JP2003306654A - 放射線硬化型粘着テープ - Google Patents

放射線硬化型粘着テープ

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JP2003306654A
JP2003306654A JP2002113985A JP2002113985A JP2003306654A JP 2003306654 A JP2003306654 A JP 2003306654A JP 2002113985 A JP2002113985 A JP 2002113985A JP 2002113985 A JP2002113985 A JP 2002113985A JP 2003306654 A JP2003306654 A JP 2003306654A
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carbon atoms
radiation
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JP2002113985A
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English (en)
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Tsuneo Aoi
恒夫 青井
Yasumasa Morishima
泰正 盛島
Hidefumi Miyagi
秀文 宮城
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Furukawa Electric Co Ltd
Original Assignee
Furukawa Electric Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 十分な帯電防止性能を有し、基材フィル
ムからのブリード物質がが少なく、粘着層の粘着特性に
影響が少ない、即ち被着体汚染性が少ない、押出方向
と垂直方向の引張特性の差が小さい、チッピングが少
ない、そしてヒゲ発生が少ない放射線硬化型粘着テー
プを提供する。 【解決手段】 合成樹脂からなる基材フィルムと、粘着
層とを含有して構成される粘着テープにおいて、少なく
とも、基材フィルムが帯電防止剤を含む放射線硬化型粘
着テープ。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、電気、電子、半導
体部品を生産する際に使用される、ダイシング用または
表面保護用の、放射線硬化型粘着テープに関する。
【0002】
【従来の技術】従来から、電気、電子部品、半導体部品
を生産する際に、ダイシング工程やその他の工程におい
て部品の固定や保護を目的とする粘着テープが知られて
いる。このような粘着テープとしては、基材フィルムに
再剥離性のアクリル系粘着剤層や、貼付時には外力に対
し強い抵抗性があり、剥離時には小さい力で剥離可能な
放射線硬化型再剥離性粘着剤層が設けられたものがあ
る。該粘着テープは所定の処理工程が終了すると剥離さ
れるが、このとき部品と粘着テープとの間に剥離帯電と
呼ばれる静電気が発生する。部品が、回路を形成する基
板であり、絶縁材料である場合には、静電気の発生量が
大きくしかも減衰に時間がかかる。この静電気の回路へ
の悪影響を押さえるため、このような部品には生産工程
においては、例えば周囲の環境をイオナイザー等の静電
気除去装置をさらに使用しているのが実情である。そこ
で、粘着テープに帯電防止性能を持たせることが行われ
ている。基材フィルムの背面側を帯電防止処理した粘着
テープや、粘着剤層へ帯電防止剤を添加混合した粘着テ
ープ、基材フィルムと粘着剤層との間に帯電防止性能を
持つ中間層を作成した粘着テープが使用されている。ま
た、用いられる帯電防止剤としては、表面ブリードの少
ない、高分子タイプのものが選ばれてきた。しかるにこ
れらの技術では、実際に帯電防止性能としては満足なも
のではなく、それは基材フィルムに帯電防止処方をして
いないからと考えられてきた。一般に粘着テープは、少
なくとも基材フィルムと粘着剤層から構成される。ダイ
シング用または表面保護用の粘着テープにおいて、従来
その基材フィルムへの帯電防止性能の付与が、まだ一般
的に行われていない理由は、帯電防止剤がブリード物質
の少ない高分子タイプのものに限定され、高分子タイプ
の帯電防止剤は、満足な帯電防止性能を有するのに必要
な添加量が多いため、一方で基材フィルムに求められる
機械的その他の特性を損なうという技術的な問題があっ
たためである。
【0003】ダイシング用または表面保護用の放射線硬
化型粘着テープの基材フィルムに、帯電防止機能を付与
する場合、やはり被着体汚染の観点から、長期的に粘着
層組成への影響が少ないことが求められることから、ブ
リード物質の少ない高分子タイプのものが好ましいが、
高分子タイプの帯電防止剤は、ブリード物質が少ないと
いう利点の反面、所定の帯電防止効果を出すために必要
な添加量(重量%)が多く既存の基材フィルム材料に添
加した場合、一方でその基材フィルムの機械的その他の
特性が変化してしまうという難点があった。特にダイシ
ング用粘着テープの基材フィルムにおいて最も重要な特
性は、ダイシング後のピックアップ工程で粘着テープが
伸ばされるとき、その伸張率が二次元的に均一であるこ
とが求められる。即ち、粘着テープの粘着面上に、二次
元的に配列しているシリコンチップ同士の間隔が、均一
にならなければならないということが、粘着テープに要
求される品質の一つである。シリコンチップ同士の間隔
が一定でないと、ピックアップ工程において、スクライ
ブラインの整直性が悪くなり、ピックアップ時に識別す
る動きがジグザグになるという問題点につながる。この
ことは、基材フィルムにおける、押出製造時における押
出方向と、押出方向に垂直な方向(以下垂直方向と記
す)の引張特性の差が極力小さい必要があることを意味
する。また、ダイシング工程では、チップを切断分離す
る際に切断面の端面に生じた不定形破断状態(以下、チ
ッピングと記述する)が発生する。チッピングが大きい
と回路の断線などが発生し、歩留りが著しく低下するな
ど品質上大きな問題となるものである。しかしながら、
近年の半導体の高密度化によりウェハの厚さについても
薄膜化されてきていることから、さらにチッピングを小
さくしたいという要求が高まっており、これも粘着テー
プに要求される特性の一つである。更に、ダイシング工
程にて、ブレードによって切り込みが入った粘着テープ
の切り込み面において、ブレードとの摩擦熱で基材フィ
ルムが溶融して固まったと思われる、主に10〜200μm大
の樹脂のささくれ状のカス(以下、ヒゲと記述する)が
発生することがあり、このヒゲがチップに付着してしま
うということも品質上の大きな問題である。このヒゲに
ついても、近年のウェハの薄膜化によって、いっそう問
題化されており、このヒゲを少なくすることも、粘着テ
ープに要求される特性の一つである。これら、チッピン
グやヒゲの発生し易さについては、基材フィルムの材質
や、これに添加される物質によって左右されることがわ
かっているが、そのメカニズムについては、明らかでは
ない。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】このように、ダイシン
グ用または表面保護用の放射線硬化型粘着テープに、求
められる性能として、十分な帯電防止性能を有するこ
と、基材フィルムからのブリード物質が少なく、粘着
層の粘着特性に影響が少ない、即ち被着体汚染性が少な
いこと、押出方向と垂直方向の引張特性の差が小さい
こと、チッピングが少ないこと、ヒゲ発生が少ない
ことが必須であり、従来これら全てを十分に満足するも
のは無かった。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明の上記課題は下記
の手段により達成された。すなわち、本発明は、(1)
合成樹脂からなる基材フィルムと、粘着層とを含有して
構成される粘着テープにおいて、少なくとも、基材フィ
ルムが帯電防止剤を含むことを特徴とする、放射線硬化
型粘着テープ、(2)基材フィルムが、50〜99重量
%の熱可塑性樹脂と、1〜50重量%の、下記一般式
(I)で表される、第4級アンモニウム塩残基を有する
繰り返し単位を含有する高分子帯電防止剤(X)とから
なる組成物から形成されることを特徴とする、(1)項
記載の放射線硬化型粘着テープ、
【0006】
【化3】
【0007】(式中のR1は水素原子またはメチル基
を、R2はアルキレン基、少なくとも1つ以上のOH基
を含むアルキレン基もしくはポリアルキレンオキシド基
を、R3〜R5はそれぞれ水素原子、アルキル基、置換基
を有していてもよいベンジル基、アリールアルキル基、
脂環アルキル基もしくはポリアルキレンオキシド基を示
す。Xは-COO-、-CONH-、-SO2NH-または-C
64SO2NH-のいずれかを、Yはハロゲン原子、RO
SO3、ROSO2、RSO3、R-C64-SO3、(R
O)2PO2のいずれか(ただしRはアルキル基、少なく
とも1つ以上のOH基を含むアルキル基、アリールアル
キル基または脂環アルキル基である。)の基を示す。) (3)前記帯電防止剤が、下記式(1)で表されるエチ
レン繰り返し単位70〜99モル%と、下記一般式
(2)で表されるアクリレート繰り返し単位0〜15モ
ル%と、下記一般式(3)で表されるアクリルアミド繰
り返し単位1〜30モル%とを含有し、重量平均分子量
が1,000〜80,000であるカチオン変性共重合
体(XI)であることを特徴とする、(1)または
(2)項記載の放射線硬化型粘着テープ
【0008】
【化4】
【0009】(上記式中、Rは水素原子又は炭素数1
〜4のアルキル基を示し、Rは炭素数2〜8のアルキ
レン基を示し、R,R及びRはそれぞれ独立に炭
素数1〜12のアルキル基、炭素数7〜12のアリール
アルキル基又は炭素数6〜12の脂環アルキル基を示
し、Xはハロゲン原子、CHOSO、COS
、RSOを示し、ここで、Rは炭素数1〜1
2のアルキル基、炭素数7〜12のアリールアルキル基
又は炭素数6〜12の脂環アルキル基を示す。)を提供
するものである。
【0010】
【発明の実施の形態】以下に本発明の詳細について説明
する。本発明の、放射線硬化型粘着テープの基材フィル
ムに含まれる帯電防止剤としては、重量平均分子量10
00〜80000の高分子体が好ましく、下記一般式
(I)で表される第4級アンモニウム塩残基繰り返し単
位を含有する、高分子帯電防止(X)が好ましい。
【0011】
【化5】
【0012】(式中のR1は水素原子またはメチル基
を、R2はアルキレン基、少なくとも1つ以上のOH基
を含むアルキレン基、ポリアルキレンオキシド基を、R
3〜R5はそれぞれ水素原子、アルキル基、置換基を有し
ていてもよいベンジル基、アリールアルキル基、脂環ア
ルキル基、ポリアルキレンオキシド基を示す。Xは-C
OO-、-CONH-、-SO2NH-または-C64SO2
H-のいずれかを、Yはハロゲン原子(塩素原子、臭素
原子、ヨウ素原子など)、ROSO3、ROSO2、RS
3、R-C64-SO3、(RO)2PO2のいずれか(た
だしRはアルキル基、少なくとも1つ以上のOH基を含
むアルキル基、アリールアルキル基、脂環アルキル)基
を示す。)
【0013】高分子帯電防止剤の添加量は1〜50重量
%が良く、更に好ましくは、5〜30重量%である。帯
電防止剤の添加量が1重量%未満であると、十分な帯電
防止性能が得られず、50重量%を超えると、基材フィ
ルムの機械的特性を損なう。この高分子帯電防止剤は好
ましくは、重量平均分子量が30000〜50000で
ある。このうち好ましい帯電防止剤としては、以下に説
明した式(1)、(2)、(3)からなる帯電防止剤
(IX)である。下記式(1)で表されるエチレン繰り
返し単位70〜99モル%と、下記一般式(2)で表さ
れるアクリレート繰り返し単位0〜15モル%と、下記
一般式(3)で表されるアクリルアミド繰り返し単位1
〜30モル%とを含有し、重量平均分子量が1,000
〜80,000であるカチオン変性共重合体からなる帯
電防止剤である。
【0014】
【化6】
【0015】(上記式中、Rは水素原子又は炭素数1
〜4のアルキル基を示し、Rは炭素数2〜8のアルキ
レン基を示し、R,R,Rはそれぞれ独立に炭素
数1〜12のアルキル基、炭素数7〜12のアリールア
ルキル基又は炭素数6〜12の脂環アルキル基を示し、
Xはハロゲン原子、CHOSO、COS
、RSOを示し、ここで、Rは炭素数1〜1
2のアルキル基、炭素数7〜12のアリールアルキル基
又は炭素数6〜12の脂環アルキル基を示す。)
【0016】ここで使用するカチオン変性重合体からな
る帯電防止剤(XI)は、上記したように、式(1)で
表されるエチレン繰り返し単位と、一般式(2)で表さ
れるアクリレート繰り返し単位と、一般式(3)で表さ
れるアクリルアミド繰り返し単位とを、ランダム形状、
ブロック形状に問わず、含有してなる線状に不規則に配
列したアクリルアミド系共重合体である。
【0017】式(1)で表されるエチレン繰り返し単位
は、分子内に70〜99モル%含有されている。この含
有割合が70モル%未満の場合は機械的物性が低下し、
99モル%を越える場合は帯電防止効果が劣る。好まし
い範囲は80〜97モル%である。一般式(2)で表さ
れるアクリレート繰り返し単位は、分子内に0〜15モ
ル%含有されている。この含有割合が15モル%を越え
ると成形体にベタツキを生じてしまう。該アクリレート
繰り返し単位は、本発明では必ずしも必須ではないが、
このカチオン変性重合体に、後述するようなスルホン酸
塩を添加する場合、それとの混和性が良好にせしめるこ
とで、あると好ましい。アクリレート繰り返し単位の含
有割合の好ましい範囲は1〜10モル%である。このア
クリレート繰り返し単位において、Rは水素原子又は
炭素数1〜4のアルキル基である。炭素数4を越える
と、成形体が柔らかくなり過ぎ、ベタツキの原因とな
る。Rの具体例としては、水素原子、メチル基、エチ
ル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル
基、sec−ブチル基、t−ブチル基等が挙げられ、こ
れらの基は1分子中に混在していてもよい。これらの中
ではメチル基およびエチル基が特に好ましい。
【0018】一般式(3)で示されるアクリルアミド繰
り返し単位は、分子内に1〜30モル%含有されてい
る。この含有割合が1モル%未満の場合は帯電防止性が
不足し、30モル%を越える場合は成形体の耐水性が低
下する。好ましい範囲は2〜10モル%である。このア
クリルアミド繰り返し単位において、Rは炭素数2〜
8のアルキレン基である。具体例としては、エチレン
基、プロピレン基、ヘキサメチレン基、ネオペンチレン
基等が挙げられ、これらの基は1分子中に混在していて
もよい。これらの中では、製造の容易性および経済性の
面からエチレン基とプロピレン基が特に好ましい。
【0019】また、R、R、Rは、それぞれ独立
に、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数7〜12のア
リールアルキル基、又は、炭素数6〜12の脂環アルキ
ル基である。具体例としては、メチル基、エチル基、n
−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、sec
−ブチル基、n−オクチル基、n−ラウリル基等のアル
キル基;ベンジル基、4−メチルベンジル基等のアリー
ルアルキル基;シクロヘキシル基、メチルシクロヘキシ
ル基等の脂環アルキル基が挙げられ、これらの基は1分
子中に混在していてもよい。これらの中ではメチル基、
エチル基が特に好ましい。また、4級アンモニウム塩の
対イオンである一般式(I)のYと一般式(3)のX
は、Cl、Br、Iなどのハロゲン原子、CHOSO
、COSO 等のアルキルサルフェート、又
は、RSOであり、これらは1分子中に混在してい
てもよい。ここで、RSOの具体例としては、メタ
ンスルホン酸、エタンスルホン酸、プロパンスルホン
酸、ドデカンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸、メ
タキシレンスルホン酸などが挙げられる。Xは、帯電防
止性能の点から、Cl、CHOSO、COS
、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸又はパラト
ルエンスルホン酸が好ましい。
【0020】以上の繰り返し単位よりなるカチオン変性
共重合体は、本発明の効果を損なわない範囲で、少量の
他の繰り返し単位、例えば、メタクリル酸、アクリロニ
トリル、グリシジルメタクリレート、スチレン等の繰り
返し単位を含有してもよい。このカチオン変性共重合体
の重量平均分子量は1,000〜80,000である。
重量平均分子量が1,000未満の場合には帯電防止性
樹脂組成物の物性が低下し、これを用いた熱可塑性樹脂
組成物でブリードアウトを生じ、80,000を越える
場合にはハンドリング性が悪化する。好ましい重量平均
分子量は3,000〜50,000である。本明細書に
おいて、重量平均分子量とは、ゲルパーミュエーション
クロマトグラフィー(GPC)で測定した単分散のポリ
スチレン換算の重量平均分子量をいい、超高温GPC法
(絹川等、高分子論文集44巻2号、139〜141
頁、1987)に準じて測定できる。このカチオン変性
共重合体の製造方法は、特に限定されるものではない。
たとえば特開平4−198309号公報に記載されてい
るように、エチレンとアクリル酸エステルを高圧重合法
により共重合させて得られるエチレン−アクリル酸エス
テル共重合体をたとえば特開昭60−79008号公報
に記載の方法により加水分解と同時に熱減成して所望の
分子量とし、得られたエチレン−アクリル酸エステル−
アクリル酸共重合体をN,N−ジアルキルアミノアルキ
ルアミンでアミド化したのち、4級化剤でカチオン変性
することにより、前記のカチオン変性共重合体が得られ
る。また、このカチオン変性重合体には、50重量%以
下の割合で、スルホン酸塩を含有させても良い。
【0021】ここで、使用するスルホン酸塩は、下記一
般式(4)で表される。 (R7SO3)nM (4) この一般式(4)において、Rは、炭素数1〜2のア
ルキル基又は炭素数6〜8のアリールアルキル基であ
る。Mは金属イオンを示し、n=1〜3である。アルキ
ル基の炭素数が3以上又はアリールアルキル基の炭素数
が9以上では、表面固有抵抗値の湿度による変化が大き
くなり、また、表面固有抵抗値も高くなる。
【0022】このスルホン酸塩において、RSO
表されるスルホン酸基としては、メタンスルホン酸、エ
タンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、トルエンスルホ
ン酸、キシレンスルホン酸が挙げられる。そのうち好ま
しいのは、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、トル
エンスルホン酸である。特に好ましいものとしては、メ
タンスルホン酸が挙げられる。また、このスルホン酸塩
において、Mで表される金属イオンとしては、Li、N
a、K、Mg、Ca、Fe、Zn、Alなどが挙げられ
る。このうち好ましいものとしては、Li、Na、K、
Mg、Ca、Alが挙げられる。特に好ましくは、L
i、Na、K、Caである。カチオン変性共重合体に添
加するスルホン酸塩は1〜50重量%である。スルホン
酸塩が50重量%を越える場合には、成形体の表面外観
が悪化する。また、スルホン酸塩が1重量%未満の場合
には、表面抵抗値の湿度による変化が大きくなる。カチ
オン変性共重合体とスルホン酸塩との配合は、公知の種
々の混合方法又は混練方法を用いて行うことができる。
【0023】本発明の粘着テープの基材フィルムにおい
て、50〜99重量%は通常の熱可塑性樹脂の1種類あ
るいは複数種類の混合体で構成される。中でも効果が見
られるのはポリオレフィン系樹脂である。ポリオレフィ
ン系樹脂としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポ
リブテン−1、ポリ−4−メチルペンテン−1等が挙げ
られる。ここでポリエチレンとは、エチレンと炭素数1
〜8のα−オレフィンとの共重合体も含まれる。また、
この他にもポリオレフィン系樹脂として、エチレン−ア
クリル酸エステル共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重
合体、エチレン-(メタ)アクリル酸共重合体、エチレ
ン-(メタ)アクリル酸エステル共重合体、ポリプロピ
レン−ポリエチレンブロックもしくはランダム共重合
体、エチレン−プロピレンエラストマー、エチレン−プ
ロピレン−ジシクロペンタジエンエラストマーなどが挙
げられる。また、ポリオレフィン系樹脂以外でも、軟質
ポリ塩化ビニル、半硬質ポリ塩化ビニル、ポリエステ
ル、ポリウレタン、ポリアミド、ポリイミド、天然ゴム
ならびに合成ゴム、などが挙げられる。更には、これら
前記の樹脂のアイオノマーでも良い。
【0024】基材フィルムは、可視光透過性であるもの
が好ましく、特に紫外線透過性であるものが好ましい。
基材フィルムは単層フィルムでも複層フィルムでも良い
がトータルの厚さは、通常10〜500μmのものが使
用され、特にダイシング用に用いられる場合には40〜
500μmのものが、表面保護用に使用される場合は1
0〜250μmのものが使用される。
【0025】粘着剤のベースポリマーとしては、従来公
知のものが広く用いられうるが、アクリル系粘着剤が好
ましく、具体的には、アクリル酸エステルを主たる構成
単量体単位とする単独重合体および共重合体から選ばれ
たアクリル系重合体その他の官能性単量体との共重合体
およびこれら重合体の混合物が用いられる。たとえば、
アクリル酸エステルとしては、アクリル酸エチル、アク
リル酸ブチル、アクリル酸2−エチルヘキシル、アクリ
ル酸グリシジル、アクリル酸2-ヒドロキシエチルな
ど、また上記のアクリル酸エステルをたとえばメタクリ
ル酸エステルに代えたものなども好ましく使用できる。
さらに接着性や凝集力を制御する目的でアクリル酸ある
いはメタクリル酸、アクリロニトリル、酢酸ビニルなど
のモノマーを共重合させてもよい。これらのモノマーを
重合して得られるアクリル系重合体の重量平均分子量
は、5×104〜2×106であり、好ましくは、4.0
×105〜8.0×105である。
【0026】上記のような粘着剤は、架橋剤を使用する
ことにより接着力と凝集力とを任意の値に設定すること
ができる。このような架橋剤としては、多価イソシアナ
ート化合物、多価エポキシ化合物、多価アジリジン化合
物、キレート化合物等がある。多価イソシアナート化合
物としては、具体的にはトルイレンジイソシアナート、
ジフェニルメタンジイソシアナート、ヘキサメチレンジ
イソシアナート、イソホロンジイソシアナートおよびこ
れらのアダクトタイプのもの等が用いられる。多価エポ
キシ化合物としては、具体的にはエチレングリコールジ
グリシジルエーテル、テレフタル酸ジグリシジルエステ
ルアクリレート等が用いられる。多価アジリジン化合物
としては、具体的にはトリス-2,4,6-(1-アジリ
ジニル)-1,3,5-トリアジン、トリス〔1-(2-メ
チル)-アジリジニル〕ホスフィンオキシド、ヘキサ
〔1-(2-メチル)-アジリジニル〕トリホスファトリ
アジン等が用いられる。またキレート化合物としては、
具体的にはエチルアセトアセテートアルミニウムジイソ
プロピレート、アルミニウムトリス(エチルアセトアセ
テート)等が用いられる。
【0027】また上記のような粘着剤層中に光重合性化
合物を含ませることによって、該粘着剤層に紫外線を照
射することにより、粘着力をさらに低下させることがで
きる。このような光重合性化合物としては、たとえば特
開昭60-196956号公報および特開昭60-223
139号公報に開示されているような光照射によって三
次元網状化しうる分子内に光重合性炭素-炭素二重結合
を少なくとも2個以上有する低分子量化合物が広く用い
られ、具体的には、トリメチロールプロパントリアクリ
レート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペン
タエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリス
リトールモノヒドロキシペンタアクリレート、ジペンタ
エリスリトールヘキサアクリレートあるいは1,4-ブ
チレングリコールジアクリレート、1,6-ヘキサンジ
オールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアク
リレート、市販のオリゴエステルアクリレートなどが用
いられる。
【0028】さらに上記の粘着剤中に、光照射用の場合
には、光開始剤を混入することにより、光照射による重
合硬化時間ならびに光照射量を少なくすることができ
る。このような光開始剤としては、具体的には、ベンゾ
イン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエ
ーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンジルジ
フェニルサルファイド、テトラメチルチウラムモノサル
ファイド、アゾビスイソブチロニトリル、ジベンジル、
ジアセチル、β-クロールアンスラキノンなどが挙げら
れる。光開始剤は、通常光重合性化合物100重量部に
対し0.1〜10重量部の量が用いられる。このように
して形成される光架橋型粘着剤層に対し、光、好ましく
は紫外線を照射することにより、初期の接着力が大きく
低下し、容易に被着体から該粘着テープを剥離すること
ができる。
【0029】また、本発明の基材フィルムに、公知のよ
うな帯電防止性能を付与した粘着層を組み合わせること
や、本発明の基材フィルムと粘着層との間に、公知のよ
うな帯電防止中間層を設けることや、またはそれらの両
方を併用することで、更なる帯電防止性能が得られる。
【0030】本発明の放射線硬化型粘着テープにおい
て、基材フィルムの厚さは用途などによって決まり、特
に制限はないが、好ましくは10〜500μm、より好
ましくは、ダイシング用は、40〜500μm、表面保
護用は10〜250μmである。また粘着層の厚さは好
ましくは0.1〜100μm、より好ましくは1〜40
μmである。本発明の放射線硬化型粘着テープは、電
気、電子、半導体部品を製造する際に、例えばシリコン
ウェハやガラス、セラミック、ポリマー等の基板の保護
用、ダイシング用の粘着テープとしても有用である。
【0031】
【実施例】以下本発明の実施例及び比較例について説明
する。 実施例1 (ベース樹脂)基材フィルムのベース樹脂Aとして、エ
チレン、メタクリル酸、アクリル酸エステルの共重合体
の亜鉛系アイオノマー(三井・デュポンポリケミカル製
ハイミランAM7316)を用いた。 (帯電防組成物)帯電防止剤として、前記のカチオン変
性共重合体の帯電防止剤(XI)においてエチレン繰り
返し単位85モル%、R1であるCH3のアクリレート繰
り返し単位10モル%、R2がC36、R3〜R5がC
3、XがClであるアクリルアミド繰り返し単位5モ
ル%の、重量平均分子量10000のカチオン変性共重合体
85重量%と、メタンスルホン酸ナトリウム15重量%
の帯電防止組成物aを用いた。
【0032】(マスターバッチ作製)樹脂Aを100重
量部と帯電防止組成物aを54重量部を配合し、これを
30mmφ、L/D=25の単軸押出機を用い、樹脂温
度160℃にて混練、ストランド形状に押し出したもの
を、空冷してカッティングし、35wt%濃度の樹脂Aベ
ースの帯電防止剤aのマスターバッチAaを作製した。 (基材フィルム作製)樹脂Aを100重量部とマスター
バッチAaを133重量部を配合し、これを30mm
φ、L/D=30の単軸押出機、幅300mmのTダイを
用い、樹脂温度170℃にて押出成形し、厚さ100μmで、
帯電防止組成物の最終濃度20wt%の基材フィルムAa
(20)を得た。
【0033】(粘着層の塗布)基材フィルムAa(20)の
一方の主面上にコロナ放電処理を施し、アクリル系ポリ
マーと市販のトリメチロールプロパントリアクリレート
と、多価イソシアナート化合物と、光開始剤とを10
0:100:8:5の固形分重量比で配合して得た紫外
線硬化型再剥離性タイプの粘着剤層(厚さ20μm)を
形成し、25℃の環境下で168時間放置して、放射線
硬化型粘着テープAa(20)を作製した。
【0034】実施例2 スチレン単位100モル%からなる数平均重合度15の
ブロック(a)部と、下記式(4)に示す第4級アンモ
ニウム塩単位80モル%およびメタクリル酸メチル単位
20モル%からなる数平均重合度120のブロック
(b)部から構成されるジブロック共重合体を90重量
%と、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムを10重
量%からなる帯電防止組成物bを調製した。帯電防止組
成物aの代わりにこの帯電防止組成物を用いた以外は、
実施例1と同様にして、放射線硬化型粘着テープAb(2
0)を作製した。
【0035】
【化7】
【0036】比較例1 帯電防止組成物aの代わりに、帯電防止組成物cとし
て、アクリル酸含有量21重量%の、エチレン・アクリ
ル酸ランダム共重合体のカルボキシル基の一部がカリウ
ムイオンで、中和度80%に中和され、カチオン含有量
2.3モル/kgアイオノマーである、非帯電性エチレ
ン共重合体アイオノマー樹脂を用いた以外は、実施例1
と同様にして、放射線硬化型粘着テープAc(20)を作製
した。 比較例2 基材フィルムの組成が、帯電防止組成物を添加せずに、
ベース樹脂Aのみで構成される以外は、実施例1と同様
にして、放射線硬化型粘着テープAを作成した。
【0037】(帯電防止粘着テープの性能試験)上記実
施例1〜4および比較例1で得られた各放射線硬化型粘
着テープについて、下記の(1)〜(5)の評価を行
い、表1の結果が得られた。 (1)帯電防止性能 表面固有抵抗値:JIS K6911に準拠して、ア
ドバンテスト社製R−8740を用いて測定。温度25
℃、相対湿度30% 平衡帯電圧および半減期:シシド商会社製のスタテ
ィックオネストメーターを用いて印過電圧10kVとし
て測定。温度25℃、相対湿度30% 判定: 表面固有抵抗値R R<1E+10(Ω/□):◎ 1E+10≦R<1E+12(Ω/□):○ 1E+12≦R<1E+14(Ω/□):△ 1E+14≦R(Ω/□):× 平衡帯電圧E E<100(V):◎ 100≦E<500(V):○ 500≦E<3000(V):△ 3000≦E(V):× 半減期T T<1(s):◎ 1≦T<10(s):○ 10≦T<60(s):△ 60≦T(s):×
【0038】(2)被着体汚染性(表面汚染パーティク
ル数N) 金蒸着(厚さ10000Å)膜付き、サイズ5インチ、
厚さ350μmのSiウェハに、各放射線硬化型粘着テ
ープを貼り、これに1000mJでUV照射を行い、4
0℃の環境下に、168時間放置して、放射線硬化型粘
着テープをSiウェハから剥離し、Siウェハ上の0.
3μm以上の異物の数(N)を、Tencor社製表面
異物検査装置6420を用いて観測した。 判定 N<5(個):○ 5≦N<20(個):△ 20≦N(個):×
【0039】(3)均一拡張性能 金蒸着(厚さ10000Å)膜付き、サイズ5インチ、
厚さ350μmのSiウェハに、各放射線硬化型粘着テ
ープを貼り、これを下記の条件でダイシングを行った。 ダイシング装置 :DISCO社製 DAD−340 ブレード :DISCO社製 NBC−ZH2050 27HED D ブレード回転数 :30000rpm 切削速度 :100mm/sec 切り残し厚み :50μm 切削水量 :1.5リットル/min 切削水温度 :20℃ ダイシングサイズ :5mm角 ウェハの裏面研削粗さ:♯2000研磨面
【0040】その後、NECマシナリー製:ピックアッ
プダイボンダーCPS−100を用い、ストローク24
mmまで拡張した時点で拡張を停止し、その状態で、放
射線硬化型粘着テープの基材フィルム押出方向にみたシ
リコンウェハの外径Dと、粘着テープの基材フィルム
垂直方向にみたシリコンウェハの外径Dを測定し、D
およびDのうち、何れか大きい方の値の、小さい方
の値に対する比(即ち、大きい方の値を、小さい方の値
で除した数値)であるWを算出した。 判定 W<1.2:○ 1.2≦W<1.5:△ 1.5<W:×
【0041】(4)チッピングの評価 (3)と同じ要領でダイシングを行った後、下記のチッ
ピング評価を行った。測定場所:ウェハの裏面側(粘着
テープ貼着面)、ウェハの側面側(切断断面) 測定方向:ダイシング時の切断2軸方向 評価方法ならびに測定数:切断したチップ1辺当たりの
最大チッピング(最大欠け)、50辺の平均値とした。 チッピング判定:60μm未満を◎ 60μm以上、70未満を○ 70μm以上を×とした。 チップ飛び1mm角と5mm角ともに無し :○ 1mm角と5mm角いずれかがチップ飛びした:△ いずれもチップ飛び有り :× 総合判定 使用上での支障 問題なし :◎ 限定して使用化:○ 問題あり :×
【0042】(5)ヒゲ発生評価(x) (3)と同じ要領でダイシングを行った後、1000m
JでUV照射し、全てのチップを剥離させた後、粘着テ
ープに残った切り込み溝の、基材フィルム押出方向と基
材フィルム押出方向と垂直の方向のそれぞれにおいて、
中心線に位置する溝について、電子顕微鏡にて100倍
に拡大して観察し、50μm大以上のささくれ状のヒゲの
数(x)をカウントした。 判定 x<10(個):○ 10≦x<50:△ 50≦x:×
【0043】
【表1】
【0044】実施例1では、良好な帯電防止性能が得ら
れ、被着体汚染性が少なく、良好な均一拡張性能が得ら
れ、チッピングが少なく、ヒゲ発生数が少なく、全ての
評価項目において良好なものとなった。実施例2では、
帯電防止性能、均一拡張性能、チッピング数、ヒゲ発生
数において、実施例1よりは劣るものの、実用上充分な
結果が得られた。比較例1では、チッピング数、ヒゲ発
生数において実施例1、2より劣り、特に被着体汚染性
においては良くない結果となった。比較例2は、帯電防
止処方を施さない従来タイプの放射線硬化型粘着テープ
であり、被着体汚染性、均一拡張性能、チッピング数、
ヒゲ発生数では全く問題ないが、帯電防止性能に劣ると
いう結果になった。
【0045】
【発明の効果】本発明の放射線硬化型粘着テープは、
十分な帯電防止性能を有し、基材フィルムからのブリ
ード物質が少なく、粘着層の粘着特性に影響が少ない、
即ち被着体汚染性が少ない、押出方向と垂直方向の引
張特性の差が小さい、チッピングが少ない、ヒゲ発
生が少ないなどの特性を有する。したがってダイシング
用または表面保護用の放射線硬化型粘着テープとして好
適である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C09J 4/00 C09J 4/00 201/00 201/00 //(C08L 101/00 C08L 33:14 33:14) (72)発明者 宮城 秀文 東京都千代田区丸の内2丁目6番1号 古 河電気工業株式会社内 Fターム(参考) 4J002 AC011 BB031 BB051 BB061 BB071 BB081 BB121 BB151 BB171 BD031 BG072 BG132 CF001 CK021 CL001 CM041 FD102 GJ00 4J004 AA10 AA13 AA14 AB01 AB06 CA01 FA04 FA05 4J040 DF041 DF051 EF282 EG002 HC18 HD41 JA09 JB07 JB09 KA13 KA16 MA11 NA20 4J100 AA02P AL03R AM21Q BA32Q CA04 CA05 JA05 JA43 JA57

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 合成樹脂からなる基材フィルムと、粘着
    層とを含有して構成される粘着テープにおいて、少なく
    とも、基材フィルムが帯電防止剤を含むことを特徴とす
    る、放射線硬化型粘着テープ。
  2. 【請求項2】 基材フィルムが、50〜99重量%の熱
    可塑性樹脂と、1〜50重量%の、下記一般式(I)で
    表される、第4級アンモニウム塩残基を有する繰り返し
    単位を含有する高分子帯電防止剤(X)とからなる組成
    物から形成されることを特徴とする、請求項1記載の放
    射線硬化型粘着テープ。 【化1】 (式中のR1は水素原子またはメチル基を、R2はアルキ
    レン基、少なくとも1つ以上のOH基を含むアルキレン
    基もしくはポリアルキレンオキシド基を、R3〜R5はそ
    れぞれ水素原子、アルキル基、置換基を有していてもよ
    いベンジル基、アリールアルキル基、脂環アルキル基も
    しくはポリアルキレンオキシド基を示す。Xは-COO
    -、-CONH-、-SO2NH-または-C64SO2NH-
    のいずれかを、Yはハロゲン原子、ROSO3、ROS
    2、RSO3、R-C64-SO3、(RO)2PO2のい
    ずれか(ただしRはアルキル基、少なくとも1つ以上の
    OH基を含むアルキル基、アリールアルキル基または脂
    環アルキル基である。)の基を示す。)
  3. 【請求項3】 前記帯電防止剤が、下記式(1)で表さ
    れるエチレン繰り返し単位70〜99モル%と、下記一
    般式(2)で表されるアクリレート繰り返し単位0〜1
    5モル%と、下記一般式(3)で表されるアクリルアミ
    ド繰り返し単位1〜30モル%とを含有し、重量平均分
    子量が1,000〜80,000であるカチオン変性共
    重合体(XI)であることを特徴とする、請求項1また
    は請求項2記載の放射線硬化型粘着テープ。 【化2】 (上記式中、Rは水素原子又は炭素数1〜4のアルキ
    ル基を示し、Rは炭素数2〜8のアルキレン基を示
    し、R,R及びRはそれぞれ独立に炭素数1〜1
    2のアルキル基、炭素数7〜12のアリールアルキル基
    又は炭素数6〜12の脂環アルキル基を示し、Xはハロ
    ゲン原子、CHOSO、COSO 、R
    を示し、ここで、Rは炭素数1〜12のアルキル
    基、炭素数7〜12のアリールアルキル基又は炭素数6
    〜12の脂環アルキル基を示す。)
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Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006165071A (ja) * 2004-12-02 2006-06-22 Achilles Corp 半導体製造テープ用帯電防止基材フィルム
JP2006290958A (ja) * 2005-04-07 2006-10-26 Lonseal Corp 帯電防止性アクリル系樹脂組成物およびフィルム、シート
WO2011078193A1 (ja) * 2009-12-22 2011-06-30 古河電気工業株式会社 半導体ウエハ表面保護用粘着テープ
WO2013038967A1 (ja) * 2011-09-16 2013-03-21 リンテック株式会社 ダイシングシート用基材フィルムおよびダイシングシート
CN101768415B (zh) * 2008-12-30 2013-03-27 第一毛织株式会社 抗静电粘合剂组合物、粘合膜及其制备方法
US20140162434A1 (en) * 2012-12-10 2014-06-12 Nitto Denko Corporation Dicing tape integrated adhesive sheet, method of manufacturing semiconductor device using dicing tape integrated adhesive sheet, and semiconductor device
JP2014135467A (ja) * 2012-12-10 2014-07-24 Nitto Denko Corp ダイシングテープ一体型接着シート、ダイシングテープ一体型接着シートを用いた半導体装置の製造方法、及び、半導体装置
KR20170140254A (ko) 2015-04-28 2017-12-20 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 실리콘 점착제 조성물 및 점착 테이프
TWI615453B (zh) * 2012-12-10 2018-02-21 Nitto Denko Corp 切晶帶一體型接著片材、使用切晶帶一體型接著片材之半導體裝置之製造方法、及半導體裝置
JP2019003648A (ja) * 2017-06-19 2019-01-10 東友ファインケム株式会社Dongwoo Fine−Chem Co., Ltd. タッチセンサを含むフレキシブル表示装置の製造方法

Cited By (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4526937B2 (ja) * 2004-12-02 2010-08-18 アキレス株式会社 半導体製造テープ用帯電防止基材フィルム
JP2006165071A (ja) * 2004-12-02 2006-06-22 Achilles Corp 半導体製造テープ用帯電防止基材フィルム
JP2006290958A (ja) * 2005-04-07 2006-10-26 Lonseal Corp 帯電防止性アクリル系樹脂組成物およびフィルム、シート
CN101768415B (zh) * 2008-12-30 2013-03-27 第一毛织株式会社 抗静电粘合剂组合物、粘合膜及其制备方法
WO2011078193A1 (ja) * 2009-12-22 2011-06-30 古河電気工業株式会社 半導体ウエハ表面保護用粘着テープ
JP2011151355A (ja) * 2009-12-22 2011-08-04 Furukawa Electric Co Ltd:The 半導体ウエハ表面保護用粘着テープ
CN102754200A (zh) * 2009-12-22 2012-10-24 古河电气工业株式会社 半导体晶片表面保护用胶带
US9558983B2 (en) 2011-09-16 2017-01-31 Lintec Corporation Base film for dicing sheet and dicing sheet
WO2013038967A1 (ja) * 2011-09-16 2013-03-21 リンテック株式会社 ダイシングシート用基材フィルムおよびダイシングシート
JP5410644B2 (ja) * 2011-09-16 2014-02-05 リンテック株式会社 ダイシングシート用基材フィルムおよびダイシングシート
KR20140059793A (ko) * 2011-09-16 2014-05-16 린텍 가부시키가이샤 다이싱 시트용 기재 필름 및 다이싱 시트
KR101941070B1 (ko) 2011-09-16 2019-01-23 린텍 가부시키가이샤 다이싱 시트용 기재 필름 및 다이싱 시트
US20140162434A1 (en) * 2012-12-10 2014-06-12 Nitto Denko Corporation Dicing tape integrated adhesive sheet, method of manufacturing semiconductor device using dicing tape integrated adhesive sheet, and semiconductor device
JP2014135467A (ja) * 2012-12-10 2014-07-24 Nitto Denko Corp ダイシングテープ一体型接着シート、ダイシングテープ一体型接着シートを用いた半導体装置の製造方法、及び、半導体装置
TWI615453B (zh) * 2012-12-10 2018-02-21 Nitto Denko Corp 切晶帶一體型接著片材、使用切晶帶一體型接著片材之半導體裝置之製造方法、及半導體裝置
CN103865416A (zh) * 2012-12-10 2014-06-18 日东电工株式会社 切割胶带一体型粘接片、使用切割胶带一体型粘接片的半导体装置的制造方法及半导体装置
KR20170140254A (ko) 2015-04-28 2017-12-20 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 실리콘 점착제 조성물 및 점착 테이프
EP3508548A1 (en) 2015-04-28 2019-07-10 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Silicone adhesive composition and an adhesive tape
US10696881B2 (en) 2015-04-28 2020-06-30 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Silicone adhesive composition and an adhesive tape
JP2019003648A (ja) * 2017-06-19 2019-01-10 東友ファインケム株式会社Dongwoo Fine−Chem Co., Ltd. タッチセンサを含むフレキシブル表示装置の製造方法

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