JPS621392B2 - - Google Patents
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- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 12
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 10
- 125000005110 aryl thio group Chemical group 0.000 claims description 7
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 5
- AWHNUHMUCGRKRA-UHFFFAOYSA-N benzylsulfonylmethylbenzene Chemical class C=1C=CC=CC=1CS(=O)(=O)CC1=CC=CC=C1 AWHNUHMUCGRKRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 4
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims description 3
- 125000005396 acrylic acid ester group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 2
- 125000005462 imide group Chemical group 0.000 claims description 2
- -1 acetyl compound Chemical group 0.000 description 41
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 13
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000002585 base Substances 0.000 description 10
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 9
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 9
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical class [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 7
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 7
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000004440 column chromatography Methods 0.000 description 6
- USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N diphenyl ether Chemical compound C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 6
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N Sodium methoxide Chemical compound [Na+].[O-]C WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- LPNYRYFBWFDTMA-UHFFFAOYSA-N potassium tert-butoxide Chemical compound [K+].CC(C)(C)[O-] LPNYRYFBWFDTMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 3
- NDKBVBUGCNGSJJ-UHFFFAOYSA-M benzyltrimethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 NDKBVBUGCNGSJJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 3
- HUPFGZXOMWLGNK-UHFFFAOYSA-N diflunisal Chemical compound C1=C(O)C(C(=O)O)=CC(C=2C(=CC(F)=CC=2)F)=C1 HUPFGZXOMWLGNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229960000616 diflunisal Drugs 0.000 description 3
- 230000002140 halogenating effect Effects 0.000 description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 3
- JWUKZUIGOJBEPC-UHFFFAOYSA-N phenyl thiohypochlorite Chemical compound ClSC1=CC=CC=C1 JWUKZUIGOJBEPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 3
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910000104 sodium hydride Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000012312 sodium hydride Substances 0.000 description 3
- QVJNFMFPRYREOQ-UHFFFAOYSA-N 1-(benzenesulfonylmethyl)-4-chlorobenzene Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1CS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 QVJNFMFPRYREOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKSAJZSJKURQRX-UHFFFAOYSA-N 2-acetyloxy-5-(4-fluorophenyl)benzoic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C(OC(=O)C)=CC=C1C1=CC=C(F)C=C1 XKSAJZSJKURQRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GUUVPOWQJOLRAS-UHFFFAOYSA-N Diphenyl disulfide Chemical compound C=1C=CC=CC=1SSC1=CC=CC=C1 GUUVPOWQJOLRAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PCLIMKBDDGJMGD-UHFFFAOYSA-N N-bromosuccinimide Chemical compound BrN1C(=O)CCC1=O PCLIMKBDDGJMGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JRNVZBWKYDBUCA-UHFFFAOYSA-N N-chlorosuccinimide Chemical compound ClN1C(=O)CCC1=O JRNVZBWKYDBUCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical class [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 229910000102 alkali metal hydride Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000008046 alkali metal hydrides Chemical class 0.000 description 2
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 2
- RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N anisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1 RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 description 2
- 150000001989 diazonium salts Chemical class 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 2
- 229950007979 flufenisal Drugs 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LQXGMYGBXXWQFG-UHFFFAOYSA-N methyl 5-(benzenesulfonyl)-5-(4-chlorophenyl)-2-oxocyclohexane-1-carboxylate Chemical compound C1CC(=O)C(C(=O)OC)CC1(S(=O)(=O)C=1C=CC=CC=1)C1=CC=C(Cl)C=C1 LQXGMYGBXXWQFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N nitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1 LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000105 potassium hydride Inorganic materials 0.000 description 2
- NTTOTNSKUYCDAV-UHFFFAOYSA-N potassium hydride Chemical compound [KH] NTTOTNSKUYCDAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 2
- ODZPKZBBUMBTMG-UHFFFAOYSA-N sodium amide Chemical compound [NH2-].[Na+] ODZPKZBBUMBTMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QDRKDTQENPPHOJ-UHFFFAOYSA-N sodium ethoxide Chemical compound [Na+].CC[O-] QDRKDTQENPPHOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MYXJYAIKMQJHIB-UHFFFAOYSA-M sodium;benzenesulfinate;dihydrate Chemical compound O.O.[Na+].[O-]S(=O)C1=CC=CC=C1 MYXJYAIKMQJHIB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M sodium;chloride;hydrate Chemical compound O.[Na+].[Cl-] HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- LAMPVRLLEMGSSZ-UHFFFAOYSA-N (4-methylphenyl) thiohypobromite Chemical compound CC1=CC=C(SBr)C=C1 LAMPVRLLEMGSSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSGBMGFQNOGIPC-UHFFFAOYSA-N (4-methylphenyl) thiohypochlorite Chemical compound CC1=CC=C(SCl)C=C1 RSGBMGFQNOGIPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NVNPLEPBDPJYRZ-UHFFFAOYSA-N 1-(bromomethyl)-4-fluorobenzene Chemical compound FC1=CC=C(CBr)C=C1 NVNPLEPBDPJYRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JQZAEUFPPSRDOP-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-4-(chloromethyl)benzene Chemical compound ClCC1=CC=C(Cl)C=C1 JQZAEUFPPSRDOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UVNBLIFEQQFJMM-UHFFFAOYSA-N 2,4-difluorobenzenediazonium Chemical class FC1=CC=C([N+]#N)C(F)=C1 UVNBLIFEQQFJMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDUOWQHPBXVJSZ-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4-difluorophenyl)phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1C1=CC=C(F)C=C1F FDUOWQHPBXVJSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-N 2-Methylbenzenesulfonic acid Chemical compound CC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRXHMNGJQMPYOH-UHFFFAOYSA-N 2-benzyl-1-(2-benzyl-4-chlorophenyl)sulfonyl-4-chlorobenzene Chemical compound C=1C(Cl)=CC=C(S(=O)(=O)C=2C(=CC(Cl)=CC=2)CC=2C=CC=CC=2)C=1CC1=CC=CC=C1 RRXHMNGJQMPYOH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHQDETIJWKXCTC-UHFFFAOYSA-N 3-chloroperbenzoic acid Chemical compound OOC(=O)C1=CC=CC(Cl)=C1 NHQDETIJWKXCTC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MHKLKWCYGIBEQF-UHFFFAOYSA-N 4-(1,3-benzothiazol-2-ylsulfanyl)morpholine Chemical compound C1COCCN1SC1=NC2=CC=CC=C2S1 MHKLKWCYGIBEQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DMGKELMMBDZRRV-UHFFFAOYSA-N 4-phenylsulfanylmorpholine Chemical compound C1COCCN1SC1=CC=CC=C1 DMGKELMMBDZRRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical class [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BWGNESOTFCXPMA-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen disulfide Chemical compound SS BWGNESOTFCXPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 230000000202 analgesic effect Effects 0.000 description 1
- 230000003110 anti-inflammatory effect Effects 0.000 description 1
- CIZVQWNPBGYCGK-UHFFFAOYSA-N benzenediazonium Chemical class N#[N+]C1=CC=CC=C1 CIZVQWNPBGYCGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000012267 brine Substances 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical class 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 150000002019 disulfides Chemical class 0.000 description 1
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 1
- 238000004880 explosion Methods 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 1
- 239000005457 ice water Substances 0.000 description 1
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Substances CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960001047 methyl salicylate Drugs 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 1
- OTNVGWMVOULBFZ-UHFFFAOYSA-N sodium;hydrochloride Chemical class [Na].Cl OTNVGWMVOULBFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XHFLOLLMZOTPSM-UHFFFAOYSA-M sodium;hydrogen carbonate;hydrate Chemical class [OH-].[Na+].OC(O)=O XHFLOLLMZOTPSM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- GPRLSGONYQIRFK-MNYXATJNSA-N triton Chemical compound [3H+] GPRLSGONYQIRFK-MNYXATJNSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は一般式
(式中、X1及びX2は水素又はハロゲン原子で
あり、Rはアルキル基、R1は水素原子、ハロゲ
ン原子又はアリールチオ基であり、Arはアリー
ル基である。)で表わされるケトエステル誘導体
及びその製造方法に関する。
あり、Rはアルキル基、R1は水素原子、ハロゲ
ン原子又はアリールチオ基であり、Arはアリー
ル基である。)で表わされるケトエステル誘導体
及びその製造方法に関する。
本発明の前記一般式()で表わされるケトエ
ステル誘導体は例えば消炎鎮痛剤として有用なパ
ラ位がフツ素置換されたアセチル体であるフルフ
エニサール及びオルト及びパラ位がフツ素置換さ
れた化合物であるジフルニサールに誘導すること
ができる。
ステル誘導体は例えば消炎鎮痛剤として有用なパ
ラ位がフツ素置換されたアセチル体であるフルフ
エニサール及びオルト及びパラ位がフツ素置換さ
れた化合物であるジフルニサールに誘導すること
ができる。
従来、フルフエニサール及びジフルニサールを
製造するにあたつては次の様な方法が知られてい
る。
製造するにあたつては次の様な方法が知られてい
る。
(イ) フツ素置換ベンゼンジアゾニウム塩を原料と
してニトロベンゼンと反応させてフツ素置換ニ
トロビフエニル体を合成し、更にこれを還元し
た後再度ジアゾニウム塩を経てフツ素置換フエ
ニルフエノール体とし、これをカルボキシル化
することにより合成する方法(米国特許第
3714226号参照)。
してニトロベンゼンと反応させてフツ素置換ニ
トロビフエニル体を合成し、更にこれを還元し
た後再度ジアゾニウム塩を経てフツ素置換フエ
ニルフエノール体とし、これをカルボキシル化
することにより合成する方法(米国特許第
3714226号参照)。
(ロ) フツ素置換ベンゼンジアゾニウム塩を原料と
し、これをアニソールと反応させてフツ素置換
フエニルアニソール体を合成し、次いで塩化水
素と反応させてフエニルフエノール体としこれ
をカルボキシル化することにより合成する方法
(米国特許第3714226号参照)。
し、これをアニソールと反応させてフツ素置換
フエニルアニソール体を合成し、次いで塩化水
素と反応させてフエニルフエノール体としこれ
をカルボキシル化することにより合成する方法
(米国特許第3714226号参照)。
(ハ) ベンゼンジアゾニウム塩あるいは2,4―ジ
フルオロベンゼンジアゾニウム塩を原料とし
て、2,4―ジフルオロフエニルフエノール体
を合成し、これをアシル化した後過酸化物によ
る酸化、加水分解することにより、2,4―ジ
フルオロフエニルフエノールを得、次いでカル
ボキシル化してジフルニサールを合成する方法
(特開昭51―34135号参照)。
フルオロベンゼンジアゾニウム塩を原料とし
て、2,4―ジフルオロフエニルフエノール体
を合成し、これをアシル化した後過酸化物によ
る酸化、加水分解することにより、2,4―ジ
フルオロフエニルフエノールを得、次いでカル
ボキシル化してジフルニサールを合成する方法
(特開昭51―34135号参照)。
しかしながらこれらの方法はいずれも爆発の危
険性を有するジアゾニウム塩を使用し、また高圧
下の反応工程を含む方法である。特に(イ)及び(ロ)の
方法においては収率の極端に低い工程を含み、又
分離困難な異性体を生成する欠点がある。
険性を有するジアゾニウム塩を使用し、また高圧
下の反応工程を含む方法である。特に(イ)及び(ロ)の
方法においては収率の極端に低い工程を含み、又
分離困難な異性体を生成する欠点がある。
本発明者等はこれらの欠点を克服すべく検討し
た結果、危険な試剤を用いることなく且つ、緩和
な条件下目的化合物に誘導可能な前記一般式
()の化合物及びその製造方法を見出し、本発
明を完成した。
た結果、危険な試剤を用いることなく且つ、緩和
な条件下目的化合物に誘導可能な前記一般式
()の化合物及びその製造方法を見出し、本発
明を完成した。
本発明の化合物は次式に従い製造できる。
〔式中、X1及びX2は水素又はハロゲン原子で
あり、Rはアルキル基、R1はハロゲン原子又は
アリールチオ基であり、Arはアリール基であ
る。〕 〔第一工程〕 本発明の第一工程は塩基の存在下、一般式
()で表わされるベンジルスルホン誘導体と一
般式 CH2=CHCO2R ―() (式中、Rはアルキル基である。)で表わされ
るアクリル酸エステルとを反応させるものであ
る。
あり、Rはアルキル基、R1はハロゲン原子又は
アリールチオ基であり、Arはアリール基であ
る。〕 〔第一工程〕 本発明の第一工程は塩基の存在下、一般式
()で表わされるベンジルスルホン誘導体と一
般式 CH2=CHCO2R ―() (式中、Rはアルキル基である。)で表わされ
るアクリル酸エステルとを反応させるものであ
る。
前記一般式()で表わされるベンジルスルホ
ン誘導体は例えば対応するハロゲン置換ベンジル
ハライドとアリールスルフイン酸のアルカリ金属
塩とを反応させることにより容易に得ることが出
来る。
ン誘導体は例えば対応するハロゲン置換ベンジル
ハライドとアリールスルフイン酸のアルカリ金属
塩とを反応させることにより容易に得ることが出
来る。
本工程は前記一般式()のベンジルスルホン
誘導体に対し、前記一般式()で表わされるア
クリル酸エステルを2当量以上使用するものであ
る。
誘導体に対し、前記一般式()で表わされるア
クリル酸エステルを2当量以上使用するものであ
る。
本工程は塩基の存在下に行うことを必須の要件
とするものである。塩基としてはナトリウムメト
キシド、ナトリウムエトキシド、カリウムt―ブ
トキシド等のアルカリ金属アルコキシド、水素化
ナトリウム、水素化カリウム等のアルカリ金属水
素化物、ナトリウムアミド等のアルカリ金属アミ
ド、水酸化ベンジルトリメチルアンモニウム(ト
リトンB)等の水酸化アンモニウム塩、トリエチ
ルアミン、ピリジン、1,5―ジアザビシクロ 〔5.4.0〕ウンデセン―5(DBU)等のアミン類を
広範に例示することができる。塩基の使用量は前
記一般式()で表わされるベンジルスルホン誘
導体に対して一般的に0.5〜2当量使用すること
ができるが好ましくは0.8〜1.2当量用いる。反応
の実施にあたつては溶媒の使用が好ましく、メタ
ノール、エタノール等のアルコール、ジエチルエ
ーテル、テトラヒドロフラン(THF)等のエー
テル、アセトニトリル、N,N―ジメチルホルム
アミド(DMF)等の非プロトン性極性溶媒を使
用することができる。反応は−15℃乃至用いる溶
媒の還流温度において進行するが、選択性の観点
から0℃〜室温での反応が好ましい。
とするものである。塩基としてはナトリウムメト
キシド、ナトリウムエトキシド、カリウムt―ブ
トキシド等のアルカリ金属アルコキシド、水素化
ナトリウム、水素化カリウム等のアルカリ金属水
素化物、ナトリウムアミド等のアルカリ金属アミ
ド、水酸化ベンジルトリメチルアンモニウム(ト
リトンB)等の水酸化アンモニウム塩、トリエチ
ルアミン、ピリジン、1,5―ジアザビシクロ 〔5.4.0〕ウンデセン―5(DBU)等のアミン類を
広範に例示することができる。塩基の使用量は前
記一般式()で表わされるベンジルスルホン誘
導体に対して一般的に0.5〜2当量使用すること
ができるが好ましくは0.8〜1.2当量用いる。反応
の実施にあたつては溶媒の使用が好ましく、メタ
ノール、エタノール等のアルコール、ジエチルエ
ーテル、テトラヒドロフラン(THF)等のエー
テル、アセトニトリル、N,N―ジメチルホルム
アミド(DMF)等の非プロトン性極性溶媒を使
用することができる。反応は−15℃乃至用いる溶
媒の還流温度において進行するが、選択性の観点
から0℃〜室温での反応が好ましい。
本工程において用いる塩基の種頼、量によつて
前記反応式に記した様に前記一般式()で表わ
されるα―置換ベンジルスルホン誘導体を中間体
として単離することも可能であり、この中間体を
単離することにより前記一般式(a)で表わさ
れるケトエステル誘導体への収率を向上させるこ
とができる。
前記反応式に記した様に前記一般式()で表わ
されるα―置換ベンジルスルホン誘導体を中間体
として単離することも可能であり、この中間体を
単離することにより前記一般式(a)で表わさ
れるケトエステル誘導体への収率を向上させるこ
とができる。
この中間体()を単離するには、前に記した
塩基のうち、トリトンBの如きアンモニウム塩、
トリエチルアミン、ピリジン等のアミン類が好ま
しく、またアルカリ金属、一級アルコキシドと対
応するアルコールとの組合せも用いることができ
る。塩基の量はいわゆる触媒量の使用で十分であ
る。更に中間体を単離後は約1当量以上の塩基の
存在下、アクリル酸エステル()と反応させる
ことにより前記一般式(a)で表わされるケト
エステル誘導体を製造することができる。
塩基のうち、トリトンBの如きアンモニウム塩、
トリエチルアミン、ピリジン等のアミン類が好ま
しく、またアルカリ金属、一級アルコキシドと対
応するアルコールとの組合せも用いることができ
る。塩基の量はいわゆる触媒量の使用で十分であ
る。更に中間体を単離後は約1当量以上の塩基の
存在下、アクリル酸エステル()と反応させる
ことにより前記一般式(a)で表わされるケト
エステル誘導体を製造することができる。
本工程で得られる前記一般式(a)で表わさ
れるケトエステル誘導体としては5―フエニル―
5―ベンゼンスルホニル―2―オキソシクロヘキ
サンカルボン酸メチル、5―(4′―クロロフエニ
ル)―5―ベンゼンスルホニル―2―オキソシク
ロヘキサンカルボン酸エチル、5―(4′―フルオ
ロフエニル)―5―ベンゼンスルホニル―2―オ
キソシクロヘキサンカルボン酸メチル、5―
(4′―フルオロフエニル)―5―(p―トルエン
スルホニル)―2―オキソシクロヘキサンカルボ
ン酸エチル、5―(2′,4′―ジクロロフエニル)
―5―ベンゼンスルホニル―2―オキソシクロヘ
キサンカルボン酸n―プロピル、5―(2′―クロ
ロ―4′―フルオロフエニル)―5―(p―トルエ
ンスルホニル)―2―オキソシクロヘキサンカル
ボン酸n―ブチル、5―(2′―フルオロ―4′―ク
ロロフエニル)―5―(p―クロロベンゼンスル
ホニル)―2―オキソシクロヘキサンカルボン酸
メチル、5―(2′,4′―ジフルオロフエニル)―
5―ベンゼンスルホニルー2―オキソシクロヘキ
サンカルボン酸エチル等を例示することができ
る。
れるケトエステル誘導体としては5―フエニル―
5―ベンゼンスルホニル―2―オキソシクロヘキ
サンカルボン酸メチル、5―(4′―クロロフエニ
ル)―5―ベンゼンスルホニル―2―オキソシク
ロヘキサンカルボン酸エチル、5―(4′―フルオ
ロフエニル)―5―ベンゼンスルホニル―2―オ
キソシクロヘキサンカルボン酸メチル、5―
(4′―フルオロフエニル)―5―(p―トルエン
スルホニル)―2―オキソシクロヘキサンカルボ
ン酸エチル、5―(2′,4′―ジクロロフエニル)
―5―ベンゼンスルホニル―2―オキソシクロヘ
キサンカルボン酸n―プロピル、5―(2′―クロ
ロ―4′―フルオロフエニル)―5―(p―トルエ
ンスルホニル)―2―オキソシクロヘキサンカル
ボン酸n―ブチル、5―(2′―フルオロ―4′―ク
ロロフエニル)―5―(p―クロロベンゼンスル
ホニル)―2―オキソシクロヘキサンカルボン酸
メチル、5―(2′,4′―ジフルオロフエニル)―
5―ベンゼンスルホニルー2―オキソシクロヘキ
サンカルボン酸エチル等を例示することができ
る。
本発明の第二工程は、第一工程で得られた前記
一般式(a)で表わされるケトエステル誘導体
と 一般式 R1Y ― (式中、R1はハロゲン原子又はアリールチオ
基であり、Yはハロゲン原子、アリールチオ基、
アミノ基、イミド基又はアミド基である。)で表
わされる化合物とを反応させるものである。
一般式(a)で表わされるケトエステル誘導体
と 一般式 R1Y ― (式中、R1はハロゲン原子又はアリールチオ
基であり、Yはハロゲン原子、アリールチオ基、
アミノ基、イミド基又はアミド基である。)で表
わされる化合物とを反応させるものである。
前記一般式の化合物としては、ハロゲン化試
剤として例えばN―ブロモコハク酸イミド、N―
クロロコハク酸イミド等のハロゲン化イミド、塩
素、臭素等を、又アリールスルフエニル化試剤と
して、ベンゼンスルフエニルクロリド、p―トル
エンスルフエニルクロリド、p―トルエンスルフ
エニルブロミド、p―クロロベンゼンスルフエニ
ルクロリド等のアリールスルフエニルハライド、
ジフエニルジスルフイド、ジ―p―トルエンジス
ルフイド等のジスルフイド類、モルホリノチオベ
ンゼン、2―(モルホリノチオ)ベンゾチアゾー
ル等のスルフエンアミド類を例示することができ
る。ハロゲン化試剤及びスルフエニル化試剤は原
料化合物に対して0.5〜3当量用い、一般には0.8
〜1.2当量で十分である。
剤として例えばN―ブロモコハク酸イミド、N―
クロロコハク酸イミド等のハロゲン化イミド、塩
素、臭素等を、又アリールスルフエニル化試剤と
して、ベンゼンスルフエニルクロリド、p―トル
エンスルフエニルクロリド、p―トルエンスルフ
エニルブロミド、p―クロロベンゼンスルフエニ
ルクロリド等のアリールスルフエニルハライド、
ジフエニルジスルフイド、ジ―p―トルエンジス
ルフイド等のジスルフイド類、モルホリノチオベ
ンゼン、2―(モルホリノチオ)ベンゾチアゾー
ル等のスルフエンアミド類を例示することができ
る。ハロゲン化試剤及びスルフエニル化試剤は原
料化合物に対して0.5〜3当量用い、一般には0.8
〜1.2当量で十分である。
反応の実施にあたつて溶媒を使用することもで
きる。溶媒としてはハロゲン化試剤を用いる場合
には、四塩化炭素、クロロホルム等のハロゲン化
炭素、ベンゼン等の芳香族炭化水素、ヘキサン、
シクロヘキサン等の炭化水素等を使用することが
できる。又、アリールスルフエニル化試剤を用い
る場合には、ベンゼン等の芳香族炭化水素、ジエ
チルエーテル、THF等のエーテルを使用するこ
とができる。
きる。溶媒としてはハロゲン化試剤を用いる場合
には、四塩化炭素、クロロホルム等のハロゲン化
炭素、ベンゼン等の芳香族炭化水素、ヘキサン、
シクロヘキサン等の炭化水素等を使用することが
できる。又、アリールスルフエニル化試剤を用い
る場合には、ベンゼン等の芳香族炭化水素、ジエ
チルエーテル、THF等のエーテルを使用するこ
とができる。
更に、アリールスルフエニル化試剤を用いる場
合は、塩基又は酸の存在下に反応させることが好
ましい。
合は、塩基又は酸の存在下に反応させることが好
ましい。
塩基としては、ナトリウムメトキシド、ナトリ
ウムエトキシド、カリウムt―ブトキシド等のア
ルカリ金属アルコキシド、水素化ナトリウム、水
素化カリウム等のアルカリ金属水素化物、ナトリ
ウムアミド等のアルカリ金属アミド、トリエチル
アミン、ピリジン1,5―ジアザビシクロ
〔5.4.0〕ウンデセン―5等のアミン等を例示する
ことができる。又酸としては、ギ酸、酢酸、p―
トルエンスルホン酸、リン酸等を例示することが
できる。
ウムエトキシド、カリウムt―ブトキシド等のア
ルカリ金属アルコキシド、水素化ナトリウム、水
素化カリウム等のアルカリ金属水素化物、ナトリ
ウムアミド等のアルカリ金属アミド、トリエチル
アミン、ピリジン1,5―ジアザビシクロ
〔5.4.0〕ウンデセン―5等のアミン等を例示する
ことができる。又酸としては、ギ酸、酢酸、p―
トルエンスルホン酸、リン酸等を例示することが
できる。
ハロゲン化試剤を用いる場合は、0℃〜150℃
で行なうことができるが、室温〜還流温度で反応
することが好ましく、アリールスルフエニル化試
剤を用いる場合は−20℃〜溶媒の還流温度で行な
うことができるが、0℃〜室温が好ましい。
で行なうことができるが、室温〜還流温度で反応
することが好ましく、アリールスルフエニル化試
剤を用いる場合は−20℃〜溶媒の還流温度で行な
うことができるが、0℃〜室温が好ましい。
以下実施例及び参考例により更に詳細に本発明
を説明する。
を説明する。
参考例 1
P―クロロベンジルクロリド6.44g(40mmol)
をエタノール25mlに溶かし、これにベンゼンスル
フイン酸ナトリウム二水和物8.00g(40mmol)を
加え16時間加熱還流する。氷水にあけ沈澱を濾
過、乾燥後約300mlのエタノールから再結晶する
とp―クロロベンジルフエニルスルホンがフレー
ク状結晶として8.57g(80%)得られる。融点
193―196℃. NMR(CDCl3);δppm4.23(2H,s),6.87
―7.70(9H,m). 参考例 2 p―クロロベンジルフエニルスルホン5.00g
(18.8mmol)とアクリル酸メチル2.16ml(24mmol)
とをアセトニトリル30mlに加え加熱還流させる。
これにトリトンB(40%―メタノール溶液、0.8
ml)を滴下し、さらに1時間加熱還流させる。塩
化メチレンを加え1N―塩酸、飽和重ソウ水、飽
和食塩水で洗い、乾燥、濃縮すると4―(4′―ク
ロロフエニル)―4―ベンゼンスルホニル酪酸メ
チル6.78g(定量的)が得られる。
をエタノール25mlに溶かし、これにベンゼンスル
フイン酸ナトリウム二水和物8.00g(40mmol)を
加え16時間加熱還流する。氷水にあけ沈澱を濾
過、乾燥後約300mlのエタノールから再結晶する
とp―クロロベンジルフエニルスルホンがフレー
ク状結晶として8.57g(80%)得られる。融点
193―196℃. NMR(CDCl3);δppm4.23(2H,s),6.87
―7.70(9H,m). 参考例 2 p―クロロベンジルフエニルスルホン5.00g
(18.8mmol)とアクリル酸メチル2.16ml(24mmol)
とをアセトニトリル30mlに加え加熱還流させる。
これにトリトンB(40%―メタノール溶液、0.8
ml)を滴下し、さらに1時間加熱還流させる。塩
化メチレンを加え1N―塩酸、飽和重ソウ水、飽
和食塩水で洗い、乾燥、濃縮すると4―(4′―ク
ロロフエニル)―4―ベンゼンスルホニル酪酸メ
チル6.78g(定量的)が得られる。
IR(KBr);1730cm-1.
NMR(CDCl3);δppm2.10―2.80(4H,
m),3.57(3H,s),4.07―4.35(1H,
m),6.95―7.70(4H,m). 実施例 1 4―(4′―クロロフエニル)―4―ベンゼンス
ルホニル酪酸メチル3.525g(10mmol)をTHF20
mlに溶かしさらにアクリル酸メチル1.08ml(12mm
ol)を加える。これに0℃でカリウムt―ブトキ
シド1.20g(11mmol)のTHF(20ml)溶液を滴下
し、1時間撹拌する。酢酸エチルを加え、塩化ア
ンモニウム水溶液、食塩水で洗い乾燥、濃縮する
ことにより油状体4.054gが得られる。これをカ
ラムクロマトグラフイー(シリカゲル、ヘキサ
ン/酢酸エチル=2/1)で精製することによりガ
ラス状物質として5―(4′―クロロフエニル)―
5―ベンゼンスルホニル―2―オキソシクロヘキ
サンカルボン酸メチルが2.98g(73%)得られ
る。
m),3.57(3H,s),4.07―4.35(1H,
m),6.95―7.70(4H,m). 実施例 1 4―(4′―クロロフエニル)―4―ベンゼンス
ルホニル酪酸メチル3.525g(10mmol)をTHF20
mlに溶かしさらにアクリル酸メチル1.08ml(12mm
ol)を加える。これに0℃でカリウムt―ブトキ
シド1.20g(11mmol)のTHF(20ml)溶液を滴下
し、1時間撹拌する。酢酸エチルを加え、塩化ア
ンモニウム水溶液、食塩水で洗い乾燥、濃縮する
ことにより油状体4.054gが得られる。これをカ
ラムクロマトグラフイー(シリカゲル、ヘキサ
ン/酢酸エチル=2/1)で精製することによりガ
ラス状物質として5―(4′―クロロフエニル)―
5―ベンゼンスルホニル―2―オキソシクロヘキ
サンカルボン酸メチルが2.98g(73%)得られ
る。
IR(KBr);3450,1660,1618cm-1.
NMR(CDCl3);δppm1.90―3.17(7H,
m),3.75(3H,s),7.00―7.67(9H,
m). 実施例 2 p―クロロベンジルフエニルスルホン0.25g
(0.94mmol)をTHF2mlに溶かし、さらにアクリル
酸メチル0.22ml(2.4mmol)を加える。これに0℃
でカリウムt―ブトキシド0.12g(1:1mmol)
のTHF(4ml)溶液を加え、1時間撹拌する。
酢酸エチルを加え、塩化アンモニウム水溶液、飽
和食塩水で洗い、乾燥、濃縮することにより
0.425gの油状体が得られる。これをカラムクロ
マトグラフイー(シリカゲル、ヘキサン/酢酸エ
チル=2/1)で精製することによりガラス状物質
として5―(4′―クロロフエニル)―5―ベンゼ
ンスルホニル―2―オキソシクロヘキサンカルボ
ン酸メチルが0.25g(65%)得られる。
m),3.75(3H,s),7.00―7.67(9H,
m). 実施例 2 p―クロロベンジルフエニルスルホン0.25g
(0.94mmol)をTHF2mlに溶かし、さらにアクリル
酸メチル0.22ml(2.4mmol)を加える。これに0℃
でカリウムt―ブトキシド0.12g(1:1mmol)
のTHF(4ml)溶液を加え、1時間撹拌する。
酢酸エチルを加え、塩化アンモニウム水溶液、飽
和食塩水で洗い、乾燥、濃縮することにより
0.425gの油状体が得られる。これをカラムクロ
マトグラフイー(シリカゲル、ヘキサン/酢酸エ
チル=2/1)で精製することによりガラス状物質
として5―(4′―クロロフエニル)―5―ベンゼ
ンスルホニル―2―オキソシクロヘキサンカルボ
ン酸メチルが0.25g(65%)得られる。
参考例 3
参考例1と同様にしてp―フルオロベンジルブ
ロミド7.56g(40mmol)とベンゼンスルフイン酸
ナトリウム二水和物8.00g(40mmol)よりp―フ
ルオロベンジルフエニルスルホン7.66g(77%)
が得られる。融点167―170℃。
ロミド7.56g(40mmol)とベンゼンスルフイン酸
ナトリウム二水和物8.00g(40mmol)よりp―フ
ルオロベンジルフエニルスルホン7.66g(77%)
が得られる。融点167―170℃。
NMR(CDCl3);δppm4.25(2H,s),6.80
―7.73(9H,m). 参考例 4 参考例2と同様な操作によりp―フルオロベン
ジルフエニルスルホン0.50g(2.0mmol)から4―
(4′―フルオロフエニル)―4―ベンゼン―スル
ホニル酪酸メチル0.69g(定量的)が得られる。
―7.73(9H,m). 参考例 4 参考例2と同様な操作によりp―フルオロベン
ジルフエニルスルホン0.50g(2.0mmol)から4―
(4′―フルオロフエニル)―4―ベンゼン―スル
ホニル酪酸メチル0.69g(定量的)が得られる。
NMR(CDCl3);δppm2.10―2.80(4H,
m),3.57(3H,s),4.10―4.30(1H,
m),6.80〜7.65(4H,m). 実施例 3 実施例1と同様にして4―(4′―フルオロフエ
ニル)―4―ベンゼンスルホニル酪酸メチル0.69
g(2.0mmol)からも5―(4′―フルオロフエニ
ル)―5―ベンゼンスルホニル―2―オキソシク
ロヘキサンカルボン酸メチル0.45g(58%)が得
られる。
m),3.57(3H,s),4.10―4.30(1H,
m),6.80〜7.65(4H,m). 実施例 3 実施例1と同様にして4―(4′―フルオロフエ
ニル)―4―ベンゼンスルホニル酪酸メチル0.69
g(2.0mmol)からも5―(4′―フルオロフエニ
ル)―5―ベンゼンスルホニル―2―オキソシク
ロヘキサンカルボン酸メチル0.45g(58%)が得
られる。
NMR(CDCl3);δppm1.67―3.20(7H,
m),3.76(3H,s),6.80―7.67(9H,
m). 実施例 4 実施例2と同様の操作によりp―フルオロベン
ジルフエニルスルホン0.50g(2.0mmol)から5―
(4′―フルオロフエニル)―5―ベンゼン―スル
ホニル―2―オキソシクロヘキサンカルボン酸メ
チル0.46g(59%)が得られる。
m),3.76(3H,s),6.80―7.67(9H,
m). 実施例 4 実施例2と同様の操作によりp―フルオロベン
ジルフエニルスルホン0.50g(2.0mmol)から5―
(4′―フルオロフエニル)―5―ベンゼン―スル
ホニル―2―オキソシクロヘキサンカルボン酸メ
チル0.46g(59%)が得られる。
実施例 5
5―(4′―フルオロフエニル)―5―ベンゼン
スルホニル―2―オキソシクロヘキサンカルボン
酸メチル0.34g(0.86mmol)と50%水素化ナトリ
ウム48mg(1.0mmol)にTHF5mlを加え、室温で1
時間撹拌する。これに0℃でベンゼンスルフエニ
ルクロリド0.15g(1.0mmol)を加え、室温で1.5
時間撹拌する。酢酸エチルを加え、飽和重ソウ
水、飽和食塩水で洗い、乾燥、濃縮すると液体
0.62gが得られる。これをカラムクロマトグラフ
イー(ヘキサン/酢酸エチル=2/1)で精製する
ことにより5―(4′―フルオロフエニル)―5―
ベンゼンスルホニル―2―オキソ―1―フエニル
チオシクロヘキサンカルボン酸メチル0.32g(73
%)が得られる。
スルホニル―2―オキソシクロヘキサンカルボン
酸メチル0.34g(0.86mmol)と50%水素化ナトリ
ウム48mg(1.0mmol)にTHF5mlを加え、室温で1
時間撹拌する。これに0℃でベンゼンスルフエニ
ルクロリド0.15g(1.0mmol)を加え、室温で1.5
時間撹拌する。酢酸エチルを加え、飽和重ソウ
水、飽和食塩水で洗い、乾燥、濃縮すると液体
0.62gが得られる。これをカラムクロマトグラフ
イー(ヘキサン/酢酸エチル=2/1)で精製する
ことにより5―(4′―フルオロフエニル)―5―
ベンゼンスルホニル―2―オキソ―1―フエニル
チオシクロヘキサンカルボン酸メチル0.32g(73
%)が得られる。
NMR(CDCl3);δppm,2.13―3.70(6H,
m),3.03(3H,s),6.75―7.75(9H,
m). 実施例 6 5―(4′―クロロフエニル)―5―ベンゼンス
ルホニル―2―オキソシクロヘキサンカルボン酸
メチル0.41g(1.0mmol)を塩化メチレン10mlに溶
かし、これに0℃で臭素0.16g(1.0mmol)の塩化
メチレン(2ml)溶液を滴下する。室温で10分間
撹拌した後、酢酸エチルを加え、飽和重ソウ水、
飽和食塩水で洗い、乾燥、濃縮することにより、
1―ブロモ―5―(4′―クロロフエニル)―5―
ベンゼンスルホニル―2―オキソシクロヘキサン
カルボン酸メチル0.49g(定量的)を得る。
m),3.03(3H,s),6.75―7.75(9H,
m). 実施例 6 5―(4′―クロロフエニル)―5―ベンゼンス
ルホニル―2―オキソシクロヘキサンカルボン酸
メチル0.41g(1.0mmol)を塩化メチレン10mlに溶
かし、これに0℃で臭素0.16g(1.0mmol)の塩化
メチレン(2ml)溶液を滴下する。室温で10分間
撹拌した後、酢酸エチルを加え、飽和重ソウ水、
飽和食塩水で洗い、乾燥、濃縮することにより、
1―ブロモ―5―(4′―クロロフエニル)―5―
ベンゼンスルホニル―2―オキソシクロヘキサン
カルボン酸メチル0.49g(定量的)を得る。
NMR(CDCl3);δppm,1.80―3.10(4H,
m),3.23(3H,s),3.70―4.20(2H,
m),7.10―7.70(9H,m). 参考例 5 ジオキサン10mlに5―(4′―クロロフエニル)
―5―ベンゼンスルホニル―2―オキソシクロヘ
キサンカルボン酸メチル0.41g(1.0mmol)と2,
3―ジシアノ―5,6―ジクロロ―p―ベンゾキ
ノン(DDQ)0.34g(1.5mmol)を溶かし、9時
間加熱還流する。沈澱を濾過しベンゼンで洗う。
濾液を飽和重ソウ水、飽和食塩水で洗い、乾燥、
濃縮することにより0.48gの液体が得られる。こ
れをカラムクロマトグラフイー(シリカゲル、ヘ
キサン/酢酸エチル=1/1)で精製することによ
り粘稠な液体として5―(4′―クロロフエニル)
―5―ベンゼンスルホニル―2―オキソ―1
(6)―シクロヘキセンカルボン酸メチルを0.28
g(68%)得る。
m),3.23(3H,s),3.70―4.20(2H,
m),7.10―7.70(9H,m). 参考例 5 ジオキサン10mlに5―(4′―クロロフエニル)
―5―ベンゼンスルホニル―2―オキソシクロヘ
キサンカルボン酸メチル0.41g(1.0mmol)と2,
3―ジシアノ―5,6―ジクロロ―p―ベンゾキ
ノン(DDQ)0.34g(1.5mmol)を溶かし、9時
間加熱還流する。沈澱を濾過しベンゼンで洗う。
濾液を飽和重ソウ水、飽和食塩水で洗い、乾燥、
濃縮することにより0.48gの液体が得られる。こ
れをカラムクロマトグラフイー(シリカゲル、ヘ
キサン/酢酸エチル=1/1)で精製することによ
り粘稠な液体として5―(4′―クロロフエニル)
―5―ベンゼンスルホニル―2―オキソ―1
(6)―シクロヘキセンカルボン酸メチルを0.28
g(68%)得る。
NMR(CDCl3);δppm,2.00―2.93(4H,
m),3.81(3H,s),7.00―7.70(9H,
m),8.01(1H,s)・ 参考例 6 参考例5と同様にして5―(4′―フルオロフエ
ニル)―5―ベンゼンスルホニル―2―オキソシ
クロヘキサンカルボン酸メチル0.39g(1.0mmol)
から5―(4′―フルオロフエニル)―5―ベンゼ
ンスルホニル―2―オキソ―1(6)―シクロヘ
キセンカルボン酸メチル0.27g(68%)が得られ
る。
m),3.81(3H,s),7.00―7.70(9H,
m),8.01(1H,s)・ 参考例 6 参考例5と同様にして5―(4′―フルオロフエ
ニル)―5―ベンゼンスルホニル―2―オキソシ
クロヘキサンカルボン酸メチル0.39g(1.0mmol)
から5―(4′―フルオロフエニル)―5―ベンゼ
ンスルホニル―2―オキソ―1(6)―シクロヘ
キセンカルボン酸メチル0.27g(68%)が得られ
る。
NMR(CDCl3);δppm2.00―2.93(4H,
m),3.83(3H,s),6.90―7.73(9H,
m),8.02(1H,s). 参考例 7 5―(4′―フルオロフエニル)―5―ベンゼン
スルホニル―2―オキソ―1―フエニルチオシク
ロヘキサンカルボン酸メチル0.27g(0.51mmol)
を塩化メチレン5mlに溶かし、−78℃でm―クロ
ロ過安息香酸0.11gの塩化メチレン(5ml)溶液
を5分かけて滴下する。−78℃で、0.5時間、室温
で1時間撹拌した後、飽和重ソウ水を加え、塩化
メチレンで抽出、飽和重ソウ水、飽和食塩水で洗
い、乾燥、濃縮することにより、液体0.25gが得
られる。このうち0.20gをカラムクロマトグラフ
イー(ヘキサン/酢酸エチル=1/1)で精製する
ことにより5―(4′―フルオロフエニル)―5―
ベンゼンスルホニル―2―オキソ―1(6)―シ
クロヘキセンカルボン酸メチル0.13g(85%)が
得られる。
m),3.83(3H,s),6.90―7.73(9H,
m),8.02(1H,s). 参考例 7 5―(4′―フルオロフエニル)―5―ベンゼン
スルホニル―2―オキソ―1―フエニルチオシク
ロヘキサンカルボン酸メチル0.27g(0.51mmol)
を塩化メチレン5mlに溶かし、−78℃でm―クロ
ロ過安息香酸0.11gの塩化メチレン(5ml)溶液
を5分かけて滴下する。−78℃で、0.5時間、室温
で1時間撹拌した後、飽和重ソウ水を加え、塩化
メチレンで抽出、飽和重ソウ水、飽和食塩水で洗
い、乾燥、濃縮することにより、液体0.25gが得
られる。このうち0.20gをカラムクロマトグラフ
イー(ヘキサン/酢酸エチル=1/1)で精製する
ことにより5―(4′―フルオロフエニル)―5―
ベンゼンスルホニル―2―オキソ―1(6)―シ
クロヘキセンカルボン酸メチル0.13g(85%)が
得られる。
参考例 8
5―(4′―クロロフエニル)―5―ベンゼンス
ルホニル―2―オキソ―1(6)―シクロヘキセ
ンカルボン酸メチル0.42g(1.0mmol)のジフエニ
ルエーテル(20ml)の溶液をあらかじめ200―210
℃に加熱したジフエニルエーテル20mlに10分間で
滴下、5分間撹拌後、大部分のジフエニルエーテ
ルを除去し、残渣をカラムクロマトグラフイー
(ベンゼン/ヘキサン=1/1)で精製することによ
り5―(4′―クロロフエニル)―2―ヒドロキシ
安息香酸メチル0.18g(66%)が白色固体として
得られる。
ルホニル―2―オキソ―1(6)―シクロヘキセ
ンカルボン酸メチル0.42g(1.0mmol)のジフエニ
ルエーテル(20ml)の溶液をあらかじめ200―210
℃に加熱したジフエニルエーテル20mlに10分間で
滴下、5分間撹拌後、大部分のジフエニルエーテ
ルを除去し、残渣をカラムクロマトグラフイー
(ベンゼン/ヘキサン=1/1)で精製することによ
り5―(4′―クロロフエニル)―2―ヒドロキシ
安息香酸メチル0.18g(66%)が白色固体として
得られる。
NMR(CDCl3);δppm,3.89(3H,s),
6.95(1H,d,J=9Hz),7.10―7.43
(5H,m),7.52(1H,d―d,J=2Hz,
9Hz),7.92(1H,d,J=2Hz). IR;3200,1682cm-1・ 参考例 9 参考例8と同様にして5―(4′―フルオロフエ
ニル)―5―ベンゼンスルホニル―2―オキソ―
△1.6―シクロヘキセンカルボン酸メチル0.41g
(1.1mmol)からも5―(4′―フルオロフエニル)
―2―ヒドロキシ安息香酸メチル0.16g(62%)
が得られる。
6.95(1H,d,J=9Hz),7.10―7.43
(5H,m),7.52(1H,d―d,J=2Hz,
9Hz),7.92(1H,d,J=2Hz). IR;3200,1682cm-1・ 参考例 9 参考例8と同様にして5―(4′―フルオロフエ
ニル)―5―ベンゼンスルホニル―2―オキソ―
△1.6―シクロヘキセンカルボン酸メチル0.41g
(1.1mmol)からも5―(4′―フルオロフエニル)
―2―ヒドロキシ安息香酸メチル0.16g(62%)
が得られる。
NMR(CDCl3);δppm,3.91(3H,s),
6.99(1H,d,J=9Hz),7.10―7.57
(5H,m),7.57(1H,d―d,J=2Hz,
9Hz),7.95(1H,d,J=2Hz). IR(液体);3200,1680cm-1. 元素分析 C14H11O3Cl 計算値C,64.02;H,4.22;Cl,13.50. 実測値C,64.08;H,4.19;Cl,13.44.
6.99(1H,d,J=9Hz),7.10―7.57
(5H,m),7.57(1H,d―d,J=2Hz,
9Hz),7.95(1H,d,J=2Hz). IR(液体);3200,1680cm-1. 元素分析 C14H11O3Cl 計算値C,64.02;H,4.22;Cl,13.50. 実測値C,64.08;H,4.19;Cl,13.44.
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式 で表わされるケトエステル誘導体(式中、X1及
びX2は水素又はハロゲン原子であり、Rはアル
キル基、R1は水素原子、ハロゲン原子又はアリ
ールチオ基であり、Arはアリール基である。)。 2 X1又はX1及びX2の両者がフツ素原子である
特許請求の範囲第1項に記載の化合物。 3 塩基の存在下、一般式 で表わされるベンジルスルホン誘導体と一般式 CH2=CHCO2R で表わされるアクリル酸エステルとを反応させる
ことを特徴とする、一般式 で表わされるケトエステル誘導体の製造方法。 (式中、X1及びX2は水素又はハロゲン原子で
あり、Rはアルキル基、Arはアリール基であ
る。)。 4 一般式 で表わされるケトエステル誘導体と一般式 R1Y で表わされる化合物と反応させることを特徴とす
る、一般式 で表わされるケトエステル誘導体の製造方法。 (式中、X1及びX2は水素又はハロゲン原子で
あり、Rはアルキル基、R1はハロゲン原子又は
アリールチオ基であり、Arはアリール基であ
る。Yはハロゲン原子、アリールチオ基、アミノ
基、イミド基又はアミド基である。)。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10031079A JPS5625149A (en) | 1979-08-08 | 1979-08-08 | Keto ester derivative and its preparation |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10031079A JPS5625149A (en) | 1979-08-08 | 1979-08-08 | Keto ester derivative and its preparation |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5625149A JPS5625149A (en) | 1981-03-10 |
JPS621392B2 true JPS621392B2 (ja) | 1987-01-13 |
Family
ID=14270592
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10031079A Granted JPS5625149A (en) | 1979-08-08 | 1979-08-08 | Keto ester derivative and its preparation |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5625149A (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4667055A (en) * | 1983-12-29 | 1987-05-19 | Merck Frosst Canada, Inc. | Leukotriene antagonists |
US4871756A (en) * | 1985-03-20 | 1989-10-03 | Merck Frosst Canada, Inc. | Leukotriene antagonists |
GB0108591D0 (en) | 2001-04-05 | 2001-05-23 | Merck Sharp & Dohme | Therapeutic agents |
GB0120347D0 (en) | 2001-08-21 | 2001-10-17 | Merck Sharp & Dohme | Therapeutic agents |
GB0223039D0 (en) | 2002-10-04 | 2002-11-13 | Merck Sharp & Dohme | Therapeutic compounds |
-
1979
- 1979-08-08 JP JP10031079A patent/JPS5625149A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5625149A (en) | 1981-03-10 |
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