JP2003334674A - レーザ加工方法 - Google Patents
レーザ加工方法Info
- Publication number
- JP2003334674A JP2003334674A JP2002202835A JP2002202835A JP2003334674A JP 2003334674 A JP2003334674 A JP 2003334674A JP 2002202835 A JP2002202835 A JP 2002202835A JP 2002202835 A JP2002202835 A JP 2002202835A JP 2003334674 A JP2003334674 A JP 2003334674A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- processed
- laser
- laser beam
- light
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Lasers (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002202835A JP2003334674A (ja) | 2002-03-13 | 2002-07-11 | レーザ加工方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002068746 | 2002-03-13 | ||
| JP2002-68746 | 2002-03-13 | ||
| JP2002202835A JP2003334674A (ja) | 2002-03-13 | 2002-07-11 | レーザ加工方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003334674A true JP2003334674A (ja) | 2003-11-25 |
| JP2003334674A5 JP2003334674A5 (enExample) | 2005-11-04 |
Family
ID=29714089
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002202835A Pending JP2003334674A (ja) | 2002-03-13 | 2002-07-11 | レーザ加工方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003334674A (enExample) |
Cited By (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004042140A (ja) * | 2002-07-12 | 2004-02-12 | Hitachi Zosen Corp | 薄膜除去方法及び装置 |
| JP2006286493A (ja) * | 2005-04-04 | 2006-10-19 | Sony Corp | 表示素子、表示装置および表示素子の製造方法 |
| JP2009157409A (ja) * | 2009-04-17 | 2009-07-16 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 光導波路の製造方法 |
| JP2010028103A (ja) * | 2008-06-17 | 2010-02-04 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 薄膜トランジスタ及びその作製方法、並びに表示装置及びその作製方法 |
| JP2011125900A (ja) * | 2009-12-17 | 2011-06-30 | Dainippon Printing Co Ltd | 加工装置、および加工装置で用いられる変調マスク |
| US8969757B2 (en) | 2010-02-17 | 2015-03-03 | Fujifilm Corporation | Relief manufacturing apparatus and relief manufacturing method |
| JP2015060134A (ja) * | 2013-09-20 | 2015-03-30 | 住友ベークライト株式会社 | 光導波路の製造方法、光導波路および反射面形成方法 |
| KR20160049383A (ko) * | 2014-10-27 | 2016-05-09 | 삼성디스플레이 주식회사 | 증착용 마스크 제조 방법 |
| WO2017088219A1 (zh) * | 2015-11-24 | 2017-06-01 | 武汉华星光电技术有限公司 | 用于液晶面板的阵列基板及其制作方法 |
| KR101802256B1 (ko) | 2011-01-24 | 2017-11-29 | 삼성디스플레이 주식회사 | 마스크 및 이를 이용하는 어레이 기판의 제조방법 |
| JP2017209733A (ja) * | 2012-11-30 | 2017-11-30 | シロー インダストリーズ インコーポレイテッド | シート金属ピースに溶接ノッチを形成する方法 |
| CN107851715A (zh) * | 2015-08-10 | 2018-03-27 | Ap系统股份有限公司 | 用于使用混合加工方法来制造荫罩的方法以及由此制造的荫罩 |
| JP2018511829A (ja) * | 2015-03-17 | 2018-04-26 | エイピー系▲統▼股▲フン▼有限公司Ap Systems Inc. | レーザーパターニングを用いたシャドーマスクの製造装置およびレーザーパターニングを用いたシャドーマスクの製造方法 |
| WO2018203508A1 (ja) * | 2017-05-01 | 2018-11-08 | 株式会社ニコン | 加工装置及び加工方法 |
| US11198195B2 (en) | 2012-06-29 | 2021-12-14 | TWB Company, LLC | Welded blank assembly and method |
-
2002
- 2002-07-11 JP JP2002202835A patent/JP2003334674A/ja active Pending
Cited By (25)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004042140A (ja) * | 2002-07-12 | 2004-02-12 | Hitachi Zosen Corp | 薄膜除去方法及び装置 |
| JP2006286493A (ja) * | 2005-04-04 | 2006-10-19 | Sony Corp | 表示素子、表示装置および表示素子の製造方法 |
| JP2010028103A (ja) * | 2008-06-17 | 2010-02-04 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 薄膜トランジスタ及びその作製方法、並びに表示装置及びその作製方法 |
| JP2009157409A (ja) * | 2009-04-17 | 2009-07-16 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 光導波路の製造方法 |
| JP2011125900A (ja) * | 2009-12-17 | 2011-06-30 | Dainippon Printing Co Ltd | 加工装置、および加工装置で用いられる変調マスク |
| US8969757B2 (en) | 2010-02-17 | 2015-03-03 | Fujifilm Corporation | Relief manufacturing apparatus and relief manufacturing method |
| KR101802256B1 (ko) | 2011-01-24 | 2017-11-29 | 삼성디스플레이 주식회사 | 마스크 및 이를 이용하는 어레이 기판의 제조방법 |
| US11198195B2 (en) | 2012-06-29 | 2021-12-14 | TWB Company, LLC | Welded blank assembly and method |
| US10821546B2 (en) | 2012-11-30 | 2020-11-03 | Shiloh Industries, Inc. | Method of forming a weld notch in a sheet metal piece |
| JP2017209733A (ja) * | 2012-11-30 | 2017-11-30 | シロー インダストリーズ インコーポレイテッド | シート金属ピースに溶接ノッチを形成する方法 |
| JP2015060134A (ja) * | 2013-09-20 | 2015-03-30 | 住友ベークライト株式会社 | 光導波路の製造方法、光導波路および反射面形成方法 |
| KR102291486B1 (ko) | 2014-10-27 | 2021-08-20 | 삼성디스플레이 주식회사 | 증착용 마스크 제조 방법 |
| KR20160049383A (ko) * | 2014-10-27 | 2016-05-09 | 삼성디스플레이 주식회사 | 증착용 마스크 제조 방법 |
| JP2018511829A (ja) * | 2015-03-17 | 2018-04-26 | エイピー系▲統▼股▲フン▼有限公司Ap Systems Inc. | レーザーパターニングを用いたシャドーマスクの製造装置およびレーザーパターニングを用いたシャドーマスクの製造方法 |
| CN107851715A (zh) * | 2015-08-10 | 2018-03-27 | Ap系统股份有限公司 | 用于使用混合加工方法来制造荫罩的方法以及由此制造的荫罩 |
| JP2018526536A (ja) * | 2015-08-10 | 2018-09-13 | エイピー系▲統▼股▲フン▼有限公司Ap Systems Inc. | 複合加工方法を用いたシャドウマスクの製造方法及びこれにより製造されたシャドウマスク |
| WO2017088219A1 (zh) * | 2015-11-24 | 2017-06-01 | 武汉华星光电技术有限公司 | 用于液晶面板的阵列基板及其制作方法 |
| WO2018203362A1 (ja) * | 2017-05-01 | 2018-11-08 | 株式会社ニコン | 加工装置及び加工方法 |
| CN110709205A (zh) * | 2017-05-01 | 2020-01-17 | 株式会社尼康 | 加工装置及加工方法 |
| WO2018203508A1 (ja) * | 2017-05-01 | 2018-11-08 | 株式会社ニコン | 加工装置及び加工方法 |
| TWI762628B (zh) * | 2017-05-01 | 2022-05-01 | 日商尼康股份有限公司 | 加工裝置及加工方法 |
| CN115519241A (zh) * | 2017-05-01 | 2022-12-27 | 株式会社尼康 | 加工装置及加工方法 |
| US11691217B2 (en) | 2017-05-01 | 2023-07-04 | Nikon Corporation | Laser processing device with optical device for changing cross-sectional intensity distribution of a beam at a pupil plane |
| EP4400248A1 (en) * | 2017-05-01 | 2024-07-17 | Nikon Corporation | Processing apparatus and processing method |
| US12296404B2 (en) | 2017-05-01 | 2025-05-13 | Nikon Corporation | Processing apparatus and processing method for removal processing with a light beam and having a workpiece position measurement system |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3831868B2 (ja) | アクティブマトリックス表示装置とその製造方法 | |
| JP3708112B2 (ja) | マイクロレンズアレイ付き表示パネルの製造方法および表示装置 | |
| TW567378B (en) | Liquid-crystal display device and method of fabricating the same | |
| TWI317039B (en) | Display panel and manufacturing method thereof | |
| KR100567504B1 (ko) | 반사막 제조 방법 | |
| US6822708B2 (en) | Liquid crystal display device | |
| JP2003334674A (ja) | レーザ加工方法 | |
| KR100312390B1 (ko) | 액정 디바이스 및 액정 표시 장치 | |
| JP2000206541A (ja) | 液晶パネル、液晶パネルの製造方法および液晶表示装置 | |
| US8928853B2 (en) | Method and system for repairing flat panel display | |
| US20020080323A1 (en) | Method of producing micro-lenses and image display device with the same | |
| JP4216220B2 (ja) | 液晶表示素子の製造方法 | |
| JP2000105370A (ja) | 反射板、並びに反射型表示素子及びその製造方法 | |
| JP3769575B1 (ja) | 表示パネルの製造方法および表示パネルの製造装置 | |
| US7072010B2 (en) | Manufacturing method of embossing pattern and reflective liquid crystal display device including the same | |
| JP4273697B2 (ja) | 液晶表示装置の製造方法 | |
| JP4224975B2 (ja) | 液晶表示装置の画素電極形成方法 | |
| US6986983B2 (en) | Method for forming a reflection-type light diffuser | |
| US7573559B2 (en) | Apparatus and method for fabricating liquid crystal display panel having a bright spot defect corresponding to a particle in which an alignment film covers the particle | |
| JPH09152567A (ja) | レジストパターン形成方法およびその装置 | |
| JP2006220907A (ja) | 電気光学装置の製造方法 | |
| CN101158765B (zh) | 用于液晶显示器件的基板及其制造方法 | |
| JP4138452B2 (ja) | 液晶表示装置用基板の製造方法及び液晶表示装置の製造方法 | |
| JPH08320482A (ja) | 液晶表示素子の加工方法 | |
| JP2000098388A (ja) | 液晶表示装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050704 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050704 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050715 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20080218 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080226 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080428 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080729 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080905 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20090106 |