JP2003335758A - ピリジン誘導体、その製造方法、及び除草剤中間体としての用途 - Google Patents

ピリジン誘導体、その製造方法、及び除草剤中間体としての用途

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JP2003335758A
JP2003335758A JP2002145402A JP2002145402A JP2003335758A JP 2003335758 A JP2003335758 A JP 2003335758A JP 2002145402 A JP2002145402 A JP 2002145402A JP 2002145402 A JP2002145402 A JP 2002145402A JP 2003335758 A JP2003335758 A JP 2003335758A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 下記一般式(1)のピリジン誘導体、その製造
方法、及び優秀な除草活性を表す下記一般式(2)のフ
ルオロアルキルピリジン−スルホニルウレア誘導体の中
間体としての用途の提供。 【解決手段】 一般式(1)のピリジン誘導体(式中、
1、R2、及びYは、明細書と同義である)、その製造
方法、及びそれを用いて一般式(2)の化合物の中間体と
して有用な一般式(5)の化合物を製造する方法。 【化1】

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、新規な下記一般式
(1)のピリジン誘導体、その製造方法、及び優秀な除
草活性を表す下記一般式(2)のフルオロアルキルピリ
ジン−スルホニルウレア誘導体の中間体としての用途に
関するものである。
【0002】
【化10】
【0003】
【化11】
【0004】式中、R1は、水素、シアノ、C1−C4
アルキル、C3−C6−シクロアルキル、C1−C4−アル
キルカルボニル、C1−C4−アルコキシメチル、または
−C(=S)OEtを示すか、またはハロゲン、C1
4−アルキル及びC1−C4−アルコキシから選択され
た置換基によって1〜5置換されるか、または非置換の
ベンジルを示すか、または、R1は、SQを示し、ここ
でQは、下記ピリジンラジカルを示し:
【0005】
【化12】
【0006】R2は、水素またはC1−C4−アルキルを
示し、Yは、ハロゲン原子を示し、R3は、水素または
1−C4−アルキルカルボニルを示す。
【0007】特に、R1がSQを示す場合、一般式(1)
の化合物は、下記一般式(1a)の対称構造のジスルフィ
ド化合物をなすことになる。
【0008】
【化13】
【0009】
【従来の技術】本発明に係る一般式(1)の化合物は、
先行技術(WO 92/14728、WO 96/12
708、WO 97/31913号参照)において優秀
な除草活性を有するものとして公知の下記一般式(2)
のフルオロアルキルピリジン−スルホニルウレア誘導体
を製造するための中間体として有用に使用し得る。
【0010】
【化14】
【0011】式中、R2及びR3は、前記と同義である。
【0012】WO 92/14728、WO 96/1
2708及びWO 97/31913号において公知の
ように、一般式(2)のフルオロアルキルピリジン−ス
ルホニルウレア誘導体は、核心中間体として下記一般式
(5)のピリジルケトン化合物を経由して合成される。
【0013】
【化15】
【0014】式中、R2は、前記と同義である。
【0015】しかし、核心中間体である一般式(5)の
ピリジルケトン化合物を合成する過程に幾つかの問題点
が見出された。すなわち、下記反応図式(I)に示され
るように、ピリジン環の2位に炭素−炭素結合を導入す
る過程で、n−BuLiを用いるために、−70℃以下
の極限条件及び極度の無水条件を必要としていることで
ある。
【0016】
【化16】
【0017】しかも、ピリジンの3位にスルホンアミド
を予め導入したため、アミドの脱水素反応による副反応
が生じ得るため、注意を要することになるので、大量生
産のためにはさらに容易に利用できる有利な方法が求め
られている。
【0018】
【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明者らは
優秀な除草剤化合物の核心中間体である一般式(5)の
ピリジルケトン化合物を簡便に製造できる方法を考案し
ようと鋭意研究を重ね、その過程で上記一般式(1)の
新規化合物を開発し、この化合物が一般式(5)の化合
物を製造するのに非常に有用に使用できることを見出し
た結果、本発明の完成に至った。従って、本発明は一般
式(1)の新規ピリジン誘導体を提供することを目的と
する。本発明の他の目的は、一般式(1)の化合物を製
造する方法を提供することである。本発明の他の目的
は、一般式(1)の化合物を用いて一般式(5)の化合物
を製造する方法を提供することである。
【0019】
【課題を解決するための手段】本発明は、下記一般式
(1)の新規なピリジン誘導体に関するものである:
【0020】
【化17】
【0021】式中、R1は、水素、シアノ、C1−C4
アルキル、C3−C6−シクロアルキル、C1−C4−アル
キルカルボニル、C1−C4−アルコキシメチル、または
−C(=S)OEtを示すか、またはハロゲン、C1
4−アルキル及びC1−C4−アルコキシから選択され
た置換基によって1〜5置換されるか、または非置換の
ベンジルを示すか、または、R1は、SQを示し、ここ
でQは、下記ピリジンラジカルを示し:
【0022】
【化18】
【0023】R2は、水素またはC1−C4−アルキルを
示し、Yは、ハロゲン原子を示す。
【0024】特に、R1がSQを示す場合、一般式(1)
の化合物は下記一般式(1a)の対称構造のジスルフィド
化合物をなすことになる。
【0025】
【化19】
【0026】
【発明の実施の形態】本明細書で言及された置換基は次
の意味をもつ。ハロゲンは、弗素、塩素、臭素、ヨウ素
を意味し、好ましくは弗素、塩素、臭素を意味する。
【0027】アルキルは、メチル、エチル、n−プロピ
ル、イソプロピル、n−ブチル、または種々のブチル異
性体のような直鎖または分枝鎖飽和炭化水素基を意味
し、好ましくは、メチル、エチル、n−プロピル、イソ
プロピル、またはt−ブチルを意味する。
【0028】アルコキシは、メトキシ、エトキシ、n−
プロポキシ、イソプロポキシ、n−ブトキシ、または種
々のブトキシ異性体のような直鎖または分枝鎖飽和炭化
水素オキシ基を意味し、好ましくは、メトキシまたはエ
トキシを意味する。
【0029】シクロアルキルは、シクロプロピル、シク
ロブチル、シクロペンチル、またはシクロヘキシルを意
味し、好ましくは、シクロプロピルまたはシクロヘキシ
ルを意味する。
【0030】アルキルカルボニルは、アセチル、プロピ
オニル、n−ブチロイル、イソブチロイル、s−ブチロ
イル、またはt−ブチロイルを意味し、好ましくは、ア
セチルを意味する。
【0031】アルコキシメチルは、メトキシメチル、エ
トキシメチル、n−プロポキシメチル、イソプロポキシ
メチル、n−ブトキシメチル、イソブトキシメチル、s
−ブトキシメチル、またはt−ブトキシメチルを意味
し、好ましくは、メトキシメチルを意味する。
【0032】上記本発明に係る一般式(1)の化合物中
において好ましい化合物は、R1がC 1−C4−アルキル
及びC1−C4−アルコキシから選択された置換基によっ
て1〜5置換されるか、または非置換のベンジルを示す
か、または、C1−C4−アルキル、C1−C4−アルコキ
シメチル、−C(=S)OEt、またはSQを示し、こ
こでQは、前記と同義であり、R2が、水素、メチルま
たはエチルを示し、Yが、弗素、塩素または臭素原子を
示す化合物である。
【0033】さらに、好ましい化合物は、R1が4−メ
トキシベンジル、ベンジル、イソプロピル、t−ブチ
ル、メトキシメチル、−C(=S)OEt、またはSQ
を示し、ここでQは、前記と同義であり、R2が、水
素、メチルまたはエチルを示し、Yが、弗素、塩素また
は臭素原子を示す化合物である。
【0034】本発明に係る一般式(1)の化合物は、下
記一般式(6)の化合物を溶媒中で下記一般式(7)の銅
(II)塩と反応させ、下記一般式(1c)の化合物を製造
するか、または、得られた一般式(1c)の化合物を溶媒
中で任意に相間移動触媒の存在下に下記一般式(8)の
化合物と反応させ、下記一般式(1b)の化合物を製造す
ることを特徴とする方法によって、製造することができ
る。従って、本発明は、このような一般式(1)の化合
物の製造方法を提供することを他の目的とする。
【0035】
【化20】
【0036】
【化21】
【0037】
【化22】
【0038】
【化23】
【0039】
【化24】
【0040】上記反応をそれぞれの反応図式(II)で図
示し、具体的な反応条件に対して詳細に説明すれば次の
通りである。
【0041】
【化25】
【0042】式中、R1及びR2は、前記と同義であり、
Y'は、塩素または臭素原子を示す。
【0043】反応図式(II)の方法で一般式(6)のケ
トン化合物を2〜3当量の相応する銅(II)塩、すなわ
ち、Y'が塩素の場合には、CuCl2と反応させるか、
またはY'が臭素の場合には、CuBr2とそれぞれ反応
させ、目的とする一般式(1c)の化合物を得ることがで
きる。
【0044】この反応で溶媒は自ら反応に関与しない通
常の溶媒を用いることができ、好ましくはクロロホル
ム、ジクロロメタン、ジクロロエタン等の塩化炭化水素
類、トルエン、ベンゼン、キシレン等の芳香族炭化水素
類、メチルアセテート、エチルアセテート、イソプロピ
ルアセテート等のアセテート類、メタノール、エタノー
ル、イソプロパノール等のアルコール類、ジメチルエー
テル、ジエチルエーテル、メチルt-ブチルエーテル、ジ
メトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等の
エーテル類を単独または混合して用いる。
【0045】反応温度は−20℃〜150℃の範囲で遂
行可能であり、好ましくは10℃〜80℃の範囲であ
る。
【0046】出発物質として用いられた一般式(6)の
ピリジルケトン化合物は、文献(参照:Kevin A. Memol
i, Tetrahedron Letters 37, 3617(1996); DE 430400
7 A1;またはBlank, B. et al., J. Med. Chem. 1974,
17, pp 1065-1071)に開示されているか、または、そこ
に開示されたものと同様の方法で容易に製造できる。
【0047】一方、本発明に係る一般式(1)の化合物
中で、Y=Fの化合物、すなわち、一般式(1b)の化合
物は、下記反応図式(III)に図示したように、一般式
(1c)の化合物を一般式(8)の相応する求核体と置換
反応させて得ることができる。
【0048】
【化26】
【0049】式中、R1及びR2は、前記と同義であり、
Y’は、塩素または臭素原子を示し、Mは、アルカリ金
属を示す。
【0050】一般式(8)の求核体としては、アルカリ
金属のフッ化化合物が用いられるが、好ましくはフッ化
ナトリウム、フッ化カリウムまたはフッ化リチウムなど
を用いることができる。一般式(8)の求核体は、一般
式(1c)の化合物に対して1〜3当量の量で反応させる
ことが好ましい。
【0051】溶媒としては、極性溶媒を用いることがよ
く、好ましくはホルムアミド、ジメチルホルムアミド、
ジメチルアセトアミド等のアミド類、エチレングリコー
ル、ポリエチレングリコール等のグリコール類、アセト
ニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類を用いる。
【0052】上記反応は、クラウンエーテルや4級アル
キルアンモニウム塩を相間移動触媒として用いることに
よって促進され得る。4級アルキルアンモニウム塩とし
ては、トリエチルベンジルアンモニウムクロライド、テ
トラブチルアンモニウムフルオライド、トリオクチルメ
チルアンモニウムフルオライド、テトラブチルアンモニ
ウムブロマイドなどが好ましく用いられる。
【0053】反応温度は、20℃〜150℃の範囲で遂
行可能であり、好ましくは20℃〜130℃の範囲であ
る。
【0054】上記説明した方法によって製造された本発
明に係る一般式(1)の化合物をさらに明確にするため
に個々の化合物で例示して表せば下記表1のように示さ
れる。
【0055】
【表1】
【0056】公知化合物である、または公知化合物から
容易に得ることができる一般式(6)のピリジルケトン
化合物から、極度の低温または無水条件を維持する必要
がなく、遥かに温和な反応条件下で製造された本発明に
係る一般式(1b)の化合物は、一般式(5)の化合物を
製造するのに非常に有用に用いられ、これによって製造
された一般式(5)の化合物は、優秀な除草活性を持っ
た一般式(2)のフルオロアルキルピリジン−スルホニ
ルウレア誘導体の製造において、核心中間体として用い
られる。
【0057】すなわち、本発明によれば、一般式(1b)
の化合物を水または酢酸水溶液と有機溶媒の混合液中
で、塩素気体と反応させた後、これを有機溶媒中で、t
−ブチルアミンと反応させることによって、一般式
(5)の化合物を製造する方法が提供される。これを反
応式で図示すれば、下記反応図式(IV)のように示され
る。
【0058】
【化27】
【0059】式中、R1及びR2は、前記と同義である。
【0060】上記反応を行うことによって、一般式(1
b)の化合物に含まれたメルカプトエーテル基がスルホ
ンアミド基に転換されることになる。
【0061】まず、塩素気体と反応させる一番目の段階
で、溶媒としては自ら反応に関与しない通常の溶媒が用
いられ、具体的には水または酢酸水溶液と有機溶媒とを
1:1〜1:3の体積比で混合させたものを用いる。こ
のとき、有機溶媒としては、トルエン、ベンゼン、キシ
レン等の芳香族炭化水素類、クロロホルム、ジクロロメ
タン、1,2−エチレンジクロライド等の塩化炭化水素
類、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、メチルt−
ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン等のエーテル類を好ましく用いる。上記
反応は水の代わりに10〜30%の希酢酸を用いること
によって促進できる。反応温度は−20℃〜80℃の範
囲、好ましくは0℃〜40℃の範囲である。
【0062】t−ブチルアミンと反応させる二番目の段
階で、溶媒としてはクロロホルム、ジクロロメタン、ジ
クロロエタン等の塩化炭化水素類またはトルエン、ベン
ゼン、キシレン等の芳香族炭化水素類を好ましく用い
る。または、一番目の段階の反応を行った後、別途の精
製過程なく有機溶媒層をそのまま用いることができる。
t−ブチルアミンは1〜2当量の量でゆっくり滴下して
使用する。反応温度は−20℃〜100℃の範囲、好ま
しくは−20℃〜30℃の範囲である。
【0063】
【実施例】以下、本発明を下記製造例及び実施例に基づ
いてより具体的に説明する。しかし、これらの製造例及
び実施例は本発明に対する理解を助けるためのものであ
って、どんな意味でも本発明の範囲がこれらによって限
定されるものではない。
【0064】製造例1 1−(3−イソプロピルスルファニルピリジン−2−イ
ル)−プロパン−1−オンの合成 2−シアノ−3−イソプロピルスルファニルピリジン
(3.56g, 20mmol)をテトラヒドロフラン
(40ml)に溶かし、ここに3Mエチルマグネシウム
ブロマイドのエーテル溶液(8ml)を0℃で滴下し
た。出発物質が完全に消耗されれば、1時間常温で攪拌
した後、2N塩酸を添加して反応液のpHを2に調整し
た。反応液をジクロロメタン(200ml)で2回抽出
して有機層を濃縮した後、シリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーで分離精製し、白色の表題化合物(3.76
g,18mmol,収率90%)を得た。1H NMR (CDCl
3, δ): 8.38(d, 1H), 7.75(d, 1H), 7.40-7.32(m, 1
H), 3.49 (quin, 1H), 3.18(q, 2H), 1.38(d, 6H), 1.2
1(t, 3H)
【0065】実施例1 1−(3−イソプロピルスルファニルピリジン−2−イ
ル)−2−クロロプロパン−1−オンの合成 1−(3−イソプロピルスルファニルピリジン−2−イ
ル)−プロパン−1−オン(1.88g,9mmol)
をトルエン(20ml)に溶かした後、2.2当量の塩
化銅(II)(2.66g,19.8mmol)を入れ、
常温で5時間攪拌した。反応液に水(25ml)を滴下
した後、生成した固体を、セライトを通して、濾過し
た。濾液を層分離した後、水層をトルエン(10ml)
で2回抽出した。得られた有機層を濃縮した後、シリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーで分離精製し、白色の表
題化合物(1.76g,7.2mmol,収率80%)
を得た。1 H NMR (CDCl3, δ): 8.43(d, 1H), 7.77(d, 1H), 7.43
-7.37(m, 1H), 6.01(q, 1H), 3.51(quin, 1H), 1.73(d,
3H), 1.45-1.37(m, 6H)
【0066】実施例2 1−(3−ベンジルスルファニルピリジン−2−イル)
−2−クロロプロパン−1−オンの合成 1−(3−ベンジルスルファニルピリジン−2−イル)
−プロパン−1−オン(2.57g,10mmol)を
実施例1と同様の方法で塩化銅(II)(2.96g,2
2mmol)と反応させ、表題化合物(2.62g,9
mmol,収率90%)を得た。1 H NMR (CDCl3, δ): 8.42(d, 1H), 7.74(d, 1H), 7.48
-7.27(m, 6H), 6.01(q, 1H), 4.17(s, 2H), 1.73(d, 3
H)
【0067】実施例3 1−(3−イソプロピルスルファニルピリジン−2−イ
ル)−2−ブロモプロパン−1−オンの合成 1−(3−イソプロピルスルファニルピリジン−2−イ
ル)−プロパン−1−オン(1.88g,9mmol)
をトルエン(20ml)に溶かした後、2.2当量の臭
化銅(II)(4.42g,19.8mmol)を入れ、
常温で5時間攪拌した。反応液に水(25ml)を滴下
した後、生成した固体を、セライトを通して、濾過し
た。濾液を層分離した後、水層をトルエン(10ml)
で2回抽出した。得られた有機層を濃縮した後、シリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーで分離精製し、白色の表
題化合物(2.20g,7.65mmol,収率85
%)を得た。1 H NMR (CDCl3, δ): 8.43(d, 1H), 7.79(d, 1H), 7.44
-7.37(m, 1H), 6.06 (q, 1H), 3.53(quin, 1H), 1.91
(d, 3H), 1.42(dd, 6H)
【0068】実施例4 ジチオカルボン酸 O−エチル、S−[2−(2−ブロ
モプロピオニル)ピリジン−3−イル]エステルの合成 ジチオカルボン酸 O−エチル、S−[2−(プロピオ
ニル)ピリジン−3−イル]エステル(2.55g,1
0mmol)を実施例3と同様の方法で、臭化銅(II)
(4.91g,22mmol)と反応させ、表題化合物
(3.00g,9mmol,収率90%)を得た。1 H NMR (CDCl3, δ): 8.41(d, 1H), 7.72(d, 1H), 7.40
-7.37(m, 1H), 6.07 (q, 1H), 2.92(q, 2H), 1.89(d, 3
H), 1.38(t, 3H)
【0069】実施例5 1−(3−ベンジルスルファニルピリジン−2−イル)
−2−ブロモプロパン−1−オンの合成 1−(3−ベンジルスルファニルピリジン−2−イル)
−プロパン−1−オン(2.57g,10mmol)を
実施例3と同様の方法で臭化銅(II)(4.91g,2
2mmol)と反応させ、表題化合物(3.03g,9
mmol,収率90%)を得た。1 H NMR (CDCl3, δ): 8.41(d, 1H), 7.73(d, 1H), 7.44
-7.29(m, 6H), 6.05 (q, 1H), 4.17(s, 2H), 1.90(d, 3
H)
【0070】実施例6 1−(3−t−ブチルスルファニルピリジン−2−イ
ル)−2−ブロモプロパン−1−オンの合成 1−(3−t−ブチルスルファニルピリジン−2−イ
ル)−プロパン−1−オン(2.57g,10mmo
l)を実施例3と同様の方法で臭化銅(II)(4.91
g,22mmol)と反応させ、表題化合物(2.11
g,7mmol,収率70%)を得た。1 H NMR (CDCl3, δ): 8.57(d, 1H), 7.90(d, 1H), 7.36
-7.30(m, 1H), 6.07 (q, 1H), 3.10(q, 1H), 1.24(s, 9
H), 1.15(t, 3H)
【0071】実施例7 ビス(2−(2−ブロモプロピオニル)ピリジン−3−
イル)−ジスルフィドの合成 ビス((2−プロピオニル)ピリジン−3−イル)−ジ
スルフィド(3.32g,10mmol)を実施例3と
同様の方法で臭化銅(II)(9.82g,44mmo
l)と反応させ、表題化合物(3.43g,7mmo
l,収率70%)を得た。1 H NMR (CDCl3, δ): 8.45(d, 1H), 8.10(d, 1H), 7.42
-7.35(m, 1H), 6.08 (q, 1H), 1.98(d, 3H)
【0072】実施例8 1−(3−ベンジルスルファニルピリジン−2−イル)
−2−フルオロプロパン−1−オンの合成 1−(3−ベンジルスルファニルピリジン−2−イル)
−2−クロロプロパン−1−オン(1.46g,5mm
ol)をポリエチレングリコール300(3ml)に溶
かした後、ここにフッ化カリウム(0.51g,8.7
5mmol)を投入した。70℃で5時間加熱した後、
冷却した。トルエン(5ml)と水(5ml)を投入し
た後、層分離した。有機層を30%硫酸水溶液(1m
l)で洗浄した後、酸性白土を通過させ、濾過した。濾
液を濃縮した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー
で分離精製し、白色の表題化合物(1.10g,4mm
ol,収率80%)を得た。1 H NMR (CDCl3, δ): 8.38(d, 1H), 7.75(d, 1H), 7.48
-7.29(m, 6H), 6.28 (dq, 1H, J1=51Hz), 4.16(s, 2H),
1.67(dd, 3H, J1=27Hz)
【0073】実施例9 1−(3−イソプロピルスルファニルピリジン−2−イ
ル)−2−フルオロプロパン−1−オンの合成 1−(3−イソプロピルスルファニルピリジン−2−イ
ル)−2−ブロモプロパン−1−オン(1.44g,5
mmol)をポリエチレングリコール300(3ml)
に溶かした後、実施例8と同様の方法でフッ化カリウム
(0.51g,8.75mmol)と反応させ、表題化
合物(0.91g,4mmol,収率80%)を得た。1 H NMR (CDCl3, δ): 8.37(d, 1H), 7.77(d, 1H), 7.42
-7.37(m, 1H), 6.23 (dq, 1H, J1=62Hz), 3.52(quin, 1
H), 1.70(d, 3H), 1.50(dd, 6H, J1=65Hz)
【0074】実施例10 ジチオカルボン酸 O−エチル、S−[2−(2−フル
オロプロピオニル)ピリジン−3−イル]エステルの合
成 ジチオカルボン酸 O−エチル、S−[2−(2−ブロ
モプロピオニル)ピリジン−3−イル]エステル(1.
67g,5mmol)をポリエチレングリコール300
(3ml)に溶かした後、実施例8と同様の方法でフッ
化カリウム(0.51g,8.75mmol)と反応さ
せ、表題化合物(0.98g,3.6mmol,収率7
2%)を得た。1 H NMR (CDCl3, δ): 8.37(d, 1H), 7.73(d, 1H), 7.43
-7.37(m, 1H), 6.29 (dq, 1H, J1=65Hz), 2.94(q, 2H),
1.70(dd, 3H, J1=49Hz), 1.42 (t, 3H)
【0075】実施例11 N−t−ブチル−[2−(2−フルオロプロピオニル)
−ピリジン−3−イル]スルホンアミドの合成 1−(3−ベンジルスルファニルピリジン−2−イル)
−2−フルオロプロパン−1−オン(2.75g,10
mmol)をジクロロメタン(10ml)と10%の希
酢酸(10ml)で希釈した後、0℃で塩素(気体)を
30分間バブリングした。反応液が透明な黄色に変われ
ば、塩素投入を中止し、反応液に窒素を1時間バブリン
グして過量の塩素を除去した。反応液を静置させ、層分
離した後、有機層を0℃に冷却した。冷却した有機層に
t−ブチルアミン(11mmol)を滴下した。反応液
に水(10ml)を入れて抽出した後、有機層を濃縮
し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで分離精製
し、白色の表題化合物(2.33g,8.1mmol,
収率81%)を得た。
【0076】
【発明の効果】以上説明のように、本発明に係る新規な
一般式(1)の化合物を用いると、優秀な除草活性を持
つ一般式(2)の化合物を製造するための核心中間体と
して作用する一般式(5)の化合物を非常に効率的に製
造できる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ファン、グッ サン 大韓民国、デジョン 302−280、ソグ、ウ ォルピョンドン、ファンシルアパート 115−201 (72)発明者 イ、ビョン ベ 大韓民国、デジョン 305−340、ユソン グ、ドリョンドン、エルジーアパート 5 −502 (72)発明者 ユ、ソン フン 大韓民国、デジョン 305−340、ユソン グ、ドリョンドン、エルジーアパート 1 −304 Fターム(参考) 4C055 AA01 BA02 BA18 BB14 CA02 CA47 CB02 DA01 EA01 FA01 4H039 CA51 CD20

Claims (15)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 下記一般式(1)のピリジン誘導体: 【化1】 式中、R1は、水素、シアノ、C1−C4−アルキル、C3
    −C6−シクロアルキル、C1−C4−アルキルカルボニ
    ル、C1−C4−アルコキシメチル、または−C(=S)
    OEtを示すか、またはハロゲン、C1−C4−アルキル
    及びC1−C4−アルコキシから選択された置換基によっ
    て1〜5置換されるか、または非置換のベンジルを示す
    か、または、R1は、SQを示し、ここでQは、下記ピ
    リジンラジカルを示し: 【化2】 2は、水素またはC1−C4−アルキルを示し、Yは、
    ハロゲン原子を示す。
  2. 【請求項2】 R1がC1−C4−アルキル及びC1−C4
    −アルコキシから選択された置換基によって1〜5置換
    されるか、または非置換のベンジルを示すか、または、
    1−C4−アルキル、C1−C4−アルコキシメチル、−
    C(=S)OEt、またはSQを示し、ここでQは、請
    求項1と同義であり、R2が、水素、メチルまたはエチ
    ルを示し、Yが、弗素、塩素または臭素原子を示す請求
    項1に記載の化合物。
  3. 【請求項3】 R1が4−メトキシベンジル、ベンジ
    ル、イソプロピル、t−ブチル、メトキシメチル、−C
    (=S)OEt、またはSQを示し、ここでQは、請求
    項1と同義であり、R2が、水素、メチルまたはエチル
    を示し、Yが、弗素、塩素または臭素原子を示す請求項
    1または2に記載の化合物。
  4. 【請求項4】 1−(3−イソプロピルスルファニルピ
    リジン−2−イル)−2−クロロプロパン−1−オン;
    1−(3−ベンジルスルファニルピリジン−2−イル)
    −2−クロロプロパン−1−オン;1−(3−イソプロ
    ピルスルファニルピリジン−2−イル)−2−ブロモプ
    ロパン−1−オン;ジチオカルボン酸 O−エチル、S
    −[2−(2−ブロモプロピオニル)ピリジン−3−イ
    ル]エステル;1−(3−ベンジルスルファニルピリジ
    ン−2−イル)−2−ブロモプロパン−1−オン;1−
    (3−t−ブチルスルファニルピリジン−2−イル)−
    2−ブロモプロパン−1−オン;ビス(2−(2−ブロ
    モプロピオニル)ピリジン−3−イル)−ジスルフィ
    ド;1−(3−ベンジルスルファニルピリジン−2−イ
    ル)−2−フルオロプロパン−1−オン;1−(3−イ
    ソプロピルスルファニルピリジン−2−イル)−2−フ
    ルオロプロパン−1−オン;及びジチオカルボン酸 O
    −エチル、S−[2−(2−フルオロプロピオニル)ピ
    リジン−3−イル]エステルの中から選択された請求項
    1または2に記載の化合物。
  5. 【請求項5】 下記一般式(6)の化合物を溶媒中で下
    記一般式(7)の銅(II)塩と反応させ、下記一般式(1
    c)の化合物を製造するか、または得られた一般式(1
    c)の化合物を溶媒中で任意に相間移動触媒の存在下に
    下記一般式(8)の化合物と反応させ、下記一般式(1
    b)の化合物を製造することを特徴とする、請求項1に
    定義された一般式(1)の化合物を製造する方法: 【化3】 【化4】 【化5】 【化6】 【化7】 式中、R1及びR2は、請求項1と同義であり、Y'は、
    塩素または臭素原子を示し、Mは、アルカリ金属を示
    す。
  6. 【請求項6】 一般式(1c)の化合物を製造する過程で
    溶媒がクロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタ
    ン、トルエン、ベンゼン、キシレン、メチルアセテー
    ト、エチルアセテート、イソプロピルアセテート、メタ
    ノール、エタノール、イソプロパノール、ジメチルエー
    テル、ジエチルエーテル、メチルt−ブチルエーテル、
    ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン及びジオキサン
    の中から選択された1種以上である請求項5に記載の方
    法。
  7. 【請求項7】 一般式(1c)の化合物を製造する過程
    で、反応温度が−20℃〜150℃の範囲である請求項
    5に記載の方法。
  8. 【請求項8】 一般式(1b)の化合物を製造する過程
    で、溶媒がホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメ
    チルアセトアミド、エチレングリコール、ポリエチレン
    グリコール、アセトニトリル及びプロピオニトリルの中
    から選択された1種以上である請求項5に記載の方法。
  9. 【請求項9】 一般式(1b)の化合物を製造する過程
    で、反応温度が20℃〜150℃の範囲である請求項5
    に記載の方法。
  10. 【請求項10】 下記式(1b)の化合物を水または酢酸
    水溶液と有機溶媒の混合液中で塩素気体と反応させた
    後、これを有機溶媒中でt−ブチルアミンと反応させる
    ことを特徴とする、下記一般式(5)の化合物を製造す
    る方法: 【化8】 【化9】 式中、R1及びR2は、請求項1と同義である。
  11. 【請求項11】 塩素気体と反応させる一番目の段階
    で、溶媒が水または酢酸水溶液と有機溶媒を1:1〜
    1:3の体積比で混合させたものである請求項10に記
    載の方法。
  12. 【請求項12】 有機溶媒がトルエン、ベンゼン、キシ
    レン、クロロホルム、ジクロロメタン、1,2−エチレ
    ンジクロライド、ジメチルエーテル、ジエチルエーテ
    ル、メチルt−ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テ
    トラヒドロフラン及びジオキサンの中から選択された1
    種以上である請求項11に記載の方法。
  13. 【請求項13】 塩素気体と反応させる一番目の段階の
    反応温度が−20℃〜80℃の範囲である請求項10に
    記載の方法。
  14. 【請求項14】 t−ブチルアミンと反応させる二番目
    の段階で有機溶媒がクロロホルム、ジクロロメタン、ジ
    クロロエタン、トルエン、ベンゼン及びキシレンの中か
    ら選択された1種以上である請求項10に記載の方法。
  15. 【請求項15】 t−ブチルアミンと反応させる二番目
    の段階の反応温度が−20℃〜100℃の範囲である請
    求項10に記載の方法。
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