭酸カルシウム、シリケート、ガラス繊
維、アスベストス、タルク、カオリン、雲母、硫酸バリウム、金属酸化物及び金
属水酸化物、カーボンブラック、黒鉛、木粉及びその他の天然物質の粉または繊
維、合成繊維。

【０１８４】 １４．その他の添加剤、例えば、可塑剤、潤滑剤、乳化剤、顔料、レオロジー
添加剤、触媒、均展（ｌｅｖｅｌｉｎｇ）補助剤、蛍光増白剤、難燃剤、帯電防
止剤、発泡剤。

【０１８５】 一般式（Ｉ）の添加剤または記載の組合せを有機材料、好ましくはポリマーに
慣用の方法で混和する。例えば、化合物及びその他の任意の添加剤を重合前、重
合中または重合後に直接にポリマーに混合または塗布することによって、あるい
は付形前または付形中のポリマーメルトに混合することによって混和させる。ま
た、溶解または分散した化合物を直接にポリマーに塗布することによって、また
は、このような化合物をポリマーの溶液、懸濁液もしくはエマルジョンに混合さ
せ、その後に必要ならば溶媒を蒸発させることによって混和させてもよい。また
、既に造粒したポリマーに独立の加工段階で後から化合物を混和しても化合物は
有効である。式（Ｉ）の化合物はまた、これらの化合物を１−７５重量％、好ま
しくは２．５−３０重量％の濃度で含むマスターバッチの形態で、安定化させる
べきポリマーに添加してもよい。

【０１８６】 以下の実施例は本発明を非限定的に説明する。

【０１８７】

【表１】

【０１８８】 化合物１．１−２．８は式Ｉに対応する。化合物３．１−３．５は４位でアル
キル置換された比較物質である。

【０１８９】 実施例１ Ｍｅｌｐａ １型の実験用ミキサー（製造業者：Ｋｅｎｗｏｏｄ）を使用し、
Ｅｌｔｅｘ Ｐ ＨＬ ００１ＰＦ（製造業者：Ｓｏｌｖａｙ Ｐｏｌｙｏｌｅ
ｆｉｎｅｓ）種の１００部のポリプロピレン粉末を、それぞれ１０部または２０
部の強化用充填剤、及び、０．０５部の^ＲＴＭＩｒｇａｎｏｘ １０１０と０．
１０部のステアリン酸カルシウムとから成るベース安定剤系、及び、０．０５部
の加工用安定剤ＲＴＭＳａｎｄｏｓｔａｂ Ｐ−ＥＰＱまたは０．０４部のＲＴ
ＭＳａｎｄｏｓｔａｂ Ｐ−ＥＰＱと０．０１部の式Ｉの化合物とから成る組合
せ加工用安定剤に混合する。ＫＰＳ ２５型のＴ４実験用押出装置（製造業者：
Ｈａｅｎｄｌｅ）を使用し、２７０℃または３００℃で直径４ｍｍのダイから混
合物を複数回（パス回数１−５）押出す。

【０１９０】 以下の銘柄の充填剤を使用する： （ａ）Ｎａｉｔｓｃｈ ＳＥ種のタルク； （ｂ）Ｒ３４ＢＸ１種のガラス繊維（繊維長４．５ｍｍ）； （ｃ）Ｓｉｇｒａｆｉｌ Ｃ種の炭素繊維（長さ６ｍｍ）。

【０１９１】 Ｚｗｉｃｋ製の４１０５型メルトインデックス測定器及び標準おもり２．１６
ｋｇを使用して２３０℃のメルトインデックスを測定する。

【０１９２】 一般にポリプロピレンの場合には熱分解の進行がｍｆｉ値の増加として表れる
ことを考慮して、各々が１０部の充填剤を含む場合のｍｆｉの測定結果を表１Ａ
−Ｄにまとめる。

【０１９３】 各々が２０部の充填剤含む場合の対応するパラメーター及び結果を表２Ａ−Ｄ
にまとめる。

【０１９４】 表１Ａ １０部の充填剤添加及び不添加で２６０℃でプレ押出後のポリプロピ
レンのメルトフローインデックス（ｍｆｉ） １００部あたりのベース安定剤系：０．０５％の^ＴＭＩｒｇａｎｏｘ １０１０
、０．１０部のステアリン酸カルシウム 式Ｉの３−アリールベンゾフラノン：Ｒ^ａ＝Ｒ^ｃ＝ｔ−ブチル、Ｒ^ｂ、Ｒ^ｄ−Ｒ ^ｈ ＝Ｈ。

【０１９５】

【表２】

【０１９６】 表１Ｂ １０部の充填剤添加及び不添加で２７０℃及び３００℃の１回目の押
出パス後のポリプロピレンのメルトフローインデックス（ｍｆｉ） １００部あたりのベース安定剤系：０．０５％の^ＴＭＩｒｇａｎｏｘ １０１０
、０．１０部のステアリン酸カルシウム 式Ｉの３−アリールベンゾフラノン：Ｒ^ａ＝Ｒ^ｃ＝ｔ−ブチル、Ｒ^ｂ、Ｒ^ｄ−Ｒ ^ｈ ＝Ｈ。

【０１９７】

【表３】

【０１９８】 表１Ｃ １０部の充填剤添加及び不添加で２７０℃及び３００℃の３回目の押
出パス後のポリプロピレンのメルトフローインデックス（ｍｆｉ） １００部あたりのベース安定剤系：０．０５％の^ＴＭＩｒｇａｎｏｘ １０１０
、０．１０部のステアリン酸カルシウム 式Ｉの３−アリールベンゾフラノン：Ｒ^ａ＝Ｒ^ｃ＝ｔ−ブチル、Ｒ^ｂ、Ｒ^ｄ−Ｒ ^ｈ ＝Ｈ。

【０１９９】

【表４】

【０２００】 表１Ｄ １０部の充填剤添加及び不添加で２７０℃及び３００℃の５回目の押
出パス後のポリプロピレンのメルトフローインデックス（ｍｆｉ） １００部あたりのベース安定剤系：０．０５％の^ＴＭＩｒｇａｎｏｘ １０１０
、０．１０部のステアリン酸カルシウム 式Ｉの３−アリールベンゾフラノン：Ｒａ＝Ｒｃ＝ｔ−ブチル、Ｒｂ、Ｒｄ−Ｒ
ｈ＝Ｈ。

【０２０１】

【表５】

【０２０２】 表２Ａ １０部の充填剤添加及び不添加で２６０℃でプレ押出後のポリプロピ
レンのメルトフローインデックス（ｍｆｉ） １００部あたりのベース安定剤系：０．０５％の^ＴＭＩｒｇａｎｏｘ １０１０
、０．１０部のステアリン酸カルシウム 式Ｉの３−アリールベンゾフラノン：Ｒ^ａ＝Ｒ^ｃ＝ｔ−ブチル、Ｒ^ｂ、Ｒ^ｄ−Ｒ ^ｈ ＝Ｈ。

【０２０３】

【表６】

【０２０４】 表２Ｂ １０部の充填剤添加及び不添加で２７０℃及び３００℃の１回目の押
出パス後のポリプロピレンのメルトフローインデックス（ｍｆｉ） １００部あたりのベース安定剤系：０．０５％の^ＴＭＩｒｇａｎｏｘ １０１０
、０．１０部のステアリン酸カルシウム 式Ｉの３−アリールベンゾフラノン：Ｒ^ａ＝Ｒ^ｃ＝ｔ−ブチル、Ｒ^ｂ、Ｒ^ｄ−Ｒ ^ｈ ＝Ｈ。

【０２０５】

【表７】

【０２０６】 表２Ｃ １０部の充填剤添加及び不添加で２７０℃及び３００℃の３回目の押
出パス後のポリプロピレンのメルトフローインデックス（ｍｆｉ） １００部あたりのベース安定剤系：０．０５％の^ＴＭＩｒｇａｎｏｘ １０１０
、０．１０部のステアリン酸カルシウム 式Ｉの３−アリールベンゾフラノン：Ｒ^ａ＝Ｒ^ｃ＝ｔ−ブチル、Ｒ^ｂ、Ｒ^ｄ−Ｒ ^ｈ ＝Ｈ。

【０２０７】

【表８】

【０２０８】 表２Ｄ １０部の充填剤添加及び不添加で２７０℃及び３００℃の５回目の押
出パス後のポリプロピレンのメルトフローインデックス（ｍｆｉ） １００部あたりのベース安定剤系：０．０５％の^ＴＭＩｒｇａｎｏｘ １０１０
、０．１０部のステアリン酸カルシウム 式Ｉの３−アリールベンゾフラノン：Ｒ^ａ＝Ｒ^ｃ＝ｔ−ブチル、Ｒ^ｂ、Ｒ^ｄ−Ｒ ^ｈ ＝Ｈ。

【０２０９】

【表９】

【０２１０】 実施例２ 安定化した低密度ポリエチレン（ＰＥ−ＬＤ）を使用してインフレートフィル
ムを製造し、次いで種々の温度の加熱プレスで固体基板上に５分間圧伸する。積
層されたＰＥ−ＬＤ層の色と表面品質及び固体基板に対する接着力を以後の測定
パラメーターとする。実験の詳細は以下の通りである。Ｍｅｌｐａ １型の実験
用ミキサー（Ｋｅｎｗｏｏｄ製）を使用し、ＬＥ ４５１０種（製造業者：Ｂｏ
ｒｅａｌｉｓ）の１００部のポリエチレン−ＬＤ−粉末を、０．０５部の^ＲＴＭ Ｉｒｇａｎｏｘ １０７６と０．０５部のステアリン酸カルシウムとから成るベ
ース安定剤系、及び、０．０５部の加工用安定剤^ＲＴＭＳａｎｄｏｓｔａｂ Ｐ
−ＥＰＱまたは０．０４部の^ＲＴＭＳａｎｄｏｓｔａｂ Ｐ−ＥＰＱと０．０１
部の式Ｉの化合物とから成る組合せ加工用安定剤に混合する。Ｔ３０実験用押出
装置（製造業者：Ｃｏｌｌｉｎ）を使用し、２３０℃で混合物を押出してインフ
レートフィルムを製造する。これによって膜厚１００μｍのフィルムが形成され
る。幾つかのフィルムは２７０℃の加熱プレスで５分間押圧することによって固
体基板に貼合せる。使用できる基板材料は、紙、ボード及びアルミニウムである
。残りのインフレートフィルムはその他の条件を同じにして３００℃の加熱プレ
スで５分間押圧することによって固体基板に固着させる。

【０２１１】 試験パラメーターは、ＥＮ ＩＳＯ ２４０９（クロスカットテスト）に従っ
て完成素子で測定したアルミニウムプレートから剥離するために必要な剥離力で
ある。

【０２１２】 ＥＮ ＩＳＯ ２４０９は、コーティング、結合剤及び同様の材料の試験に関
する標準シリーズの１つである。これは、基板（この場合、アルミニウムプレー
ト）に達する切れ目をコーティングに入れたときに、基板からの分離に対するコ
ーティングの抵抗を評価する試験方法を規定している。この実験方法によって測
定される特性は、別の要因に加えて、基板に対するコーティングの接着力に依存
する。この場合には記載の方法を６等級の格付け試験として行った。

【０２１３】 切断器具は互いに１ｍｍずつ離間した６個の平行な切断ローラを有していた。
このローラを室温の被覆アルミニウムプレート上で試験プレートの表面に対して
垂直に手で転がし、切れ目を確実に基板に到達させた。次に、最初の切れ目に垂
直な切れ目を同様の方法で作成した。このようにして形成したクロスカットパタ
ーンの対角線に沿って軟らかいハンドブラシを何回も往復させることによってパ
ターンを磨き、次いで、新しく繰り出した約７．５ｃｍ長さ及び２５ｍｍ幅の透
明な粘着テープを切れ目の１方向に平行に接着し、クロスカットパターンの領域
とそれよりも約２０ｍｍ大きい領域を指でなでつけた。テープ接着の５分後にテ
ープを剥がした。テープを剥がすときは、粘着テープの一端をつまんで、約１秒
以内に引張方向に対して約６０°の角度で引き剥がした。最後に、倍率２．５倍
の拡大鏡で検査することによって結果を目視で評価した。評価のために、プレー
ト及びプレートから剥がした粘着テープを様々な方向から検査した。

【０２１４】 試験結果を６等級のクロスカット等級表に従って格付けした。 クロスカット指数０：切断縁端が完全に滑らかであり、パターンの角片の剥落は
全く生じなかった。 クロスカット指数１：クロスカット線の交点からコーティングの小断片が剥落し
た。剥落面積はクロスカット面積の実質的に５％以下である。 クロスカット指数２：切断縁端に沿って及びまたはクロスカット線の交点でコー
ティングが剥落した。剥落面積はクロスカット面積の実質的に５％よりも大きい
が１５％以下である。 クロスカット指数３：切断縁端に沿って部分的または全面的に幅広のストリップ
形態でコーティングが剥落した。損傷されたクロスカット面積は１５％よりも明
らかに大きいが、実質的に３５％以下である。 クロスカット指数４：切断縁端に沿って幅広のストリップ形態及び／または多数
の角片の形態でコーティングが完全にまたは部分的に剥落する。損傷されたクロ
スカット面積は３５％よりも明らかに大きいが、実質的に６５％以下である。 クロスカット指数５：クロスカット指数４に格付けできない剥落が生じる。

【０２１５】 上記方法で評価したサンプルの１つは０．０５０重量％の市販の安定剤Ｈｏｓ
ｔａｎｏｘ Ｏ １６とＳａｎｄｏｓｔａｂ Ｐ−ＥＰＱとを含むポリマーフィ
ルム（サンプルＡ）であり、第二サンプルは市販の安定剤Ｈｏｓｔａｎｏｘ Ｏ
１６（０．０５０重量％）とＳａｎｄｏｓｔａｂ Ｐ−ＥＰＱ（０．０４５重
量％）と化合物１．１及び１．２の９：１混合物（０．００５重量％）とを含ん
でいた（サンプルＢ）。上述のように、双方のサンプルを３００℃の温度でアル
ミニウム支持体に積層した。結果を以下の表に示す。

【０２１６】

【表１０】

【０２１７】 射出成形の実施例 ポリプロピレンサンプルを射出成形によって製造した。得られた製品を種々の
滞留時間後のメルトインデックス（ＭＦＩ）を測定することによって評価した。

【０２１８】 ベース安定剤としては^ＲＴＭＩｒｇａｎｏｘ １０１０にステアリン酸カルシ
ウム及び／またはステアリン酸亜鉛を加えて使用する。加工用安定剤としては^{Ｒ ＴＭ} Ｓａｎｄｏｓｔａｂ Ｐ−ＥＰＱを単独使用するかまたは以下の物質と組合
せて使用する： ＨＰ １３６：前出の表に示した化合物１．１と１．２と約９：１混合物 ４７２：前出の表に示した化合物２．８ ＳＴＳ ６５５２／３４１：前出の表に示した化合物２．６の２′−ヒドロキシ
−５′−メチル誘導体。

【０２１９】 実験の詳細は以下の通りである。 Ｍｅｌｐａ １型の実験用ミキサー（製造業者：Ｋｅｎｗｏｏｄ）で、Ｅｌｔｅ
ｘ Ｐ ＨＬ ００１ＰＦ（製造業者：Ｓｏｌｖａｙ Ｐｏｌｙｏｌｅｆｉｎｓ
）種の１００部のポリプロピレン粉末を、ベース安定剤系及び加工用安定剤また
は組合せ加工用安定剤と混合した。ＫＰＳ ２５型のＴ４実験用押出装置（製造
業者：Ｈｅｎｄｌｅ）を２２０℃／８０ｒｐｍで使用し直径４ｍｍのダイから混
合物を前押出処理した。射出成形はＴ１８型機械（製造業者：Ａｒｂｕｒｇ）を
使用し２７０℃または３００℃で行った。この射出成形では、ポリマーメルトを
３．２秒の期間内に９０バールの圧力下、５点スケールの１．２の射出速度でニ
ードル弁ノズル（型式：Ｈｅｒｔｚｏｇ Ｍ６、直径２ｍｍ）から６０℃に予熱
した成形型に射出した。引き続いて、５０バールの保持圧力を３．６秒間作用さ
せ、次いで１９．５秒の冷却期間を置いた後、２０バールの背圧を作用させた。
射出成形品は７５×５０×２ｍｍの寸法を有していた。全サイクル時間は２７．
３秒であった。ホットランナー内の条件をシミュレートするために、上記の射出
成形サイクルを実際に開始する前に、それぞれの温度（２７０℃または３００℃
）で滞留時間を５秒、１０秒及び１５秒に特定した。

【０２２０】 Ｚｗｉｃｋ製の４１０５型のメルトインデックス測定装置及び２．１６ｋｇの
標準おもりを使用して２３０℃のメルトインデックスを測定した。

【０２２１】 実施例３ Ｔ＝２７０℃の射出成形によるポリプロピレンの押出 複数の滞留時間後のメルトインデックスＭＦＩ（２３０℃；２．１６ｋｇ）の
測定 ベース安定剤系：０．０５重量％の^ＲＴＭＩｒｇａｎｏｘ １０１０；０．１
重量％のステアリン酸カルシウム

【０２２２】

【表１１】

【０２２３】 実施例４ Ｔ＝２７０℃の射出成形によるポリプロピレンの押出 複数の滞留時間後のメルトインデックスＭＦＩ（２３０℃；２．１６ｋｇ）の
測定 ベース安定剤系：０．０５重量％の^ＲＴＭＩｒｇａｎｏｘ １０１０；０．１
重量％のステアリン酸亜鉛

【０２２４】

【表１２】

【０２２５】 実施例５ Ｔ＝３００℃の射出成形によるポリプロピレンの押出 複数の滞留時間後のメルトインデックスＭＦＩ（２３０℃；２．１６ｋｇ）の
測定 ベース安定剤系：０．０５重量％の^ＲＴＭＩｒｇａｎｏｘ １０１０；０．１
重量％のステアリン酸カルシウム

【０２２６】

【表１３】

【０２２７】 実施例６ Ｔ＝３００℃の射出成形によるポリプロピレンの押出 複数の滞留時間後のメルトインデックスＭＦＩ（２３０℃；２．１６ｋｇ）の
測定 ベース安定剤系：０．０５重量％の^ＲＴＭＩｒｇａｎｏｘ １０１０；０．１
重量％のステアリン酸亜鉛

【０２２８】

【表１４】

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (31)優先権主張番号 １１０３／９９ (32)優先日 平成11年６月14日(1999．6．14) (33)優先権主張国 スイス（ＣＨ） (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ， ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＡＵ，ＢＲ，Ｃ Ａ，ＣＮ，ＣＺ，ＪＰ，ＫＲ，ＭＸ，ＳＫ，ＵＳ Ｆターム(参考） 4F070 AA71 AB09 AC66 AE03 FB03 4F206 AB06 JA07 JF02 4J002 BB031 BB121 BB141 BC061 CF001 CF061 CF071 CG001 CH091 CL001 CM041 CM051 CN011 CN031 DA018 DJ048 DL008 EJ017 EL066 EU077 EV077 EW067 EW087 EW127 FA048 FD066

Claims (11)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 製造中及び加工中の強化熱可塑性プラスチック、プラスチッ
   ク基板またはプラスチック被覆基板、並びに、ホットランナー法による射出成形
   中のプラスチックを安定化するための、式（Ｉ） 【化１】 〔式中、 Ｒ^ａ、Ｒ^ｂ、Ｒ^ｄ、Ｒ^ｅ、Ｒ^ｆ、Ｒ^ｇ及びＲ^ｈは互いに独立に、水素、ヒドロ
   キシル、Ｃ_１−Ｃ_１８アルキル、未置換またはモノ−、ジ−もしくはトリ−Ｃ_１ −Ｃ_４アルキル置換フェニル、Ｃ_７−Ｃ_９フェニルアルキル、未置換またはモノ
   −、ジ−もしくはトリ−Ｃ_１−Ｃ_４アルキル置換Ｃ５−Ｃ_１２シクロアルキルま
   たはＣ_１−Ｃ_１８アルコキシを表し、Ｒ^ｃは上記に定義のＲ^ａ、Ｒ^ｂ、Ｒ^ｄ、Ｒ ^ｅ 、Ｒ^ｆ、Ｒ^ｇ及びＲ^ｈと同義であるかまたは式（ＩＩ） 【化２】 の基であり、ここにＲ^ａ、Ｒ^ｂ、Ｒ^ｄ、Ｒ^ｅ、Ｒ^ｆ、Ｒ^ｇ及びＲ^ｈは前記と同義
   であり、Ｒ^ｉ及びＲ^ｊは互いに独立に水素またはＣ_１−Ｃ_４アルキルを表し、 基Ｒ^ｄ、Ｒ^ｅ、Ｒ^ｆ、Ｒ^ｇ及びＲ^ｈの少なくとも２つが水素である〕の化合物
   の使用。
2. 【請求項２】 式Ｉにおいて、 Ｒ^ｂが水素であるか、及び／または、 Ｒ^ｄ−Ｒ^ｈが水素であるか、及び／または、 Ｒ^ａ及びＲ^ｃが、Ｃ_１−Ｃ_１８アルキル特にｔ−ブチル、または、未置換または
   モノ−、ジ−もしくはトリ−Ｃ_１−Ｃ_４アルキル置換フェニルであることを特徴
   とする請求項１に記載の化合物の使用。
3. 【請求項３】 式Ｉにおいて、 Ｒ^ｃが式ＩＩの基であり、 Ｒ^ｉ及びＲ^ｊの双方がメチルであることを特徴とする請求項１に記載の化合物の
   使用。
4. 【請求項４】 基板中の（１種または複数の）式Ｉの化合物の量が、ポリマ
   ー基板またはプレポリマー基板を基準として０．００１−５重量％、好ましくは
   ０．００２−０．０５重量％であることを特徴とする請求項１から３のいずれか
   一項に記載の使用。
5. 【請求項５】 基板が更に、少なくとも１種類の別の添加剤を含むことを特
   徴とする請求項１から４のいずれか一項に記載の使用。
6. 【請求項６】 基板が（１種または複数の）別の添加剤としてオルガノホス
   ファイト及び／またはオルガノホスホナイト及び／または立体障害フェノールか
   ら成るグループから選択された少なくとも１つの添加剤を含み、更に所望の場合
   には、イオウ含有安定化助剤及び／または立体障害アミン（ＨＡＬＳ）及び／ま
   たは酸スカベンジャー（塩基性安定化助剤）を含むことを特徴とする請求項５に
   記載の使用。
7. 【請求項７】 別の添加剤の各々がポリマー基板またはプレポリマー基板を
   基準として０．００１−５重量％、好ましくは０．０１−１．０重量％の濃度範
   囲で存在することを特徴とする請求項５または６に記載の使用。
8. 【請求項８】 請求項１に記載の少なくとも１種類の式Ｉの化合物と、安定
   化させるべきポリマー基板またはプレポリマー基板に一致または適合する天然ま
   たは合成の材料と、任意に少なくとも１種類の別の添加剤とから成ることを特徴
   とする、製造中及び加工中の熱可塑性強化プラスチック安定化用マスターバッチ
   組成物。
9. 【請求項９】 安定化させるべきポリマー基板またはプレポリマー基板中の
   請求項１に記載の（１種または複数の）式Ｉの化合物の濃度が１−７５重量％、
   好ましくは２．５−３０重量％であることを特徴とする請求項８に記載のマスタ
   ーバッチ組成物。
10. 【請求項１０】 製造中及び加工中の熱可塑性強化プラスチックの安定化、
    製造中及び加工中のプラスチック基板またはプラスチック被覆基板の安定化、並
    びに、ホットランナー法による射出成形中のプラスチックの安定化を得る方法で
    あって、安定化量の請求項１に記載の少なくとも１種類の式Ｉの化合物と、所望
    ならば少なくとも１種類の別の添加剤とを、そのままの形態またはマスターバッ
    チの形態で、安定化させるべきポリマー基板またはプレポリマー基板に添加する
    ことを特徴とする方法。
11. 【請求項１１】 基板中の（１種または複数の）式Ｉの化合物の量が、ポリ
    マー基板またはプレポリマー基板を基準として０．００１−５重量％、好ましく
    は０．００２−０．０５重量％であることを特徴とする請求項１０に記載の方法
    。